JPH08250812A

JPH08250812A - 光学装置及び記録媒体再生装置

Info

Publication number: JPH08250812A
Application number: JP7046880A
Authority: JP
Inventors: Hendoritsuku Zabato; ザバト・ヘンドリック; Masato Doi; 正人土居
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1995-03-07
Filing date: 1995-03-07
Publication date: 1996-09-27

Abstract

(57)【要約】【目的】小型化が可能で大量生産が可能であると共
に、調整の必要が殆どなくて戻り光の検出のパワー効率
を保持できる光学装置を提供する。【構成】発光部であるレーザ光源３と、上記発光部に
近接して配設された上記発光部からの直接の戻り光１２
が入射される反射面２と、上記反射面２に対向して配設
された反射手段としての反射鏡４と、上記反射手段に対
向し上記反射面２の形成面と同一の面上に配設された受
光部としてのフォトダイオードＰＤ_A 、ＰＤ_B 、ＰＤ
_C 、ＰＤ_D を有し、光学記録媒体の読み取りに必要なＲ
Ｆ信号、フォーカスエラー信号、トラッキングエラー信
号の検出が、例えばビームスプリッタ等の出射光と戻り
光とを分割する手段を設けなくても実現可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、発光部から出射される
出射光が被照射体にて反射して得られる戻り光を受光し
て信号を検出する光学装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の光学装置、いわゆるコンパクトデ
ィスク（ＣＤ）プレーヤ等の光ディスクドライブや光磁
気ディスクドライブの光ピックアップ部では、グレーテ
ィングやビームスプリッタ等の各光部品を個別に組み立
てるため、その装置構成が比較的大がかりとなり、ま
た、光学的な配置設定が煩雑なため製造工程の簡易化を
図り難いという問題がある。

【０００３】例えば、図１３にその一例の略線的拡大構
成図を示すように、半導体レーザダイオード等の光源５
１から出射された光は、グレーティング５２を介してビ
ームスプリッタ５３に導入されて透過し、コリメータレ
ンズ５４を介して対物レンズ５５により光記録媒体５６
例えばいわゆる光ディスクの表面の記録部に集光するよ
うになされる。図１３において、一点鎖線ｃは光源５１
から光記録媒体５６への光軸を示す。

【０００４】そして、光記録媒体５６から反射された光
は、対物レンズ５５、コリメータレンズ５４を介してビ
ームスプリッタ５３により反射されて、光軸ｃから分離
され、側方に設けられた凹レンズ５７及びシリンドリカ
ルレンズ５８を介してフォトダイオード（ＰＤ）等のデ
ィテクタ５９に集光されて検出される。

【０００５】あるいは、また、他の光学装置としては、
例えば図１４に反射型の光走査顕微鏡の光ピックアップ
部の一例の構成を示すように、光源５１から出射された
光を一旦ビームスプリッタ５３により反射させて、対物
レンズ５５により集光させて試料６０の表面に照射す
る。破線６１は、焦平面を示す。そして試料６０で反射
された光を、対物レンズ５５を介してビームスプリッタ
５３を透過させ、共焦点位置にディテクタを配置するか
あるいはピンホール６２を配してここを通過した光をそ
の後方に配置したディテクタ５９により検出する。この
とき矢印ｓで示すように、試料６０を配置するステージ
（載置台）か又は照射ビームを相対的に走査させて、試
料表面の状態を検出することができる。

【０００６】このように、従来のピックアップ系の装置
においては、反射光が必ず出射位置に戻ることから、光
源からのレーザ光と被照射対との間にビームスプリッタ
やホログラムを配置して、これにより入射光や戻り光を
分離するようになされており、受光素子が受ける光量は
小さくなる（例えば特開平２−２７８７７９号公報、特
開平１−３０３６３８号公報）。

【０００７】また、例えば上述の光学ピックアップ装置
等を同一のＳｉ等の半導体基板上にハイブリッドに組み
立てようとすると、厳しいアライメント精度が必要にな
る（例えば特開平２−２７８７７９号公報）。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、受光素子が
受ける光量を可能な限り大きくするため、本件出願人
は、特願平５−２１０６９１号の明細書及び図面におい
て、光学装置を提案している。

【０００９】上記光学装置は、少なくとも発光部と、上
記発光部に近接した受光部とが設けられ、上記発光部か
らの直接の戻り光が上記受光部に入射されることを特徴
とするものである。上記光学装置は、上記発光部からの
直接の戻り光が、レンズの開口数ＮＡ及び出射光の波長
λにより１．２２／ＮＡとして定められる光の回折限界
を利用することにより、直接の戻り光を発光部に近接し
た受光部で検出可能としている。

【００１０】また、上記光学装置によれば、上記戻り光
をビームスプリッタにより分離する必要がないため、光
学部品数を削減してその組み立てを簡単化すると共に装
置の小型化を可能とし、且つ戻り光量を増加させて検出
効率を向上させ、また、低消費電力化を図ることができ
る。

【００１１】ところで、光学装置に用いる光学素子は小
型化と大量生産が可能であって、例えばフォーカスエラ
ー信号やトラッキングエラー信号等を得るためには、例
えばディスク状記録媒体の回転動作の状態にかかわら
ず、一定動作で戻り光を検出する光学素子を用いること
が望まれる。

【００１２】そこで、本発明は、上述した実情に鑑みて
なされたものであり、小型化が可能で大量生産が可能で
あると共に、調整の必要が殆どなくて戻り光の検出のパ
ワー効率を保持できる光学装置を提供することを目的と
する。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の光学装置は、上
述した問題を解決するために、発光部と、上記発光部に
近接して配設された上記発光部からの直接の戻り光が入
射される反射面と、上記反射面に対向して配設された反
射手段と、上記反射手段に対向し上記反射面の形成面と
同一の面上に配設された受光部とを有するものである。

【００１４】また、上記発光部と上記反射面と上記受光
部とは、同一の基板上に配設されることが挙げられる。

【００１５】また、上記反射手段は、上記反射面からの
光を偏光分離することが挙げられる。

【００１６】また、本発明の記録媒体再生装置は、光学
記録媒体に光を照射して得られる戻り光を検出し、再生
する記録媒体再生装置において、上記光学記録媒体に照
射する光を出射する発光部と、上記発光部から出射され
る光を上記光学記録媒体上に集光させる集光手段と、上
記発光部に近接して配設された上記発光部からの直接の
戻り光が入射される反射面と、上記反射面に対向して配
設された反射手段と、上記反射手段に対向し上記反射面
の形成面と同一の面上に配設された受光部とを有する光
学装置と、上記光学装置にて検出した信号に基づいて上
記光学記録媒体の内容を再生する再生部とを有するもの
である。

【００１７】

【作用】本発明の光学装置によれば、発光部から出射さ
れた光が記録媒体等の被照射体にて反射した戻り光は、
上記発光部に近接した反射面にてこの反射面に対向して
配設される反射手段に向かって反射する。上記反射手段
に入射した光は、上記反射面の形成面と同一面上に配設
された受光部例えばフォトダイオードに向けて反射し、
この受光部にて検出される。

【００１８】また、上記発光部と上記反射面と上記受光
部とを同一の基板上に配設することで、小型化された光
学装置にて上記戻り光が検出される。

【００１９】また、上記反射手段を例えば複屈折材料に
て構成し、上記反射面からの光を偏光分離可能とするこ
とで、偏光変調成分を伴う光磁気信号の検出が可能にな
る。

【００２０】また、本発明の記録媒体再生装置によれ
ば、発光部から出射された光が記録媒体等の被照射体に
て反射した戻り光は、上記発光部に近接した光学装置に
配設される反射面にてこの反射面に対向して配設される
上記光学装置に配設される反射手段に向かって反射す
る。上記反射手段に入射した光は、上記光学装置内であ
って上記反射面の形成面と同一面上に配設された受光部
例えばフォトダイオードに向けて反射し、この受光部に
て検出される。また、上記受光部にて検出された信号
は、再生部にて再生されて、この再生信号が出力され
る。

【００２１】

【実施例】以下、本発明の実施例である光学装置につい
て図面を参照しながら説明する。

【００２２】上記光学装置は、図１に示すように、発光
部であるレーザ光源３と、上記発光部に近接して配設さ
れた上記発光部からの直接の戻り光１２が入射される反
射面２と、上記反射面２に対向して配設された反射手段
としての反射鏡４と、上記反射手段に対向し上記反射面
２の形成面と同一の面上に配設された受光部としてのフ
ォトダイオードＰＤ_A 、ＰＤ_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ_D を有す
るものである。

【００２３】上記光学装置において、基板１上に、レー
ザ光源３と反射面２とフォトダイオードＰＤ_A 、ＰＤ
_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ_D とが配設されている。また、基板１
を覆うように透明板５が配設され、この透明板５の表面
であって反射面２及びフォトダイオードＰＤ_A 、ＰＤ
_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ_D に対向する位置に反射鏡４が配設さ
れる。さらに、レーザ光源３がレーザ光を出射する端面
に対向してミラー６が、この出射レーザ光の光軸から略
４５°傾斜するように配設されている。なお、上記透明
板５の厚みを厚みＤとし、戻り光１２の焦点位置からフ
ォトダイオードＰＤ_A 、ＰＤ_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ_D の中心
位置までの距離を距離Ｌとし、ミラー６にて反射した出
射光１１のための開口直径を距離ｄとしている。

【００２４】上記光学装置によれば、レーザ光源３から
出射されるレーザ光は、ミラー６にて基板１に対して略
垂直な方向に反射し、図示されない集光手段にて図示さ
れない記録媒体等の被照射体に集光される。被照射体に
て反射した戻り光は、上記集光手段にて再度集光され、
ミラー６近傍に集光される。この集光された戻り光の一
部が反射面２にて反射し、透明板５上に配設される反射
鏡４に入射する。反射鏡４に入射した光は、フォトダイ
オードＰＤ_A 、ＰＤ_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ_D に向けて反射
し、各フォトダイオードＰＤ_A 、ＰＤ_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ
_D は入射する光を検出する。なお、反射面２はナイフエ
ッジとして動作するため、ナイフエッジ法によるフォー
カスエラー信号検出が可能である。

【００２５】ここで、上記光学装置の製造方法を図２の
ＡからＤまでに示す。

【００２６】先ず図２のＡに示すように、ガリウム−砒
素（ＧａＡｓ）やインディウム−燐（ＩｎＰ）等の半導
体の例えばＧａＡｓより成る例えばｎ型の基板８１の上
に、ＡｌＧａＡｓ等より成るｎ型の第１のクラッド層８
２、ＧａＡｓあるいは第１のクラッド層８２に比し低ア
ルミニウム濃度のＡｌＧａＡｓ等より成る活性層８３、
ｐ型のＡｌＧａＡｓ等より成る第２のクラッド層８４、
ｐ型のＧａＡｓ等より成るキャップ層８５を、例えばＭ
ＯＣＶＤ法等により順次エピタキシャル成長させる。

【００２７】続いて、図２のＢに示すように、第１のク
ラッド層８２、活性層８３、第２のクラッド層８４及び
キャップ層８５から構成されるレーザ積層８０の表面の
所定位置に、フォトリソグラフィによりマスクを形成
後、反応性イオンエッチングすなわちＲＩＥ等の異方性
エッチングにより、共振器端面８８Ａを形成する。

【００２８】また、図２のＣに示すように、ＧａＡｓ等
で、例えばＭＯＣＶＤ法等により反射層９６を形成す
る。この反射層９６は、適当な成長条件下で成長させる
と上面が結晶面（１００）の他に結晶面（３１１）ある
いは（４１１）を有するように形成される。また、反射
層９６には、共振器端面８８Ａに対向する面として（１
１０）面が設けられている。

【００２９】さらに、図２のＤに示すように、反射層９
６の（１００）面上にフォトダイオードＰＤ_A 、ＰＤ_B
を設けて、最後に図示しないが電極層を基板８１底面と
キャップ層８５の上面と反射層９６の上面で反射面２、
フォトダイオードＰＤ_A 、ＰＤ_B が形成されていない箇
所とに形成し、上記光学装置が構成される。

【００３０】また、図２のＣで示した工程を、図３のＡ
に示すように、先ず（１１０）面のみを有する反射層９
６ＡをＭＯＣＶＤ法等により形成し、続いて図３のＢに
示すように、ウェットエッチング等により反射層９６Ａ
の上面の一部を除去し、（３１１）面あるいは（４１
１）面と（１００）面とを形成し、図２のＤに示した工
程にて、上記光学装置を構成する。

【００３１】また、図３のＡの構造は、図４のＡからＤ
までに示すようにエッチングにより形成することも可能
である。

【００３２】先ず図４のＡに示すように、ガリウム−砒
素（ＧａＡｓ）やインディウム−燐（ＩｎＰ）等の半導
体の例えばＧａＡｓより成る例えばｎ型の基板８１の上
に、ＡｌＧａＡｓ等より成るｎ型の第１のクラッド層８
２、ＧａＡｓあるいは第１のクラッド層８２に比し低ア
ルミニウム濃度のＡｌＧａＡｓ等より成る活性層８３、
ｐ型のＡｌＧａＡｓ等より成る第２のクラッド層８４、
ｐ型のＧａＡｓ等より成るキャップ層８５を順次エピタ
キシャル成長させる。

【００３３】次に、図４のＢに示すように、共振器を構
成する領域を挟むように電流阻止領域８６を例えばイオ
ン注入等により形成する。

【００３４】そして、図４のＣに示すように、表面から
略４５°の角度をもって斜め方向に、基板８１に達する
深さの斜め溝８７ａをＲＩＥ等の異方性エッチングによ
り形成する。

【００３５】さらに、図４のＤに示すように、この斜め
溝８７ａの近傍に垂直方向にＲＩＥ等により溝８７を例
えば数μｍの幅として形成してこれにより半導体レーザ
の一方の共振器端面８８Ａを形成し、また例えば他方の
共振器端面８８Ｂも同様にＲＩＥ等の異方性エッチング
により形成して半導体レーザであるレーザ光源３が構成
される。ここで、得られるレーザ光源３を備えた基板８
１上の斜め溝８７ａを有する側のキャップ層８５を金属
や誘電多層膜等より成る反射膜を被着することで、図３
のＡに示すような反射層９６Ａ及びレーザ積層８０を有
する基板８１が構成される。以後は、上述のようにウェ
ットエッチング等により反射層９６Ａの上面の一部を除
去し、上記光学装置を構成する。

【００３６】ここで、フォトダイオードＰＤ_A 、ＰＤ
_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ_D が検出する光電流強度をＩ_A 、Ｉ
_B 、Ｉ_C 、Ｉ_D とすると、得られる信号は（１）式乃至
（３）式に示すように求められる。

【００３７】ＲＦ信号：（Ｉ_A ＋Ｉ_B ）＋（Ｉ_C ＋Ｉ_D ）・・・（１）フォーカスエラー信号：（Ｉ_A −Ｉ_B ）＋（Ｉ_C −Ｉ_D ）・・・（２）トラッキングエラー信号：（Ｉ_A ＋Ｉ_B ）−（Ｉ_C ＋Ｉ_D ）・・・（３）ここで、反射面２と戻り光１２の焦点位置との間の距離
いわゆるオフセットとパワー効率との関係について説明
する。

【００３８】各オフセットに対する戻り光のデフォーカ
ス距離と上記パワー効率を示す捕獲されたパワー比との
関係は、図５に示すように、オフセットが小さい程大き
くなる。ここで、この関係を得る条件として、入射する
光の波長については７８０ｎｍ、上記集光手段としての
対物レンズの前部焦点面ＮＡについては０．４５、この
対物レンズの後部焦点面ＮＡについては０．０９、上記
対物レンズの後部焦点レンズについては２０ｎｍ、ま
た、レンズシステムの横倍率については５をそれぞれ用
いた。

【００３９】また、図１の反射面２にて反射した光の強
度分布を調べるモデルとして、水平面から２２．５°だ
け傾斜させたミラーを置いて、このミラーに上記水平面
に対して垂直な方向から光を入射させた場合の反射光の
光強度分布を極座標にて示す図が図６のＡであり、ま
た、入射光の光軸を基準とした反射光の光軸の角度とこ
の反射光の強度との関係を示す図が図６のＢである。

【００４０】なお、図６のＡにおいて、角度Θは上記入
射光の光軸を基準とした反射光の光軸の角度を示し、ま
た、長さは反射光の強度を示す。

【００４１】図６のＡ、Ｂによれば、水平面から２２．
５°だけ傾けたミラーに水平面に対して垂直な方向から
光を入射させた場合、この反射光は上記入射光の光軸か
ら４５°だけ傾いた方向に強度分布を示している。

【００４２】すなわち、図１の光学装置に当てはめる
と、反射鏡４は戻り光１２の光軸から４５°だけ傾斜し
た方向に設ければよいことになる。

【００４３】ここで、上記ナイフエッジ法によるフォー
カスエラー信号の検出について説明する。

【００４４】先ず、図１において、反射面２はナイフエ
ッジとして作用している。また、ナイフエッジ法は、図
７のＡ、Ｂに示すように、戻り光１２３が、受光部であ
るフォトダイオードＰＤ₁ 、ＰＤ₂ に到達する前に、収
差光路上にナイフエッジ１２１を立ててフォトダイオー
ドＰＤ₁ 、ＰＤ₂ にて検出される光電流強度を比較器１
２２にて比較することでフォーカスエラー信号が得られ
る方法である。

【００４５】このことを考慮し、戻り光１２が反射面２
にて反射した反射光を、光の収差光路にナイフエッジを
立てて得られる光でモデル化し、光強度の角度分布を図
８に示す。そして、各曲線は所定の基準位置を０μｍと
して異なる位置でデフォーカスさせて、この各位置での
光強度分布を示している。

【００４６】この図８によれば、上記ナイフエッジの位
置を変化させて入射光の収差光路のいわゆるくびれ位置
を移動させることで、デフォーカス距離が変化するが、
一方でスペクトルの中心位置すなわち光強度が最も大き
い角度の値がこのデフォーカス距離に応じて異なること
がわかる。すなわち、上記ナイフエッジの位置とデフォ
ーカスさせる位置とを固定した場合、上記デフォーカス
距離の変化は上記入射光を集光させるための例えば対物
レンズの位置に変化に等しくなる。従って、この光強度
変化には、上記対物レンズが被照射体に対して光を集光
する際のフォーカスの状態に関する情報が含まれてい
る。そこで、複数に分割された受光素子にて上記デフォ
ーカスした光の状態を各受光素子での光電流強度の差で
検出すれば、フォーカスエラー信号が得られることにな
る。また、これを利用することで、ゼロ信号の安定度の
増加及び大きいダイナミックレンジが得られる。

【００４７】また、本実施例では、図９に模式図を示す
ような光学装置、すなわち基板１上にレーザ光源３を設
けてこのレーザ光源からの出射光１１を反射させるミラ
ー６と、ミラー６近傍であってレーザ光源３とは反対側
に反射面２とフォトダイオードＰＤ_1A、ＰＤ_1Bを配設
し、さらに上記基板１全体を覆う透明板５表面であって
反射面２と対向する位置に反射鏡４を配設した光学装置
の例を挙げたが、図１０に示したように、光学装置を構
成することも可能である。すなわち、レーザ光源３上面
にも反射面１５とフォトダイオードＰＤ_2A、ＰＤ_2Bとを
設けて、また透明板５には反射鏡１６を設けて、反射面
２と同様に反射面１５でも戻り光１２を反射させて、各
反射面２、１５で反射した反射光をそれぞれ反射鏡４、
１６にて反射させて、各反射鏡４、１６と対向するフォ
トダイオードＰＤ_1A、ＰＤ_1BとフォトダイオードＰ
Ｄ_2A、ＰＤ_2Bとでそれぞれ光電流強度を検出させてもよ
い。

【００４８】図１０に示した光学装置によれば、被照射
体のＸ方向の傾きにより影響される信号成分を排除する
ことができ、高精度のフォーカスエラー信号を得ること
ができる。

【００４９】また、本実施例の光学装置として反射面２
に対向して配設された反射手段として入射する光を全反
射させる反射鏡４を配設した透明板５を用いたものを例
に挙げたが、図１１に示すように、例えば複屈折材料を
用いた反射層１４を透明板５の代わりに用いてもよい。

【００５０】上記複屈折材料を用いた光学装置におい
て、この複屈折材料として例えば一軸結晶が用いられ
る。この一軸結晶の光軸ｃは反射層１４の平面上でΘ＝
４５°だけ傾けられる。このようにすることで、戻り光
１２がこの複屈折材料にて常光偏光成分ｏと異常光偏光
成分ｅとに分離され、さらに、上記常光偏光成分ｏと上
記異常光偏光成分ｅとが同じ強度を有する。これら常光
偏光成分ｏと異常光偏光成分ｅとをそれぞれに対応する
受光素子を用いて検出することで、戻り光１２の偏光成
分を分離して各偏光成分を検出することが可能となり、
例えば光磁気信号の検出が可能となる。また、出射光１
１と戻り光１２とはこの反射層１４に入射するのに角度
Ψ、本実施例の光学装置においてはΨ＝略４０°だけ差
が生じるため、例えば戻り光１２のみを選択的に偏光成
分を分離して受光素子に送ることができる。

【００５１】さらに、上記複屈折材料の偏光成分を分離
する偏光成分分離層を多層に設けた場合、上記常光偏光
成分ｏと上記異常光偏光成分ｅとの分離動作を促進する
ことができる。

【００５２】本実施例においては、反射手段として全反
射板を有する反射鏡を用いたが、これに限らず、一般に
一の材質から他の材質へ光が入射する場合、光が上記他
の材質に入射する入射角と２つの材質間の屈折率の差に
よって、この光が全反射する際の反射角が決定されるの
で、図１の反射面２の傾斜角度を調節し、反射手段の材
質として所定の屈折率を有する材質を用いて、上記傾斜
角度と上記材質の屈折率とで決定される上記反射手段に
入射する光の反射角度を考慮して受光部を設ければ本発
明と同様の効果を得る。

【００５３】本発明の記録媒体再生装置は、図１２に示
すように、光学記録媒体である光学ディスク７２に光を
照射して得られる戻り光１２を検出し、再生する記録媒
体再生装置において、上記光学記録媒体に照射する光を
出射する発光部であるレーザ光源３と、上記発光部から
出射される光を上記光学記録媒体上に集光させる集光手
段である対物レンズ７１と、上記発光部に近接して配設
された上記発光部からの直接の戻り光１２が入射される
反射面２と、上記反射面２に対向して配設された反射手
段である反射鏡４と、上記反射手段に対向し上記反射面
２の形成面と同一の面上に配設された受光部であるフォ
トダイオードＰＤ_A 、ＰＤ_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ_D とを有す
る光学装置７０と、上記光学装置７０にて検出した信号
に基づいて上記光学記録媒体の内容を再生する再生部７
３とを有するものである。

【００５４】上記記録媒体再生装置によれば、レーザ光
源３から出射された出射光１１がミラー６にて光学装置
７０に対して略垂直な方向に反射し、対物レンズにて光
学ディスク７２上に集光され反射し戻り光１２となる。
この戻り光１２は、反射面２にて反射鏡４に向かって反
射する。上記反射鏡４に入射した光は、フォトダイオー
ドＰＤ_A 、ＰＤ_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ_D に向けて反射し、こ
れらフォトダイオードＰＤ_A 、ＰＤ_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ_D
にて検出される。また、上記フォトダイオードＰＤ_A 、
ＰＤ_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ_D にて検出された信号は、再生部
７３にて再生処理され再生信号になり、この再生信号が
出力端子７４から出力される。

【００５５】また、戻り光１２が反射面２にて反射する
際に、反射面２がナイフエッジとして作用するため、フ
ォトダイオードＰＤ_A 、ＰＤ_B 、ＰＤ_C 、ＰＤ_D にて検
出された信号に基づいてフォーカスエラー信号が得られ
る。また、トラッキングエラー信号の検出を焦点位置近
傍の光を利用して行うことにより、レンズ等のオフセッ
トによる検出誤差を低減できる。

【００５６】また、図１２には、記録媒体再生装置を示
したが、本発明の光学装置は、前述のフォーカスエラー
信号検出法を用いて、センサとして、被照射体との距離
を検出することも可能である。

【００５７】以上のように構成することで、光学記録媒
体の読み取りに必要なＲＦ信号、フォーカスエラー信
号、トラッキングエラー信号の検出が、例えばビームス
プリッタ等の出射光と戻り光とを分割する手段を設けな
くても実現可能である。従って、上記戻り光検出のパワ
ー効率を保持したまま光学装置の小型化が可能であり、
また、光学装置を使用する前に、アライメントを行う必
要が殆どない。

【００５８】また、発光部であるレーザ光源３に近接し
て配設され上記戻り光を反射させる反射面に対向して配
設される反射手段として、複屈折材料を用いることで、
上記戻り光の偏光成分の分離を可能であり、上記戻り光
検出のパワー効率を保持したまま光学装置の小型化が可
能であり、また、光学装置を使用する前に、アライメン
トを行う必要が殆どない。

【００５９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光学装置
によれば、光学記録媒体の読み取りに必要な反射光強度
信号が、例えば出射光と上記光学記録媒体からの戻り光
とを分割する手段を設けなくても実現可能であり、戻り
光検出のパワー効率を保持したまま小型化が可能とな
る。また、使用する前に調整を必要としないため、操作
性が向上する。

【００６０】また、発光部に近接して配設されると共に
上記戻り光を反射させる反射面に対向して配設される反
射手段として、複屈折材料を用いることで、上記戻り光
の偏光成分の分離が可能であり、戻り光検出のパワー効
率を保持したまま小型化が可能となる。また、使用する
前に調整を必要としないため、操作性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例である光学装置の概略を示す斜
視図である。

【図２】上記光学装置を製造する方法の一例を説明する
図である。

【図３】上記光学装置を製造する方法の変形例を説明す
る図である。

【図４】上記光学装置を製造する方法の他の例を説明す
る図である。

【図５】各オフセットに対する戻り光のデフォーカス距
離と上記パワー効率を示す捕獲されたパワー比との関係
を示すグラフである。

【図６】上記光学装置をモデルとして水平面から２２．
５°だけ傾斜させたミラーを置いて、このミラーに上記
水平面に対して垂直な方向から光を入射させた場合の反
射光の光強度分布を示すグラフである。

【図７】ナイフエッジ法を説明する原理図である。

【図８】本発明に用いるナイフエッジ法の変形例を説明
する図である。

【図９】上記光学装置を要約したものを示す側面図であ
る。

【図１０】本発明の光学装置の他の例を示す側面図であ
る。

【図１１】複屈折材料を用いた反射手段の例を説明する
図である。

【図１２】本発明の記録媒体再生装置の要部を示す図で
ある。

【図１３】従来の光学素子を用いた光学装置の一例を示
す図である。

【図１４】従来の光学素子を用いた光学装置の他の例を
示す図である。

【符号の説明】

１基板２、１５反射面３レーザ光源４、１６反射鏡５透明板６ミラー１４反射層ＰＤ_A、ＰＤ_B、ＰＤ_C、ＰＤ_D フォトダイオードＰＤ_1A、ＰＤ_1B、ＰＤ_2A、ＰＤ_2B フォトダイオード

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ１１Ｂ 7/13 Ｇ１１Ｂ 7/13 7/135 7/135 ＺＨ０１Ｌ 31/0232 Ｈ０１Ｌ 31/02 Ｄ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】発光部と、上記発光部に近接して配設された上記発光部からの直接
の戻り光が入射される反射面と、上記反射面に対向して配設された反射手段と、上記反射手段に対向し上記反射面の形成面と同一の面上
に配設された受光部とを有することを特徴とする光学装
置。
【請求項２】上記発光部と上記反射面と上記受光部と
は、同一の基板上に配設されることを特徴とする請求項
１記載の光学装置。
【請求項３】上記反射手段は、透明板に反射面が配設
されたものであることを特徴とする請求項１記載の光学
装置。
【請求項４】上記反射手段は、上記反射面からの光を
偏光分離することを特徴とする請求項１記載の光学装
置。
【請求項５】光学記録媒体に光を照射して得られる戻
り光を検出し、再生する記録媒体再生装置において、上記光学記録媒体に照射する光を出射する発光部と、上記発光部から出射される光を上記光学記録媒体上に集
光させる集光手段と、上記発光部に近接して配設された上記発光部からの直接
の戻り光が入射される反射面と、上記反射面に対向して
配設された反射手段と、上記反射手段に対向し上記反射
面の形成面と同一の面上に配設された受光部とを有する
光学装置と、上記光学装置にて検出した信号に基づいて上記光学記録
媒体の内容を再生する再生部とを有することを特徴とす
る記録媒体再生装置。