JPH07267967A - シクロアルキル(2−ノルボルニル)ジアルコキシシラン化合物 - Google Patents
シクロアルキル(2−ノルボルニル)ジアルコキシシラン化合物Info
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- JPH07267967A JPH07267967A JP8095894A JP8095894A JPH07267967A JP H07267967 A JPH07267967 A JP H07267967A JP 8095894 A JP8095894 A JP 8095894A JP 8095894 A JP8095894 A JP 8095894A JP H07267967 A JPH07267967 A JP H07267967A
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Abstract
(2−ノルボルニル)ジアルコキシシラン化合物。 【化1】 (但し、式中R1は炭素数5〜7のシクロアルキル基、
R2はメチル基又はエチル基を示す。) 【効果】 本発明のシクロアルキル(2−ノルボルニ
ル)ジアルコキシシラン化合物は、嵩高く、かつフレキ
シビリティーが少ない置換基を持つと共に、常温で液体
であり、蒸留精製可能であるため、製造、使用時に取扱
いが容易で、表面撥水処理剤、シランカップリング剤、
オレフィン重合用触媒等として有用である。
Description
ルニル基、シクロアルキル基及び2個のアルコキシ基が
結合し、各種建材、例えば木材、コンクリート、大理石
等の撥水剤などとして有用なシクロアルキル(2−ノル
ボルニル)ジアルコキシシラン化合物に関する。
コンクリート、大理石等の各種基材表面に撥水性を付与
するための表面撥水剤としては、従来より直鎖のアルキ
ル基を有するアルコキシシラン化合物が公知である。こ
の撥水剤の撥水性能に関しては、アルキル鎖が長く、嵩
高いほど優れていることが知られている。
シラン化合物の融点や沸点が高くなり、製造、使用の面
からその鎖長には限度があった。
さなくとも嵩高い撥水剤として有効なアルコキシシラン
化合物が望まれていた。
ィーの少ない置換基を有するアルコキシシラン化合物
は、シランカップリング剤やオレフィン重合用の触媒成
分として有用であることが知られており、従ってこのよ
うな点からも嵩高いアルコキシシランが求められてい
た。
で、嵩高く、かつフレキシビリティーが少ない置換基を
持つと共に、常温で液体であり、蒸留精製可能であるた
めに、製造、使用時に取扱いが容易で、撥水剤などとし
て有用なアルコキシシラン化合物を提供することを目的
とする。
記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、例えば下
記一般式(2)で表されるグリニャール試薬と下記一般
式(3)で表される2−ノルボルニルトリアルコキシシ
ランとを反応させることにより、下記一般式(1)で表
される新規なシクロアルキル(2−ノルボルニル)ジア
ルコキシシラン化合物が得られること、このジアルコキ
シシラン化合物は、置換基として嵩高く、かつフレキシ
ビリティーが少ない2−ノルボルニル基とシクロアルキ
ル基を有する構造であるので、撥水性能等に優れると共
に、常温で液体であり、蒸留精製可能であるため、製
造、使用時に取扱いが容易であることを見い出し、本発
明をなすに至ったものである。
R2はメチル基又はエチル基、Xはハロゲン原子を示
す。)
と、本発明のシクロアルキル(2−ノルボルニル)ジア
ルコキシシラン化合物は、下記一般式(1)で表される
ものである。
R2はメチル基又はエチル基を示す。)
ルコキシシラン化合物は、嵩高くかつフレキシビリティ
ーの少ない置換基である2−ノルボルニル基とシクロア
ルキル基、及び、加水分解性基である2つのアルコキシ
基を有している。この式(1)で表されるアルコキシシ
ラン化合物としては、例えば、シクロペンチル(2−ノ
ルボルニル)ジメトキシシラン、シクロヘキシル(2−
ノルボルニル)ジメトキシシラン、シクロヘプチル(2
−ノルボルニル)ジメトキシシラン、シクロペンチル
(2−ノルボルニル)ジエトキシシラン、シクロヘキシ
ル(2−ノルボルニル)ジエトキシシラン、シクロヘプ
チル(2−ノルボルニル)ジエトキシシラン等が挙げら
れる。
は、例えば次式に示すように、下記一般式(2)で表さ
れるグリニャール試薬と一般式(3)で表される2−ノ
ルボルニルトリアルコキシシランとを反応させることで
得ることができる。
R2はメチル基又はエチル基、Xはハロゲン原子を示
す。)
ニルトリアルコキシシラン1モルに対して、一般式
(2)のグリニャール試薬0.9〜1.1モルを使用し
て、反応温度が0〜150℃、好ましくは20〜130
℃、反応時間は1〜10時間の条件で行うことができ
る。反応終了後は、生成した塩をろ別し、減圧蒸留して
精製することにより、本発明の一般式(1)で表される
シクロアルキル(2−ノルボルニル)ジアルコキシシラ
ン化合物を得ることができる。
薬は、対応するシクロアルキルハライドと金属マグネシ
ウムとをジエチルエーテルやテトラヒドロフラン等のエ
ーテル系溶媒中で反応させることによって定量的に得る
ことができる。
ルトリアルコキシシランを製造するには、例えばZh.
Obsh.Khim.1961,31,1199に記載
されているように、2−ノルボルネンとトリクロロシラ
ンとをH2PtCl6触媒の存在下に付加反応(ハイドロ
シリレーション反応)させて2−ノルボルニルトリクロ
ロシランを得た後、このトリクロロシランとメタノール
又はエタノールとを例えば特開平5−255351号公
報に記載されている如く、第三級アミン等の脱ハロゲン
化水素剤の存在下に反応させることにより得ることがで
きる。
シランの立体異性体のうち、2−exo−ノルボルニル
トリアルコキシシランを選択的に得ようとする場合に
は、J.Chem.Soc.,Dalton tran
s.1977,1159に報告されているように、[P
t(SiCl3)(μ−H){(C6H11)3P}]2を触
媒とする2−ノルボルネンへのトリクロロシランのハイ
ドロシリレーション反応により、2−exo−ノルボル
ニルトリクロロシランを選択的に得ることができる。得
られた2−exo−ノルボルニルトリクロロシランは、
上述のようにメタノール又はエタノールでエステル化反
応させればよい。
ルコキシシランを選択的に得ようとすれば、Organ
ometallics,1982,1,355に記載さ
れているように、シクロペンタジエンとビニルトリクロ
ロシランとをDiels−Alder付加反応させた
後、生成物をパラジウム触媒を用いて水素添加すること
によって2−endo−ノルボルニルトリクロロシラン
が得られるので、この2−endo−ノルボルニルトリ
クロロシランをメタノール又はエタノールでエステル化
反応させればよい。
る2−ノルボルニルトリアルコキシシランとしては、こ
れらexo−endo立体異性体のいずれか1種であっ
ても又はこれらの混合物であってもよい。
(2−ノルボルニル)ジアルコキシシランは、撥水処理
剤として有効に使用し得、またシランカップリング剤、
オレフィン重合用触媒等としても用いることができる。
ニル)ジアルコキシシラン化合物は、嵩高く、かつフレ
キシビリティーが少ない置換基を持つと共に、常温で液
体であり、蒸留精製可能であるため、製造、使用時に取
扱いが容易で、表面撥水処理剤、シランカップリング
剤、オレフィン重合用触媒等として有用である。
発明は下記の実施例に制限されるものではない。
及び滴下ロートを備えた200mlのガラスフラスコを
窒素置換し、フラスコ中に金属マグネシウム4.9g
(0.20モル)とテトラヒドロフラン60mlを仕込
んだ。窒素雰囲気下で、滴下ロートよりシクロペンチル
クロライド20.9g(0.20モル)を50〜60℃
で1時間かけて滴下した。更に溶媒の還流温度で1時間
攪拌することにより、シクロペンチルマグネシウムクロ
ライドのテトラヒドロフラン溶液を得た。
し、新しい滴下ロートより2−exo−ノルボニルトリ
メトキシシラン43.3g(0.20モル)を80〜9
0℃で1時間かけて滴下し、その後更に溶媒の還流温度
で10時間攪拌を続けた。得られた反応液から塩をろ別
し、ろ液を減圧下に蒸留して、128.5℃/2mmH
gの沸点を有する無色透明の溜分としてシクロペンチル
(2−exo−ノルボルニル)ジメトキシシラン38.
2gを得た。単離収率は75%であった。
核磁気共鳴スペクトル及び13C−核磁気共鳴スペクトル
の測定結果を次に示す。また、赤外吸収スペクトルを図
1に示した。 質量スペクトル(EI法):m/z(帰属) 254(M+) 185([M−C5H9]+) 159([M−C7H11]+)1 H−核磁気共鳴スペクトル及び13C−核磁気共鳴スペ
クトル(CDCl3中)
チルクロライドの代わりに、シクロヘキシルクロライド
23.7g(0.20モル)を用いて、実施例1と同様
の方法でシクロへキシルマグネシウムクロライドのテト
ラヒドロフラン溶液を得た。
トリメトキシシラン43.3g(0.20mol)を実
施例1と同様にして反応させ、反応液から塩を除去した
後に減圧下で蒸留を行い、137.5〜138℃/2m
mHgの沸点を有する無色透明の液体として、シクロヘ
キシル(2−exo−ノルボルニル)ジメトキシシラン
33.3gを得た。単離収率は62%であった。
核磁気共鳴スペクトル及び13C−核磁気共鳴スペクトル
の測定結果を次に示す。また、赤外吸収スペクトルを図
2に示した。 質量スペクトル(EI法):m/z(帰属) 268(M+) 185([M−C6H11]+) 173([M−C7H11]+)1 H−核磁気共鳴スペクトル及び13C−核磁気共鳴スペ
クトル(CDCl3中)
(2−exo−ノルボルニル)ジメトキシシランの赤外
吸収スペクトルを示すチャートである。
(2−exo−ノルボルニル)ジメトキシシランの赤外
吸収スペクトルを示すチャートである。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(1)で表されるシクロアル
キル(2−ノルボルニル)ジアルコキシシラン化合物。 【化1】 (但し、式中R1は炭素数5〜7のシクロアルキル基、
R2はメチル基又はエチル基を示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8095894A JP2797962B2 (ja) | 1994-03-28 | 1994-03-28 | シクロアルキル(2−ノルボルニル)ジアルコキシシラン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8095894A JP2797962B2 (ja) | 1994-03-28 | 1994-03-28 | シクロアルキル(2−ノルボルニル)ジアルコキシシラン化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07267967A true JPH07267967A (ja) | 1995-10-17 |
JP2797962B2 JP2797962B2 (ja) | 1998-09-17 |
Family
ID=13733027
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JP8095894A Expired - Fee Related JP2797962B2 (ja) | 1994-03-28 | 1994-03-28 | シクロアルキル(2−ノルボルニル)ジアルコキシシラン化合物 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004175784A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-06-24 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機シリル基を有するノルボルネン誘導体の製造方法 |
JP2008081646A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シルセスキオキサン系化合物混合物及び加水分解性シラン化合物、その製造方法及びそれを用いたレジスト組成物並びにパターン形成方法及び基板の加工方法 |
JP2014105163A (ja) * | 2012-11-26 | 2014-06-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | アルコキシシリル基含有ノルボルニル化合物の製造方法 |
-
1994
- 1994-03-28 JP JP8095894A patent/JP2797962B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP4509080B2 (ja) * | 2006-09-28 | 2010-07-21 | 信越化学工業株式会社 | シルセスキオキサン系化合物混合物及び加水分解性シラン化合物、その製造方法及びそれを用いたレジスト組成物並びにパターン形成方法及び基板の加工方法 |
JP2014105163A (ja) * | 2012-11-26 | 2014-06-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | アルコキシシリル基含有ノルボルニル化合物の製造方法 |
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