JPH0827167A - ケチミン構造含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 - Google Patents

ケチミン構造含有有機ケイ素化合物及びその製造方法

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JPH0827167A
JPH0827167A JP18062794A JP18062794A JPH0827167A JP H0827167 A JPH0827167 A JP H0827167A JP 18062794 A JP18062794 A JP 18062794A JP 18062794 A JP18062794 A JP 18062794A JP H0827167 A JPH0827167 A JP H0827167A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式 (式中、R1、R2は同時に水素原子とならない水素原子
又は炭素数1〜10の1価炭化水素基、またR1とR2
結合して環状構造となっている場合には炭素数5〜7の
2価炭化水素基となる基を表し、R3、R4は同時に水素
原子とならない水素原子又は炭素数1〜10の1価炭化
水素基、またR3とR4が結合して環状構造となっている
場合には炭素数5〜7の2価炭化水素基を表し、R5
炭素数1〜10の2価炭化水素基、R6は炭素数1〜4
の1価炭化水素基を表し、nは1、2、3、mは0、
1、2、を表す)で示される新規な有機ケイ素化合物及
びその製造方法を提供するものである。 【効果】新規な湿気崩壊型アミノ官能性有機ケイ素化合
物としての応用が可能であり、例えばエポキシ樹脂やポ
リイミド樹脂等の樹脂に添加し、接着向上剤または硬化
剤とすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なケチミン構造含
有有機ケイ素化合物及びその製造方法に関する。さらに
詳しくは、湿気或いは水分と接触すると容易に崩壊し、
1級アミノ基が再生され、アミノ基としての反応性を有
するようになるという特徴をもつ新規なケチミン構造含
有有機ケイ素化合物及びその製造方法に関する。
【0002】本発明の化合物は従来知られたケチミン構
造をもつ有機ケイ素化合物と同様な応用が可能であり、
例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂等の樹脂に添加
し、接着向上剤または硬化剤とすることができる。
【0003】
【従来の技術】最初の構造のままでは不活性でアミノ基
の反応性を示さないが、湿気或いは水分と接触すると容
易に崩壊し、1級アミノ基が再生され、アミノ基として
の反応性を持つようになるという特徴をもつ有機ケイ素
化合物は従来知られている。
【0004】例えば、式
【化4】 (EtO)3Si(CH2)3N=C(CH3)CH2CH(CH3)2 で表わされる湿気崩壊型アミノ官能性シランカップリン
グ剤が知られている。
【0005】このような化合物は、例えば、エポキシ樹
脂とポリイミド樹脂の混合系に添加して接着向上剤また
は硬化剤とする方法(特公昭57−11582)や、エ
ポキシ樹脂と変性シリコーン樹脂の混合系に添加して接
着向上剤兼硬化剤とする方法(特開平3−26342
1)などが知られている。
【0006】上記式「化4」で表わされる化合物の製造
方法としては、本発明者らが提案しているヒドロシリル
化反応を応用する方法により、分子内にケチミン構造を
有する有機不飽和化合物とヒドロアルコキシシランとを
遷移金属化合物を触媒としてヒドロシリル化反応させる
ものがある(特開平5−247065)。また、アミノ
基含有アルコキシシランとケトン化合物とを脱水反応さ
せる方法(米国特許第2942019号)も知られてい
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
製造方法はシラン化合物を純粋なものとして得ることが
できるが、原料が高価なため製造コストが高いものとな
るという欠点があり、また後者の製造方法はシッフ塩基
を形成する際、生成する水分がシラン化合物を加水分解
するために、かなりの部分がオリゴマー化してしまうと
いう本質的な欠点があった。
【0008】本発明は、前記した従来公知のケチミン構
造をもつシラン化合物とは構造が異なる新規な湿気崩壊
型アミノ官能性有機ケイ素化合物を提供するものであ
り、その製造方法は原料が安く低コストでの製造が可能
であり、またアルコキシシラン製造時においても水分が
生じることがないためシラン化合物のオリゴマー化が進
行せず収率良く純度の高いシラン化合物を製造できるい
う特徴を有する。
【0009】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式
【化5】 (式中、R1、R2は同時に水素原子とならない水素原子
又は炭素数1〜10の1価炭化水素基、またR1とR2
結合して環状構造となっている場合には炭素数5〜7の
2価炭化水素基となる基を表し、R3、R4は同時に水素
原子とならない水素原子又は炭素数1〜10の1価炭化
水素基、またR3とR4が結合して環状構造となっている
場合には炭素数5〜7の2価炭化水素基を表し、R5
炭素数1〜10の2価炭化水素基、R6は炭素数1〜4
の1価炭化水素基を表し、nは1、2、3、mは0、
1、2、を表す)で示される新規なケチミン構造含有有
機ケイ素化合物を提供するものである。
【0010】また、本発明は、上記の一般式「化5」に
おいて、R1、R3がメチル基、R2、R4がイソブチル基
である新規なケチミン構造含有有機ケイ素化合物を提供
するものである。
【0011】さらに、本発明は、一般式
【化6】 (式中のR1、R2、R3、R4、nは前記の通り)と、一
般式
【化7】 (式中、R5、R6、mは前記の通り。またXはハロゲン
原子を表わす。)で示される化合物とを反応させ、脱ハ
ロゲン化水素反応により、「化5」で示されるケチミン
構造含有有機ケイ素化合物を製造する方法を提供するも
のである。
【0012】以下、本発明を詳述する。本発明の化合物
は新規なシラン化合物である。その製造方法は、脱ハロ
ゲン水素反応により製造するため製造時に水分が生じる
ことなく、したがってアルコキシシランが加水分解せず
に得られ、また、原料も安く低コストで製造することが
できる。
【0013】式「化5」中のR1、R2は同時に水素原子
とはならない水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化
水素基であり、具体的には、
【化8】H、CH3−、CH3CH2−、CH3(CH2)
2−、CH3C(CH3)H−、CH3(CH2)3−、CH3
(CH3)HCH2−、CH3CH2C(CH3)H−、CH
3(CH2)4−、CH3(CH2)5−、CH3(CH2)6−、C
3(CH2)7−、CH3(CH2)8−、CH3(CH2)9−、
等が挙げられる。
【0014】また、R1とR2が結合して環状構造となっ
ていてもよく、その場合には炭素数5〜7の2価炭化水
素基となる基を表し、具体的には、
【化9】−(CH2)5−、−(CH2)6−、−(CH2)7−、
等が挙げられる。
【0015】式「化5」中のR3、R4も同事に水素原子
とならない水素原子または炭素数1〜10の1価の炭素
水素基であり、具体的には、前記R1、R2と同様な基が
挙げられる。
【0016】また、R3とR4が結合して環状構造となっ
ていてもよく、その場合は炭素数5〜7の2価の炭化水
素基を表し、具体的には、前記R1、R2が結合して環状
構造となっている場合と同様な基が挙げられる。
【0017】R1とR3、R2とR4は異なった基でもよい
が、本発明の一般的な製造方法によれば同一の基である
場合が多く、低コスト化のためには、R1とR3、R2
4がそれぞれ同一の基であることが好ましい。
【0018】また、式「化5」中のR5は炭素数1〜1
0の2価炭化水素基であり、具体的には、例えば、
【化10】−CH2−、−(CH2)2−、−(CH2)3−、
−(CH2)4−、−(CH2)6−、−(CH2)8−、−(C
2)10−、−CH2CH(CH3)CH2−、等が挙げられ
る。
【0019】また、式「化5」中のR6は炭素数1〜4
の1価の炭素水素基であり、例えば
【化11】CH3−、CH3CH2−、CH3(CH2)2−、
CH3C(CH3)H−、CH3(CH2)3−、等が挙げられ
る。
【0020】また、式「化5」中のXはハロゲン原子を
表わし、具体的には、Cl、Brが好ましい。
【0021】また、式「化5」中のnは1、2、3、m
は0、1、2、を表す。
【0022】本発明の新規なケチミン構造含有有機ケイ
素化合物の具体例としては
【化12】
【化13】
【化14】
【化15】
【化16】
【化17】
【化18】
【化19】
【化20】
【化21】
【化22】
【化23】
【化24】 が挙げられる。
【0023】本発明の新規なケチミン構造含有有機ケイ
素化合物の製造方法は、式「化6」で表わされる化合物
と、式「化7」で表わされる化合物とを脱ハロゲン化水
素反応させれば良い。その際、反応温度は20℃〜15
0℃にて1時間から30時間行なえば良く、ハロゲン原
子がクロルの場合は好ましくは80℃〜130℃であ
り、ブロムの場合には20℃〜80℃程度で行なうこと
が好ましい。
【0024】原料である式「化6」で表わされる化合物
の具体例としては、
【化25】
【化26】
【化27】
【化28】
【化29】
【化30】 等が挙げられる。
【0025】また、もう一方の原料である式「化7」で
表わされる化合物の具体例としては、
【化31】
【化32】
【化33】
【化34】
【化35】
【化36】
【化37】
【化38】
【化39】
【化40】
【化41】
【化42】
【化43】
【化44】
【化45】 等が挙げられる。
【0026】また、この反応において溶媒の使用は任意
であり、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、n−プロパノール、n−ブタノール等のアルコー
ル類;酢酸エチル等のエステル類;N,N−ジメチルホ
ルムアミド等のアミド類;ジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類;トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水
素類;ペンタン、ヘキサン、オクタン、デカン等の脂肪
族炭化水素類が挙げられる。
【0027】また、脱ハロゲン化水素剤、触媒の使用は
任意であり、脱ハロゲン化水素剤の例としては、トリエ
チルアミン、ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミ
ン、N,N,N'N'−テトラメチルエチレンジアミン、ジ
アザビシクロウンデセン等が使用でき、触媒としてはN
aIやKIなどを使用することができる。
【0028】また、生成するハロゲン化水素を除去する
ために、ソディウムエチラートやリチウムメチラート等
の金属アルコラートを用いても良い。
【0029】式「化6」と式「化7」で表される原料化
合物の反応モル比は1対1で行なえば良いが、どちらか
を過剰にしても良い。但し、式「化6」の化合物を過剰
にすると、最終生成物に残存する式「化6」の化合物に
活性水素が存在するため、最終生成物である本発明の化
合物を樹脂に添加した場合、系の保存安定性が悪くなる
可能性がある。
【0030】以下に本発明を実施例を挙げてさらに説明
するが、本発明はかかる実施例に限定されるものではな
い。
【実施例】
[実施例1]窒素ガス導入菅、温度計、ジムロート型冷
却器及び滴下ロートを備えた1リットルのセパラブルフ
ラスコに式
【化46】 で表わされる原料化合物267g(1.0モル)を仕込
み、窒素ガス気流下、80℃にて、γ−ブロモプロピル
トリメトキシシラン243g(1.0モル)をゆっくり
滴下した。滴下終了後、3時間、80℃にて攪拌を続け
た。その後、ガスクロマトグラフにより、γ−ブロモプ
ロピルトリメトキシシランのピークの消失を確認してか
ら、60℃にてソディウムメチラート28%のメタノー
ル溶液183g(0.95モル)をゆっくり滴下し、滴
下終了後60℃にて1時間攪拌を続けた。生成したNa
Brを濾別し、メタノールを溜去した。新たに析出した
NaBrを濾別したところ、褐色透明な液体を得た。得
られた褐色透明液体は、25℃における粘度が56.9
cs、比重が0.956、屈折率が1.4728であっ
た。次いで、この褐色透明液体を、1H−核磁気共鳴ス
ペクトル分析、赤外吸収スペクトル分析を行なったとこ
ろ、式
【化47】 で表される有機ケイ素化合物であることが確認できた。
図1に1H−核磁気共鳴スペクトルを示し、図2に赤外
吸収スペクトルを示す。
【0031】[実施例2〜5]表1から4に示した原料
化合物を用いて、実施例1と同様な方法にて本発明の有
機ケイ素化合物の製造を行なった。得られた生成物を、
1H−核磁気共鳴スペクトル分析、赤外吸収スペクトル
分析を行なったところ、表1から4に示した構造を有す
る有機ケイ素化合物であることが確認できた。
【0032】
【表1】
【0033】
【表2】
【0034】
【表3】
【0035】
【表4】
【0036】[実施例6]2リットルのオートクレーブ
に、式
【化48】 で表わされる原料化合物267g(1.0モル)、γ−
クロロプロピルトリメトキシシラン198.5g(1.
0モル)及びメタノール300gを仕込み、密閉下、1
20℃〜130℃にて5時間反応を行なった。反応終了
後、60℃にてソディウムメチラート28%のメタノー
ル溶液183g(0.95モル)をゆっくり滴下し、滴
下終了後60℃にて1時間攪拌を続けた。生成したNa
Clを濾別し、メタノールを溜去した後、新たに析出し
たNaClを濾別したところ、褐色透明な液体を得た。
得られた褐色液体について、1H−核磁気共鳴スペクト
ル分析、赤外吸収スペクトル分析、元素分析を行なった
ところ、式
【化49】 で表される構造を有する有機ケイ素化合物であることが
確認できた。
【0037】
【発明の効果】本発明は、新規な湿気崩壊型アミノ官能
性有機ケイ素化合物を提供するものである。本発明の有
機ケイ素化合物は、従来知られたケチミン構造をもつシ
ラン化合物と同様な応用が可能な化合物であり、例えば
エポキシ樹脂やポリイミド樹脂等の樹脂に添加し、接着
向上剤または硬化剤とすることができる。
【0038】また、本発明の有機ケイ素化合物の製造方
法は、原料が安く低コストでの製造が可能であり、また
アルコキシシラン製造時においても水分が生じることが
ないためシラン化合物のオリゴマー化が進行せず収率良
く純度の高い有機ケイ素化合物を製造できるいう特徴を
有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で得られた本発明の有機ケイ素化合物
1H−核磁気共鳴スペクトルである。
【図2】実施例1で得られた本発明の有機ケイ素化合物
の赤外吸収スペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 一戸 省二 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式 【化1】 (式中、R1、R2は同時に水素原子とならない水素原子
    又は炭素数1〜10の1価炭化水素基、またR1とR2
    結合して環状構造となっている場合には炭素数5〜7の
    2価炭化水素基となる基を表し、R3、R4は同時に水素
    原子とならない水素原子又は炭素数1〜10の1価炭化
    水素基、またR3とR4が結合して環状構造となっている
    場合には炭素数5〜7の2価炭化水素基を表し、R5
    炭素数1〜10の2価炭化水素基、R6は炭素数1〜4
    の1価炭化水素基を表し、nは1、2、3、mは0、
    1、2、を表す)で示されるケチミン構造含有有機ケイ
    素化合物。
  2. 【請求項2】 一般式(化1)において、R1、R3がメ
    チル基、R2、R4がイソブチル基である請求項1記載の
    ケチミン構造含有有機ケイ素化合物。
  3. 【請求項3】 一般式 【化2】 (式中のR1、R2、R3、R4、nは前記の通り)と、一
    般式 【化3】 (式中、R5、R6、mは前記の通り。またXはハロゲン
    原子を表わす。)で示される化合物とを反応させ、脱ハ
    ロゲン化水素反応により、請求項1記載ののケチミン構
    造含有有機ケイ素化合物を製造する方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998031722A1 (fr) * 1997-01-21 1998-07-23 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Compositions de resine, dans un seul conditionnement et durcissant a froid par l'effet de l'humidite
WO2020179705A1 (ja) * 2019-03-07 2020-09-10 Jsr株式会社 変性共役ジエン系重合体の製造方法、変性共役ジエン系重合体、重合体組成物、架橋体及びタイヤ
JP2021524515A (ja) * 2018-05-18 2021-09-13 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンHenkel AG & Co. KGaA 硬化性シリコーン組成物

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998031722A1 (fr) * 1997-01-21 1998-07-23 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Compositions de resine, dans un seul conditionnement et durcissant a froid par l'effet de l'humidite
US6525159B1 (en) 1997-01-21 2003-02-25 The Yokohama Rubber Co., Ltd. One-pack cold moisture curable resin compositions
US6756466B2 (en) 1997-01-21 2004-06-29 The Yokohama Rubber Co., Ltd. One-part, room temperature moisture curable resin composition
US6936676B2 (en) 1997-01-21 2005-08-30 Yokohama Rubber Co., Ltd. One-part, room temperature moisture curable resin composition
JP2021524515A (ja) * 2018-05-18 2021-09-13 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンHenkel AG & Co. KGaA 硬化性シリコーン組成物
US11873386B2 (en) 2018-05-18 2024-01-16 Henkel Ag & Co. Kgaa Curable silicone compositions
WO2020179705A1 (ja) * 2019-03-07 2020-09-10 Jsr株式会社 変性共役ジエン系重合体の製造方法、変性共役ジエン系重合体、重合体組成物、架橋体及びタイヤ
KR20210098528A (ko) * 2019-03-07 2021-08-10 제이에스알 가부시끼가이샤 변성 공액 디엔계 중합체의 제조 방법, 변성 공액 디엔계 중합체, 중합체 조성물, 가교체 및 타이어
EP3936347A4 (en) * 2019-03-07 2022-04-27 JSR Corporation METHOD FOR PRODUCTION OF MODIFIED CONJUGATED DIENE POLYMER, MODIFIED CONJUGATED DIENE POLYMER, POLYMER COMPOSITION, CROSSBODY AND TIRE

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