JPH08271454A - Ｘ線分析装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目 的】 シールドカバーが開放位置に有るときに
は、自動的にＸ線シャッタの開放を完全に不可能にする
こと。 【構 成】 シールドカバー１３を前記閉塞位置に保持
する閉塞保持位置と前記シールドカバー１３の移動を許
容する移動許容位置との間で移動可能なロック部材７９
と、Ｘ線照射路５７に設けられて、前記ロック部材７９
を前記閉塞保持位置に保持するロック位置と前記移動許
容位置に保持するアンロック位置との間で移動可能な操
作レバー８５と、前記操作レバー８５の前記ロック位置
への移動に連動してＸ線ビームの通過を許可する連通位
置からＸ線ビームの通過を遮断する遮断位置へ移動する
Ｘ線シャッタ６１と、シールドカバー１３が閉塞位置に
有るときは、前記ロック部材７９の移動を許容し、シー
ルドカバー１３が開放位置に有るときは前記ロック部材
７９の移動を阻止する移動制御部材７２とを備えたＸ線
分析装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、シールドカバー内部の
真空試料室に保持された試料に対してＸ線ビームを照射
したときに、前記試料から放出される２次放出線を検出
して、前記試料の分析を行うＸ線分析装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】前記Ｘ線分析装置は、シールドカバーが
開放された状態で、試料にＸ線が照射されると、作業者
が被爆するおそれがある。このため従来から、シールド
カバーが開放された状態では、Ｘ線が試料に照射されな
いようにしたＸ線分析装置が提案されている。この種の
Ｘ線分析装置としては従来下記（Ｊ01）の技術が知られ
ている。 （Ｊ01）実開平５−８４０９６号公報記載の技術 この公報に記載されたＸ線分析装置のインターロック機
構は、戻しレバー（操作レバー）付のロックプレートに
よりシャッタを作動させるとともに、シャッタをＸ線遮
断位置に保持するストッパ２７によりシャッタが不用意
に開放されないように構成されている。

【発明が解決しようとする課題】

【０００３】（前記（Ｊ01）の問題点）しかしながら、
前記（Ｊ01）の技術では、シャッタをＸ線遮断位置に保
持するストッパ２７が、シールドカバーの開閉位置とは
関係なく移動するように構成されている。このため、シ
ールドカバーが開放位置にあるときに、ストッパ２７を
移動させてシャッタを開放することが可能である。この
ような構成では不慣れな作業者が被爆する危険性があ
る。

【０００４】また、従来のＸ線分析装置では、シールド
カバーを閉塞位置に移動させて、シールドカバー下端面
をテーブル支持基板上のＯリングに押圧し、シールドカ
バー内部に形成される真空試料室を密封状態にしてから
真空試料室内の排気を行う必要がある。その際、真空試
料室内を密封状態とするために、作業者はシールドカバ
ー下端面を前記Ｏリング上面に押圧するための力を加え
て仮締めを行う必要があった。

【０００５】本発明は、前述の事情に鑑み、下記の記載
内容を課題とする。 （Ｏ01）１個の操作レバーの操作により、Ｘ線シャッタ
の開閉およびシールドカバーのロック・アンロックを行
うＸ線分析装置において、シールドカバーが開放位置に
有るときには、Ｘ線シャッタの開放を完全に不可能にす
ること。 （Ｏ02）１個の操作レバーの操作により、Ｘ線シャッタ
の開閉およびシールドカバーのロック・アンロックを行
うＸ線分析装置において、前記操作レバーの操作時にシ
ールドカバーの仮締めを自動的に行えるようにするこ
と。

【０００６】

【課題を解決するための手段】次に、前記課題を解決す
るために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。ま
た、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。

【０００７】（第１発明）前記課題を解決するために、
本出願の第１発明のＸ線分析装置は、下記の要件を備え
たことを特徴とする、（Ｙ01）上面に試料テーブル（１
１）を支持するテーブル支持基板（４）、（Ｙ02）前記
試料テーブル（１１）を密封して真空試料室（Ａ）を形
成する閉塞位置と前記試料テーブル（１１）を大気に開
放する開放位置との間で移動可能なＸ線シールド機能を
有するシールドカバー（１３）、（Ｙ03）前記シールド
カバー（１３）を前記閉塞位置に保持する閉塞保持位置
と前記シールドカバー（１３）の移動を許容する移動許
容位置との間で移動可能なロック部材（７９）、（Ｙ0
4）前記真空試料室（Ａ）内の試料に照射するＸ線を発
生するＸ線管（５１）、（Ｙ05）Ｘ線管（５１）から出
射したＸ線ビームを前記真空試料室（Ａ）内の試料に照
射させるＸ線照射路（５７）、（Ｙ06）前記Ｘ線照射路
（５７）に設けられて、Ｘ線ビームの通過を遮断する遮
断位置とＸ線ビームの通過を許可する連通位置との間で
移動可能なＸ線シャッタ（６１）、（Ｙ07）前記試料テ
ーブル（１１）に支持された試料にＸ線ビームが照射さ
れたときに前記試料から放出される２次放出線を検出す
る検出器（５２）、（Ｙ08）前記ロック部材（７９）を
前記閉塞保持位置に保持するロック位置と前記移動許容
位置に保持するアンロック位置との間で移動可能な操作
レバー（８５）、（Ｙ09）前記操作レバー（８５）の前
記ロック位置への移動に連動して前記Ｘ線シャッタ（６
１）を連通位置に移動させるとともに操作レバー（８
５）のアンロック位置への移動に連動してＸ線シャッタ
（６１）を前記遮断位置に移動させるシャッタ連動機
構、（Ｙ010）前記シールドカバー（１３）に一体的に
設けられて、前記シールドカバー（１３）が閉塞位置に
有るときは、前記ロック部材（７９）の移動を許容し、
シールドカバー（１３）が開放位置に有るときは前記ロ
ック部材（７９）の移動を阻止する移動制御部材（７
２）。

【０００８】（第２発明）また、本出願の第２発明のＸ
線分析装置は、下記の要件を備えたことを特徴とする、
（Ｙ01）上面に試料テーブル（１１）を支持するテーブ
ル支持基板（４）、（Ｙ02）前記試料テーブル（１１）
を密封して真空試料室（Ａ）を形成する閉塞位置と前記
試料テーブル（１１）を大気に開放する開放位置との間
で移動可能なＸ線シールド機能を有するシールドカバー
（１３）、（Ｙ03）前記シールドカバー（１３）を前記
閉塞位置に保持する閉塞保持位置と前記シールドカバー
（１３）の移動を許容する移動許容位置との間で移動可
能なロック部材（７９）、（Ｙ04）前記真空試料室
（Ａ）内の試料に照射するＸ線を発生するＸ線管（５
１）、（Ｙ05）Ｘ線管（５１）から出射したＸ線ビーム
を前記真空試料室（Ａ）内の試料に照射させるＸ線照射
路（５７）、（Ｙ06）前記Ｘ線照射路（５７）に設けら
れて、Ｘ線ビームの通過を遮断する遮断位置とＸ線ビー
ムの通過を許可する連通位置との間で移動可能なＸ線シ
ャッタ（６１）、（Ｙ07）前記試料テーブル（１１）に
支持された試料にＸ線ビームが照射されたときに前記試
料から放出される２次放出線を検出する検出器（５
２）、（Ｙ08）前記ロック部材（７９）を前記閉塞保持
位置に保持するロック位置と前記移動許容位置に保持す
るアンロック位置との間で移動可能な操作レバー（８
５）、（Ｙ09）前記操作レバー（８５）の前記ロック位
置への移動に連動して前記Ｘ線シャッタ（６１）を開放
位置に移動させるとともに操作レバー（８５）のアンロ
ック位置への移動に連動してＸ線シャッタ（６１）を前
記遮断位置に移動させるシャッタ連動機構、（Ｙ011）
前記シールドカバー（１３）側面から外側方に突出する
被押圧部材（１７）、（Ｙ012）前記操作レバー（８
５）が前記ロック位置へ移動したときに前記被押圧部材
（１７）を前記テーブル支持基板（４）に向けて押圧す
る押圧部材（８３）。

【０００９】

【作用】次に、前述の特徴を備えた本発明の作用を説明
する。 （第１発明の作用）前述の特徴を備えた本出願の第１発
明のＸ線分析装置では、テーブル支持基板（４）は、上
面に試料テーブル（１１）を支持する。Ｘ線分析を行う
場合、前記試料テーブル（１１）に試料を保持して、Ｘ
線シールド機能を有するシールドカバー（１３）を閉塞
位置に移動させる。そして、前記試料テーブル（１１）
を密封して真空試料室（Ａ）を形成する。前記シールド
カバー（１３）に一体的に設けられた移動制御部材（７
２）は、前記シールドカバー（１３）が閉塞位置に有る
ときは、前記ロック部材（７９）の移動を許容する。

【００１０】したがって、操作レバー（８５）をロック
位置へ移動させると、前記ロック部材（７９）は閉塞保
持位置に移動する。ロック部材（７９）が閉塞保持位置
に移動すると前記シールドカバー（１３）は閉塞位置に
保持される。また、前記操作レバー（８５）を前記ロッ
ク位置へ移動させると、シャッタ連動機構は、Ｘ線照射
路（５７）に設けられたＸ線シャッタ（６１）を、連通
位置に移動させる。Ｘ線シャッタ（６１）が連通位置に
有るときにはＸ線ビームがＸ線照射路（５７）を通過で
きる。この状態で、Ｘ線管（５１）により前記真空試料
室（Ａ）内の試料に照射するＸ線を発生させると、Ｘ線
管（５１）から出射したＸ線ビームはＸ線照射路（５
７）を通って前記真空試料室（Ａ）内の試料を照射す
る。検出器（５２）は、前記試料テーブル（１１）に支
持された試料にＸ線ビームが照射されたときに前記試料
から放出される２次放出線を検出する。

【００１１】Ｘ線分析を終了してからシールドカバー
（１３）が閉塞位置にある状態で、操作レバー（８５）
をロック位置からアンロック位置に移動させると、シャ
ッタ連動機構は、操作レバー（８５）のアンロック位置
への移動に連動してＸ線シャッタ（６１）を遮断位置に
移動させる。また、前記操作レバー（８５）が前記アン
ロック位置へ移動すると前記ロック部材（７９）は移動
許容位置に移動する。ロック部材（７９）が移動許容位
置に有る状態では、前記シールドカバー（１３）を閉塞
位置から開放位置へ移動させて、試料テーブル（１１）
から試料を取り出したり、新しい試料をセットしたりす
ることができる。移動制御部材（７２）は、シールドカ
バー（１３）が開放位置に有るときは前記ロック部材
（７９）の移動を阻止する。このため、前記ロック部材
（７９）と連動する操作レバー（８５）は、シールドカ
バー（１３）が開放位置に有るときには移動できない。
したがって、シールドカバー（１３）が開放位置に有る
ときには操作レバー（８５）はアンロック位置から移動
できないので、操作レバー（８５）と連動するＸ線シャ
ッタ（６１）は遮断位置に保持されたままで、連通位置
に移動することはない。すなわち、シールドカバー（１
３）が開放位置に有るときには、Ｘ線がＸ線シャッタ
（６１）を通過することは起こり得ない。

【００１２】（第２発明の作用）前述の特徴を備えた本
出願の第１発明のＸ線分析装置では、前記操作レバー
（８５）が前記ロック位置へ移動したときに、シールド
カバー（１３）側面から外側方に突出する被押圧部材
（１７）は、押圧部材（８３）によりテーブル支持基板
（４）に向けて押圧される。したがって、操作レバー
（８５）をロック位置に移動させるだけで、シールドカ
バー（１３）の仮締めが自動的に行える。

【００１３】

【実施例】次に図面を参照しながら、本発明の一実施例
の試料搬送装置を説明するが、本発明は以下の実施例に
限定されるものではない。なお、以後の説明の理解を容
易にするために、図面において互いに直交する座標軸Ｘ
軸、Ｘ軸、Ｚ軸を定義し、矢印Ｘ方向を前方、矢印Ｙ方
向を左方、 矢印Ｚ方向を上方とする。この場合、Ｘ方
向と逆向き（−Ｘ方向）は後方、Ｙ方向と逆向き（−Ｙ
方向）は右方、Ｚ方向と逆向き（−Ｚ方向）は下方とな
る。また、Ｘ方向及び−Ｘ方向を含めて前後方向又はＸ
軸方向といい、Ｙ方向及び−Ｙ方向を含めて左右方向又
はＸ軸方向といい、Ｚ方向及び−Ｚ方向を含めて上下方
向又はＺ軸方向ということにする。さらに図中、「○」
の中に「・」が記載されたものは紙面の裏から表に向か
う矢印を意味し、「○」の中に「×」が記載されたもの
は紙面の表から裏に向かう矢印を意味するものとする。

【００１４】図１は本発明の一実施例のＸ線分析装置の
縦断面図である。図２は前記図１の矢印IIから見た図で
ある。図３は前記図１のIII−III線断面図である。図４
は前記図３のIＶ−IＶ線断面図である。図５は前記図１
のＶI−ＶI線から見た角柱ブロックの平面図である。図
６は前記図３のＶI−ＶI線から見た角柱ブロックの断面
図である。図７は図６の矢印ＶIIから見た角柱ブロック
の正面図である。図８は操作レバーに連動するロック部
材およびシャッタの連動機構を説明するための正面図で
ある。図９は操作レバーに連動するロック部材およびシ
ャッタの連動機構を説明するための平面図で、図９Ａは
全体説明図で前記図８のIＸＡ−IＸＡ線断面図、図９Ｂ
は前記図９Ａの要部の異なる状態を示す図、図９Ｃは操
作レバーの説明図で前記図８の矢印IＸＢから見た図で
ある。

【００１５】図１，２において、箱状の基盤部材１の上
面には、複数の支柱２，２および３，３の下端が固定支
持されている。前記支柱２，２，３，３，の上端には、
テーブル支持基板４が水平に支持されている。テーブル
支持基板４にはＸ線照射孔６が形成されている。テーブ
ル支持基板４には前記Ｘ線照射孔６の外側に円形のＯリ
ング溝７が形成されている。Ｏリング溝７にはＯリング
８が収容されている。

【００１６】Ｏリング溝７の内側には円形のプレート９
が固定されている。前記プレート９の円形の孔の内側に
は回転可能な試料テーブル１１が支持されている。な
お、図１，６に１１aで示す要素は試料テーブル１１を
持ち上げたりする際に使用するノブである。前記試料テ
ーブル１１と一体的に回転するテーブル回転軸１２（図
３参照）は前記プレート９およびテーブル支持基板４を
貫通して下方に延びており、図示しない回転駆動装置に
よって回転制御されるように構成されている。前記試料
テーブル１１は、テーブル回転軸１２と共に回転し、試
料テーブル１１上に載置された複数の試料を順次前記Ｘ
線照射孔６上に移動させるように構成されている。

【００１７】次に図１〜４により前記試料テーブル１１
を覆うシールドカバー１３およびその開閉機構について
説明する。図１，３，４において、シールドカバー１３
は鉄板製で、円筒状の側壁１４およびその上端を閉塞す
る頂壁１５を有している。前記側壁１４の下端にはフラ
ンジ１６が設けられており、このフランジ下面はシール
ドカバー１３が閉塞位置（図１の実線位置）に有るとき
には前記Ｏリング８に当接するように構成されている。
図３，８において、前記シールドカバー１３の側壁１４
の左前側部には被押圧部材１７が外側方に突出して設け
られている。被押圧部材１７は図８に示すように、下方
から螺合される高さ調節可能なネジの上端に設けた被押
圧球１７aを有している。図３において、前記シールド
カバー１３の前後方向（Ｘ軸方向）の側部にはそれぞ
れ、前記フランジ１６上面にカバー連結部１８が設けら
れている。図２において、前記カバー連結部１８は、シ
ールドカバー１３の上面および側面を被覆するプラスチ
ック製の被覆カバー１９を固定するために使用される。

【００１８】図１，３，４において、シールドカバー１
３の右側部には揺動アーム２１が固着されている。揺動
アーム２１は前側プレート２２、後側プレート２３およ
びそれの両プレートの上端を連結する上部プレート２４
を有している。図３に示すように、前側プレート２２の
前側面には前側軸連結部材２６が固着されており、後側
プレート２３の後側面には後側軸連結部材２７が固着さ
れている。前記前側軸連結部材２６および後側軸連結部
材２７にはカバー回転軸２８が固着されている。

【００１９】図１に示すように、テーブル支持基板４に
は、ブラケット２９を介して軸受３０が支持されてい
る。そして、この軸受３０によって前記カバー回転軸２
８が回転可能に支持されている。図１，３，４に示すよ
うに、前記前側プレート２２および後側プレート２３と
基盤部材１とはそれぞれ、ガススプリング３１，３２に
より連結されている。これらのガススプリング３１，３
２により、シールドカバー１３は閉塞位置（図１の実線
で示す位置）と開放位置（図１の２点鎖線で示す位置）
との間でスムースに移動できるとともに、開放位置に保
持されるように構成されている。

【００２０】図４において、テーブル支持基板４上には
リミットスイッチ３３が配置されている。前記後側プレ
ート２３の後側面には、前記リミットスイッチ３３に対
応してスイッチ作動部材３４が固定されている。そし
て、前記シールドカバー１３が閉塞位置に有るときに、
前記リミットスイッチ３３がオン（ＯＮ）となり、シー
ルドカバー１３が閉塞位置から移動するとオフ（ＯＦ
Ｆ）となるように構成されている。したがって、前記リ
ミットスイッチ３３およびスイッチ作動部材３４はシー
ルドカバー１３の開閉状態を検出する部材である。

【００２１】図１において、前記テーブル支持基板４の
下面には、前記Ｘ線照射孔６に対向する位置に、断面略
３角形のブロック４１が固定されている。図６，７から
分かるように、ブロック４１の上面には円筒状突出部４
２が設けられ、この円筒状突出部４２は前記Ｘ線照射孔
６に嵌合している。図３，５に示すように、ブロック４
１の左後側部分（Ｙ側且つ−Ｘ側部分）は切除されてい
るが、この切除部分４３（図５参照）は、前記テーブル
回転軸１２の配置スペースを形成するために切除されて
いる。また、ブロック４１の上面には前記円筒状突出部
４２の内側にスリバチ状凹部４４が形成されている。

【００２２】前記スリバチ状凹部４４内にはスリバチ型
のレンズ取付部材４５が配置されている。図６，７にお
いて、レンズ取付部材４５の上端には、前記円筒状突出
部４２と同形のフランジ４６が形成されており、このフ
ランジ４６はネジ４７により前記円筒状突出部４２に固
定されている。そして、このレンズ取付部材４５のフラ
ンジ４６は前記ブロック４１の円筒状突出部４２と共に
前記Ｘ線照射孔６に嵌合している。また、図６から分か
るように、スリバチ状凹部４４とレンズ取付部材４５と
の間にはフィルタＦを収容するためのフィルタ装着用空
間が形成されるようになっている。そして、ブロック４
１の外部とスリバチ状凹部４４の間のフィルタ装着用空
間と外部とは連通孔４８（図５参照）により連通されて
おり、連通孔４８外部には空気導入管４９が接続されて
いる。また、前記ブロック４１の外部とスリバチ状凹部
４４の間のフィルタ装着用空間は排気用連通孔（図示せ
ず）を介して接続され外部の真空ポンプ（図示せず）と
接続されている。そして前記図示しない真空ポンプによ
り、前記スリバチ状凹部４４とレンズ取付部材４５との
間のフィルタ装着用空間の空気を排気することにより、
その空間に連通する図１に示す真空試料室（シールドカ
バー１３により密封された空間）Ａを真空にできるよう
に構成されている。なお、符号５０で示す部材は圧力調
整弁であり、シールドカバー１３を閉塞した際等に真空
資料室Ａ内の圧力が上昇するのを防止するために設けら
れている。

【００２３】図１，５，６，７において、ブロック４１
の左下側面にはＸ線管５１が固定され、右側面には検出
器５２が固定されている。Ｘ線管５１は、前記試料テー
ブル１１を覆う前記シールドカバー１３により形成され
る真空試料室Ａ（図１参照）内の試料に照射するＸ線を
発生する。また、前記検出器５２は、前記試料テーブル
１１に支持された試料にＸ線ビームが照射されたときに
前記試料から放出される２次放出線を検出する。前記試
料テーブル１１を覆う前記シールドカバー１３により形
成される真空試料室Ａ内を真空にする真空装置、前記Ｘ
線管５１、検出器５２等は従来公知のものを使用するこ
とができる。

【００２４】図５，７において、前記断面略３角形状の
ブロック４１の前端部（Ｘ側端部）の下部は切除されて
おり、その切除部分には連結プレート５６が固定されて
いる。また、図６において、前記ブロック４１にはＸ線
管５１から出射したＸ線を前記真空試料室Ａに導くため
のＸ線照射路５７が形成されている。図６，９から分か
るように、ブロック４１には、その前面から後方（−Ｘ
方向）に延びるシャッタ収容孔５８が形成されている。
前記シャッタ収容孔５８の後端部は前記Ｘ線照射路５７
に接続している。

【００２５】図９において、シャッタ収容孔５８内には
略円柱状のシャッタ６１が回転可能に収容されている。
シャッタ６１後端部は前記Ｘ線照射路５７を交差するよ
うに配置されており、そのＸ線照射路５７を交差する部
分にはＸ線通過孔６２が形成されている。シャッタ６１
は、Ｘ線通過孔６２の軸が前記Ｘ線照射路５７の方向に
一致する連通位置と、この連通位置から９０°回転した
遮断位置との間で回転するように構成されている。シャ
ッタ６１の前端部にはスイッチ作動用カム部材６３が固
定されており、そのさらに先端部分には傘歯歯車６４が
固定されている。

【００２６】図８，９において、前記連結プレート５６
にはシャッタ用回転軸６６が回転可能に支持されてい
る。このシャッタ用回転軸６６の上端部は前記テーブル
支持基板４に回転可能に支持されいる。シャッタ用回転
軸６６の下部には前記傘歯歯車６４に噛み合う傘歯歯車
６７が固定されている。シャッタ用回転軸６６の上端部
にはシャッタ作動アーム６８が固定されている。このシ
ャッタ作動アーム６８が回転したとき前記シャッタ用回
転軸６６、傘歯歯車６７が回転し、そのとき、傘歯歯車
６４およびシャッタ６１が回転するように構成されてい
る。前記連結プレート５６にはリミットスイッチ連結プ
レート６９を介して、リミットスイッチ７０が支持され
ている。リミットスイッチ７０は、前記シャッタ６１先
端部に固定されたスイッチ作動用カム部材６３によって
作動されるように構成されている。このリミットスイッ
チ７０はシャッタ６１が遮断位置に有るとき（すなわ
ち、シールドカバー１３が開放位置に有るとき）のみＯ
Ｎとなり、その他の状態ではＯＦＦとなるように配置さ
れている。なお、図８，９に図示した状態はシャッタ６
１が連通状態（シールドカバー１３が閉塞位置にある状
態）を示しており、この場合はリミットスイッチ７０は
オフになっている。

【００２７】図３，９において、前記シールドカバー１
３と一体的に回転移動する前記カバー回転軸２８の前端
（Ｘ側端部）には、移動制御部材７２が固着されてい
る。すなわち、前記移動制御部材７２は、カバー回転軸
２８等を介して前記シールドカバー１３と一体的に設け
られている。この移動制御部材７２は円板状フランジ７
３を有しており、円板状フランジ７３の外周には切欠き
７４が形成されている。前記移動制御部材７２に隣接し
て、前記テーブル支持基板４には鉛直軸受７６が固定さ
れている。鉛直軸受７６にはロック用回転軸７７が回転
可能に支持されており、ロック用回転軸７７は前記テー
ブル支持基板４を上下に貫通して延びている。

【００２８】前記ロック用回転軸７７の下端部には扇形
のロック用連動プレート７８が固定されている。ロック
用回転軸７７の上端部にはロック部材７９が固定されて
いる。ロック部材７９はアンロック用切除部８０が形成
された円板状の部材である。図９Ａにおいて、ロック用
連動プレート７８が反時計方向に回転するとロック用軸
７７およびロック部材７９も共に反時計方向に回転する
ように構成されている。図８，９に示す状態、すなわ
ち、シールドカバー１３が閉塞位置に有る状態では、円
板状のロック部材７９の外周部が前記移動制御部材７２
の切欠き７４に係合している。この状態では移動制御部
材７２は回転することができない。

【００２９】図９Ａにおいて、ロック部材７９が反時計
方向に９０°回転すると、図９Ｂに示すように、前記ア
ンロック用切除部８０が前記切欠き７４に対向すること
となる。この図９Ｂの状態では移動制御部材７２は回転
可能となり、前記カバー回転軸２８およびシールドカバ
ー１３が閉塞位置（図１実線位置参照）から開放位置へ
回動可能である。図９Ｂの状態で、シールドカバー１３
を閉塞位置から開放位置へ回転移動させると、移動制御
部材７２が回転する。このとき、前記ロック部材７９の
前記切除部８０には、移動制御部材７２の切欠き７４の
代わりに外周部が対向することとなる。その状態（シー
ルドカバー１３の開放状態）ではロック部材７９は時計
方向に回転不能となる。すなわち、前記シールドカバー
１３に一体的に設けられた移動制御部材７２は、前記シ
ールドカバー１３が閉塞位置に有るときは、前記ロック
部材７９の移動（回転移動）を許容し、シールドカバー
１３が開放位置に有るときは前記ロック部材７９の移動
を阻止する。

【００３０】図３，８，９において、テーブル支持基板
４の左前部分（Ｙ側且つＸ側部分）には鉛直な操作軸８
１が回転可能に支持されている。操作軸８１の上端部に
は、仮締め用の押圧部材８３が固定されている。押圧部
材８３はテーブル支持基板４の上側に配置されている。
押圧部材８３の上端部には外側に広がるフランジ部８４
が設けられている。図８から分かるように、前記押圧部
材８３のフランジ部８４の下面は、前記シールドカバー
１３の被押圧部材１７の被押圧球１７aを押圧して、シ
ールドカバー１３の側壁外周の下端を前記Ｏリング８に
押付ける機能を有する面である。フランジ８４の下面に
は傾斜ガイド面８４aが形成されている。この傾斜ガイ
ド面８４aは、前記被押圧球１７aをフランジ８４下面に
ガイドするための面である。

【００３１】図９Ｃにおいて、フランジ部８４は一部切
除されており、フランジ部８４の上面には操作レバー８
５が固定されている。図９Ｃの実線は操作レバー８５が
ロック位置に有る状態を示しており、２点鎖線はアンロ
ック位置に有る状態を示している。図９Ｃの実線位置か
ら操作レバー８５を反時計方向に９０°回転させたアン
ロック位置では、前記押圧部材８３のフランジ部８４の
前記一部切除された部分が前記被押圧球１７aの上方に
移動する。その状態（操作レバー８５がアンロック位置
に有る状態）では、被押圧部材１７は上方に自由に移動
できる。このアンロック位置からロック位置（図９Ｃに
示す位置）に操作レバー８５を移動させる際、前記傾斜
ガイド面８４aは、前記被押圧球１７aをフランジ８４下
面にガイドするように作用する。

【００３２】前記操作軸８１の下端部には操作プレート
８６（図８，９参照）が固定されている。操作プレート
８６は、テーブル支持基板４の下側に配置されている。
操作プレート８６には、その外周から半径方向に延びる
被位置決めアーム８７および位置検出用アーム８８が設
けられている。テーブル支持基板４の下面には前記被位
置決めアーム８７の回転位置を規制するためのロック位
置決めピン９１およびアンロック位置決めピン９２が設
けられている。図９Ａでは操作レバー８５がロック位置
決めピン９１に当接しており、この位置が操作レバー８
５のロック位置である。この図９Ａの実線位置から、操
作レバー８５を図９Ｃで反時計方向に回転させると、操
作レバー８５と共に回転する被位置決めアーム８７がア
ンロック位置決めピン９２に当接する。その位置が操作
レバー８５のアンロック位置（図９Ｃ２点鎖線参照）で
ある。

【００３３】図９Ａにおいてリミットスイッチ９３は、
被位置決めアーム８７がロック位置決めピン９１に当接
するとき、すなわち、操作レバー８５がロック位置にあ
るとき、前記位置検出用アーム８８によってオン（Ｏ
Ｎ）となるスイッチである。前記操作プレート８６には
連動ロッド９４の左端が回転自在に連結されている。連
動ロッド９４の右端は前記ロック用連動プレート７８に
回転自在に連結されている。また、連動ロッド９４の中
間部は前記シャッタ作動アーム６８に回転自在に連結さ
れている。したがって、図９Ａおよび図９Ｃの実線位置
に示す状態において、操作レバー８５を反時計方向に９
０°回転させると、前記操作プレート８６が反時計方向
に回転するこのとき、連動ロッド９４が弧を描いて右方
（−Ｙ方向）に移動する。この連動ロッド９４の移動に
連動して、前記シャッタ作動アーム６８およびロック用
連動プレート７８も反時計方向に回転するように構成さ
れている。

【００３４】前記図８，９Ａに示す状態は操作レバー８
５がロック位置に有る状態である。この図８，９Ａに示
す状態では、操作レバー８５がロック位置にあるときの
みオン（ＯＮ）となる前記リミットスイッチ９３はオン
である。この状態では、シールドカバー１３は閉塞位置
に保持されている。したがって、前記シールドカバー１
３が閉塞位置に有るときのみオンとなるリミットスイッ
チ３３（図４参照）がオン（ＯＮ）となっている。ま
た、この図８，９Ａに示す状態では、シャッタ６１は連
通位置（Ｘ線を通過させる位置）にある。この状態で
は、前記シャッタ６１が遮断位置に有るとき（シールド
カバー１３が開放位置に有るとき）のみＯＮとなる前記
リミットスイッチ７０はオフである。図示しないＸ線管
５１の作動回路は、前記リミットスイッチ３３，９３が
オンで且つリミットスイッチ７０がオフのときのみ、前
記Ｘ線管５１が作動するように構成されている。

【００３５】（実施例の作用）次に前記図１〜９に示す
本発明の一実施例のＸ線分析装置の作用を説明する。前
記図８，９に示す状態では、円板状のロック部材７９の
外周部が前記移動制御部材７２の切欠き７４に係合して
いる（図８参照）。この状態では前記移動制御部材７２
は回転することができない。したがって、カバー回転軸
２８等を介して前記移動制御部材７２に一体的に連結さ
れたシールドカバー１３は、閉塞位置から開放位置に移
動することはできない。また、前記図８，９に示す状態
では、前記リミットスイッチ３３，９３がオンで且つリ
ミットスイッチ７０がオフであるので、前記Ｘ線管５１
の作動回路を作動させることができる。したがって、Ｘ
線分析を行うことができる。

【００３６】Ｘ線分析を行ってから、図９Ｃの実線位置
に示す操作レバー８５を反時計方向に回転させると、操
作軸８１および操作プレート８６が回転する。このと
き、連動ロッド９４を介してシャッタ作動アーム６８お
よびロック用連動プレート７８が図９Ａにおいて反時計
方向に回転する。前記シャッタ作動アーム６８の回転
は、シャッタ用回転軸６６、傘歯歯車６７および６４を
介してシャッタ６１を連通位置から遮断位置に回転させ
る。また、前記ロック用連動プレート７８の回転は、ロ
ック用軸７７を介してロック部材７９を回転させる。ロ
ック部材７９が図９Ａの状態から反時計方向に９０°回
転すると、切除部８０が移動制御部材７２の切欠き７４
に対向する位置に移動する（図９Ｂ参照）。この状態で
は移動制御部材７２は回転可能である。

【００３７】前記操作レバー８５が反時計方向に回転し
始めたとき前記リミットスイッチ９３（図９参照）はオ
フとなる。このときから、Ｘ線管５１の作動回路はＸ線
の放射が不能となる。また、操作レバー８５の回転に連
動して前記シャッタ６１が回転し、前記リミットスイッ
チ７０がオフからオンになる。この場合もＸ線管５１の
作動回路はＸ線の放射が不能となる。前記操作レバー８
５をアンロック位置に移動させた状態で、前述のように
移動制御部材７２が回転可能となるので、シールドカバ
ー１３を閉塞位置から開放位置へ回転移動させる。この
場合も前記リミットスイッチ３３がオンからオフとな
り、Ｘ線管５１の作動回路はＸ線の放射が不能となる。
したがって、前記３個のリミットスイッチ９３，７０，
３３のいずれかが故障しても、残りのリミットスイッチ
が正常ならば、シールドカバー１３を開放した状態での
Ｘ線の照射を防止することができる。

【００３８】シールドカバー１３を開放した状態では、
図９Ｂから分かるように、移動制御部材７２の外側円周
部分が前記ロック部材７９の切除部８０に対向してい
る。この状態（シールドカバー１３の開放状態）におい
て、操作レバー８５をロック位置に回動しようとして
も、ロック部材７９は、移動制御部材７２の外側円周部
分により回転することができない。したがって、連動ロ
ッド９４等の連動機構を介してロック部材７９に連結さ
れた操作レバー８５はロック位置に移動することは不可
能である。このため、シールドカバー１３が開放位置に
有るときには、操作レバー８５はアンロック位置からロ
ック位置に移動不能であるので、シャッタ６１も、遮断
位置から連通位置に移動不能である。すなわち、シール
ドカバー１３が開放状態では決して、シャッタ６１が連
通位置に移動することはない。

【００３９】前記シールドカバー１３を開放位置から閉
塞位置に回動させると、移動制御部材７２の切欠き７４
がロック部材７９に対向する位置に来るので、ロック部
材７９の回転が可能となる。この状態で操作レバー８５
をアンロック位置（図９Ｃの２点鎖線位置）からロック
位置（図９Ｃの実線位置）に移動させると、押圧部材８
３のフランジ８４が、被押圧部材１７の上方に移動す
る。このとき、傾斜ガイド面８４aが前記被押圧球１７a
をフランジ８４下面にガイドするように作用する。した
がって、操作レバー８５をアンロック位置からロック位
置に移動させると、自動的にシールドカバー１３の被押
圧部材１７がテーブル支持基盤４上のＯリング８に押圧
されるので、シールドカバー１３の仮締めが行える。

【００４０】（変更例）以上、本発明の実施例を詳述し
たが、本発明は、前記実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内
で、種々の変更を行うことが可能である。本発明の変更
実施例を下記に例示する。

【００４１】（Ｈ01）操作レバーは回転移動操作する方
式の代わりに直線移動操作する方式のものを採用するこ
とが可能であり、その場合、直線運動を回転運動に変換
する機構を使用することが可能である。

【００４２】

【発明の効果】前述の本発明のＸ線分析装置は、下記の
効果を奏することができる。 （Ｅ01）１個の操作レバーの操作により、Ｘ線シャッタ
開閉およびシールドカバーのロック・アンロックを行う
Ｘ線分析装置において、シールドカバーが開放位置に有
るときには、自動的にＸ線シャッタの開放を完全に不可
能にすることができる。 （Ｅ02）１個の操作レバーの操作により、Ｘ線シャッタ
の開閉およびシールドカバーのロック・アンロックを行
うＸ線分析装置において、シールドカバーの仮締めを自
動的に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は本発明の一実施例のＸ線分析装置の縦
断面図である。

【図２】 図２は前記図１の矢印IIから見た図である。

【図３】 図３は前記図１のIII−III線断面図である。

【図４】 図４は前記図３のIＶ−IＶ線断面図である。

【図５】 図５は前記図１のＶI−ＶI線から見た角柱ブ
ロックの平面図である。

【図６】 図６は前記図３のＶI−ＶI線から見た角柱ブ
ロックの断面図である。

【図７】 図７は図６の矢印ＶIIから見た角柱ブロック
の正面図である。

【図８】 図８は操作レバーに連動するロック部材およ
びシャッタの連動機構を説明するための正面図である。

【図９】 図９は操作レバーに連動するロック部材およ
びシャッタの連動機構を説明するための平面図で、図９
Ａは全体説明図で前記図８のIＸＡ−IＸＡ線断面図、図
９Ｂは前記図９Ａの要部の異なる状態を示す図、図９Ｃ
は操作レバーの説明図で前記図８の矢印IＸＢから見た
図である。

【符号の説明】

Ａ…真空試料室、４…テーブル支持基板、１１…試料テ
ーブル、１３…シールドカバー、１７…被押圧部材、５
１…Ｘ線管、５２…検出器、５７…Ｘ線照射路、６１…
Ｘ線シャッタ（シャッタ）、７２…移動制御部材、７９
…ロック部材、８３…押圧部材、８５…操作レバー、

【手続補正書】

【提出日】平成８年５月３０日

【手続補正１】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図１

【補正方法】変更

【補正内容】

【図１】

【手続補正２】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図６

【補正方法】変更

【補正内容】

【図６】

【手続補正３】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図７

【補正方法】変更

【補正内容】

【図７】

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記の要件を備えたことを特徴とするＸ
   線分析装置、（Ｙ01）上面に試料テーブルを支持するテ
   ーブル支持基板、（Ｙ02）前記試料テーブルを密封して
   真空試料室を形成する閉塞位置と前記試料テーブルを大
   気に開放する開放位置との間で移動可能なＸ線シールド
   機能を有するシールドカバー、（Ｙ03）前記シールドカ
   バーを前記閉塞位置に保持する閉塞保持位置と前記シー
   ルドカバーの移動を許容する移動許容位置との間で移動
   可能なロック部材、（Ｙ04）前記真空試料室内の試料に
   照射するＸ線を発生するＸ線管、（Ｙ05）Ｘ線管から出
   射したＸ線ビームを前記真空試料室内の試料に照射させ
   るＸ線照射路、（Ｙ06）前記Ｘ線照射路に設けられて、
   Ｘ線ビームの通過を遮断する遮断位置とＸ線ビームの通
   過を許可する連通位置との間で移動可能なＸ線シャッ
   タ、（Ｙ07）前記試料テーブルに支持された試料にＸ線
   ビームが照射されたときに前記試料から放出される２次
   放出線を検出する検出器、（Ｙ08）前記ロック部材を前
   記閉塞保持位置に保持するロック位置と前記移動許容位
   置に保持するアンロック位置との間で移動可能な操作レ
   バー、（Ｙ09）前記操作レバーの前記ロック位置への移
   動に連動して前記Ｘ線シャッタを開放位置に移動させる
   とともに操作レバーのアンロック位置への移動に連動し
   てＸ線シャッタを前記遮断位置に移動させるシャッタ連
   動機構、（Ｙ010）前記シールドカバーに一体的に設け
   られて、前記シールドカバーが閉塞位置に有るときは、
   前記ロック部材の移動を許容し、シールドカバーが開放
   位置に有るときは前記ロック部材の移動を阻止する移動
   制御部材。
2. 【請求項２】 下記の要件を備えたことを特徴とするＸ
   線分析装置、（Ｙ01）上面に試料テーブルを支持するテ
   ーブル支持基板、（Ｙ02）前記試料テーブルを密封して
   真空試料室を形成する閉塞位置と前記試料テーブルを大
   気に開放する開放位置との間で移動可能なＸ線シールド
   機能を有するシールドカバー、（Ｙ03）前記シールドカ
   バーを前記閉塞位置に保持する閉塞保持位置と前記シー
   ルドカバーの移動を許容する移動許容位置との間で移動
   可能なロック部材、（Ｙ04）前記真空試料室内の試料に
   照射するＸ線を発生するＸ線管、（Ｙ05）Ｘ線管から出
   射したＸ線ビームを前記真空試料室内の試料に照射させ
   るＸ線照射路、（Ｙ06）前記Ｘ線照射路に設けられて、
   Ｘ線ビームの通過を遮断する遮断位置とＸ線ビームの通
   過を許可する連通位置との間で移動可能なＸ線シャッ
   タ、（Ｙ07）前記試料テーブルに支持された試料にＸ線
   ビームが照射されたときに前記試料から放出される２次
   放出線を検出する検出器、（Ｙ08）前記ロック部材を前
   記閉塞保持位置に保持するロック位置と前記移動許容位
   置に保持するアンロック位置との間で移動可能な操作レ
   バー、（Ｙ09）前記操作レバーの前記ロック位置への移
   動に連動して前記Ｘ線シャッタを開放位置に移動させる
   とともに操作レバーのアンロック位置への移動に連動し
   てＸ線シャッタを前記遮断位置に移動させるシャッタ連
   動機構、（Ｙ011）前記シールドカバー側面から外側方
   に突出する被押圧部材、（Ｙ012）前記操作レバーが前
   記ロック位置へ移動したときに前記被押圧部材を前記テ
   ーブル支持基板に向けて押圧する押圧部材。