JP2007216209A - 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体ウエーハ、フォトマスク基板、液晶基板等のダメージを受けやすい基板でも、基板自体にダメージを与えずに超音波洗浄することができる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄物10を超音波洗浄するための洗浄装置であって、少なくとも、超音波振動を発する超音波振動子3と、該超音波振動子が装着され、前記超音波振動が印加された洗浄液9と被洗浄物を接触させる手段2とを具備し、前記超音波振動子が、該超音波振動子が装着された面に対して横方向の超音波振動を付与するものであり、該超音波振動を前記洗浄液に印加して前記被洗浄物を洗浄するものであることを特徴とする超音波洗浄装置1。
【選択図】図1
【解決手段】被洗浄物10を超音波洗浄するための洗浄装置であって、少なくとも、超音波振動を発する超音波振動子3と、該超音波振動子が装着され、前記超音波振動が印加された洗浄液9と被洗浄物を接触させる手段2とを具備し、前記超音波振動子が、該超音波振動子が装着された面に対して横方向の超音波振動を付与するものであり、該超音波振動を前記洗浄液に印加して前記被洗浄物を洗浄するものであることを特徴とする超音波洗浄装置1。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体ウエーハ、フォトマスク基板、液晶基板等のダメージを受けやすい基板を超音波洗浄するのに好適な洗浄装置及び洗浄方法に関する。
半導体ウエーハ、フォトマスク基板、液晶基板等の基板を洗浄する方法として、例えば洗浄液を収容した槽(洗浄槽)に基板を浸漬し、槽の底部に設けた超音波振動子から超音波を付与して超音波洗浄を行う方法がある。超音波振動子に電圧を印加すると、固有の周波数の超音波が発生する。この超音波振動が洗浄槽内の洗浄液に印加されることにより、洗浄液中にキャビテーションが発生し、このキャビテーションによって洗浄液中の基板を洗浄することができる。なお、超音波による洗浄作用は、キャビテーションのほか、粒子加速度、直進流、ケミカル作用による洗浄作用等がある。
また、ノズルに超音波振動子を装着し、ノズル内に供給した洗浄液に超音波振動を印加した上で洗浄液を基板(被洗浄物)に向けて噴射することにより洗浄する方法がある。
さらに、超音波振動子と基板との間に隙間を設け、この隙間に洗浄液を供給するとともに洗浄液に超音波振動を付与して基板を洗浄する方法も提案されている(特許文献1参照)。この方法では、少ない洗浄液で超音波洗浄を行うことができる。
さらに、超音波振動子と基板との間に隙間を設け、この隙間に洗浄液を供給するとともに洗浄液に超音波振動を付与して基板を洗浄する方法も提案されている(特許文献1参照)。この方法では、少ない洗浄液で超音波洗浄を行うことができる。
しかしながら、半導体ウエーハ、フォトマスク基板、液晶基板等のダメージを受けやすい基板を超音波洗浄すると、基板に付着している汚染物を効果的に除去することができる反面、基板自体に粒子加速度によるダメージを与えてしまう場合がある。特に超音波振動子と基板との間に隙間を設けて洗浄液を供給して洗浄する場合には、被洗浄基板と洗浄液への超音波振動を印加する面とが近接しているので、被洗浄基板にダメージを与え易い。
そこで、本発明は、半導体ウエーハ、フォトマスク基板、液晶基板等のダメージを受けやすい基板でも、基板自体にダメージを与えずに超音波洗浄することができる洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明によれば、被洗浄物を超音波洗浄するための洗浄装置であって、少なくとも、超音波振動を発する超音波振動子と、該超音波振動子が装着され、前記超音波振動が印加された洗浄液と被洗浄物を接触させる手段とを具備し、前記超音波振動子が、該超音波振動子が装着された面に対して横方向の超音波振動を付与するものであり、該超音波振動を前記洗浄液に印加して前記被洗浄物を洗浄するものであることを特徴とする超音波洗浄装置が提供される(請求項1)。
このように装着面に対して横方向の超音波振動を付与する超音波振動子を備えた超音波洗浄装置であれば、半導体ウエーハ等の被洗浄物に対して粒子加速度によるダメージをほとんど与えずに、キャビテーション等の作用によって超音波洗浄できるものとなる。
前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、溝又は凹凸が形成されているものが好ましい(請求項2)。
このような溝又は凹凸が形成されていれば、超音波振動が伝わり易く、特にキャビテーションが発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮する装置となる。
このような溝又は凹凸が形成されていれば、超音波振動が伝わり易く、特にキャビテーションが発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮する装置となる。
前記超音波振動子が、輻射板を介して前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段に装着されているものとすることができる(請求項3)。
超音波振動子が輻射板を介して装着されていれば、超音波振動子が小さくても、輻射板を介して超音波振動を洗浄液全体に均一に伝播させることができる洗浄装置となる。
超音波振動子が輻射板を介して装着されていれば、超音波振動子が小さくても、輻射板を介して超音波振動を洗浄液全体に均一に伝播させることができる洗浄装置となる。
前記溝又は前記凹凸の幅が、前記超音波振動子の中心から外側に向けて広くなっているものであることが好ましい(請求項4)。
このように溝又は凹凸の幅が超音波振動子の中心から外側に向けて広くなっていることによって、超音波振動子による振動方向のベクトル角が浅くなるため、例えば接触体タイプの超音波洗浄装置の場合は被洗浄物の洗浄範囲が広がり、槽タイプの超音波洗浄装置の場合は様々な方向から被洗浄物に振動を与えることができ、さらに効果的且つ効率的な洗浄をすることができる洗浄装置となる。
このように溝又は凹凸の幅が超音波振動子の中心から外側に向けて広くなっていることによって、超音波振動子による振動方向のベクトル角が浅くなるため、例えば接触体タイプの超音波洗浄装置の場合は被洗浄物の洗浄範囲が広がり、槽タイプの超音波洗浄装置の場合は様々な方向から被洗浄物に振動を与えることができ、さらに効果的且つ効率的な洗浄をすることができる洗浄装置となる。
より具体的には、前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段が、前記被洗浄物に近接して該被洗浄物との間に洗浄液を流すための接触体を具備し、該接触体に前記超音波振動子が装着されているものとすることができる(請求項5)。
このように被洗浄物に近接させた接触体と被洗浄物との間に洗浄液を流して横方向の超音波振動を付与して超音波洗浄を行うものであれば、少ない洗浄液で、被洗浄物にダメージを与えずに効率的に超音波洗浄を行うことができる洗浄装置となる。
このように被洗浄物に近接させた接触体と被洗浄物との間に洗浄液を流して横方向の超音波振動を付与して超音波洗浄を行うものであれば、少ない洗浄液で、被洗浄物にダメージを与えずに効率的に超音波洗浄を行うことができる洗浄装置となる。
前記接触体に、前記被洗浄物に洗浄液を供給する手段が設けられていることが好ましい(請求項6)。
このような洗浄液供給手段が設けられていれば、被洗浄物に確実に洗浄液を供給することができるとともにコンパクトに構成でき、より効率的に超音波洗浄することができる洗浄装置となる。
このような洗浄液供給手段が設けられていれば、被洗浄物に確実に洗浄液を供給することができるとともにコンパクトに構成でき、より効率的に超音波洗浄することができる洗浄装置となる。
前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液が流れる方向に対して平行に溝が形成されており、前記超音波振動子が、前記洗浄液が流れる方向に対して垂直方向に前記超音波振動を付与するものとすることができる(請求項7)。
このような方向に溝が形成され、超音波振動を付与するものであれば、キャビテーションがより発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮することができるとともに、被洗浄物にダメージを与え難い洗浄装置となる。
このような方向に溝が形成され、超音波振動を付与するものであれば、キャビテーションがより発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮することができるとともに、被洗浄物にダメージを与え難い洗浄装置となる。
前記接触体に、前記洗浄液が流れる方向に沿って裾部が設けられていることが好ましい(請求項8)。
接触体に上記のような裾部が設けられていれば、一方向に洗浄液を流してパーティクルを排出することができ、より効果的に洗浄を行うことができる洗浄装置となる。
接触体に上記のような裾部が設けられていれば、一方向に洗浄液を流してパーティクルを排出することができ、より効果的に洗浄を行うことができる洗浄装置となる。
また、前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段は、前記被洗浄物に洗浄液を噴射するノズルとすることができる(請求項9)。
このようなノズルであれば、被洗浄物に対して噴射した洗浄液により、超音波振動の粒子加速度によるダメージを与えずに効果的に超音波洗浄を行うことができる洗浄装置となる。
このようなノズルであれば、被洗浄物に対して噴射した洗浄液により、超音波振動の粒子加速度によるダメージを与えずに効果的に超音波洗浄を行うことができる洗浄装置となる。
前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液を噴射する方向に対して平行に溝が形成されており、前記超音波振動子が、前記洗浄液を噴射する方向に対して垂直方向に前記超音波振動を付与するものとすることができる(請求項10)。あるいは、前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液を噴射する方向に対して垂直方向に溝が形成されており、前記超音波振動子が、前記洗浄液を噴射する方向に対して平行に前記超音波振動を付与するものとすることもできる(請求項11)。
このような方向に溝が形成され、超音波振動を付与するノズルであれば、キャビテーションがより発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮することができるとともに、必要に応じ、被洗浄物のダメージの受け易さに応じて印加する超音波の振動方向を決定して洗浄できる洗浄装置となる。
このような方向に溝が形成され、超音波振動を付与するノズルであれば、キャビテーションがより発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮することができるとともに、必要に応じ、被洗浄物のダメージの受け易さに応じて印加する超音波の振動方向を決定して洗浄できる洗浄装置となる。
また、前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段は、前記洗浄液及び被洗浄物を収容する槽とすることができる(請求項12)。
このような槽であれば、被洗浄物に対して粒子加速度によるダメージを与えずに、被洗浄物を短時間で確実に超音波洗浄することができる洗浄装置となる。
このような槽であれば、被洗浄物に対して粒子加速度によるダメージを与えずに、被洗浄物を短時間で確実に超音波洗浄することができる洗浄装置となる。
前記超音波振動子は、厚みすべり振動子とすることができる(請求項13)。
厚みすべり振動子であれば、横方向の超音波振動を容易に付与することができ、装着面に対して横方向に確実に超音波振動を付与することができる洗浄装置となる。
厚みすべり振動子であれば、横方向の超音波振動を容易に付与することができ、装着面に対して横方向に確実に超音波振動を付与することができる洗浄装置となる。
また、本発明では、少なくとも、超音波振動を発する超音波振動子と、該超音波振動子が装着され、前記超音波振動が印加された洗浄液と被洗浄物を接触させる手段とを具備する超音波洗浄装置を用いて被洗浄物を超音波洗浄する方法において、前記超音波振動子として、該超音波振動子が装着された面に対して横方向の超音波振動を付与するものを用い、該超音波振動を前記洗浄液に印加して前記被洗浄物を洗浄することを特徴とする超音波洗浄方法が提供される(請求項14)。
このように装着面に対して横方向の超音波振動を付与する超音波振動子を備えた超音波洗浄装置を用いて洗浄を行えば、半導体ウエーハ等の被洗浄物に対して粒子加速度によるダメージをほとんど与えずにキャビテーション等の作用によって超音波洗浄することができる。
前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、溝又は凹凸が形成されているものを用いることが好ましい(請求項15)。
このような溝又は凹凸が形成されていれば、洗浄液に超音波振動が伝わり易く、特にキャビテーションが発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮させることができる。
このような溝又は凹凸が形成されていれば、洗浄液に超音波振動が伝わり易く、特にキャビテーションが発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮させることができる。
前記超音波振動子が、輻射板を介して前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段に装着されているものを用いることができる(請求項16)。
超音波振動子が輻射板を介して装着されていれば、超音波振動子が小さくても、輻射板を介して超音波振動を洗浄液全体に均一に伝播させることができる。
超音波振動子が輻射板を介して装着されていれば、超音波振動子が小さくても、輻射板を介して超音波振動を洗浄液全体に均一に伝播させることができる。
前記溝又は前記凹凸の幅が、前記超音波振動子の中心から外側に向けて広くなっているものを用いることが好ましい(請求項17)。
このように溝又は凹凸の幅が超音波振動子の中心から外側に向けて広くなっているものを洗浄時に使用することによって、超音波振動子による振動方向のベクトル角が浅くなるので、例えば接触体タイプの超音波洗浄装置で被洗浄物を洗浄する場合はその洗浄範囲が広がり、槽タイプの超音波洗浄装置で被洗浄物を洗浄する場合は様々な方向から振動を与えることができ、より効果的且つ効率的に被洗浄物を洗浄することができる。
このように溝又は凹凸の幅が超音波振動子の中心から外側に向けて広くなっているものを洗浄時に使用することによって、超音波振動子による振動方向のベクトル角が浅くなるので、例えば接触体タイプの超音波洗浄装置で被洗浄物を洗浄する場合はその洗浄範囲が広がり、槽タイプの超音波洗浄装置で被洗浄物を洗浄する場合は様々な方向から振動を与えることができ、より効果的且つ効率的に被洗浄物を洗浄することができる。
具体的には、前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段として、前記被洗浄物に近接して該被洗浄物との間に洗浄液を流すための接触体を具備し、該接触体に前記超音波振動子が装着されているものを用いることができる(請求項18)。
このように被洗浄物に近接させた接触体と被洗浄物との間に洗浄液を流して、超音波振動子が装着面に対して横方向の超音波振動を付与して超音波洗浄を行えば、少ない洗浄液で、被洗浄物にダメージを与えずに効率的に超音波洗浄を行うことができる。
このように被洗浄物に近接させた接触体と被洗浄物との間に洗浄液を流して、超音波振動子が装着面に対して横方向の超音波振動を付与して超音波洗浄を行えば、少ない洗浄液で、被洗浄物にダメージを与えずに効率的に超音波洗浄を行うことができる。
前記接触体に、前記被洗浄物に洗浄液を供給する手段が設けられているものを用いることが好ましい(請求項19)。
このような洗浄液供給手段が設けられていれば、被洗浄物に確実に洗浄液を供給することができ、より効率的に超音波洗浄することができる。
このような洗浄液供給手段が設けられていれば、被洗浄物に確実に洗浄液を供給することができ、より効率的に超音波洗浄することができる。
前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液が流れる方向に対して平行に溝が形成されており、前記超音波振動子として、前記洗浄液が流れる方向に対して垂直方向に前記超音波振動を付与するものを用いることが好ましい(請求項20)。
このような方向に溝が形成され、超音波振動を付与すれば、キャビテーションがより発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮することができるとともに、被洗浄物にダメージを与え難くなる。
このような方向に溝が形成され、超音波振動を付与すれば、キャビテーションがより発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮することができるとともに、被洗浄物にダメージを与え難くなる。
前記接触体に、前記洗浄液が流れる方向に沿って裾部が設けられているものを用いることが好ましい(請求項21)。
接触体に上記のような裾部が設けられていれば、一方向に洗浄液を流してパーティクルを排出することができ、より効果的に洗浄を行うことができる。
接触体に上記のような裾部が設けられていれば、一方向に洗浄液を流してパーティクルを排出することができ、より効果的に洗浄を行うことができる。
前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段として、前記被洗浄物に洗浄液を噴射するノズルを用いることができる(請求項22)。
このようなノズルを用いれば、被洗浄物に対して噴射した洗浄液により、超音波振動の粒子加速度によるダメージを与えずに効果的に超音波洗浄を行うことができる。
このようなノズルを用いれば、被洗浄物に対して噴射した洗浄液により、超音波振動の粒子加速度によるダメージを与えずに効果的に超音波洗浄を行うことができる。
前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液を噴射する方向に対して平行に溝が形成されており、前記超音波振動子として、前記洗浄液を噴射する方向に対して垂直方向に前記超音波振動を付与するものを用いることができる(請求項23)。あるいは、前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液を噴射する方向に対して垂直方向に溝が形成されており、前記超音波振動子として、前記洗浄液を噴射する方向に対して平行に前記超音波振動を付与するものを用いることもできる(請求項24)。
このような方向に溝が形成され、超音波振動を付与するノズルを用いれば、キャビテーションがより発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮することができるとともに、必要に応じ、被洗浄物のダメージの受け易さに応じて印加する超音波の振動方向を決定して洗浄できる。
このような方向に溝が形成され、超音波振動を付与するノズルを用いれば、キャビテーションがより発生し易くなり、より高い洗浄作用を発揮することができるとともに、必要に応じ、被洗浄物のダメージの受け易さに応じて印加する超音波の振動方向を決定して洗浄できる。
前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段として、前記洗浄液及び被洗浄物を収容する槽を用いることもできる(請求項25)。
このような槽を用いれば、被洗浄物に対して粒子加速度によるダメージを与えずに、被洗浄物を短時間で確実に超音波洗浄することができる。
このような槽を用いれば、被洗浄物に対して粒子加速度によるダメージを与えずに、被洗浄物を短時間で確実に超音波洗浄することができる。
前記超音波振動子として、厚みすべり振動子を用いることが好ましい(請求項26)。
厚みすべり振動子であれば、横方向の超音波振動を容易に付与することができ、装着面に対して横方向に確実に超音波振動を付与することができる。
厚みすべり振動子であれば、横方向の超音波振動を容易に付与することができ、装着面に対して横方向に確実に超音波振動を付与することができる。
前記被洗浄物として、半導体ウエーハ、フォトマスク基板又は液晶基板を洗浄することができる(請求項27)。
これらの基板は表面の汚染やキズを極力無くすことが求められる一方、ダメージを受け易いが、本発明による洗浄方法によれば、粒子加速度によるダメージを与えず、キャビテーション等の作用によって極めて清浄な状態に洗浄することができる。
これらの基板は表面の汚染やキズを極力無くすことが求められる一方、ダメージを受け易いが、本発明による洗浄方法によれば、粒子加速度によるダメージを与えず、キャビテーション等の作用によって極めて清浄な状態に洗浄することができる。
本発明に係る超音波洗浄装置は、装着面に対して横方向の超音波振動を付与する超音波振動子を備えており、被洗浄物に対して粒子加速度によるダメージを与えずに、キャビテーション等の作用によって超音波洗浄することができる。従って、本発明によれば、半導体ウエーハ、フォトマスク基板、液晶基板等のダメージを受け易い基板に対し、音波または粒子加速度によるダメージを与えずに極めて清浄な状態に超音波洗浄することができる。
本発明者らは、従来の超音波洗浄において、被洗浄物がダメージを受け易い原因について検討したところ、従来は超音波振動子が装着された面に対して垂直方向に超音波振動させるのが常識であり、これにより効率良く洗浄液に超音波を印加できるとされていることに問題があると考えた。装着面に垂直に付与された超音波振動は、洗浄液に印加する面でも洗浄液に垂直に超音波を印加し、被洗浄物に対して垂直方向から直接的に超音波が作用し易く、粒子加速度等により被洗浄物にダメージを与え易いと考えられる。そこで、超音波振動子が装着された面に対し横方向に振動するものを用いることによって、被洗浄物に粒子加速度を直接的に作用させないようにするとともに、確実に洗浄液に超音波を印加して効率良く洗浄物を洗浄できることを見出し、本発明を完成させた。
以下、添付の図面を参照しつつ、本発明に係る超音波洗浄装置を用いて半導体ウエーハ等の基板を洗浄する場合について具体的に説明する。
図1は、本発明に係る超音波洗浄装置の一例を示している。この洗浄装置1は、超音波振動を発する超音波振動子3と、超音波振動が印加された洗浄液9と基板10を接触させるために基板10に近接して配置される接触体2を具備している。
図1は、本発明に係る超音波洗浄装置の一例を示している。この洗浄装置1は、超音波振動を発する超音波振動子3と、超音波振動が印加された洗浄液9と基板10を接触させるために基板10に近接して配置される接触体2を具備している。
接触体2は箱型の形状であり、下部には洗浄液9に超音波を印加するための輻射板4が設けられている。輻射板4の上面には超音波振動子3が装着されており、下面には洗浄液9が流れる方向に対して平行に溝8が形成されている。さらに、下面の両側には洗浄液9が流れる方向に沿って裾部5が設けられている。
接触体2の側部には基板10に洗浄液9を供給するための洗浄液供給口7が設けられている。図1(C)に見られるように、洗浄液供給口7を通じて輻射板4と基板10との間に洗浄液9を供給することができる。
このような接触体2であれば、輻射板4と基板10を近接させてその隙間に洗浄液9を供給することで、輻射板4を介して超音波振動を洗浄液9に印加することができる。
接触体2の側部には基板10に洗浄液9を供給するための洗浄液供給口7が設けられている。図1(C)に見られるように、洗浄液供給口7を通じて輻射板4と基板10との間に洗浄液9を供給することができる。
このような接触体2であれば、輻射板4と基板10を近接させてその隙間に洗浄液9を供給することで、輻射板4を介して超音波振動を洗浄液9に印加することができる。
そして、本発明では、輻射板4に装着された超音波振動子3が、装着面に対して横方向の超音波振動を付与するものであることを最大の特徴としている。
このような横方向の超音波振動を付与する超音波振動子3としては、厚さすべり振動子を好適に使用することができる。たとえば板状の厚さすべり振動子3を接触体2の輻射板4に接合させ、電源ケーブル6を通じて振動子3に電圧(高周波電力)を印加すれば、図1(B)に見られるように横方向に振動して超音波振動を発することができる。そして、厚さすべり振動子3から輻射板4に付与された超音波振動は、輻射板4の下面から輻射板4と基板10との間の洗浄液9に印加される。洗浄液9に印加された振動は、洗浄液9を介してさらに基板10に伝播する。
このような横方向の超音波振動を付与する超音波振動子3としては、厚さすべり振動子を好適に使用することができる。たとえば板状の厚さすべり振動子3を接触体2の輻射板4に接合させ、電源ケーブル6を通じて振動子3に電圧(高周波電力)を印加すれば、図1(B)に見られるように横方向に振動して超音波振動を発することができる。そして、厚さすべり振動子3から輻射板4に付与された超音波振動は、輻射板4の下面から輻射板4と基板10との間の洗浄液9に印加される。洗浄液9に印加された振動は、洗浄液9を介してさらに基板10に伝播する。
従来の超音波洗浄装置では、上記のような接触体タイプのものに限らず、超音波振動子が装着面に対して縦方向に振動して超音波振動が洗浄液に印加されていた。特に接触体を基板に近接させて超音波洗浄を行うような装置では、超音波振動の基板への衝撃が大きく、特に半導体ウエーハやフォトマスク基板はダメージを受け易いという問題がある。また、接触体(輻射板)と基板との距離が非常に狭く、音波の反射による定在波が発生し、パーティクルの排出が速やかに行なわれなかったり、輻射板にパーティクルが付着して再汚染の要因になるという問題もある。
一方、図1に示した洗浄装置1では、超音波振動子3が装着面(輻射板4)に対して横方向の超音波振動を付与する。これにより輻射板4が水平に振動し、輻射板4の溝8が洗浄液を引っかいて輻射板4に平行な縦波が発生する。この縦振動(縦波)は音波媒体となる洗浄液9に伝わり、被洗浄基板10に対してほぼ水平に移動する。すなわち、基板10に対して超音波振動が垂直には当たらず、基板10への粒子加速度によるダメージを大幅に抑制することができる。また、定在波が発生しないため、パーティクルの滞留を防ぐことができる。さらに、輻射板4の下面側には、洗浄液9が流れる方向に沿って裾部5が設けられているため、一方向への液流によりパーティクルを速やかに排出することができる。
また、輻射板4の溝8の間に入り込んだ洗浄液9に対して振動が印加され、キャビテーションが発生し易い。特に、図1(B)に示されるように、超音波振動子3が、洗浄液9が流れる方向に対して垂直方向に超音波振動を付与するように装着されていれば、キャビテーションがより発生し易くなる。従って、振動(粒子加速度)による基板10へのダメージが抑制される一方、キャビテーションによる高い洗浄作用を発揮することができる。
さらに、輻射板4に設けられた溝8の幅は、洗浄液に印加したい超音波の振動方向等の振動特性に合うように適宜変更することができ、例えば、図5(A)、(B)に示すような溝幅とすることもできる。図5は本発明に係る接触体タイプの超音波洗浄装置の一部の断面を示した図であり、(A)は輻射板の溝幅が等しい場合、(B)は輻射板の溝幅が超音波振動子の中心から外側に向けて広くなっている(a>b>c)場合である。図5中の輻射板4から伸びている黒い矢印は振動方向のベクトルを表すものである。
図5(A)のように輻射板4の下面に溝8が等間隔の幅で設けられている場合、溝8により起こる縦振動は前述したように超音波振動が垂直には当たらず、基板10への粒子加速度によるダメージを大幅に抑制することができる。
しかし、特に、図5(B)のように超音波振動子3の中心から外側に向けて、輻射板4に設ける溝8の幅を広くする(例えばa>b>cとする)れば、振動板4の外側に一番広い幅(図5(B)中のa参照)で設けられた溝8の振動方向のベクトル角が浅くなるので、等間隔に溝を設けた図5(A)の場合より基板10を広範囲で効率的に洗浄することができる。
しかし、特に、図5(B)のように超音波振動子3の中心から外側に向けて、輻射板4に設ける溝8の幅を広くする(例えばa>b>cとする)れば、振動板4の外側に一番広い幅(図5(B)中のa参照)で設けられた溝8の振動方向のベクトル角が浅くなるので、等間隔に溝を設けた図5(A)の場合より基板10を広範囲で効率的に洗浄することができる。
溝8の幅は上記のように溝幅が等しい場合や輻射板の溝幅が超音波振動子の中心から外側に向けて広くなっている場合に限られず、目的に応じて溝の幅をランダムに設けてもよいし、超音波振動子の右側から左側に向けて幅を広くしてもよい。
なお、図5では接触体に裾部がない超音波洗浄装置を挙げて溝幅を変えた時の効果を説明したが、裾部が外側に広がっているような接触体でも同様の効果が得られる。
なお、図5では接触体に裾部がない超音波洗浄装置を挙げて溝幅を変えた時の効果を説明したが、裾部が外側に広がっているような接触体でも同様の効果が得られる。
なお、洗浄液9は特に限定されないが、輻射板4の洗浄液9と接する面を単結晶サファイアで構成すれば、例えばフッ酸あるいはSC−1などのアルカリ性の洗浄液を用いても高い耐性を示し、好適である。
図2は、本発明に係る超音波振動装置の他の例を示している。この洗浄装置21はノズルタイプのものであり、図1に示した超音波洗浄装置1と同様の内部構造を有し、洗浄液供給口7、超音波振動子(不図示)、輻射板24を備え、さらに両側の裾部25を連結するように底板22が設けられている。輻射板24の下面には洗浄液を噴射する方向に対して平行に溝28が形成されており、超音波振動子が洗浄液を噴射する方向に対して垂直方向に超音波振動を付与するように装着されている。そして、輻射板24と裾部25と底板22とが流水型のスリットノズルとして作用し、洗浄液供給口7から供給された洗浄液を輻射板24と底板22との間からカーテン状又はシャワー状に噴射することができる。
このようなノズルタイプの超音波洗浄装置21でも、超音波振動子が装着面(輻射板24)に対して横方向の超音波振動を付与することで、超音波振動が洗浄液に印加される。そしてこのような横方向の超音波振動が印加された洗浄液を基板に向けて噴射することで、基板に対して縦波の超音波振動を当てずに基板へのダメージを抑制して超音波洗浄を行うことができる。特に輻射板24の溝28の間に入り込んだ洗浄液にはキャビテーションが容易に発生するので、キャビテーションによる高い洗浄作用を発揮することができる。
なお、洗浄の際、基板に対するノズル21の方向は特に限定されないが、基板に対してノズル21が平行に近くなるほど粒子加速度によるダメージを抑制することができ、望ましい。
なお、洗浄の際、基板に対するノズル21の方向は特に限定されないが、基板に対してノズル21が平行に近くなるほど粒子加速度によるダメージを抑制することができ、望ましい。
図3は、本発明に係る超音波洗浄装置のさらに他の例を示している。この洗浄装置31もノズルタイプであり、主にノズル本体32と、超音波振動子33と、輻射板34とから構成されている。
ノズル本体32は、洗浄液供給口37を有し、内部には洗浄液の流れを確保するための洗浄液供給路36と洗浄液通過孔35が形成されている。
ノズル本体32は、洗浄液供給口37を有し、内部には洗浄液の流れを確保するための洗浄液供給路36と洗浄液通過孔35が形成されている。
輻射板34の上面には、横方向に振動する超音波振動子33が接合されている。この場合も厚みすべり振動子を好適に用いることができる。振動子33は、洗浄液を噴射する方向に対して平行に超音波振動を付与するように輻射板34に装着されている。
一方、輻射板34の下面には洗浄液を噴射する方向に対して垂直方向に溝38が形成されている。図3(A)に見られるように、各溝38は、ノズル本体32の洗浄液通過孔35に対応する位置に形成されており、洗浄液の噴射方向に向けて下方に傾斜している。上記のような振動子33の振動方向と溝形状により洗浄液を噴射し易くなっている。
一方、輻射板34の下面には洗浄液を噴射する方向に対して垂直方向に溝38が形成されている。図3(A)に見られるように、各溝38は、ノズル本体32の洗浄液通過孔35に対応する位置に形成されており、洗浄液の噴射方向に向けて下方に傾斜している。上記のような振動子33の振動方向と溝形状により洗浄液を噴射し易くなっている。
洗浄液通過孔35を経て輻射板側に供給された洗浄液は、輻射板34を介して振動子33からの横方向の超音波振動が印加されて基板10に噴射される。従って、この洗浄ノズル31でも、基板10に対して縦波の超音波振動をあまり当てずに基板10へのダメージが抑制されるとともに、特にキャビテーションによる高い洗浄作用によって洗浄することができる。
なお、図2と図3のタイプのノズルのいずれを用いるかは、被洗浄物のダメージの受け易さ等により適宜決めればよい。図2のタイプの方がよりソフトな洗浄ができる。
なお、図2と図3のタイプのノズルのいずれを用いるかは、被洗浄物のダメージの受け易さ等により適宜決めればよい。図2のタイプの方がよりソフトな洗浄ができる。
図4は、本発明に係る超音波洗浄装置のさらに他の例を示している。
図4(A)に示した洗浄装置41は、洗浄液9と基板10を収容する槽(洗浄槽)42の下面に超音波振動子43が装着されている。このような槽タイプの洗浄装置41でも、装着面に対して横方向の超音波振動を付与する超音波振動子(好ましくは厚みすべり振動子)43を装着することで、基板10に対して縦波の超音波振動を当てずに超音波洗浄することができる。なお、この洗浄装置41では、超音波振動子43を洗浄槽42に直接接合されているが、ステンレス等の輻射板を介して装着してもよい。
図4(A)に示した洗浄装置41は、洗浄液9と基板10を収容する槽(洗浄槽)42の下面に超音波振動子43が装着されている。このような槽タイプの洗浄装置41でも、装着面に対して横方向の超音波振動を付与する超音波振動子(好ましくは厚みすべり振動子)43を装着することで、基板10に対して縦波の超音波振動を当てずに超音波洗浄することができる。なお、この洗浄装置41では、超音波振動子43を洗浄槽42に直接接合されているが、ステンレス等の輻射板を介して装着してもよい。
図4(B)に示した洗浄装置51は二槽タイプであり、内側の槽52aには洗浄液(純水)9が収容され、外側の槽52bには伝播水54が収容されている。このような二槽タイプでは、外側の槽52bの下面に装着された超音波振動子53からの超音波振動は、伝播水54を介して内側の槽52a内の洗浄液9に均一に伝わって基板10を超音波洗浄することができる。この場合も、外側の槽52bに装着面に対して横方向の超音波振動を付与する超音波振動子53を装着することで、内側の槽52a内に収容された基板10に対して縦波の超音波振動を当てずに超音波洗浄することができる。
なお、図4(A)(B)に示した槽タイプの洗浄装置41,51でも、超音波振動を洗浄液9に印加する面に溝又は凹凸を形成しておけば、キャビテーションが発生し易くなり、洗浄作用を一層高めることができる。
なお、図4(A)(B)に示した槽タイプの洗浄装置41,51でも、超音波振動を洗浄液9に印加する面に溝又は凹凸を形成しておけば、キャビテーションが発生し易くなり、洗浄作用を一層高めることができる。
この溝又は凹凸は、その形状は円でも線でも適宜設ければよく、接触体タイプの超音波洗浄装置と同様にその幅をランダムに設けてもよいし、等間隔に設けてもよく、洗浄液に印加する超音波の振動特性に合わせて適宜変更することができる。しかし、溝又は凹凸の幅を超音波振動子の振動中心からその外側に向けて広くする方がより好ましく、超音波振動を洗浄液に印加する面に設ける溝又は凹凸の幅を変えることによって、基板に垂直方向ではなく水平方向のランダムな超音波振動を与えることができ、超音波振動を洗浄液に印加する面の溝又は凹凸の幅を等間隔に設けるよりも、さらに効果的且つ効率的に基板を洗浄することができるようになる。
以上のように、本発明に係る洗浄装置は、装着面に対して横方向の超音波振動を付与する超音波振動子を備えており、縦方向の超音波振動が被洗浄物に当たらないため、粒子加速度によるダメージを与えずに被洗浄物を超音波洗浄することができる。従って、半導体ウエーハ、フォトマスク基板、液晶基板等に対し、粒子加速度によるダメージを与えずに極めて清浄な状態に超音波洗浄することができる。
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。前述の実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
例えば、上記実施形態では、超音波振動が印加された洗浄液と被洗浄物を接触させる手段として、接触体タイプ、ノズルタイプ、槽タイプについてそれぞれ説明したが、これらのタイプに限定されるものではない。超音波振動子が、装着された面に対して横方向の超音波振動を付与するものであり、この超音波振動を洗浄液に印加して被洗浄物を洗浄する洗浄装置であれば本発明に含まれる。
また、本発明は、半導体ウエーハ、フォトマスク基板、液晶基板などのダメージを受け易い基板に好適に適用できるが、被洗浄物はこれらの基板に限定されず、平坦でなくてもよい。
また、本発明は、半導体ウエーハ、フォトマスク基板、液晶基板などのダメージを受け易い基板に好適に適用できるが、被洗浄物はこれらの基板に限定されず、平坦でなくてもよい。
1…超音波洗浄装置(接触体タイプ)、 2…接触体、 3…超音波振動子、 4…輻射板、 5…裾部、 6…電源ケーブル、 7…洗浄液供給口、 8…溝、 9…洗浄液、 10…被洗浄物(基板)、 21,31…超音波洗浄装置(ノズルタイプ)、 32…ノズル本体、 33…超音波振動子、 34…輻射板、 37…洗浄液供給口、 38…溝、 41…超音波洗浄装置(一槽タイプ)、 51…超音波洗浄装置(二槽タイプ)、 a,b,c…溝の幅(a>b>c)。
Claims (27)
- 被洗浄物を超音波洗浄するための洗浄装置であって、少なくとも、超音波振動を発する超音波振動子と、該超音波振動子が装着され、前記超音波振動が印加された洗浄液と被洗浄物を接触させる手段とを具備し、前記超音波振動子が、該超音波振動子が装着された面に対して横方向の超音波振動を付与するものであり、該超音波振動を前記洗浄液に印加して前記被洗浄物を洗浄するものであることを特徴とする超音波洗浄装置。
- 前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、溝又は凹凸が形成されているものであることを特徴とする請求項1に記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波振動子が、輻射板を介して前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段に装着されているものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の超音波洗浄装置。
- 前記溝又は前記凹凸の幅が、前記超音波振動子の中心から外側に向けて広くなっているものであることを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の超音波洗浄装置。
- 前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段が、前記被洗浄物に近接して該被洗浄物との間に洗浄液を流すための接触体を具備し、該接触体に前記超音波振動子が装着されているものであることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の超音波洗浄装置。
- 前記接触体に、前記被洗浄物に洗浄液を供給する手段が設けられていることを特徴とする請求項5に記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液が流れる方向に対して平行に溝が形成されており、前記超音波振動子が、前記洗浄液が流れる方向に対して垂直方向に前記超音波振動を付与するものであることを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の超音波洗浄装置。
- 前記接触体に、前記洗浄液が流れる方向に沿って裾部が設けられていることを特徴とする請求項5ないし請求項7のいずれか一項に記載の超音波洗浄装置。
- 前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段が、前記被洗浄物に洗浄液を噴射するノズルであることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液を噴射する方向に対して平行に溝が形成されており、前記超音波振動子が、前記洗浄液を噴射する方向に対して垂直方向に前記超音波振動を付与するものであることを特徴とする請求項9に記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液を噴射する方向に対して垂直方向に溝が形成されており、前記超音波振動子が、前記洗浄液を噴射する方向に対して平行に前記超音波振動を付与するものであることを特徴とする請求項9に記載の超音波洗浄装置。
- 前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段が、前記洗浄液及び被洗浄物を収容する槽であることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波振動子が、厚みすべり振動子であることを特徴とする請求項1ないし請求項12のいずれか一項に記載の超音波洗浄装置。
- 少なくとも、超音波振動を発する超音波振動子と、該超音波振動子が装着され、前記超音波振動が印加された洗浄液と被洗浄物を接触させる手段とを具備する超音波洗浄装置を用いて被洗浄物を超音波洗浄する方法において、前記超音波振動子として、該超音波振動子が装着された面に対して横方向の超音波振動を付与するものを用い、該超音波振動を前記洗浄液に印加して前記被洗浄物を洗浄することを特徴とする超音波洗浄方法。
- 前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、溝又は凹凸が形成されているものを用いることを特徴とする請求項14に記載の超音波洗浄方法。
- 前記超音波振動子が、輻射板を介して前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段に装着されているものを用いることを特徴とする請求項14又は請求項15に記載の超音波洗浄方法。
- 前記溝又は前記凹凸の幅が、前記超音波振動子の中心から外側に向けて広くなっているものを用いることを特徴とする請求項15又は請求項16に記載の超音波洗浄方法。
- 前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段として、前記被洗浄物に近接して該被洗浄物との間に洗浄液を流すための接触体を具備し、該接触体に前記超音波振動子が装着されているものを用いることを特徴とする請求項14ないし請求項17のいずれか一項に記載の超音波洗浄方法。
- 前記接触体に、前記被洗浄物に洗浄液を供給する手段が設けられているものを用いることを特徴とする請求項18に記載の超音波洗浄方法。
- 前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液が流れる方向に対して平行に溝が形成されており、前記超音波振動子として、前記洗浄液が流れる方向に対して垂直方向に前記超音波振動を付与するものを用いることを特徴とする請求項18又は請求項19に記載の超音波洗浄方法。
- 前記接触体に、前記洗浄液が流れる方向に沿って裾部が設けられているものを用いることを特徴とする請求項18ないし請求項20のいずれか一項に記載の超音波洗浄方法。
- 前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段として、前記被洗浄物に洗浄液を噴射するノズルを用いることを特徴とする請求項14ないし請求項16のいずれか一項に記載の超音波洗浄方法。
- 前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液を噴射する方向に対して平行に溝が形成されており、前記超音波振動子として、前記洗浄液を噴射する方向に対して垂直方向に前記超音波振動を付与するものを用いることを特徴とする請求項22に記載の超音波洗浄方法。
- 前記超音波振動を洗浄液に印加する面に、前記洗浄液を噴射する方向に対して垂直方向に溝が形成されており、前記超音波振動子として、前記洗浄液を噴射する方向に対して平行に前記超音波振動を付与するものを用いることを特徴とする請求項22に記載の超音波洗浄方法。
- 前記洗浄液と被洗浄物を接触させる手段として、前記洗浄液及び被洗浄物を収容する槽を用いることを特徴とする請求項14ないし請求項17のいずれか一項に記載の超音波洗浄方法。
- 前記超音波振動子として、厚みすべり振動子を用いることを特徴とする請求項14ないし請求項25のいずれか一項に記載の超音波洗浄方法。
- 前記被洗浄物として、半導体ウエーハ、フォトマスク基板又は液晶基板を洗浄することを特徴とする請求項14ないし請求項26のいずれか一項に記載の超音波洗浄方法。
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