JPH08293144A - 光ディスクの吸着受け台 - Google Patents
光ディスクの吸着受け台Info
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- JPH08293144A JPH08293144A JP7120714A JP12071495A JPH08293144A JP H08293144 A JPH08293144 A JP H08293144A JP 7120714 A JP7120714 A JP 7120714A JP 12071495 A JP12071495 A JP 12071495A JP H08293144 A JPH08293144 A JP H08293144A
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- JP
- Japan
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- suction
- center
- small holes
- optical disc
- resin substrate
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 必要最小限の吸引小孔を使って均等な吸着が
可能で、且つ低コストな吸着受け台を提供すること。 【構成】 吸着面の中心に位置決め用ボス部を設けて光
ディスクを吸着する光ディスクの吸着受け台１０であっ
て、該吸着受け台に吸着面の中心に点対称となる多数の
吸引小孔１５を形成した光ディスク１の吸着受け台。 【効果】 吸着面上に多数の吸着用の小孔を吸着面の中
心点を対称に幾何学的に配置することで、吸着面上に薄
い樹脂基板を中心に確実に保持して、中心を基点に全体
として均衡的に吸着することができる。更にまた、吸引
小孔を溝の底に穿孔した場合は、吸引小孔の加工能率も
向上し吸着受け台の製造コストが低下する。
可能で、且つ低コストな吸着受け台を提供すること。 【構成】 吸着面の中心に位置決め用ボス部を設けて光
ディスクを吸着する光ディスクの吸着受け台１０であっ
て、該吸着受け台に吸着面の中心に点対称となる多数の
吸引小孔１５を形成した光ディスク１の吸着受け台。 【効果】 吸着面上に多数の吸着用の小孔を吸着面の中
心点を対称に幾何学的に配置することで、吸着面上に薄
い樹脂基板を中心に確実に保持して、中心を基点に全体
として均衡的に吸着することができる。更にまた、吸引
小孔を溝の底に穿孔した場合は、吸引小孔の加工能率も
向上し吸着受け台の製造コストが低下する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、光ディスクを吸着面
上に均等かつ確実に吸着する光ディスクの吸着受け台に
関する。
上に均等かつ確実に吸着する光ディスクの吸着受け台に
関する。
【０００２】
【従来の技術】図６に、模式的に示すように、光ディス
ク１は、片面に音声等の情報信号が信号ピット（信号
穴）の形で転写されている。一方、その信号面上にはア
ルミニウムまたはニッケル等の金属反射膜３が形成さ
れ、さらにその上に紫外線硬化樹脂の保護膜４が設けら
れ、信号面の損傷が防止されている。
ク１は、片面に音声等の情報信号が信号ピット（信号
穴）の形で転写されている。一方、その信号面上にはア
ルミニウムまたはニッケル等の金属反射膜３が形成さ
れ、さらにその上に紫外線硬化樹脂の保護膜４が設けら
れ、信号面の損傷が防止されている。
【０００３】そして、信号面に対物レンズで半導体レー
ザーからのレーザービームを絞り込み、その反射光が光
検出器で受光されて信号が再生される。通常、ＣＤ等の
樹脂基板の厚みは１．２ｍｍ程度であるが、それに比べ
て、高密度の信号ピットが記録された光ディスクでは、
樹脂基板の厚みは、更に薄くなる。
ザーからのレーザービームを絞り込み、その反射光が光
検出器で受光されて信号が再生される。通常、ＣＤ等の
樹脂基板の厚みは１．２ｍｍ程度であるが、それに比べ
て、高密度の信号ピットが記録された光ディスクでは、
樹脂基板の厚みは、更に薄くなる。
【０００４】しかし、薄い樹脂基板では機械的強度が低
く反り返ったり曲がったりし易いことから、２枚を貼り
合わせる方法を採用し、合計で１．２ｍｍ程度にして強
度を確保している。
く反り返ったり曲がったりし易いことから、２枚を貼り
合わせる方法を採用し、合計で１．２ｍｍ程度にして強
度を確保している。
【０００５】すなわち、２枚貼り合わせて成る光ディス
クは、樹脂基板の信号面に高密度の信号が転写された第
１の樹脂基板２と、強度保持のためのブランクとなる第
２の樹脂基板１が接着剤５を介して貼り合わされて構成
される。
クは、樹脂基板の信号面に高密度の信号が転写された第
１の樹脂基板２と、強度保持のためのブランクとなる第
２の樹脂基板１が接着剤５を介して貼り合わされて構成
される。
【０００６】ところで、この２枚の樹脂基板の貼り合わ
せは、（１）第１の樹脂基板に接着剤を塗布する工程、
（２）接着剤が塗布された第１の樹脂基板にブランクで
ある第２樹脂基板を載置する工程、（３）接着剤を硬化
する工程等の各工程を順次通過することにより行われ
る。
せは、（１）第１の樹脂基板に接着剤を塗布する工程、
（２）接着剤が塗布された第１の樹脂基板にブランクで
ある第２樹脂基板を載置する工程、（３）接着剤を硬化
する工程等の各工程を順次通過することにより行われ
る。
【０００７】これらの工程においては、樹脂基板を載せ
るべく受け台が、常に使用される。上記工程では、樹脂
基板を回転させること（例えば、高速時では、５０００
ｒｐｍ以上）が行われるので、その場合は、受け台に樹
脂基板を確実に固定させた状態で受け台を回転すること
が行われる。樹脂基板を固定するために、受け台に吸着
機能を持たせる意味から、受け台自体には多数の吸引小
孔（通常、直径で１ｍｍ程度のもの）が設けられてい
る。
るべく受け台が、常に使用される。上記工程では、樹脂
基板を回転させること（例えば、高速時では、５０００
ｒｐｍ以上）が行われるので、その場合は、受け台に樹
脂基板を確実に固定させた状態で受け台を回転すること
が行われる。樹脂基板を固定するために、受け台に吸着
機能を持たせる意味から、受け台自体には多数の吸引小
孔（通常、直径で１ｍｍ程度のもの）が設けられてい
る。
【０００８】樹脂基板は、上記工程では、平面度を極力
維持した方がベターなので、厚みが薄く腰が弱い樹脂基
板を極力平面状態で保持するには、受け台の吸着面にで
きるだけ多数の吸引小孔を、しかも、不規則に配置して
光ディスクを吸着保持することが行われている。しかし
ながら、このように多数配置された吸引小孔は、吸着面
上に光ディスクの着脱を繰返し行っていると、その吸引
小孔の一部が他の付着物で詰まってしまうのである。
維持した方がベターなので、厚みが薄く腰が弱い樹脂基
板を極力平面状態で保持するには、受け台の吸着面にで
きるだけ多数の吸引小孔を、しかも、不規則に配置して
光ディスクを吸着保持することが行われている。しかし
ながら、このように多数配置された吸引小孔は、吸着面
上に光ディスクの着脱を繰返し行っていると、その吸引
小孔の一部が他の付着物で詰まってしまうのである。
【０００９】それが平均に詰まるのであれば、樹脂基板
を吸引する力にも差ほどバラツキが生じないが、ある偏
った状態で詰まってしまうと吸引力が不均衡となる。つ
まり、受け台の中心を基準に対称的に詰まるのであれ
ば、差程、吸着力が不均衡にならないのであるが、吸引
小孔の数が多いことから、ある一部分のみが詰まる確率
も多く、吸着力は中心を基点として不均衡となる。この
ような受け台では、吸着されている樹脂基板は中心から
ズレを起こしたり、全体的にみて平均に吸着されない。
を吸引する力にも差ほどバラツキが生じないが、ある偏
った状態で詰まってしまうと吸引力が不均衡となる。つ
まり、受け台の中心を基準に対称的に詰まるのであれ
ば、差程、吸着力が不均衡にならないのであるが、吸引
小孔の数が多いことから、ある一部分のみが詰まる確率
も多く、吸着力は中心を基点として不均衡となる。この
ような受け台では、吸着されている樹脂基板は中心から
ズレを起こしたり、全体的にみて平均に吸着されない。
【００１０】従って、このうような不均衡な状態で上述
の各工程を実施して貼り合わされた光ディスクは、製品
として変形（いわゆるチルト現象等）が生じ品質が極端
に低下してしまう欠点があった。また、一方では、吸着
面に極めて多数の吸引小孔を穿設することは、受け台の
コストが嵩むことになり、その意味でもデミリットとな
っていた。
の各工程を実施して貼り合わされた光ディスクは、製品
として変形（いわゆるチルト現象等）が生じ品質が極端
に低下してしまう欠点があった。また、一方では、吸着
面に極めて多数の吸引小孔を穿設することは、受け台の
コストが嵩むことになり、その意味でもデミリットとな
っていた。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点の解決を意図したものである。即ち、本発明の目的
は、従来のような多数の吸引小孔に対し、必要最小限の
吸引小孔を使って均等な吸着が可能で、且つ低コストな
吸着受け台を提供することである。
点の解決を意図したものである。即ち、本発明の目的
は、従来のような多数の吸引小孔に対し、必要最小限の
吸引小孔を使って均等な吸着が可能で、且つ低コストな
吸着受け台を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】しかして、本発明者等は
このような課題に対して、平均吸着の現象に着目して鋭
意研究を重ねた結果、吸引小孔をある一定のパターンで
吸着受け台の中心に対し点対称に配置することで上記の
諸問題を解決できることを見出し、この知見に基づいて
本発明を完成させたのものである。
このような課題に対して、平均吸着の現象に着目して鋭
意研究を重ねた結果、吸引小孔をある一定のパターンで
吸着受け台の中心に対し点対称に配置することで上記の
諸問題を解決できることを見出し、この知見に基づいて
本発明を完成させたのものである。
【００１３】すなわち、本発明は、吸着面の中心に位置
決め用ボス部を設けて光ディスクを吸着する光ディスク
の吸着受け台であって、該吸着受け台に吸着面の中心に
点対称となる多数の吸引小孔を形成する光ディスクの吸
着受け台に存する。そして、前記多数の吸引小孔は、吸
着面の中心に対し放射方向に配置された直線上に形成さ
れている光ディスクの吸着受け台に存する。そしてま
た、前記多数の吸引小孔は、吸着面の中心に対し等間隔
に配置された直径の異なる同心円上に形成されている光
ディスクの吸着受け台に存する。
決め用ボス部を設けて光ディスクを吸着する光ディスク
の吸着受け台であって、該吸着受け台に吸着面の中心に
点対称となる多数の吸引小孔を形成する光ディスクの吸
着受け台に存する。そして、前記多数の吸引小孔は、吸
着面の中心に対し放射方向に配置された直線上に形成さ
れている光ディスクの吸着受け台に存する。そしてま
た、前記多数の吸引小孔は、吸着面の中心に対し等間隔
に配置された直径の異なる同心円上に形成されている光
ディスクの吸着受け台に存する。
【００１４】そしてまた、前記多数の吸引小孔は、吸着
面の中心に対し放射方向に配置された直線上及び吸着面
中心に対し等間隔に配置された直径の異なる同心円上に
形成されている光ディスクの吸着受け台に存する。そし
てまた、前記多数の吸引小孔が、前記吸着面の裏面に設
けた溝内に穿設されたものである光ディスクの吸着受け
台に存する。そしてまた、前記受け台が回転可能である
光ディスクの吸着受け台に存する。
面の中心に対し放射方向に配置された直線上及び吸着面
中心に対し等間隔に配置された直径の異なる同心円上に
形成されている光ディスクの吸着受け台に存する。そし
てまた、前記多数の吸引小孔が、前記吸着面の裏面に設
けた溝内に穿設されたものである光ディスクの吸着受け
台に存する。そしてまた、前記受け台が回転可能である
光ディスクの吸着受け台に存する。
【００１５】
【作用】上記のような光ディスクの吸着受け台を採用す
ることにより、吸着受け台上に載置された樹脂基板は、
吸着受け台の吸着面中心に対し点対称となるよう幾何学
的に配置された多数の吸引小孔により吸引され、吸着面
上で全体的に均等に吸着される。
ることにより、吸着受け台上に載置された樹脂基板は、
吸着受け台の吸着面中心に対し点対称となるよう幾何学
的に配置された多数の吸引小孔により吸引され、吸着面
上で全体的に均等に吸着される。
【００１６】
【実施例】以下、実施例を挙げ図面に基づいて本発明を
説明する。図１及び図２は、吸着受け台の第１実施例を
示す図である。図１は吸着受け台の平面図、図２は図１
における２−２断面図である。この吸着受け台１０は、
エアーポケット１３を有する中空円筒状に構成されてい
る。吸着受け台１０の上部には、吸着盤１２が設けら
れ、その上面は表面が平面に形成された吸着面１１とな
っている。
説明する。図１及び図２は、吸着受け台の第１実施例を
示す図である。図１は吸着受け台の平面図、図２は図１
における２−２断面図である。この吸着受け台１０は、
エアーポケット１３を有する中空円筒状に構成されてい
る。吸着受け台１０の上部には、吸着盤１２が設けら
れ、その上面は表面が平面に形成された吸着面１１とな
っている。
【００１７】そして、吸着面１１の中心にはボス部２０
が突設されている。ボス部２０に、樹脂基板１７の穴１
８を挿入することにより、該樹脂基板１７は、中心位置
に確実に位置決めされる。
が突設されている。ボス部２０に、樹脂基板１７の穴１
８を挿入することにより、該樹脂基板１７は、中心位置
に確実に位置決めされる。
【００１８】また、吸着面１１には、多数の吸引小孔１
５（直径で１〜１．５ｍｍ）が、中心Ｏに対し点対称と
なるよう幾何学的に規則的に配置されている。すなわ
ち、吸引小孔１５は、図１に示すように、吸着面１１の
中心Ｏに対し等間隔に配置された直径の異なる同心円上
に配置されている。
５（直径で１〜１．５ｍｍ）が、中心Ｏに対し点対称と
なるよう幾何学的に規則的に配置されている。すなわ
ち、吸引小孔１５は、図１に示すように、吸着面１１の
中心Ｏに対し等間隔に配置された直径の異なる同心円上
に配置されている。
【００１９】一方、吸着面１１の裏面、つまり吸着盤１
２の裏面には、図１に示すように、吸引小孔１５に対応
した形で、溝１４が幾何学的に規則的な同心円上に配置
されている。断面で見て分かるように、吸引小孔１５
は、溝１４の底から穿孔されているので、加工肉厚が薄
くなり、製造時において、例えば小径ドリルを使っての
加工が極めて容易に行える。
２の裏面には、図１に示すように、吸引小孔１５に対応
した形で、溝１４が幾何学的に規則的な同心円上に配置
されている。断面で見て分かるように、吸引小孔１５
は、溝１４の底から穿孔されているので、加工肉厚が薄
くなり、製造時において、例えば小径ドリルを使っての
加工が極めて容易に行える。
【００２０】また、エアーポケット１３の底部中央に
は、図示しない真空装置と接続する吸引口１６が設けら
れている。従って、吸着面１１の上面に位置決め載置さ
れた樹脂基板１７は、規則的に設けられた複数の吸引小
孔１５を介して真空吸着される。今、この吸着受け台上
で樹脂基板１７を吸着保持させる場合、この樹脂基板１
７の穴１８をボス２０に挿入させることにより、吸着面
１１上の中心位置に位置決めする。
は、図示しない真空装置と接続する吸引口１６が設けら
れている。従って、吸着面１１の上面に位置決め載置さ
れた樹脂基板１７は、規則的に設けられた複数の吸引小
孔１５を介して真空吸着される。今、この吸着受け台上
で樹脂基板１７を吸着保持させる場合、この樹脂基板１
７の穴１８をボス２０に挿入させることにより、吸着面
１１上の中心位置に位置決めする。
【００２１】そこで、図示しない真空装置を作動させて
ポケット１３内を負圧状態にする。すると、吸引小孔１
５が同心円上配置に配置されていることから、前記樹脂
基板１７は、中心を基準に同心円上に均衡して吸引され
る。このように均衡して吸着されると、従来のような樹
脂基板のズレは当然生じない。吸着受け台は、回転させ
た状態で吸着する場合や静止した状態で吸着する場合が
あるが、この吸着受け台１０は、両者の場合とも安定し
た吸着効果が得られることは、既に実験等で確認してい
る。
ポケット１３内を負圧状態にする。すると、吸引小孔１
５が同心円上配置に配置されていることから、前記樹脂
基板１７は、中心を基準に同心円上に均衡して吸引され
る。このように均衡して吸着されると、従来のような樹
脂基板のズレは当然生じない。吸着受け台は、回転させ
た状態で吸着する場合や静止した状態で吸着する場合が
あるが、この吸着受け台１０は、両者の場合とも安定し
た吸着効果が得られることは、既に実験等で確認してい
る。
【００２２】さて今まで、吸着面１１の中心Ｏに対し等
間隔に配置された直径の異なる同心円上に吸引小孔を穿
設した例につき説明したが、以下吸引小孔の配置パター
ンとして更に別の例について説明する。図３は、吸引小
孔の配置パターンの異なった吸着受け台である第２の実
施例であり、吸着円盤を裏から見た平面図を示す。この
吸引小孔１５は、吸着面１１の中心Ｏに対し点対称とな
るよう中心に対し放射方向に配置された直線上に穿設さ
れているものである。
間隔に配置された直径の異なる同心円上に吸引小孔を穿
設した例につき説明したが、以下吸引小孔の配置パター
ンとして更に別の例について説明する。図３は、吸引小
孔の配置パターンの異なった吸着受け台である第２の実
施例であり、吸着円盤を裏から見た平面図を示す。この
吸引小孔１５は、吸着面１１の中心Ｏに対し点対称とな
るよう中心に対し放射方向に配置された直線上に穿設さ
れているものである。
【００２３】図に示すように、吸着盤１２の裏面には、
吸引小孔１５に対応した形で直線状の溝１９が、幾何学
的に規則的に配置されている。即ち、吸引小孔１５は、
溝１９の底に線状に穿孔されている。この場合、載置さ
れた樹脂基板１７は、中心に対し放射方向に配置された
直線上の吸引小孔により中心部から均等に吸引されるこ
とになる。
吸引小孔１５に対応した形で直線状の溝１９が、幾何学
的に規則的に配置されている。即ち、吸引小孔１５は、
溝１９の底に線状に穿孔されている。この場合、載置さ
れた樹脂基板１７は、中心に対し放射方向に配置された
直線上の吸引小孔により中心部から均等に吸引されるこ
とになる。
【００２４】中心部の方が吸引小孔の密度が多いため、
樹脂基板１７は中心部から外方に向かって吸引されてい
くのである。そして、このように配置された吸引小孔の
場合は、吸着受け台１０の回転時に特に均等に安定した
吸着効果が得られることが分かっている。一方、実施例
１と同じように、吸引小孔１５は、経方向の溝１９の底
から穿孔されているので、加工肉厚が薄くてすみ、製造
時において、例えば小径ドリルを使っての加工が極めて
容易に行えることは同様のメリットである。
樹脂基板１７は中心部から外方に向かって吸引されてい
くのである。そして、このように配置された吸引小孔の
場合は、吸着受け台１０の回転時に特に均等に安定した
吸着効果が得られることが分かっている。一方、実施例
１と同じように、吸引小孔１５は、経方向の溝１９の底
から穿孔されているので、加工肉厚が薄くてすみ、製造
時において、例えば小径ドリルを使っての加工が極めて
容易に行えることは同様のメリットである。
【００２５】図４は、吸引小孔の配置パターンの更に異
なった吸着受け台である第３の実施例を示し、吸着円盤
を裏から見た平面図を示す。そして、（ａ）は吸着円盤
を裏から見た平面図、（ｂ）は更に詳しくその一部を拡
大図で示すものである。
なった吸着受け台である第３の実施例を示し、吸着円盤
を裏から見た平面図を示す。そして、（ａ）は吸着円盤
を裏から見た平面図、（ｂ）は更に詳しくその一部を拡
大図で示すものである。
【００２６】更に、図５は、吸着円盤を裏から見た一部
拡大斜視図である。吸引小孔１５は、吸着面１１の中心
に対し放射方向に配置された直線と、中心Ｏに対し等間
隔に配置された直径の異なる同心円の２つを合成した線
上に配置される。
拡大斜視図である。吸引小孔１５は、吸着面１１の中心
に対し放射方向に配置された直線と、中心Ｏに対し等間
隔に配置された直径の異なる同心円の２つを合成した線
上に配置される。
【００２７】これらの吸引小孔１５は、このように合成
された線上に配置することにより、吸着面１１上面の中
心Ｏに対し点対称となる幾何学的な且つ規則的な配置を
得ることができる。吸着受け台に載置された樹脂基板１
７は、中心部から均等に吸引されることになる。
された線上に配置することにより、吸着面１１上面の中
心Ｏに対し点対称となる幾何学的な且つ規則的な配置を
得ることができる。吸着受け台に載置された樹脂基板１
７は、中心部から均等に吸引されることになる。
【００２８】この場合、吸引小孔１５の配置密度が中心
部の方が多いので、樹脂基板１７は中心部から外方に向
かって順に吸引されていく。そして、このような合成さ
れた線上に配置された吸引小孔の場合は、吸着受け台１
０の回転時ならびに静止時にも極めて安定した均等な吸
着効果が得られる。尚、吸引小孔の穿孔加工についても
前述した第１実施例及び第２実施例のものと同じ効果を
有することは当然である。
部の方が多いので、樹脂基板１７は中心部から外方に向
かって順に吸引されていく。そして、このような合成さ
れた線上に配置された吸引小孔の場合は、吸着受け台１
０の回転時ならびに静止時にも極めて安定した均等な吸
着効果が得られる。尚、吸引小孔の穿孔加工についても
前述した第１実施例及び第２実施例のものと同じ効果を
有することは当然である。
【００２９】以上、本発明を説明してきたが、本発明は
実施例にのみ限定されるものではなく、その本質から逸
脱しない範囲で、他の種々な変形例が可能であることは
いうまでもない。例えば、吸引小孔の配置パターンは、
実施例のものに限らず、中心Ｏに対し点対称となる幾何
学的な図形上に配置するものであれば、目的に沿うもの
である限り当然有効である。
実施例にのみ限定されるものではなく、その本質から逸
脱しない範囲で、他の種々な変形例が可能であることは
いうまでもない。例えば、吸引小孔の配置パターンは、
実施例のものに限らず、中心Ｏに対し点対称となる幾何
学的な図形上に配置するものであれば、目的に沿うもの
である限り当然有効である。
【００３０】
【発明の効果】吸着面上に多数の吸着用の小孔を吸着面
の中心点を対称に幾何学的に配置することで、吸着面上
に薄い樹脂基板を中心に確実に保持して、中心を基点に
全体として均衡的に吸着することができる。さらにま
た、吸引小孔を溝の底に穿孔した場合は、吸引小孔の加
工能率も向上し吸着受け台の製造コストが低下する。
の中心点を対称に幾何学的に配置することで、吸着面上
に薄い樹脂基板を中心に確実に保持して、中心を基点に
全体として均衡的に吸着することができる。さらにま
た、吸引小孔を溝の底に穿孔した場合は、吸引小孔の加
工能率も向上し吸着受け台の製造コストが低下する。
【図１】図１は、吸着受け台の平面図である。
【図２】図２は図１（ａ）の２−２断面図である。
【図３】図３は、第２の実施例の吸着円盤を裏から見た
平面図を示す。
平面図を示す。
【図４】図４（ａ）は、第３の実施例の吸着円盤を裏か
ら見た平面図を示す。図４（ｂ）は、その部分拡大図を
示す。
ら見た平面図を示す。図４（ｂ）は、その部分拡大図を
示す。
【図５】図５は、第３の実施例の吸着円盤を裏から見た
部分斜視図である。
部分斜視図である。
【図６】図６は、貼り合わされた樹脂基板の断面図であ
る。
る。
１…光ディスク ２…第１の樹脂基板 ３…金属反射膜 ４…保護膜 ５…接着剤 ６…第２の樹脂基板 １０…吸着受け台 １１…吸着面 １２…吸着円盤 １３…エアーポケット １４…溝 １５…吸引小孔 １６…吸引口 １７…樹脂基板 １８…穴 １９…溝 ２０…ボス部
Claims (6)
- 【請求項１】 吸着面の中心に位置決め用ボス部を設け
て光ディスクを吸着する光ディスクの吸着受け台であっ
て、該吸着受け台に吸着面の中心に点対称となる多数の
吸引小孔を形成したことを特徴とする光ディスクの吸着
受け台。 - 【請求項２】 前記多数の吸引小孔は、吸着面の中心に
対し放射方向に配置された直線上に形成されていること
を特徴とする請求項１記載の光ディスクの吸着受け台。 - 【請求項３】 前記多数の吸引小孔は、吸着面の中心に
対し等間隔に配置された直径の異なる同心円上に形成さ
れていることを特徴とする請求項１記載の光ディスクの
吸着受け台。 - 【請求項４】 前記多数の吸引小孔は、吸着面の中心に
対し放射方向に配置された直線上及び吸着面中心に対し
等間隔に配置された直径の異なる同心円上に形成されて
いることを特徴とする請求項１記載の光ディスクの吸着
受け台。 - 【請求項５】 前記多数の吸引小孔が、前記吸着面の裏
面に設けた溝内に穿設されたものであることを特徴とす
る請求項１記載の光ディスクの吸着受け台。 - 【請求項６】 前記受け台が回転可能であることを特徴
とする請求項１記載の光ディスクの吸着受け台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7120714A JPH08293144A (ja) | 1995-04-20 | 1995-04-20 | 光ディスクの吸着受け台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7120714A JPH08293144A (ja) | 1995-04-20 | 1995-04-20 | 光ディスクの吸着受け台 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08293144A true JPH08293144A (ja) | 1996-11-05 |
Family
ID=14793189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7120714A Pending JPH08293144A (ja) | 1995-04-20 | 1995-04-20 | 光ディスクの吸着受け台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08293144A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999024976A1 (en) * | 1997-11-12 | 1999-05-20 | First Light Technology, Inc. | Improved system and method for curing a resin in a bonded storage disk |
-
1995
- 1995-04-20 JP JP7120714A patent/JPH08293144A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999024976A1 (en) * | 1997-11-12 | 1999-05-20 | First Light Technology, Inc. | Improved system and method for curing a resin in a bonded storage disk |
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