JP2005296884A - 超音波洗浄装置および超音波洗浄方法 - Google Patents
超音波洗浄装置および超音波洗浄方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005296884A JP2005296884A JP2004119895A JP2004119895A JP2005296884A JP 2005296884 A JP2005296884 A JP 2005296884A JP 2004119895 A JP2004119895 A JP 2004119895A JP 2004119895 A JP2004119895 A JP 2004119895A JP 2005296884 A JP2005296884 A JP 2005296884A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- ultrasonic
- cleaning liquid
- port
- cleaned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
【課題】 ノズル口から被洗浄物に噴出させる洗浄液の量の分布を均一化でき、洗浄効率を向上できる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】 この超音波洗浄装置では、ノズル2は、供給口である噴出口7a〜7cから供給された洗浄液を撹拌してノズル口3に向わせる突起11a〜11cを備える。噴出口7a〜7cから噴出された洗浄液は突起11a〜11cに当たって、流動方向が変えられる。これにより、ノズル口3への洗浄液の流れは乱され、突起11a〜11cによる撹拌作用を受ける。したがって、ノズル口3から被洗浄物への洗浄液の供給ムラが発生するのを防げる。
【選択図】 図1
Description
この発明は、超音波洗浄装置および超音波洗浄方法に関し、一例として、半導体基板あるいは液晶パネル用基板などの製造工程で用いられる超音波洗浄装置および超音波洗浄方法に関する。
従来、たとえば、半導体基板や液晶パネル用のガラス基板等は、高い洗浄度で洗浄することが要求されている。液晶パネル用のガラス基板等の洗浄方法としては、洗浄液中に複数枚の被洗浄基板を浸漬するディップ方式や、被洗浄物に向けて洗浄液を噴射して1枚ずつ洗浄する枚葉方式が知られている。
最近では、基板の大型化に伴い、高い洗浄度が得られコスト的にも有利な枚葉方式が採用されることが多くなっている。この枚葉方式の1つとして、被洗浄物に噴射される洗浄液に超音波振動を付与し、その振動作用で被洗浄物に付着している微粒子を除去する超音波振動方式が実用化されている。
この超音波振動方式における振動周波数としては、20kHz〜1.5MHzの帯域が用いられている。この洗浄液に付与した超音波振動の作用でもって、被洗浄物に付着している微粒子の結合力が低下して、洗浄液に超音波振動を付与しない場合に比べて洗浄効果が向上する。
一例として半導体装置や液晶パネルの製造工程で使用される超音波洗浄装置としては、例えば、特許文献1(特開2002−66478号公報)で提案されている。この超音波洗浄装置について、図4〜図7を参照して説明する。
図4に示した超音波洗浄装置は、ノズル107と洗浄液供給部108と超音波発生部109を備える。このノズル107はノズル口104と内周面に取り付けられた突起片106とを有する。この突起片106は噴出口105を構成している。この洗浄液供給部108から洗浄液配管103を経由して洗浄液が供給される。また、超音波発生部109は、ノズル107の底口110に取り付けられ、振動板102とこの振動板102に固着された振動子101とを有する。この振動子101には図示されない給電系から電力が供給される。
この超音波洗浄装置では、洗浄液供給部108の洗浄液配管103からノズル107内の噴出口105に洗浄液が供給される。突起片106は、噴出口105に供給された洗浄液を振動板102に向けて流し、振動板102によって超音波振動が付与された洗浄液はノズル107内を対流してノズル口104に向かう。この超音波洗浄装置によれば、ノズル107の内側に設けた突起片106でもって、振動板102からノズル口104に向かう流れを洗浄液に与える。これにより、超音波振動が付与された洗浄液をノズル口104から被洗浄物に効率よく噴出させることができる。
ところで、近年、洗浄装置は小型化しており、この小型化に伴ってノズルの内容積が減少し、ノズル内で噴出口105から噴出される洗浄液の対流性が向上したことから、加工が煩雑となる突起片106は省略されるようになった。
この突起片106の無い超音波洗浄装置の断面を図5に示す。また、図6は図5に示す超音波洗浄装置の斜視図である。
この超音波洗浄装置は、ノズル130と超音波発生部137を備える。このノズル130は、ノズル口133とこのノズル口133に連なる内室138、および側壁を貫通する噴出口129を有する。この噴出口129には、分岐配管128が接続される。この分岐配管128はマニホールド127に接続されている。一方、超音波発生部137は、ノズル130の底に取り付けられる。この超音波発生部137は、基部137Aと、ノズル130の底口を塞ぐように配置される振動板132と、この振動板132に固定された振動子131を有する。また、上記基部137Aには、ケーブル取出口139が接続され、このケーブル取出口139に電力供給用ケーブル等が挿入され、このケーブルで基部137A内に設けられる給電部材(図示せず)に電力が供給される。
この超音波洗浄装置では、洗浄液はマニホールド127を経由して分岐配管128に導かれ、噴出口129からノズル130内に直接噴出する。なお、図5では、分岐配管128はノズル130から外された状態を示している。そして、振動子131が固着された振動板132によって、超音波振動を付与された洗浄液はノズル口133から噴出し、基板(図5では図示せず)へと噴出される。
ところで、図6に示すように、ノズル130のノズル口133はスリット状の細長い開口であり、ノズル130はノズル口133の長手方向に所定間隔を隔てて3つの噴出口129を有している。したがって、この3つの噴出口129に接続される3つの分岐配管128がマニホールド127に接続されている。
また、上記超音波洗浄装置は、図7(A)に示すように、基板134を矢印Zの方向に搬送する搬送部140を備える。図7(A)はノズル口133の上方から下方に見た様子を示す模式図である。この搬送部140は、上記3つの分岐配管128に隣接して配置され、回転軸141で回転される複数の搬送ローラ135を有する。この搬送ローラ135は基板134を支えながら回転することにより、基板134を矢印Zの方向に搬送する。この搬送ローラ135は、図7(B)に示すように、ノズル口133と基板134との間に所定の間隔を保った状態で基板134を搬送する。図7(B)は、上記矢印Zの方向の先から上記矢印Zの逆方向に上記搬送ローラ135,ノズル130,基板134を見た様子を示す。図7(A)および図7(B)に示すように、搬送ローラ135は分岐配管128に近接配置されるので、3つの分岐配管128の間隔は搬送ローラ135の間隔によって規定される。つまり、分岐配管128は搬送ローラ135に当たらないように配置される。
このように、分岐配管128は搬送ローラ135を避けるような間隔で設けられていることに起因して、図7(B)に示すように、ノズル口133から噴き出す洗浄液136は、ノズル口133の長手方向における噴出し量の分布が不均一になることがある。つまり、上記噴出し量の分布は、3つの各分岐配管128の位置をピークとする分布となる。このような不均一な噴出し量分布では、洗浄液136が基板134に届かなくなることがある。基板134に洗浄液136が届かなければ、超音波振動が基板134に伝わることができず、基板134に対する超音波洗浄が達成されない。
特開2002−66478号公報
そこで、この発明の課題はノズル口から被洗浄物に噴出させる洗浄液の量の分布を均一化でき、洗浄効率を向上できる超音波洗浄装置および超音波洗浄方法を提供することにある。
上記課題を解決するため、この発明の超音波洗浄装置は、洗浄液が供給される供給口と被洗浄物に対向させるノズル口とを有すると共に上記供給口から供給された上記洗浄液を上記ノズル口から噴出するノズルと、上記ノズルに供給された上記洗浄液に超音波振動を付与する超音波発生部とを備え、
上記ノズルは、
上記供給口から供給された上記洗浄液を撹拌して上記ノズル口に向わせる凸部を備えることを特徴としている。
上記ノズルは、
上記供給口から供給された上記洗浄液を撹拌して上記ノズル口に向わせる凸部を備えることを特徴としている。
この発明の超音波洗浄装置によれば、上記ノズルが備える凸部が上記洗浄液を撹拌して上記ノズル口に向わせる。これにより、上記ノズル口の各箇所に対して上記洗浄液が不均一に供給されることを抑制して、上記ノズル口の各箇所に供給される洗浄液の量を均一化できる。したがって、ノズル口から被洗浄物への洗浄液の供給ムラが発生するのを防げる。したがって、この発明によれば、被洗浄物に効率よく超音波振動を付与でき、超音波洗浄の性能を向上することができる。
また、一実施形態の超音波洗浄装置では、上記凸部は、上記供給口に向かって突き出している。
この実施形態では、上記凸部は上記供給口に向かって突き出しているので、上記供給口から供給された洗浄液は、上記凸部に向かって流動し、上記凸部で効率よく撹拌されて対流する。したがって、凸部による洗浄液の撹拌効果を高めることができる。したがって、上記ノズル口への洗浄液の供給をより均一化でき、ノズル口から被洗浄物へ洗浄液をムラ無く噴き出すことができるので、超音波洗浄性能を高めることができる。
また、一実施形態の超音波洗浄装置は、上記ノズル口はスリット状に延在しており、上記凸部は、上記ノズル口が延在している方向に複数配置されている。
この実施形態では、上記凸部は、上記ノズル口がスリット状に延在している方向に複数配置されていることで、複数の凸部によって撹拌した洗浄液を上記スリット状に延在するノズル口に沿って供給できる。したがって、上記ノズル口のスリット状の形状に対応して、上記ノズル口の各箇所に対して上記洗浄液が不均一に供給されることを抑制して、上記ノズル口の各箇所に供給される洗浄液の量を均一化できる。したがって、ノズル口から被洗浄物への洗浄液の供給ムラが発生するのを防げ、超音波洗浄性能を高めることができる。
また、一実施形態の超音波洗浄方法では、上記超音波洗浄装置の上記ノズルのノズル口から上記被洗浄物の表面に対して上記超音波振動が付与された洗浄液を噴出させて、上記被洗浄物の表面を洗浄する。この超音波洗浄方法によれば、超音波振動が付与された洗浄液を上記被洗浄物に対して均一に噴き出すことができ、被洗浄物に効率よく超音波振動を伝達できるから、超音波洗浄の性能を向上できる。
この発明の超音波洗浄装置によれば、ノズルは、供給口から供給された洗浄液を撹拌してノズル口に向わせる凸部を備えるので、上記ノズル口の各箇所に対して上記洗浄液が不均一に供給されることを抑制できる。したがって、上記ノズル口の各箇所に供給される洗浄液の量を均一化でき、ノズル口から被洗浄物への洗浄液の供給ムラが発生するのを防げる。したがって、この発明によれば、被洗浄物に効率よく超音波振動を付与でき、超音波洗浄の性能を向上することができる。
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
図1に、この発明の超音波洗浄装置の実施形態の断面を模式的に示す。また、図2に図1のA-A断面を示す。
図1に示すように、この実施形態の超音波洗浄装置1は、ノズル2と、このノズル2の底面2Aに取り付けられた超音波発生部4を備える。この超音波発生部4は凹部14とこの凹部14を覆う振動板5を有する。この振動板5の裏面には振動子6が固定されている。この振動子6には、凹部14内に配置された給電体(図示せず)から電力が供給される。この給電体は、超音波発生部4の底面に取り付けられたケーブル取出口10内に挿通されたケーブル(図示せず)でもって外部から電力が供給される。
一方、ノズル2は、先端に形成された開口であるノズル口3と、このノズル口3から後端に連なる内室15を有する。この内室15の後端開口15Aは上記振動板5で塞がれている。また、このノズル2は、ノズル口3と後端開口15Aとの間で内室15から外部に貫通している噴出口7bを有する。図2に示すように、ノズル2は、内室15から外部に連通する3つの噴出口7a,7b,7cを有する。この3つの噴出口7a〜7cは、洗浄液が供給される供給口をなす。
また、図2に示すように、ノズル口3はスリット状に延在しており、上記3つの噴出口7a〜7cはスリット状のノズル口3に沿って所定間隔を隔てて配置されている。噴出口7a〜7cはそれぞれ雌ネジ部16a〜16cを有する。噴出口7bには、図1に示す分岐配管8bの雄ネジ部17bが螺合されて噴出口7bに分岐配管8bが連結される。また、図2に示す雌ネジ部16a,16cにも、それぞれ、図1に示す分岐配管8bと同様の構造である分岐配管(図示せず)が連結される。上記3つの噴出口7a〜7cに連結された3本の分岐配管は、図1に示すマニホールド9に繋がっており、このマニホールド9には洗浄液が供給される。
また、この実施形態では、図2に示すように、ノズル2は、ノズル2の内室15に形成された凸部としての3つの突起11a〜11cを有する。この3つの突起11a〜11cは、断面略V字形状であり、それぞれ、噴出口7a〜7cに向かって突き出しており、噴出口7a〜7cに対向している。この3つの突起11a〜11cは、ノズル口3がスリット状に延在している方向に所定間隔を隔てて配列されている。
また、この実施形態では、図2に示すように、ノズル2は、内室15の両側に2列に配列された8つの固定用貫通孔12を有する。この2列のうちの1列の4つの貫通孔12は、噴出口7a,7b,7cと交互に形成され、残りの1列の貫通孔12は、突起11a,11b,11cと交互に形成されている。この8つの固定用貫通孔12は、ノズル2の後端面2Aに達している。この固定用貫通孔12は、ノズル2を超音波発生部4に固定するのに使用される。つまり、一例として、上記貫通孔12にシャフト等が挿通され、このシャフト等を超音波発生部4に形成した孔(図示せず)に挿通することで、ノズル2を超音波発生部4に固定する。
また、この実施形態は、一例として、図7(A)に示した搬送部140を備え、この搬送部140でもって、被洗浄物としての基板134をスリット状のノズル口3の上方に所定の間隙を隔てた状態で、図2に示すように、ノズル口3がスリット状に延在する方向Yと直交する方向Zに搬送する。つまり、この実施形態は、基板を搬送方向Zに1枚ずつ搬送しながら超音波洗浄する枚葉方式の超音波洗浄装置である。
上記構成の超音波洗浄装置では、マニホールド9に導かれた洗浄液は、3つに分岐された分岐配管8b等を経由して3つの噴出口7a,7b,7cから内室15内に噴出する。この内室15内に噴出された洗浄液は、超音波発生部4の振動板5によって超音波振動が付与されると共に、上記3つの突起11a〜11cによって撹拌,対流されて、ノズル口3に導かれる。
つまり、各噴出口7a〜7cの正面に突起11a〜11cが設けられているので、噴出口7a〜7cから噴出された洗浄液は突起11a〜11cに当たって、各噴出口7a〜7cのY方向位置からずれた方向(噴出口7a〜7cに対向しない方)へ流動方向が変えられる。これにより、ノズル口3への洗浄液の流れは乱され、突起11a〜11cによる撹拌作用を受ける。
この突起11a〜11cによる撹拌作用によって、ノズル口3のスリット状延在方向(Y方向)に関して、洗浄液の供給量分布を均一化できる。したがって、この実施形態によれば、超音波振動が付与された洗浄液を、スリット状のノズル口3から、被洗浄物の一例としての基板に向かってムラ無く均一に噴き付けることができる。したがって、被洗浄物の一例としての基板を効率よく超音波洗浄できる。
尚、上記実施形態では、ノズル2の内室15に、断面略V字形状の3つの突起11a〜11cを有したが、図3に示すように、ノズル2の内室15に、断面略半円形状の3つの突起21a〜21cを有してもよい。また、上記突起は断面が略多角形状であってもよく、曲線と直線を組合わせた断面形状であってもよい。また、突起の個数は3つに限らないのはもちろんで、3個以上や3個以下でもよい。また、上記実施形態では、開口としてのノズル口3は真っ直ぐに延びるスリット状としたが、ノズル口は湾曲しながら延在していてもよい。また、上記実施形態では、ノズル口は略長方形状であったが、楕円形状やその他の形状であってもよい。また、上記実施形態では、ノズル2の内室15の容積が比較的小さな場合としたが、内室15の容積がより大きな場合であっても突起11a〜11cによる洗浄液の撹拌効果が得られる。もっとも、本実施形態のように、内室15の容積が比較的小さな場合に、突起による洗浄液の撹拌効果がより大きくなる。
1 超音波洗浄装置
2 ノズル
3 ノズル口
4 超音波発生部
5 振動板
6 振動子
7a〜7c 噴出口
8b 分岐配管
9 マニホールド
10 ケーブル取出口
11a〜11c、21a〜21c 突起
12 固定用貫通穴
14 凹部
15 内室
2 ノズル
3 ノズル口
4 超音波発生部
5 振動板
6 振動子
7a〜7c 噴出口
8b 分岐配管
9 マニホールド
10 ケーブル取出口
11a〜11c、21a〜21c 突起
12 固定用貫通穴
14 凹部
15 内室
Claims (4)
- 洗浄液が供給される供給口と被洗浄物に対向させるノズル口とを有すると共に上記供給口から供給された上記洗浄液を上記ノズル口から噴出するノズルと、上記ノズルに供給された上記洗浄液に超音波振動を付与する超音波発生部とを備え、
上記ノズルは、
上記供給口から供給された上記洗浄液を撹拌して上記ノズル口に向わせる凸部を備えることを特徴とする超音波洗浄装置。 - 請求項1に記載の超音波洗浄装置において、
上記凸部は、上記供給口に向かって突き出していることを特徴とする超音波洗浄装置。 - 請求項1に記載の超音波洗浄装置において、
上記ノズル口はスリット状に延在しており、
上記凸部は、上記ノズル口が延在している方向に複数配置されていることを特徴とする超音波洗浄装置。 - 請求項1に記載の超音波洗浄装置を用い、
上記超音波洗浄装置の上記ノズルのノズル口から上記被洗浄物の表面に対して上記超音波振動が付与された洗浄液を噴出させて、上記被洗浄物の表面を洗浄することを特徴とする超音波洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004119895A JP2005296884A (ja) | 2004-04-15 | 2004-04-15 | 超音波洗浄装置および超音波洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004119895A JP2005296884A (ja) | 2004-04-15 | 2004-04-15 | 超音波洗浄装置および超音波洗浄方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005296884A true JP2005296884A (ja) | 2005-10-27 |
Family
ID=35329075
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004119895A Pending JP2005296884A (ja) | 2004-04-15 | 2004-04-15 | 超音波洗浄装置および超音波洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005296884A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013503029A (ja) * | 2009-08-26 | 2013-01-31 | ユニバーシティ、オブ、サウサンプトン | 洗浄装置、洗浄方法、およびそのモニター方法 |
US11426772B2 (en) | 2015-05-13 | 2022-08-30 | Sloan Water Technology Limited | Cleaning apparatus and method of using an acoustic transducer |
-
2004
- 2004-04-15 JP JP2004119895A patent/JP2005296884A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013503029A (ja) * | 2009-08-26 | 2013-01-31 | ユニバーシティ、オブ、サウサンプトン | 洗浄装置、洗浄方法、およびそのモニター方法 |
US11577284B2 (en) | 2009-08-26 | 2023-02-14 | Sloan Water Technology Limited | Cleaning apparatus and method, and monitoring thereof |
US11426772B2 (en) | 2015-05-13 | 2022-08-30 | Sloan Water Technology Limited | Cleaning apparatus and method of using an acoustic transducer |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100982492B1 (ko) | 기판 세정용 이류체 분사 노즐 | |
TWI756611B (zh) | 超音波洗淨裝置及超音波洗淨系統 | |
JP3981064B2 (ja) | 両面式超音波シャワー洗浄装置 | |
TWI227035B (en) | Substrate processing device of transporting type | |
JP2005296884A (ja) | 超音波洗浄装置および超音波洗浄方法 | |
JP2008184380A (ja) | 共振を利用した超音波洗浄装置 | |
KR101000297B1 (ko) | 기체 분사 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치 | |
JP3881169B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2007059417A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2001099569A (ja) | 基板の乾燥処理装置 | |
JP4920365B2 (ja) | 処理槽 | |
JP2006281012A (ja) | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、及び基板の製造方法 | |
JP2003088789A (ja) | ウェット処理装置 | |
JPH04338274A (ja) | 部品洗浄方法及び洗浄装置 | |
KR101388505B1 (ko) | 대면적 기판용 세정장치 | |
JP6994654B1 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
JP5579219B2 (ja) | ノズル装置およびスプレー装置 | |
JPH08267028A (ja) | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 | |
KR101865348B1 (ko) | 초음파 세정 장치 | |
KR20070077100A (ko) | 초음파 세정장치 및 초음파 세정방법 | |
JPH05129266A (ja) | 洗浄方法及びその装置 | |
JP3405846B2 (ja) | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 | |
KR100846575B1 (ko) | 평판 디스플레이 글라스 세정용 이류체 분사 장치 | |
JP2007216209A (ja) | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 | |
JP2005152706A (ja) | 板状部材の洗浄装置、洗浄方法および処理装置 |