JP3405846B2 - 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 - Google Patents
基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置Info
- Publication number
- JP3405846B2 JP3405846B2 JP06743695A JP6743695A JP3405846B2 JP 3405846 B2 JP3405846 B2 JP 3405846B2 JP 06743695 A JP06743695 A JP 06743695A JP 6743695 A JP6743695 A JP 6743695A JP 3405846 B2 JP3405846 B2 JP 3405846B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultrasonic
- opening
- nozzle
- cleaning machine
- cleaning liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は純水等の洗浄液と超音波
とを協働させて半導体基板等を洗浄する超音波洗浄機お
よびそれを用いた超音波洗浄装置に関する。
とを協働させて半導体基板等を洗浄する超音波洗浄機お
よびそれを用いた超音波洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】純水等の洗浄液と超音波とを協働させて
半導体基板等を洗浄する超音波洗浄機を用いた超音波洗
浄装置が設備されるようになってきているが、洗浄すべ
き基板等が大型になってくると、基板の反り等による基
板上の液溜りが洗浄後も残り問題となっている。これを
解決する一つの対策として、図３または図４に示される
ように、搬送する基板を傾けることが行われている。
半導体基板等を洗浄する超音波洗浄機を用いた超音波洗
浄装置が設備されるようになってきているが、洗浄すべ
き基板等が大型になってくると、基板の反り等による基
板上の液溜りが洗浄後も残り問題となっている。これを
解決する一つの対策として、図３または図４に示される
ように、搬送する基板を傾けることが行われている。
【０００３】図３（ａ）は、超音波洗浄機およびそれを
用いた超音波洗浄装置の従来例を示す平面、図３（ｂ）
は図３（ａ）の正面図、図４は図３（ｂ）のＹ−Ｙ断面
を示す拡大断面図である。また、図５は図３（ａ），
（ｂ）で示された超音波洗浄機を傾けて取り付けた超音
波洗浄装置を示す図である。
用いた超音波洗浄装置の従来例を示す平面、図３（ｂ）
は図３（ａ）の正面図、図４は図３（ｂ）のＹ−Ｙ断面
を示す拡大断面図である。また、図５は図３（ａ），
（ｂ）で示された超音波洗浄機を傾けて取り付けた超音
波洗浄装置を示す図である。
【０００４】この超音波洗浄装置は、超音波洗浄機１１
０と複数の搬送ローラ２１とから構成されている。超音
波洗浄機１１０は、薄平たく長手の直方体形状をなし、
金属薄板からなる本体１１と、本体１１の上面を密閉す
る上面板１３と、本体１１の底面の長手方向の中心線に
沿って開けられたスリット状の開口１７を囲い、スリッ
ト状開口が下方の噴出開口１１８まで延びるように、ス
リット状の開口１７から延ばされた金属薄板からなるノ
ズル１１２と、本体１１の中に洗浄液（例えば、純水）
を送り込むための洗浄液供給口１６と、本体１１の洗浄
液の中に超音波を出射するために上面板１３に取り付け
られた超音波振動子（不図示）と、超音波振動子に振動
子入力端１４1，１４2，１４3を介して超音波信号を送
る超音波信号ケーブル１５とから構成されている。上述
の場合、ノズル１１２の先端の洗浄液を超音波とともに
噴出する開口１１８は、本体１１およびノズルの長手方
向に延びる２本の中心線に平行で、両中心線を通る中心
面に対しては直角である平面で切ったように加工されて
いる。
０と複数の搬送ローラ２１とから構成されている。超音
波洗浄機１１０は、薄平たく長手の直方体形状をなし、
金属薄板からなる本体１１と、本体１１の上面を密閉す
る上面板１３と、本体１１の底面の長手方向の中心線に
沿って開けられたスリット状の開口１７を囲い、スリッ
ト状開口が下方の噴出開口１１８まで延びるように、ス
リット状の開口１７から延ばされた金属薄板からなるノ
ズル１１２と、本体１１の中に洗浄液（例えば、純水）
を送り込むための洗浄液供給口１６と、本体１１の洗浄
液の中に超音波を出射するために上面板１３に取り付け
られた超音波振動子（不図示）と、超音波振動子に振動
子入力端１４1，１４2，１４3を介して超音波信号を送
る超音波信号ケーブル１５とから構成されている。上述
の場合、ノズル１１２の先端の洗浄液を超音波とともに
噴出する開口１１８は、本体１１およびノズルの長手方
向に延びる２本の中心線に平行で、両中心線を通る中心
面に対しては直角である平面で切ったように加工されて
いる。
【０００５】超音波洗浄機１１０の実際の取り付けに関
しては、基板２０は複数の搬送ローラ２１によって矢印
Ｈで示される方向に搬送され、超音波洗浄機１１０は、
そのノズル１１２の先端の開口１１８が水平となるよう
に取り付けられている。この場合、基板２０と開口１１
８との距離が大きい側で洗浄液の流れが均一でなくな
り、所謂液割れが発生したり、基板面に超音波が均一に
照射されない状態が発生してしまう。この液割れ等の発
生のために、基板２０が均一に洗浄されないという問題
が発生する。そこで、図５に示されるように超音波洗浄
機１１０を傾けて取り付け、開口１１８が基板面に平行
に対向するようにすると、洗浄液が偏ってながれ、やは
り洗浄むらを発生させてしまう。
しては、基板２０は複数の搬送ローラ２１によって矢印
Ｈで示される方向に搬送され、超音波洗浄機１１０は、
そのノズル１１２の先端の開口１１８が水平となるよう
に取り付けられている。この場合、基板２０と開口１１
８との距離が大きい側で洗浄液の流れが均一でなくな
り、所謂液割れが発生したり、基板面に超音波が均一に
照射されない状態が発生してしまう。この液割れ等の発
生のために、基板２０が均一に洗浄されないという問題
が発生する。そこで、図５に示されるように超音波洗浄
機１１０を傾けて取り付け、開口１１８が基板面に平行
に対向するようにすると、洗浄液が偏ってながれ、やは
り洗浄むらを発生させてしまう。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の超音波
洗浄機では、開口１１８から噴出する洗浄液や超音波が
基板面に均一に当たらず、洗浄むらが発生するという問
題がある。
洗浄機では、開口１１８から噴出する洗浄液や超音波が
基板面に均一に当たらず、洗浄むらが発生するという問
題がある。
【０００７】本発明は上記問題に鑑み、開口から噴出す
る洗浄液や超音波が、基板面に均一に当たり、基板を均
一に洗浄できる超音波洗浄機およびそれを用いた超音波
洗浄装置を提供することを目的とする。
る洗浄液や超音波が、基板面に均一に当たり、基板を均
一に洗浄できる超音波洗浄機およびそれを用いた超音波
洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の超音波洗浄機
は、略直方体形状の空間の側面を取り囲むように、前記
空間の一本の中心線を挟んで平行に対向するように配置
された第１，第２の側壁と、前記第１，第２の側壁と直
交する第３，第４の側壁と、前記直方体形状の空間の上
部を覆う上面板と、スリット形状をして前記中心線に平
行に延びる底面スリット開口まで、下がり勾配をもって
第１，第２の側面の下縁からそれぞれ延伸する第１，第
２の底面と、前記底面スリット開口を下方の噴射開口に
繋げるように前記スリット開口の周縁から下方に延伸す
るノズルと、供給される洗浄液を前記部材に囲まれた空
間に供給し、前記ノズルの前記噴射開口から噴射させる
ための洗浄液供給手段と、前記空間に供給された洗浄液
に超音波を送出し前記ノズルの噴射開口から洗浄液とと
もに超音波を照射させる超音波生成手段とを有する超音
波洗浄機であって、前記ノズルの噴射開口によって形成
される平面は、第１，第２の側壁には直交するが、前記
空間の一本の中心線には傾斜している。
は、略直方体形状の空間の側面を取り囲むように、前記
空間の一本の中心線を挟んで平行に対向するように配置
された第１，第２の側壁と、前記第１，第２の側壁と直
交する第３，第４の側壁と、前記直方体形状の空間の上
部を覆う上面板と、スリット形状をして前記中心線に平
行に延びる底面スリット開口まで、下がり勾配をもって
第１，第２の側面の下縁からそれぞれ延伸する第１，第
２の底面と、前記底面スリット開口を下方の噴射開口に
繋げるように前記スリット開口の周縁から下方に延伸す
るノズルと、供給される洗浄液を前記部材に囲まれた空
間に供給し、前記ノズルの前記噴射開口から噴射させる
ための洗浄液供給手段と、前記空間に供給された洗浄液
に超音波を送出し前記ノズルの噴射開口から洗浄液とと
もに超音波を照射させる超音波生成手段とを有する超音
波洗浄機であって、前記ノズルの噴射開口によって形成
される平面は、第１，第２の側壁には直交するが、前記
空間の一本の中心線には傾斜している。
【０００９】また、本発明の超音波洗浄装置は、半導体
基板を、水平面に対し搬送方向に直交する一方向に傾け
て搬送する搬送装置と、前記搬送装置に搬送されてくる
半導体基板の上方に取り付けられた上述の超音波洗浄機
とからなり、前記超音波洗浄機は、前記空間の一本の中
心線が水平となるように取り付けられているとともに、
前記超音波洗浄機のノズルの噴射開口が、前記半導体基
板の搬送方向に直交して延び、かつ、前記半導体基板の
主表面と平行に対面するように取り付けられている。
基板を、水平面に対し搬送方向に直交する一方向に傾け
て搬送する搬送装置と、前記搬送装置に搬送されてくる
半導体基板の上方に取り付けられた上述の超音波洗浄機
とからなり、前記超音波洗浄機は、前記空間の一本の中
心線が水平となるように取り付けられているとともに、
前記超音波洗浄機のノズルの噴射開口が、前記半導体基
板の搬送方向に直交して延び、かつ、前記半導体基板の
主表面と平行に対面するように取り付けられている。
【００１０】
【作用】超音波洗浄機は平行に取り付けられているが、
超音波洗浄機のノズルの噴射開口は、搬送されてくる半
導体基板の搬送方向に直交して延び、かつ、前記半導体
基板の主表面と平行に対面するように取り付けられてい
るので、洗浄液および超音波は、均一に基板面に当てら
れる。
超音波洗浄機のノズルの噴射開口は、搬送されてくる半
導体基板の搬送方向に直交して延び、かつ、前記半導体
基板の主表面と平行に対面するように取り付けられてい
るので、洗浄液および超音波は、均一に基板面に当てら
れる。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１（ａ）は、本発明の超音波洗浄装置の
一実施例を示す平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）の正面
図、図２は図１（ｂ）のＸ−Ｘ断面を示す拡大断面図で
ある。また、図５は図３（ａである。本実施例は、超音
波洗浄機１０と、基板２０を搬送する複数の搬送ローラ
２１とから構成されている。
て説明する。図１（ａ）は、本発明の超音波洗浄装置の
一実施例を示す平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）の正面
図、図２は図１（ｂ）のＸ−Ｘ断面を示す拡大断面図で
ある。また、図５は図３（ａである。本実施例は、超音
波洗浄機１０と、基板２０を搬送する複数の搬送ローラ
２１とから構成されている。
【００１２】超音波洗浄機１０は、薄平たく長手の略直
方体形状をなす金属薄板からなる本体１１と、本体１１
の上面を密閉する上面板１３と、本体１１の底面の長手
方向の中心線に沿って開けられたスリット状の開口１７
を囲い、スリット状の開口１７が下方の噴出開口１８ま
で延びるように、スリット状の開口１７から延ばされた
金属薄板からなるノズル１２と、本体１１の中に洗浄液
（例えば、純水）を送り込むための洗浄液供給口１６
と、本体１１の洗浄液の中に超音波を出射するために上
面板１３に取り付けられた超音波振動子（不図示）と、
超音波振動子に振動子入力端１４1，１４2，１４3を介
して超音波信号を送る超音波信号ケーブル１５とから構
成されている。
方体形状をなす金属薄板からなる本体１１と、本体１１
の上面を密閉する上面板１３と、本体１１の底面の長手
方向の中心線に沿って開けられたスリット状の開口１７
を囲い、スリット状の開口１７が下方の噴出開口１８ま
で延びるように、スリット状の開口１７から延ばされた
金属薄板からなるノズル１２と、本体１１の中に洗浄液
（例えば、純水）を送り込むための洗浄液供給口１６
と、本体１１の洗浄液の中に超音波を出射するために上
面板１３に取り付けられた超音波振動子（不図示）と、
超音波振動子に振動子入力端１４1，１４2，１４3を介
して超音波信号を送る超音波信号ケーブル１５とから構
成されている。
【００１３】上述の実施例の場合、ノズル１２の先端の
開口１８は、本体１１およびノズルの長手方向（図１
（ａ）では左右）に延びる２本の中心線を通る中心面に
対しては直交するが、両中心線に対しては斜めの平面で
切ったように加工されている。この斜めの角度は、図２
の超音波洗浄装置において、搬送される基板２０が傾け
られている傾斜角度に対応している。すなわち、基板２
０は複数の搬送ローラ２１によって矢印Ｈで示される方
向に搬送されてくる。この場合、基板２０は、搬送方向
に直角な一方向に傾けられている。超音波洗浄機１０は
水平に取り付けられているが、ノズル１２の開口１８は
基板２０の傾斜に対応して傾くように形成されているの
で、ノズル１２の先端の開口１８は基板２０の主表面に
対し平行となる。したがって、開口１８の全域と基板２
０との間隔は一定となり、洗浄液および超音波は、基板
面に均一に噴射および照射され、均一な洗浄が効果的に
行われる。
開口１８は、本体１１およびノズルの長手方向（図１
（ａ）では左右）に延びる２本の中心線を通る中心面に
対しては直交するが、両中心線に対しては斜めの平面で
切ったように加工されている。この斜めの角度は、図２
の超音波洗浄装置において、搬送される基板２０が傾け
られている傾斜角度に対応している。すなわち、基板２
０は複数の搬送ローラ２１によって矢印Ｈで示される方
向に搬送されてくる。この場合、基板２０は、搬送方向
に直角な一方向に傾けられている。超音波洗浄機１０は
水平に取り付けられているが、ノズル１２の開口１８は
基板２０の傾斜に対応して傾くように形成されているの
で、ノズル１２の先端の開口１８は基板２０の主表面に
対し平行となる。したがって、開口１８の全域と基板２
０との間隔は一定となり、洗浄液および超音波は、基板
面に均一に噴射および照射され、均一な洗浄が効果的に
行われる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、超音波洗
浄機が水平に取り付けられても、ノズルの噴出開口が斜
めになっているので、基板が傾けられて搬送されてきて
も、噴出開口は基板面に平行に対向することによって、
洗浄液および超音波は、基板面に均一に噴射および照射
され、均一な洗浄が行われるという効果がある。
浄機が水平に取り付けられても、ノズルの噴出開口が斜
めになっているので、基板が傾けられて搬送されてきて
も、噴出開口は基板面に平行に対向することによって、
洗浄液および超音波は、基板面に均一に噴射および照射
され、均一な洗浄が行われるという効果がある。
【図１】（ａ）は本発明の超音波洗浄装置の一実施例を
示す平面図である。（ｂ）は（ａ）の正面図である。
示す平面図である。（ｂ）は（ａ）の正面図である。
【図２】図１（ｂ）のＸ−Ｘ断面を示す拡大断面図であ
る。
る。
【図３】（ａ）は超音波洗浄装置の従来例を示す平面図
である。（ｂ）は（ａ）の正面図である。
である。（ｂ）は（ａ）の正面図である。
【図４】図３（ｂ）のＹ−Ｙ断面を示す拡大断面図であ
る。
る。
【図５】図３（ａ），（ｂ）で示された超音波洗浄機を
傾けて取り付けた超音波洗浄装置を示す図である。
傾けて取り付けた超音波洗浄装置を示す図である。
１０ 超音波洗浄機
１１ 本体
１２ ノズル
１３ 上面板
１４1，１４2，１４3 振動子入力端
１５ 超音波信号入力ケーブル
１６ 洗浄液供給口
１７，１８ 開口
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B08B 1/00 - 7/04
H01L 21/304
H05K 3/26
Claims (2)
- 【請求項１】 略直方体形状の空間の側面を取り囲むよ
うに、前記空間の一本の中心線を挟んで平行に対向する
ように配置された第１，第２の側壁と、前記第１，第２
の側壁と直交する第３，第４の側壁と、前記直方体形状
の空間の上部を覆う上面板と、スリット形状をして前記
中心線に平行に延びる底面スリット開口まで、下がり勾
配をもって第１，第２の側面の下縁からそれぞれ延伸す
る第１，第２の底面と、前記底面スリット開口を下方の
噴射開口に繋げるように前記スリット開口の周縁から下
方に延伸するノズルと、供給される洗浄液を前記部材に
囲まれた空間に供給し、前記ノズルの前記噴射開口から
噴射させるための洗浄液供給手段と、前記空間に供給さ
れた洗浄液に超音波を送出し前記ノズルの噴射開口から
洗浄液とともに超音波を照射させる超音波生成手段とを
有する超音波洗浄機において、 前記ノズルの噴射開口によって形成される平面は、第
１，第２の側壁には直交するが、前記空間の一本の中心
線には傾斜していることを特徴とする超音波洗浄機。 - 【請求項２】 半導体基板を、水平面に対し搬送方向に
直交する一方向に傾けて搬送する搬送装置と、前記搬送
装置に搬送されてくる半導体基板の上方に取り付けられ
た請求項１の超音波洗浄機とからなり、前記超音波洗浄
機は、前記空間の一本の中心線が水平となるように取り
付けられているとともに、前記超音波洗浄機のノズルの
噴射開口が、前記半導体基板の搬送方向に直交して延
び、かつ、前記半導体基板の主表面と平行に対面するよ
うに取り付けられている超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06743695A JP3405846B2 (ja) | 1995-03-27 | 1995-03-27 | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06743695A JP3405846B2 (ja) | 1995-03-27 | 1995-03-27 | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08257520A JPH08257520A (ja) | 1996-10-08 |
| JP3405846B2 true JP3405846B2 (ja) | 2003-05-12 |
Family
ID=13344879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06743695A Expired - Fee Related JP3405846B2 (ja) | 1995-03-27 | 1995-03-27 | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3405846B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101407619B1 (ko) * | 2014-02-13 | 2014-06-13 | 최호성 | 경사구조로 이루어진 초박형 유리기판의 메가 초음파 세정장치 |
-
1995
- 1995-03-27 JP JP06743695A patent/JP3405846B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101407619B1 (ko) * | 2014-02-13 | 2014-06-13 | 최호성 | 경사구조로 이루어진 초박형 유리기판의 메가 초음파 세정장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08257520A (ja) | 1996-10-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR970009001B1 (ko) | 제진장치 | |
| US4979994A (en) | Method and apparatus for cleaning by ultrasonic wave energy | |
| US5037208A (en) | Immersible transducer assembly | |
| KR970052718A (ko) | 기판세정장치 및 기판세정방법 | |
| TWI756611B (zh) | 超音波洗淨裝置及超音波洗淨系統 | |
| JP3981064B2 (ja) | 両面式超音波シャワー洗浄装置 | |
| JP3405846B2 (ja) | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 | |
| JPH09171986A (ja) | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | |
| JP3463028B2 (ja) | 超音波洗浄装置および洗浄方法 | |
| JP3550277B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| KR20030003235A (ko) | 기판처리장치 | |
| JPH09327671A (ja) | 超音波洗浄機 | |
| JPH08267028A (ja) | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 | |
| JP2862458B2 (ja) | 被洗浄基板の洗浄方法およびその装置 | |
| JPH10296200A (ja) | 超音波洗浄方法およびその洗浄装置 | |
| JP3325395B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH0994546A (ja) | 基板の液切り装置 | |
| JP2001099569A (ja) | 基板の乾燥処理装置 | |
| JPS63202516A (ja) | 板状物の移送装置 | |
| JPH06106144A (ja) | 超音波洗浄方式及び超音波洗浄装置 | |
| JP3113192B2 (ja) | 液晶用基板の液体噴射装置 | |
| JPH08299929A (ja) | 超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 | |
| JPH05226809A (ja) | プリント配線板のエッチング方法 | |
| JP6994654B1 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP3783174B2 (ja) | 流水式超音波洗浄装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090307 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100307 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |