JPH08267028A - 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 - Google Patents
基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置Info
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- JPH08267028A JPH08267028A JP7496595A JP7496595A JPH08267028A JP H08267028 A JPH08267028 A JP H08267028A JP 7496595 A JP7496595 A JP 7496595A JP 7496595 A JP7496595 A JP 7496595A JP H08267028 A JPH08267028 A JP H08267028A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 噴出する洗浄液ができるだけ基板搬送方向に
対向する方向のみに乱れなく噴出し、基板への超音波の
照射が均一とすることができる超音波洗浄機。 【構成】 超音波洗浄機１０のノズル１２の先端の開口
１８は斜めに切られている。そこで、超音波洗浄機を半
導体基板の搬送方向に対して、斜めに取り付ければ、半
導体基板上での洗浄液の流れは、基板の未洗浄の部分の
方に流れ、洗浄済みの部部を再汚染することはなくな
る。また、開口１８は搬送されてくる基板の主表面と平
行となっているので、洗浄液流および超音波照射が均一
となり洗浄効果が向上する。
対向する方向のみに乱れなく噴出し、基板への超音波の
照射が均一とすることができる超音波洗浄機。 【構成】 超音波洗浄機１０のノズル１２の先端の開口
１８は斜めに切られている。そこで、超音波洗浄機を半
導体基板の搬送方向に対して、斜めに取り付ければ、半
導体基板上での洗浄液の流れは、基板の未洗浄の部分の
方に流れ、洗浄済みの部部を再汚染することはなくな
る。また、開口１８は搬送されてくる基板の主表面と平
行となっているので、洗浄液流および超音波照射が均一
となり洗浄効果が向上する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は純水等の洗浄液と超音波
とを協働させて半導体基板を洗浄する超音波洗浄機およ
びそれを用いた超音波洗浄装置に関する。
とを協働させて半導体基板を洗浄する超音波洗浄機およ
びそれを用いた超音波洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３（ａ）は、この種の超音波洗浄機の
従来例を示す正面図、図３（ｂ）は図３（ａ）の側面
図、図４および図５は図３（ａ），（ｂ）で示された超
音波洗浄機を実際に取り付けて超音波洗浄装置として動
作させているところを示している図である。
従来例を示す正面図、図３（ｂ）は図３（ａ）の側面
図、図４および図５は図３（ａ），（ｂ）で示された超
音波洗浄機を実際に取り付けて超音波洗浄装置として動
作させているところを示している図である。
【０００３】この超音波洗浄機１１０は、薄平たく長手
の直方体形状をなし、金属薄板からなる本体１１と、本
体１１の上面を密閉する上面板１３と、本体１１の底面
の長手方向の中心線に沿って開けられたスリット状の開
口１７を囲い、スリット状開口が下方に延びるように、
スリット状の開口１７から延ばされた金属薄板からなる
ノズル１１２と、本体１１の中に洗浄液（例えば、純
水）を送り込むための洗浄液供給口１６と、本体１１の
洗浄液の中に超音波を出射するために上面板１３に取り
付けられた超音波振動子（不図示）と、超音波振動子に
振動子入力端１４ 1，１４2，１４3を介して超音波信号
を送る超音波信号ケーブル１５とから構成されている。
上述の場合、ノズル１１２の先端の洗浄液を超音波とと
もに噴出する開口１１８は、本体１１およびノズルの長
手方向に延びる中心線に平行で、両中心線を通る中心面
に対しては直角である平面で切ったように加工されてい
る。
の直方体形状をなし、金属薄板からなる本体１１と、本
体１１の上面を密閉する上面板１３と、本体１１の底面
の長手方向の中心線に沿って開けられたスリット状の開
口１７を囲い、スリット状開口が下方に延びるように、
スリット状の開口１７から延ばされた金属薄板からなる
ノズル１１２と、本体１１の中に洗浄液（例えば、純
水）を送り込むための洗浄液供給口１６と、本体１１の
洗浄液の中に超音波を出射するために上面板１３に取り
付けられた超音波振動子（不図示）と、超音波振動子に
振動子入力端１４ 1，１４2，１４3を介して超音波信号
を送る超音波信号ケーブル１５とから構成されている。
上述の場合、ノズル１１２の先端の洗浄液を超音波とと
もに噴出する開口１１８は、本体１１およびノズルの長
手方向に延びる中心線に平行で、両中心線を通る中心面
に対しては直角である平面で切ったように加工されてい
る。
【０００４】超音波洗浄機１１０の実際の取り付けに関
しては、基板２０は搬送ローラ２１，２２，２３によっ
て矢印Ｈで示される方向に搬送され、超音波洗浄機１１
０は、そのノズル１１２の先端の開口１１８が搬送され
る基板２０の主表面に対して平行となるように取り付け
られている。この場合、洗浄液は、ノズル１１２の開口
１１８から超音波とともに搬送されてくる基板２０の主
表面に対して均一に当たって、基板２０の主表面を洗浄
できる。しかし、洗浄液は矢印Ｈで示される搬送方向お
よびそれに対向する方向に噴出しているため、洗浄が完
了して通過する基板面に洗浄後の洗浄液が流れてしまう
可能性が大きく、基板２０の再汚染の危険が大きい。
しては、基板２０は搬送ローラ２１，２２，２３によっ
て矢印Ｈで示される方向に搬送され、超音波洗浄機１１
０は、そのノズル１１２の先端の開口１１８が搬送され
る基板２０の主表面に対して平行となるように取り付け
られている。この場合、洗浄液は、ノズル１１２の開口
１１８から超音波とともに搬送されてくる基板２０の主
表面に対して均一に当たって、基板２０の主表面を洗浄
できる。しかし、洗浄液は矢印Ｈで示される搬送方向お
よびそれに対向する方向に噴出しているため、洗浄が完
了して通過する基板面に洗浄後の洗浄液が流れてしまう
可能性が大きく、基板２０の再汚染の危険が大きい。
【０００５】そこで、開口１１８から噴出する洗浄液が
できるだけ基板搬送方向に対向する方向のみに噴出さ
せ、基板２０の再汚染を防ぐために、図５で示されるよ
うに超音波洗浄機１１０を傾けて取り付ける。洗浄液の
流れは、主に基板搬送方向に対向する方向に向くが、流
れが乱れるとともに、超音波の照射が均一とならなくな
る。
できるだけ基板搬送方向に対向する方向のみに噴出さ
せ、基板２０の再汚染を防ぐために、図５で示されるよ
うに超音波洗浄機１１０を傾けて取り付ける。洗浄液の
流れは、主に基板搬送方向に対向する方向に向くが、流
れが乱れるとともに、超音波の照射が均一とならなくな
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の超音波
洗浄機では、開口１１８から噴出する洗浄液ができるだ
け基板搬送方向に対向する方向のみに噴出させ、基板２
０の再汚染を防ぐために、超音波洗浄機１１０を傾けて
取り付けているが、洗浄液の流れが乱れるとともに、超
音波の照射が均一とならなくなるという問題点を有す
る。
洗浄機では、開口１１８から噴出する洗浄液ができるだ
け基板搬送方向に対向する方向のみに噴出させ、基板２
０の再汚染を防ぐために、超音波洗浄機１１０を傾けて
取り付けているが、洗浄液の流れが乱れるとともに、超
音波の照射が均一とならなくなるという問題点を有す
る。
【０００７】本発明は上記問題点に鑑み、噴出する洗浄
液ができるだけ基板搬送方向に対向する方向のみに乱れ
なく噴出し、基板への超音波の照射が均一となる超音波
洗浄機を提供することを目的とする。
液ができるだけ基板搬送方向に対向する方向のみに乱れ
なく噴出し、基板への超音波の照射が均一となる超音波
洗浄機を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の超音波洗浄機
は、略直方体形状の空間の側面を取り囲むように、前記
空間の一本の中心線を挟んで平行に対向するように配置
された第１，第２の側壁と、前記第１，第２の側壁と直
交する第３，第４の側壁と、前記直方体形状の空間の上
部を覆う上面板と、スリット形状をして前記中心線に平
行に延びる底面スリット開口まで、下がり勾配をもって
第１，第２の側面の下縁からそれぞれ延伸する第１，第
２の底面と、前記底面スリット開口を下方の噴射開口に
繋げるように前記スリット開口の周縁から下方に延伸す
るノズルと、供給される洗浄液を前記部材に囲まれた空
間に供給し、前記ノズルの前記噴射開口から噴射させる
ための洗浄液供給手段と、前記空間に供給された洗浄液
に超音波を送出し前記ノズルの噴射開口から洗浄液とと
もに超音波を照射させる超音波生成手段とを有する超音
波洗浄機であって、前記ノズルの噴射開口によって形成
される平面は、前記空間の一本の中心線には平行であっ
て、前記ノズルの延伸方向には傾斜していることを特徴
とする。
は、略直方体形状の空間の側面を取り囲むように、前記
空間の一本の中心線を挟んで平行に対向するように配置
された第１，第２の側壁と、前記第１，第２の側壁と直
交する第３，第４の側壁と、前記直方体形状の空間の上
部を覆う上面板と、スリット形状をして前記中心線に平
行に延びる底面スリット開口まで、下がり勾配をもって
第１，第２の側面の下縁からそれぞれ延伸する第１，第
２の底面と、前記底面スリット開口を下方の噴射開口に
繋げるように前記スリット開口の周縁から下方に延伸す
るノズルと、供給される洗浄液を前記部材に囲まれた空
間に供給し、前記ノズルの前記噴射開口から噴射させる
ための洗浄液供給手段と、前記空間に供給された洗浄液
に超音波を送出し前記ノズルの噴射開口から洗浄液とと
もに超音波を照射させる超音波生成手段とを有する超音
波洗浄機であって、前記ノズルの噴射開口によって形成
される平面は、前記空間の一本の中心線には平行であっ
て、前記ノズルの延伸方向には傾斜していることを特徴
とする。
【０００９】また、本発明の超音波洗浄装置は、水平に
搬送されてくる半導体基板の上面に請求項１の超音波洗
浄機のノズルの噴射開口が平行に対面するように、前記
超音波洗浄機を傾斜させて取り付けている。この場合
に、前記噴射開口は前記半導体基板の搬送方向に直交す
るように延びており、前記超音波洗浄機は、前記半導体
基板の搬送方向に傾いて取り付けられているのが好まし
い。
搬送されてくる半導体基板の上面に請求項１の超音波洗
浄機のノズルの噴射開口が平行に対面するように、前記
超音波洗浄機を傾斜させて取り付けている。この場合
に、前記噴射開口は前記半導体基板の搬送方向に直交す
るように延びており、前記超音波洗浄機は、前記半導体
基板の搬送方向に傾いて取り付けられているのが好まし
い。
【００１０】
【作用】超音波洗浄機は傾いて取り付けられているので
半導体基板上での洗浄液の流れは、基板の未洗浄の部分
の方に流れ、洗浄済みの部部を再汚染することはなくな
る。また、噴射開口は斜めに切られており、かつ、水平
に搬送されてくる基板の主表面と平行になるように取り
付けられているので、洗浄液流および超音波照射が均一
となり洗浄効果が向上する。
半導体基板上での洗浄液の流れは、基板の未洗浄の部分
の方に流れ、洗浄済みの部部を再汚染することはなくな
る。また、噴射開口は斜めに切られており、かつ、水平
に搬送されてくる基板の主表面と平行になるように取り
付けられているので、洗浄液流および超音波照射が均一
となり洗浄効果が向上する。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１（ａ）は、本発明の超音波洗浄機の一
実施例を示す正面図、図１（ｂ）は図１（ａ）の側面
図、図２は図１（ａ），（ｂ）で示された超音波洗浄機
を実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させてい
るところを示す図である。
て説明する。図１（ａ）は、本発明の超音波洗浄機の一
実施例を示す正面図、図１（ｂ）は図１（ａ）の側面
図、図２は図１（ａ），（ｂ）で示された超音波洗浄機
を実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させてい
るところを示す図である。
【００１２】本実施例の超音波洗浄機１０は、薄平たく
長手の略直方体形状をなす金属薄板からなる本体１１
と、本体１１の上面を密閉する上面板１３と、本体１１
の底面の長手方向の中心線に沿って開けられたスリット
状の開口１７を囲い、スリット状開口１７が下方に延び
るように、スリット状の開口１７から延ばされた金属薄
板からなるノズル１２と、本体１１の中に洗浄液（例え
ば、純水）を送り込むための洗浄液供給口１６と、本体
１１の洗浄液の中に超音波を出射するために上面板１３
に取り付けられた超音波振動子（不図示）と、超音波振
動子に振動子入力端１４1，１４2，１４3を介して超音
波信号を送る超音波信号ケーブル１５とから構成されて
いる。
長手の略直方体形状をなす金属薄板からなる本体１１
と、本体１１の上面を密閉する上面板１３と、本体１１
の底面の長手方向の中心線に沿って開けられたスリット
状の開口１７を囲い、スリット状開口１７が下方に延び
るように、スリット状の開口１７から延ばされた金属薄
板からなるノズル１２と、本体１１の中に洗浄液（例え
ば、純水）を送り込むための洗浄液供給口１６と、本体
１１の洗浄液の中に超音波を出射するために上面板１３
に取り付けられた超音波振動子（不図示）と、超音波振
動子に振動子入力端１４1，１４2，１４3を介して超音
波信号を送る超音波信号ケーブル１５とから構成されて
いる。
【００１３】上述の実施例の場合、ノズル１２の先端の
開口１８は、本体１１およびノズルの長手方向（図１
（ａ）では左右）に延びる中心線に平行で、両中心線を
通る中心面に対しては斜め、すなわちノズル１２の延伸
方向には斜めになる平面で切ったように加工されてい
る。この斜めの角度は、図２の超音波洗浄装置における
超音波洗浄機１０の取り付け傾斜に対応している。すな
わち、基板２０は搬送ローラ２１，２２，２３によって
矢印Ｈで示される方向に搬送され、超音波洗浄機１０は
搬送されてくる基板２０の主表面に対して傾いて取り付
けられているが、ノズル１２の先端の開口１８は基板２
０の主表面に対し平行となるように加工されている。し
たがって、ほとんどの洗浄液を一方向（基板２０の搬送
方向に対向する方向）に均一に流すことができ、超音波
も均一に照射でき洗浄効果が大であるとともに、洗浄し
た基板２０の部所を洗浄しつつある液で汚染させる可能
性が極めて少なくなる。
開口１８は、本体１１およびノズルの長手方向（図１
（ａ）では左右）に延びる中心線に平行で、両中心線を
通る中心面に対しては斜め、すなわちノズル１２の延伸
方向には斜めになる平面で切ったように加工されてい
る。この斜めの角度は、図２の超音波洗浄装置における
超音波洗浄機１０の取り付け傾斜に対応している。すな
わち、基板２０は搬送ローラ２１，２２，２３によって
矢印Ｈで示される方向に搬送され、超音波洗浄機１０は
搬送されてくる基板２０の主表面に対して傾いて取り付
けられているが、ノズル１２の先端の開口１８は基板２
０の主表面に対し平行となるように加工されている。し
たがって、ほとんどの洗浄液を一方向（基板２０の搬送
方向に対向する方向）に均一に流すことができ、超音波
も均一に照射でき洗浄効果が大であるとともに、洗浄し
た基板２０の部所を洗浄しつつある液で汚染させる可能
性が極めて少なくなる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、超音波洗
浄機の噴出開口は斜めになっているので、超音波洗浄機
を傾けて取り付ければ、半導体基板上での洗浄液の流れ
は、基板の未洗浄の部分の方に流れ、洗浄済みの部分を
再汚染することはなくなる。また、超音波洗浄機の噴射
開口は斜めになっているので、搬送されてくる基板の主
表面と平行にすることができるので、洗浄液流および超
音波照射が基板面上で均一となり洗浄効果が向上する。
浄機の噴出開口は斜めになっているので、超音波洗浄機
を傾けて取り付ければ、半導体基板上での洗浄液の流れ
は、基板の未洗浄の部分の方に流れ、洗浄済みの部分を
再汚染することはなくなる。また、超音波洗浄機の噴射
開口は斜めになっているので、搬送されてくる基板の主
表面と平行にすることができるので、洗浄液流および超
音波照射が基板面上で均一となり洗浄効果が向上する。
【図１】（ａ）は、本発明の超音波洗浄機の一実施例を
示す正面図である。（ｂ）は（ａ）の側面図である。
示す正面図である。（ｂ）は（ａ）の側面図である。
【図２】図１（ａ），（ｂ）で示された超音波洗浄機を
実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させている
ところを示す図である。
実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させている
ところを示す図である。
【図３】（ａ）は、超音波洗浄機の従来例を示す正面図
である。（ｂ）は（ａ）の側面図である。
である。（ｂ）は（ａ）の側面図である。
【図４】図３（ａ），（ｂ）で示された超音波洗浄機を
実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させている
ところを示している図である。
実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させている
ところを示している図である。
【図５】図３（ａ），（ｂ）で示された超音波洗浄機を
実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させている
ところを示している図である。
実際に取り付けて超音波洗浄装置として動作させている
ところを示している図である。
１０ 超音波洗浄機 １１ 本体 １２ ノズル １３ 上面板 １４1，１４2，１４3 振動子入力端 １５ 超音波信号入力ケーブル １６ 洗浄液供給口 １７，１８ 開口
Claims (3)
- 【請求項１】 略直方体形状の空間の側面を取り囲むよ
うに、前記空間の一本の中心線を挟んで平行に対向する
ように配置された第１，第２の側壁と、前記第１，第２
の側壁と直交する第３，第４の側壁と、前記直方体形状
の空間の上部を覆う上面板と、スリット形状をして前記
中心線に平行に延びる底面スリット開口まで、下がり勾
配をもって第１，第２の側面の下縁からそれぞれ延伸す
る第１，第２の底面と、前記底面スリット開口を下方の
噴射開口に繋げるように前記スリット開口の周縁から下
方に延伸するノズルと、供給される洗浄液を前記部材に
囲まれた空間に供給し、前記ノズルの前記噴射開口から
噴射させるための洗浄液供給手段と、前記空間に供給さ
れた洗浄液に超音波を送出し前記ノズルの噴射開口から
洗浄液とともに超音波を照射させる超音波生成手段とを
有する超音波洗浄機において、 前記ノズルの噴射開口によって形成される平面は、前記
空間の一本の中心線には平行であって、前記ノズルの延
伸方向には傾斜していることを特徴とする超音波洗浄
機。 - 【請求項２】 水平に搬送されてくる半導体基板の上面
に請求項１の超音波洗浄機のノズルの噴射開口が平行に
対面するように、前記超音波洗浄機を傾斜させて取り付
けた超音波洗浄装置。 - 【請求項３】 前記噴射開口は前記半導体基板の搬送方
向に直交するように延びており、前記超音波洗浄機は、
前記半導体基板の搬送方向に傾いて取り付けられている
請求項２記載の超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7496595A JPH08267028A (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7496595A JPH08267028A (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08267028A true JPH08267028A (ja) | 1996-10-15 |
Family
ID=13562527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7496595A Pending JPH08267028A (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08267028A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003068694A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Fujikoshi Mach Corp | ウェーハの洗浄装置及びウェーハの接着装置 |
| KR100393942B1 (ko) * | 2001-04-18 | 2003-08-14 | 김용훈 | 탈수기 여과포의 세정 및 절수장치 |
| US6619301B2 (en) * | 1999-12-17 | 2003-09-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ultrasonic processing device and electronic parts fabrication method using the same |
-
1995
- 1995-03-31 JP JP7496595A patent/JPH08267028A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6619301B2 (en) * | 1999-12-17 | 2003-09-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ultrasonic processing device and electronic parts fabrication method using the same |
| KR100393942B1 (ko) * | 2001-04-18 | 2003-08-14 | 김용훈 | 탈수기 여과포의 세정 및 절수장치 |
| JP2003068694A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Fujikoshi Mach Corp | ウェーハの洗浄装置及びウェーハの接着装置 |
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