JPH06123715A - 螢光ｘ線分析装置のシャッター開閉制御機構 - Google Patents
螢光ｘ線分析装置のシャッター開閉制御機構Info
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- JPH06123715A JPH06123715A JP29928792A JP29928792A JPH06123715A JP H06123715 A JPH06123715 A JP H06123715A JP 29928792 A JP29928792 A JP 29928792A JP 29928792 A JP29928792 A JP 29928792A JP H06123715 A JPH06123715 A JP H06123715A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 検出器が余分な螢光Ｘ線を受けないようにシ
ャッターの開閉を制御する。 【構成】 測定開始スイッチ２からのオン信号により作
動し、試料室５内を真空にするためのポンプ６が作動
し、かつ、その真空度が所定値以下である場合には、Ｘ
線の漏洩を防止するためのシャッター11を開閉するシャ
ッター開閉手段12に対して、そのシャッター11を開かせ
ないようにする制御出力を送出するシャッター開閉制御
回路９を設けている。
ャッターの開閉を制御する。 【構成】 測定開始スイッチ２からのオン信号により作
動し、試料室５内を真空にするためのポンプ６が作動
し、かつ、その真空度が所定値以下である場合には、Ｘ
線の漏洩を防止するためのシャッター11を開閉するシャ
ッター開閉手段12に対して、そのシャッター11を開かせ
ないようにする制御出力を送出するシャッター開閉制御
回路９を設けている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＸ線の漏洩防止のための
シャッターの開閉を制御するための螢光Ｘ線分析装置の
シャッター開閉制御機構に関する。
シャッターの開閉を制御するための螢光Ｘ線分析装置の
シャッター開閉制御機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の螢光Ｘ線分析装置のシャッター構
造では、例えば図６に示すように、試料台14の直下の位
置に平板状のシャッター11が水平方向に移動自在に設け
られ、Ｘ線管10からＸ線コリメータ17およびＸ線フィル
タ18を介して試料台14上の試料15に向けて照射される一
次Ｘ線Ｘと、その試料15からＸ線フィルタ19および検出
器コリメータ20を介して検出器13に向けて放射される螢
光Ｘ線ＦＸとを共に遮断する閉位置と、その遮断を解除
する開位置とに切り換え自在となるように構成されてい
た。
造では、例えば図６に示すように、試料台14の直下の位
置に平板状のシャッター11が水平方向に移動自在に設け
られ、Ｘ線管10からＸ線コリメータ17およびＸ線フィル
タ18を介して試料台14上の試料15に向けて照射される一
次Ｘ線Ｘと、その試料15からＸ線フィルタ19および検出
器コリメータ20を介して検出器13に向けて放射される螢
光Ｘ線ＦＸとを共に遮断する閉位置と、その遮断を解除
する開位置とに切り換え自在となるように構成されてい
た。
【０００３】そして、その試料台14を含めて装置本体３
の上部がシールドカバー４で開閉自在に覆われ、そのシ
ールドカバー４を閉じるとロックされ、かつその閉動作
と連動する機械的な連動機構（図示省略）を介してシャ
ッター11が開位置に移動し、試料台14上の試料15に一次
Ｘ線Ｘを照射させてその試料15から放射される螢光Ｘ線
ＦＸを検出器13で検出することにより成分分析をおこな
うことができるようになっていた。
の上部がシールドカバー４で開閉自在に覆われ、そのシ
ールドカバー４を閉じるとロックされ、かつその閉動作
と連動する機械的な連動機構（図示省略）を介してシャ
ッター11が開位置に移動し、試料台14上の試料15に一次
Ｘ線Ｘを照射させてその試料15から放射される螢光Ｘ線
ＦＸを検出器13で検出することにより成分分析をおこな
うことができるようになっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来で
は、シャッター11はシールドカバー４と連係動作し、シ
ールドカバー４が閉じられているときには、シャッター
11は常に開かれていた。
は、シャッター11はシールドカバー４と連係動作し、シ
ールドカバー４が閉じられているときには、シャッター
11は常に開かれていた。
【０００５】そのため、例えば、試料室５内の真空引き
をおこなっている間にも、シャッター11が開いており、
検出器13が余分な螢光Ｘ線ＦＸを受けて劣化が促進され
るという弊害があった。
をおこなっている間にも、シャッター11が開いており、
検出器13が余分な螢光Ｘ線ＦＸを受けて劣化が促進され
るという弊害があった。
【０００６】また、液体試料を測定する場合に、誤って
真空引きをおこなったときにも、その間シャッター11が
開いているため、Ｘ線管10および検出器13に飛散した試
料が付着するという弊害があった。
真空引きをおこなったときにも、その間シャッター11が
開いているため、Ｘ線管10および検出器13に飛散した試
料が付着するという弊害があった。
【０００７】本発明はこのような実情に鑑みてなされ、
検出器が余分な螢光Ｘ線を受けないように、また、検出
器やＸ線管の故障を防止できるように、シャッターの開
閉を制御することを目的としている。
検出器が余分な螢光Ｘ線を受けないように、また、検出
器やＸ線管の故障を防止できるように、シャッターの開
閉を制御することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の課題を
解決するための手段を以下のように構成している。すな
わち、測定開始スイッチからのオン信号により起動する
シャッター開閉制御回路であって、試料室内を真空にす
るためのポンプが作動し、かつ、その真空度が所定値以
下の場合には、シャッターが開かないようにする制御出
力を送出するシャッター開閉制御回路が設けられている
ことを特徴としている。
解決するための手段を以下のように構成している。すな
わち、測定開始スイッチからのオン信号により起動する
シャッター開閉制御回路であって、試料室内を真空にす
るためのポンプが作動し、かつ、その真空度が所定値以
下の場合には、シャッターが開かないようにする制御出
力を送出するシャッター開閉制御回路が設けられている
ことを特徴としている。
【０００９】
【作用】測定開始スイッチがオンされた後、試料室内を
真空にするためのポンプが作動して、その真空度が所定
値以下の場合には、シャッター開閉制御回路からシャッ
ター開閉手段に対して制御出力が送出されてシャッター
が開かれない。
真空にするためのポンプが作動して、その真空度が所定
値以下の場合には、シャッター開閉制御回路からシャッ
ター開閉手段に対して制御出力が送出されてシャッター
が開かれない。
【００１０】従って、試料室内の真空引きをおこなって
いる間には、シャッターが閉じられており、検出器に余
分な螢光Ｘ線が入射されることがなくなり、検出器が保
護される。
いる間には、シャッターが閉じられており、検出器に余
分な螢光Ｘ線が入射されることがなくなり、検出器が保
護される。
【００１１】また、液体試料の測定時に、たとえ誤って
真空引きをおこなっても、試料室内の真空度が所定値以
上（例えば１torr以下）にならないので、シャッターが
開かれず、すぐに誤動作に気が付くとともに、Ｘ線管お
よび検出器も充分保護される。
真空引きをおこなっても、試料室内の真空度が所定値以
上（例えば１torr以下）にならないので、シャッターが
開かれず、すぐに誤動作に気が付くとともに、Ｘ線管お
よび検出器も充分保護される。
【００１２】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図１は螢光Ｘ線分析装置１（図４，図５参
照）のシャッター開閉制御機構のブロック構成図で、螢
光Ｘ線分析装置１に別途接続されたコンピュータ24（図
示省略）に設けられている測定開始スイッチ２、試料室
５内を真空に減圧するポンプ６を作動させるためのポン
プ作動スイッチ７、および試料室５内の真空度を計測す
る真空計８がシャッター開閉制御回路９の入力側に接続
される一方、その出力側には、Ｘ線管10から照射される
一次Ｘ線Ｘが外部に漏洩するのを防止するための断面Ｖ
型のシャッター11を開閉するシャッター開閉手段12が接
続されている。なお、試料室５は、試料台14のまわりに
Ｏリングを介して密接する円筒容器状のシールドカバー
４によって気密状態に形成され、装置本体３とは別に設
けられたポンプ６がホース21を介してその試料室５と接
続され、かつその試料室５内の真空度が、真空計８によ
って検出されるようになっている。図４中、14ａは試料
台14に開設された窓、ＦＸは試料（図示省略）から放射
される螢光Ｘ線である。
に説明する。図１は螢光Ｘ線分析装置１（図４，図５参
照）のシャッター開閉制御機構のブロック構成図で、螢
光Ｘ線分析装置１に別途接続されたコンピュータ24（図
示省略）に設けられている測定開始スイッチ２、試料室
５内を真空に減圧するポンプ６を作動させるためのポン
プ作動スイッチ７、および試料室５内の真空度を計測す
る真空計８がシャッター開閉制御回路９の入力側に接続
される一方、その出力側には、Ｘ線管10から照射される
一次Ｘ線Ｘが外部に漏洩するのを防止するための断面Ｖ
型のシャッター11を開閉するシャッター開閉手段12が接
続されている。なお、試料室５は、試料台14のまわりに
Ｏリングを介して密接する円筒容器状のシールドカバー
４によって気密状態に形成され、装置本体３とは別に設
けられたポンプ６がホース21を介してその試料室５と接
続され、かつその試料室５内の真空度が、真空計８によ
って検出されるようになっている。図４中、14ａは試料
台14に開設された窓、ＦＸは試料（図示省略）から放射
される螢光Ｘ線である。
【００１３】上述のシャッター開閉制御回路９は、測定
開始スイッチ２からのオン信号により起動し、ポンプ作
動スイッチ７からのオン信号を受信し、かつ真空計８か
らの検出信号により試料室５内の真空度が所定値以上
（１torr以下）になったことを確認すると、シャッター
開閉手段12に制御出力を送出し、シャッター11を開くよ
うに構成されている。
開始スイッチ２からのオン信号により起動し、ポンプ作
動スイッチ７からのオン信号を受信し、かつ真空計８か
らの検出信号により試料室５内の真空度が所定値以上
（１torr以下）になったことを確認すると、シャッター
開閉手段12に制御出力を送出し、シャッター11を開くよ
うに構成されている。
【００１４】一方、シャッター11は、図４に示すよう
に、リンク機構12ａを介してシャッター開閉手段12を構
成するロータリソレノイドと接続され、試料台14の下方
に形成されたＶ溝に沿って矢印の方向に摺動し、その一
側部11ａでＸ線管10から試料に向けて照射される一次Ｘ
線Ｘを、また、その他側部11ｂで試料から検出器13に向
けて放射される螢光Ｘ線ＦＸをそれぞれ遮断する二点鎖
線で示す閉位置と、その遮断を解除する実線の開位置と
に切り換え操作されるようになっている。
に、リンク機構12ａを介してシャッター開閉手段12を構
成するロータリソレノイドと接続され、試料台14の下方
に形成されたＶ溝に沿って矢印の方向に摺動し、その一
側部11ａでＸ線管10から試料に向けて照射される一次Ｘ
線Ｘを、また、その他側部11ｂで試料から検出器13に向
けて放射される螢光Ｘ線ＦＸをそれぞれ遮断する二点鎖
線で示す閉位置と、その遮断を解除する実線の開位置と
に切り換え操作されるようになっている。
【００１５】他方、シールドカバー４の前部には、ロッ
ク手段22を構成する被掛止部材23が固定され、シールド
カバー４を閉じたときには、装置本体３の前部に設けら
れた掛止部材24によってその被掛止部材23がロック掛止
されるようになっている。詳しくは、その掛止部材24は
スプリング25によってロック方向（左方向）に付勢さ
れ、シールドカバー４の開放下では、ストッパー26に当
接してロック解除の位置に設定されており、シールドカ
バー４を閉じると、被掛止部材23によってそのストッパ
ー26が押し下げられて掛止部材24がスプリング25の付勢
でロック方向に移動し、被掛止部材23が掛止されシール
ドカバー４がロックされ、試料室５内が気密状態とされ
る。なお、ロックを解除するにはその掛止部材24に取り
付けられたレバー27を右方向に移動させればよく、その
レバー27の動作がリミットスイッチ29で検知されると、
シャッター開閉手段12が作動してシャッター11が閉位置
に移動され、さらにレバー27が右方向に移動すると、シ
ールドカバー４に対するロックが解除されて試料室５が
開放される。図４中、符号28は掛止部材24のロック解除
位置を検知するためのリミットスイッチである。
ク手段22を構成する被掛止部材23が固定され、シールド
カバー４を閉じたときには、装置本体３の前部に設けら
れた掛止部材24によってその被掛止部材23がロック掛止
されるようになっている。詳しくは、その掛止部材24は
スプリング25によってロック方向（左方向）に付勢さ
れ、シールドカバー４の開放下では、ストッパー26に当
接してロック解除の位置に設定されており、シールドカ
バー４を閉じると、被掛止部材23によってそのストッパ
ー26が押し下げられて掛止部材24がスプリング25の付勢
でロック方向に移動し、被掛止部材23が掛止されシール
ドカバー４がロックされ、試料室５内が気密状態とされ
る。なお、ロックを解除するにはその掛止部材24に取り
付けられたレバー27を右方向に移動させればよく、その
レバー27の動作がリミットスイッチ29で検知されると、
シャッター開閉手段12が作動してシャッター11が閉位置
に移動され、さらにレバー27が右方向に移動すると、シ
ールドカバー４に対するロックが解除されて試料室５が
開放される。図４中、符号28は掛止部材24のロック解除
位置を検知するためのリミットスイッチである。
【００１６】このような構成によるシャッター11の開閉
制御の基本的なフローを図２、図３および図４、図５に
基づいて説明すると、まず、シールドカバー４を開いて
（Ｓ１）、試料台14の窓14ａの上に試料を配置した（Ｓ
２）後、シールドカバー４を閉じる（Ｓ３）。次いで、
測定開始スイッチ２をオン操作すると（Ｓ４）、シャッ
ター開閉制御回路９が起動する（Ｓ５）。
制御の基本的なフローを図２、図３および図４、図５に
基づいて説明すると、まず、シールドカバー４を開いて
（Ｓ１）、試料台14の窓14ａの上に試料を配置した（Ｓ
２）後、シールドカバー４を閉じる（Ｓ３）。次いで、
測定開始スイッチ２をオン操作すると（Ｓ４）、シャッ
ター開閉制御回路９が起動する（Ｓ５）。
【００１７】そして、ポンプ作動スイッチ７がオン操作
された（Ｓ６）後、真空計８の指示値が１torr以下であ
るかが問われ（Ｓ７）、１torr以下（真空度が所定値以
上）であれば、シャッター開閉手段12が作動し（Ｓ
８）、シャッター11が開かれる（Ｓ９）。なお、ステッ
プ６でポンプ作動スイッチ７がオンされていないときに
は、真空度とは関係なく、シャッター11は開閉される。
された（Ｓ６）後、真空計８の指示値が１torr以下であ
るかが問われ（Ｓ７）、１torr以下（真空度が所定値以
上）であれば、シャッター開閉手段12が作動し（Ｓ
８）、シャッター11が開かれる（Ｓ９）。なお、ステッ
プ６でポンプ作動スイッチ７がオンされていないときに
は、真空度とは関係なく、シャッター11は開閉される。
【００１８】従って、試料室５内の真空引きがおこなわ
れている間は、シャッター11が閉じられており、検出器
13に余分な螢光Ｘ線ＦＸが入射されることがなく、検出
器13を保護することができる。
れている間は、シャッター11が閉じられており、検出器
13に余分な螢光Ｘ線ＦＸが入射されることがなく、検出
器13を保護することができる。
【００１９】また、液体試料の測定時に、たとえ誤って
真空引きをおこなっても、試料室５内の真空計８の指示
値は１torr以下にならないので、シャッター11が開かれ
ず、すぐに誤操作に気が付くとともに、Ｘ線管10および
検出器13の保護も充分になされうるのである。
真空引きをおこなっても、試料室５内の真空計８の指示
値は１torr以下にならないので、シャッター11が開かれ
ず、すぐに誤操作に気が付くとともに、Ｘ線管10および
検出器13の保護も充分になされうるのである。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
測定開始スイッチからのオン信号があり、ポンプが作動
し、かつ、試料室内の真空度が所定値以下の場合には、
シャッターが開かれないので、試料室内の真空引きをお
こなっている間にはシャッターが閉じられており、検出
器に余分な螢光Ｘ線が入射されることがなくなり、検出
器を保護することができる。
測定開始スイッチからのオン信号があり、ポンプが作動
し、かつ、試料室内の真空度が所定値以下の場合には、
シャッターが開かれないので、試料室内の真空引きをお
こなっている間にはシャッターが閉じられており、検出
器に余分な螢光Ｘ線が入射されることがなくなり、検出
器を保護することができる。
【００２１】また、液体試料の測定時に、たとえ誤って
真空引きをおこなっても、シャッターが開かれないの
で、すぐに誤操作に気が付くとともに、Ｘ線管および検
出器の保護も充分になされうる。
真空引きをおこなっても、シャッターが開かれないの
で、すぐに誤操作に気が付くとともに、Ｘ線管および検
出器の保護も充分になされうる。
【００２２】なお、本発明は、そのシャッターの形状や
形式あるいはシャッター開閉手段の構成および連動機構
等については実施例に限定されることなく、如何なるも
のをも適宜採用できるのはいうまでもない。
形式あるいはシャッター開閉手段の構成および連動機構
等については実施例に限定されることなく、如何なるも
のをも適宜採用できるのはいうまでもない。
【図１】本発明の螢光Ｘ線分析装置のシャッター開閉制
御機構のブロック構成図である。
御機構のブロック構成図である。
【図２】同基本的な制御フローの前半部である。
【図３】同基本的な制御フローの後半部である。
【図４】同螢光Ｘ線分析装置のシャッター構造を示す斜
視図である。
視図である。
【図５】同螢光Ｘ線分析装置の全体斜視図である。
【図６】従来の螢光Ｘ線分析装置の断面図である。
２…測定開始スイッチ、５…試料室、６…ポンプ、９…
シャッター開閉制御回路、11…シャッター、12…シャッ
ター開閉手段。
シャッター開閉制御回路、11…シャッター、12…シャッ
ター開閉手段。
Claims (1)
- 【請求項１】 測定開始スイッチからのオン信号により
起動するシャッター開閉制御回路であって、試料室内を
真空にするためのポンプが作動し、かつ、その真空度が
所定値以下の場合には、シャッターが開かないようにす
る制御出力を送出するシャッター開閉制御回路が設けら
れていることを特徴とする螢光Ｘ線分析装置のシャッタ
ー開閉制御機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4299287A JP2829469B2 (ja) | 1992-10-11 | 1992-10-11 | 螢光ｘ線分析装置のシャッター開閉制御機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4299287A JP2829469B2 (ja) | 1992-10-11 | 1992-10-11 | 螢光ｘ線分析装置のシャッター開閉制御機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06123715A true JPH06123715A (ja) | 1994-05-06 |
| JP2829469B2 JP2829469B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=17870584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4299287A Expired - Lifetime JP2829469B2 (ja) | 1992-10-11 | 1992-10-11 | 螢光ｘ線分析装置のシャッター開閉制御機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2829469B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015203648A (ja) * | 2014-04-15 | 2015-11-16 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5524521B2 (ja) * | 2009-06-30 | 2014-06-18 | 株式会社堀場製作所 | 蛍光ｘ線分析装置 |
| JP6036321B2 (ja) * | 2012-03-23 | 2016-11-30 | 株式会社リガク | Ｘ線複合装置 |
| JP5782154B2 (ja) * | 2014-04-10 | 2015-09-24 | 株式会社堀場製作所 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53160989U (ja) * | 1977-05-25 | 1978-12-16 | ||
| JPS62197057U (ja) * | 1986-06-06 | 1987-12-15 |
-
1992
- 1992-10-11 JP JP4299287A patent/JP2829469B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53160989U (ja) * | 1977-05-25 | 1978-12-16 | ||
| JPS62197057U (ja) * | 1986-06-06 | 1987-12-15 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015203648A (ja) * | 2014-04-15 | 2015-11-16 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2829469B2 (ja) | 1998-11-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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