JPH08245432A - アルキン含有供給物の選択的水素添加方法 - Google Patents
アルキン含有供給物の選択的水素添加方法Info
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- JPH08245432A JPH08245432A JP8007590A JP759096A JPH08245432A JP H08245432 A JPH08245432 A JP H08245432A JP 8007590 A JP8007590 A JP 8007590A JP 759096 A JP759096 A JP 759096A JP H08245432 A JPH08245432 A JP H08245432A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 硫黄化合物も追加として含むＣ2 〜Ｃ6 アル
キンを含有する供給物を、アルカリ金属弗化物で促進さ
せた担持パラジウム触媒の存在下に、相当するアルケン
に水素化する方法を提供する。 【解決手段】 不純物として少なくとも１種の硫黄化合
物も含む１分子当り２〜６個の炭素原子を含有する少な
くとも１種のアルキン（好ましくはアセチレン）を、水
素ガスを使用して２〜６個の炭素原子を有する少なくと
も１種の相当するアルケン（好ましくはエチレン）に選
択的に水素化する方法であって、該供給物を水素ガスと
共に、パラジウム、少なくとも１種のアルカリ金属弗化
物および無機支持体を含有する触媒と接触させることを
特徴とする。該触媒は好ましくは銀またはその化合物も
含有する。現在好ましいアルカリ金属弗化物は弗化カリ
ウムである。
キンを含有する供給物を、アルカリ金属弗化物で促進さ
せた担持パラジウム触媒の存在下に、相当するアルケン
に水素化する方法を提供する。 【解決手段】 不純物として少なくとも１種の硫黄化合
物も含む１分子当り２〜６個の炭素原子を含有する少な
くとも１種のアルキン（好ましくはアセチレン）を、水
素ガスを使用して２〜６個の炭素原子を有する少なくと
も１種の相当するアルケン（好ましくはエチレン）に選
択的に水素化する方法であって、該供給物を水素ガスと
共に、パラジウム、少なくとも１種のアルカリ金属弗化
物および無機支持体を含有する触媒と接触させることを
特徴とする。該触媒は好ましくは銀またはその化合物も
含有する。現在好ましいアルカリ金属弗化物は弗化カリ
ウムである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、硫黄不純物も含ま
れるアルキン−含有供給物の接触水素化法に関する。
れるアルキン−含有供給物の接触水素化法に関する。
【０００２】
【従来の技術】アルケン含有流中に一般に少量存在する
アルキン（例えば、エタンの熱分解器からのエチレン流
に含まれているアセチレンのような）の選択的水素化
は、商業用としてはアルミナ担持パラジウム触媒の存在
下に行なわれる。アセチレンのエチレンへの選択的水素
化の場合には、Ｕ．Ｓ．Ｐ．４，４０４，１２４および
その分割特許Ｕ．Ｓ．Ｐ．４，４８４，０１５の開示に
よるアルミナ−担持パラジウム／銀触媒が好ましい。こ
の水素化工程用の作業温度は、本質的にすべてのアセチ
レンが水素化されてエチレンになる（従って、供給流か
ら除去される）、同時に極く少量のエチレンのみが水素
化されてエタンになる（エチレン損失を最小にし、か
つ、上記の特許に指摘されているように制御不可能な無
制御反応を回避するために）ように選択する。
アルキン（例えば、エタンの熱分解器からのエチレン流
に含まれているアセチレンのような）の選択的水素化
は、商業用としてはアルミナ担持パラジウム触媒の存在
下に行なわれる。アセチレンのエチレンへの選択的水素
化の場合には、Ｕ．Ｓ．Ｐ．４，４０４，１２４および
その分割特許Ｕ．Ｓ．Ｐ．４，４８４，０１５の開示に
よるアルミナ−担持パラジウム／銀触媒が好ましい。こ
の水素化工程用の作業温度は、本質的にすべてのアセチ
レンが水素化されてエチレンになる（従って、供給流か
ら除去される）、同時に極く少量のエチレンのみが水素
化されてエタンになる（エチレン損失を最小にし、か
つ、上記の特許に指摘されているように制御不可能な無
制御反応を回避するために）ように選択する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】アルキン−供給物中に
存在する場合の硫黄不純物（Ｈ2 Ｓ、ＣＯＳ、メルカプ
タンおよび有機硫化物のような）は、これらのパラジウ
ム−含有触媒の毒となり、かつ、これらを失活させるこ
とは当業界の熟練者によって一般に知られている。本発
明は、硫黄−含有不純物の存在下においてアルキンのア
ルケンへの、特にアセチレンのエチレンへの選択的水素
化における改良されたパラジウム触媒の使用を目的とし
ている。
存在する場合の硫黄不純物（Ｈ2 Ｓ、ＣＯＳ、メルカプ
タンおよび有機硫化物のような）は、これらのパラジウ
ム−含有触媒の毒となり、かつ、これらを失活させるこ
とは当業界の熟練者によって一般に知られている。本発
明は、硫黄−含有不純物の存在下においてアルキンのア
ルケンへの、特にアセチレンのエチレンへの選択的水素
化における改良されたパラジウム触媒の使用を目的とし
ている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によって、改良さ
れたパラジウム−含有触媒を使用して不純物として硫黄
化合物の存在下に、アセチレンをエチレンにするような
Ｃ2 〜Ｃ6 アルキンの相当するアルケンへの選択的水素
化を行う方法が提供される。
れたパラジウム−含有触媒を使用して不純物として硫黄
化合物の存在下に、アセチレンをエチレンにするような
Ｃ2 〜Ｃ6 アルキンの相当するアルケンへの選択的水素
化を行う方法が提供される。
【０００５】本発明によって、少なくとも１種の硫黄化
合物も含まれる供給物中に存在する１分子当り２〜６個
の炭素原子を含有する少なくとも１種のアルキンを、水
素ガスを使用して１分子当り２〜６個の炭素原子を含有
する相当するアルケンに選択的に水素化する方法であっ
て、該供給物と該水素とをパラジウム、少なくとも１種
のアルカリ金属弗化物および無機支持体物質を含む触媒
と接触させることを特徴とする前記の方法が提供され
る。触媒が銀も含有することが好ましい。現在好ましい
アルカリ金属弗化物は、弗化カリウムである。好ましく
は少なくとも１種のアルキンがアセチレン（エチン）で
あり、少なくとも１種のアルケンがエチレン（エテン）
である。
合物も含まれる供給物中に存在する１分子当り２〜６個
の炭素原子を含有する少なくとも１種のアルキンを、水
素ガスを使用して１分子当り２〜６個の炭素原子を含有
する相当するアルケンに選択的に水素化する方法であっ
て、該供給物と該水素とをパラジウム、少なくとも１種
のアルカリ金属弗化物および無機支持体物質を含む触媒
と接触させることを特徴とする前記の方法が提供され
る。触媒が銀も含有することが好ましい。現在好ましい
アルカリ金属弗化物は、弗化カリウムである。好ましく
は少なくとも１種のアルキンがアセチレン（エチン）で
あり、少なくとも１種のアルケンがエチレン（エテン）
である。
【０００６】本発明の選択的水素化法において使用され
る触媒は、好ましくは弗化カリウムである少なくとも１
種のアルカリ金属弗化物も含有する任意の担持パラジウ
ム触媒組成物である。銀も触媒組成物中に存在すること
が好ましい。この触媒組成物は新鮮のものでよく、また
はこれは使用されたものでその後に酸化再生されたもの
でもよい。この触媒は、任意の好適な無機支持体物質を
含有できる。好ましくは、無機支持体物質は、アルミ
ナ、チタニア、ジルコニアおよびこれらの混合物から成
る群から選ばれる。現在比較的好ましい支持体物質はア
ルミナであり、最も好ましくはα−アルミナである。こ
の触媒は、一般に、好ましくは約３：１〜約３０：１の
Ｆ：Ｐｄ重量比で、約０．０１〜１（好ましくは約０．
０１〜０．２）重量％のパラジウムおよび約０．０５〜
１．５（好ましくは約０．１〜０．４）重量％の弗素
（アルカリ金属弗化物として化合している）を含有す
る。好ましくは、約０．０１〜１０（さらに好ましくは
約０．０２〜２）重量％の銀も該触媒中に存在する。触
媒中におけるＡｇ：Ｐｄ重量比は、好ましくは約２：１
〜約１０：１である。この触媒の粒子は、一般に、約１
〜１０ｍｍ（好ましくは約２〜６ｍｍ）の寸法を有し、
かつ、任意の好適な形状（好ましくは球状または円筒
状）を有することができる。一般にこの触媒の表面積
（Ｎ2 使用のＢＥＴ法によって測定した）は、約１〜１
００ｍ2 ／ｇである。
る触媒は、好ましくは弗化カリウムである少なくとも１
種のアルカリ金属弗化物も含有する任意の担持パラジウ
ム触媒組成物である。銀も触媒組成物中に存在すること
が好ましい。この触媒組成物は新鮮のものでよく、また
はこれは使用されたものでその後に酸化再生されたもの
でもよい。この触媒は、任意の好適な無機支持体物質を
含有できる。好ましくは、無機支持体物質は、アルミ
ナ、チタニア、ジルコニアおよびこれらの混合物から成
る群から選ばれる。現在比較的好ましい支持体物質はア
ルミナであり、最も好ましくはα−アルミナである。こ
の触媒は、一般に、好ましくは約３：１〜約３０：１の
Ｆ：Ｐｄ重量比で、約０．０１〜１（好ましくは約０．
０１〜０．２）重量％のパラジウムおよび約０．０５〜
１．５（好ましくは約０．１〜０．４）重量％の弗素
（アルカリ金属弗化物として化合している）を含有す
る。好ましくは、約０．０１〜１０（さらに好ましくは
約０．０２〜２）重量％の銀も該触媒中に存在する。触
媒中におけるＡｇ：Ｐｄ重量比は、好ましくは約２：１
〜約１０：１である。この触媒の粒子は、一般に、約１
〜１０ｍｍ（好ましくは約２〜６ｍｍ）の寸法を有し、
かつ、任意の好適な形状（好ましくは球状または円筒
状）を有することができる。一般にこの触媒の表面積
（Ｎ2 使用のＢＥＴ法によって測定した）は、約１〜１
００ｍ2 ／ｇである。
【０００７】本発明の水素化工程において使用される上
記の触媒は、任意の好適な、有効な方法によって製造で
きる。アルカリ金属弗化物は、支持体を好適なＰｄ化合
物で含浸、および好ましくは好適な銀化合物で含浸する
前に支持体物質中に配合（含浸または噴霧によって）で
きる。または、アルカリ金属弗化物は、好適なＰｄ化合
物を含浸させるのと同時にまたはその後に触媒中に配合
（含浸または噴霧によって）することができる。触媒組
成物中に銀も存在する場合には、アルカリ金属化合物は
ＰｄおよびＡｇ含浸工程の間またはＰｄおよびＡｇ化合
物の含浸後に配合することができる。現在好ましい触媒
製造法は、Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒物質［さらに好
ましくは、Ｕ．Ｓ．Ｐ．４，４０４，１２４および４，
４８４，０１５に記載されている方法によって得られる
「スキン」（Ｓｋｉｎ）触媒である］を弗化カリウム
（ＫＦ）の水性溶液で含浸し、次に、乾燥およびか焼
（好ましくは、空気中で約３００〜４５０℃、さらに好
ましくは約３５０〜４００℃の温度で一般的には１〜１
０時間）する方法である現在のところ好ましくははない
が、「湿式還元」工程（すなわち、ヒドラジン、アルカ
リ金属ボロハイドライド、ホルムアルデヒドのようなア
ルデヒド、蟻酸またはアスコルビン酸のようなカルボン
酸、デキストロースのような還元糖などのような溶解還
元剤で処理する方法もある。
記の触媒は、任意の好適な、有効な方法によって製造で
きる。アルカリ金属弗化物は、支持体を好適なＰｄ化合
物で含浸、および好ましくは好適な銀化合物で含浸する
前に支持体物質中に配合（含浸または噴霧によって）で
きる。または、アルカリ金属弗化物は、好適なＰｄ化合
物を含浸させるのと同時にまたはその後に触媒中に配合
（含浸または噴霧によって）することができる。触媒組
成物中に銀も存在する場合には、アルカリ金属化合物は
ＰｄおよびＡｇ含浸工程の間またはＰｄおよびＡｇ化合
物の含浸後に配合することができる。現在好ましい触媒
製造法は、Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒物質［さらに好
ましくは、Ｕ．Ｓ．Ｐ．４，４０４，１２４および４，
４８４，０１５に記載されている方法によって得られる
「スキン」（Ｓｋｉｎ）触媒である］を弗化カリウム
（ＫＦ）の水性溶液で含浸し、次に、乾燥およびか焼
（好ましくは、空気中で約３００〜４５０℃、さらに好
ましくは約３５０〜４００℃の温度で一般的には１〜１
０時間）する方法である現在のところ好ましくははない
が、「湿式還元」工程（すなわち、ヒドラジン、アルカ
リ金属ボロハイドライド、ホルムアルデヒドのようなア
ルデヒド、蟻酸またはアスコルビン酸のようなカルボン
酸、デキストロースのような還元糖などのような溶解還
元剤で処理する方法もある。
【０００８】乾燥させた（かつ、好ましくは、上記のよ
うにか焼した）かように製造した触媒組成物は、少なく
とも１種の硫黄化合物の存在下に、好ましくはアセチレ
ンである少なくとも１種のアルキンを少なくとも１種の
相当するアルケンに水素化するために本発明において使
用できる。所望によって、この触媒をアルキン水素化の
前に水素ガスまたは気体状炭化水素と、一般に約３０°
〜約１００℃の範囲内の温度で約４〜２０時間最初に接
触させる。選択的水素化を開始する前のＨ2 または炭化
水素とのこの接触では、乾燥工程および所望のか焼工程
（上記した）後の触媒組成物中に存在するパラジウムお
よび銀化合物（主として酸化物）がパラジウムおよび銀
金属に実質的に還元される。この所望の還元工程を実施
しない場合には、ＰｄおよびＡｇの酸化物のこの還元
は、本発明のアルキン水素化反応の初期段階の間に反応
混合物中に存在する水素ガスによって行なわれる。
うにか焼した）かように製造した触媒組成物は、少なく
とも１種の硫黄化合物の存在下に、好ましくはアセチレ
ンである少なくとも１種のアルキンを少なくとも１種の
相当するアルケンに水素化するために本発明において使
用できる。所望によって、この触媒をアルキン水素化の
前に水素ガスまたは気体状炭化水素と、一般に約３０°
〜約１００℃の範囲内の温度で約４〜２０時間最初に接
触させる。選択的水素化を開始する前のＨ2 または炭化
水素とのこの接触では、乾燥工程および所望のか焼工程
（上記した）後の触媒組成物中に存在するパラジウムお
よび銀化合物（主として酸化物）がパラジウムおよび銀
金属に実質的に還元される。この所望の還元工程を実施
しない場合には、ＰｄおよびＡｇの酸化物のこの還元
は、本発明のアルキン水素化反応の初期段階の間に反応
混合物中に存在する水素ガスによって行なわれる。
【０００９】本発明の選択的水素化工程は、（ａ）少な
くとも１種のＣ2 〜Ｃ6 アルキン（好ましくは前記の少
なくとも１種のアルキンを不純物として一般に約１〜約
５０，０００重量ｐｐｍアルキンの量で含有するＣ2 〜
Ｃ6 アルケン流）および少なくとも１種の硫黄化合物を
含有する供給ガスおよび（ｂ）水素ガスと、（ｃ）Ｐ
ｄ、Ａｇ、少なくとも１種のアルカリ金属弗化物および
無機支持体を含有する触媒組成物とを接触させることに
よって行う。好ましい供給アルキンには、アセチレン、
プロピン、ブチン−１、ブチン−２およびこれらの混合
物が含まれる。特に好ましいのはアセチレンである。こ
れらのアルキンは、相当するアルケンに主として水素化
される。すなわち、アセチレンは主としてエチレンに水
素化され、プロピンは主としてプロピレンに水素化さ
れ、そしてブチンは相当するブテン（ブテン−１，ブテ
ン−２）に水素化される。アルキンを実質的に完全に除
去するためには、存在するアルキンの各モル当り少なく
とも１モルの水素がなくてはならない。気体（ａ）およ
び（ｂ）は、触媒組成物（ｃ）と接触させる前に、一般
に予備混合しておく。
くとも１種のＣ2 〜Ｃ6 アルキン（好ましくは前記の少
なくとも１種のアルキンを不純物として一般に約１〜約
５０，０００重量ｐｐｍアルキンの量で含有するＣ2 〜
Ｃ6 アルケン流）および少なくとも１種の硫黄化合物を
含有する供給ガスおよび（ｂ）水素ガスと、（ｃ）Ｐ
ｄ、Ａｇ、少なくとも１種のアルカリ金属弗化物および
無機支持体を含有する触媒組成物とを接触させることに
よって行う。好ましい供給アルキンには、アセチレン、
プロピン、ブチン−１、ブチン−２およびこれらの混合
物が含まれる。特に好ましいのはアセチレンである。こ
れらのアルキンは、相当するアルケンに主として水素化
される。すなわち、アセチレンは主としてエチレンに水
素化され、プロピンは主としてプロピレンに水素化さ
れ、そしてブチンは相当するブテン（ブテン−１，ブテ
ン−２）に水素化される。アルキンを実質的に完全に除
去するためには、存在するアルキンの各モル当り少なく
とも１モルの水素がなくてはならない。気体（ａ）およ
び（ｂ）は、触媒組成物（ｃ）と接触させる前に、一般
に予備混合しておく。
【００１０】供給物中に存在する好適な硫黄化合物（必
ずしもこれらに限定されないが）には、硫化水素、硫化
カルボニル（ＣＯＳ）、メルカプタン（ＲＳＨ）、有機
硫化物（Ｒ−Ｓ−Ｒ）、有機二硫化物（Ｒ−Ｓ−Ｓ−
Ｒ）などおよびこれらの混合物（上式中の各Ｒは１〜１
０個の炭素原子を含有するアルキン、シクロアルキンま
たはアリール基である）が含まれる。供給気体中に付加
的の化合物（メタン、エタン、プロパン、ブタン、一酸
化炭素、水、アルコール、エーテル、ケトン、カルボン
酸、エステルおよび他の酸化化合物のような）が存在す
る場合でも、これらがアルキンのアルケンへの選択的水
素化を有意に妨害しない限り本発明の範囲内である。一
般に、硫黄化合物は供給気体中に痕跡量、好ましくは約
１重量％未満の硫黄量、そして好ましくは約１〜１，０
００重量ｐｐｍの硫黄量（すなわち、百万重量部の供給
物当り約１〜１，０００重量部のＳ）で存在する。
ずしもこれらに限定されないが）には、硫化水素、硫化
カルボニル（ＣＯＳ）、メルカプタン（ＲＳＨ）、有機
硫化物（Ｒ−Ｓ−Ｒ）、有機二硫化物（Ｒ−Ｓ−Ｓ−
Ｒ）などおよびこれらの混合物（上式中の各Ｒは１〜１
０個の炭素原子を含有するアルキン、シクロアルキンま
たはアリール基である）が含まれる。供給気体中に付加
的の化合物（メタン、エタン、プロパン、ブタン、一酸
化炭素、水、アルコール、エーテル、ケトン、カルボン
酸、エステルおよび他の酸化化合物のような）が存在す
る場合でも、これらがアルキンのアルケンへの選択的水
素化を有意に妨害しない限り本発明の範囲内である。一
般に、硫黄化合物は供給気体中に痕跡量、好ましくは約
１重量％未満の硫黄量、そして好ましくは約１〜１，０
００重量ｐｐｍの硫黄量（すなわち、百万重量部の供給
物当り約１〜１，０００重量部のＳ）で存在する。
【００１１】アルキンのアルケンへの選択的水素化に必
要な温度は、触媒の活性度、選択性、供給物中における
硫黄不純物の量およびアルキン除去の所望程度に大部分
依存する。一般に、約４０°〜約２００℃の範囲内の温
度が使用される。好ましくは、反応温度は約６０°〜１
５０℃である。任意の好適な反応圧力が使用できる。一
般に、全圧力は、約７．０３〜約７０．３ｋｇ／ｃｍ2
ゲージ（約１００〜約１，０００ｉｎ2 ｐｓｉｇ）の範
囲内である。炭化水素供給ガスの気体空間速度（ＧＨＳ
Ｖ）も大幅に変化できる。典型的には、空間速度は約
１，０００〜約１０，０００ｍ3 供給物／ｍ3 触媒／時
間、さらに好ましくは約２，０００〜約８，０００ｍ3
／ｍ3 ／時間の範囲内である。水素ガスのＧＨＳＶは、
Ｈ2 対前記の少なくとも１種のアルキンのモル比が約
０．５：１〜約１００：１、好ましくは約１：１〜約５
０：１の範囲内になるように選ぶ。
要な温度は、触媒の活性度、選択性、供給物中における
硫黄不純物の量およびアルキン除去の所望程度に大部分
依存する。一般に、約４０°〜約２００℃の範囲内の温
度が使用される。好ましくは、反応温度は約６０°〜１
５０℃である。任意の好適な反応圧力が使用できる。一
般に、全圧力は、約７．０３〜約７０．３ｋｇ／ｃｍ2
ゲージ（約１００〜約１，０００ｉｎ2 ｐｓｉｇ）の範
囲内である。炭化水素供給ガスの気体空間速度（ＧＨＳ
Ｖ）も大幅に変化できる。典型的には、空間速度は約
１，０００〜約１０，０００ｍ3 供給物／ｍ3 触媒／時
間、さらに好ましくは約２，０００〜約８，０００ｍ3
／ｍ3 ／時間の範囲内である。水素ガスのＧＨＳＶは、
Ｈ2 対前記の少なくとも１種のアルキンのモル比が約
０．５：１〜約１００：１、好ましくは約１：１〜約５
０：１の範囲内になるように選ぶ。
【００１２】触媒組成物の再生は、触媒組成物上に蓄積
した任意の硫黄化合物有機物質および（または）炭を燃
焼除去するために触媒組成物を空気中において加熱（好
ましくは約７００℃を超えない温度で）することによっ
て達成される。所望によって、酸化再生させた組成物
を、本発明の選択的アルキン水素化において再使用する
前に、Ｈ2 または好適な炭化水素（上記したような）で
還元する。
した任意の硫黄化合物有機物質および（または）炭を燃
焼除去するために触媒組成物を空気中において加熱（好
ましくは約７００℃を超えない温度で）することによっ
て達成される。所望によって、酸化再生させた組成物
を、本発明の選択的アルキン水素化において再使用する
前に、Ｈ2 または好適な炭化水素（上記したような）で
還元する。
【００１３】
【発明の実施の形態】次の例は、本発明をさらに例示す
るものであり、本発明の範囲を不当に限定するものでは
ない。
るものであり、本発明の範囲を不当に限定するものでは
ない。
【００１４】
【実施例】実施例Ｉ 本例では、担持、カリウム−促進パラジウム触媒（アセ
チレン水素化用に使用するための）の製造を例示する。
チレン水素化用に使用するための）の製造を例示する。
【００１５】触媒Ａ（対照）は、０．０２３重量％のＰ
ｄ．０．０６５重量％のＡｇおよび約９９重量％のアル
ミナを含有する商用のＰｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒であ
った。この触媒は、３〜５ｍ2 ／ｇのＢＥＴ／Ｎ2 表面
積を有し、かつ、Ｕ．Ｓ．Ｐ．４，４０４，１２４（カ
ラム４、３２〜４５行）に記載されている方法に実質的
に基づいて製造されたものである。触媒Ａは、製品名
「Ｇ−８３Ｃ」の下にUnited Catalysts Inc.(UCI), Lo
usville, KY から供給されたものである。
ｄ．０．０６５重量％のＡｇおよび約９９重量％のアル
ミナを含有する商用のＰｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒であ
った。この触媒は、３〜５ｍ2 ／ｇのＢＥＴ／Ｎ2 表面
積を有し、かつ、Ｕ．Ｓ．Ｐ．４，４０４，１２４（カ
ラム４、３２〜４５行）に記載されている方法に実質的
に基づいて製造されたものである。触媒Ａは、製品名
「Ｇ−８３Ｃ」の下にUnited Catalysts Inc.(UCI), Lo
usville, KY から供給されたものである。
【００１６】触媒Ｂ（対照）は、７０．８ｇの触媒Ａを
２１．９ｇの蒸留水中の０．５１ｇのＫＯＨの溶液中に
１時間浸漬することによって製造した。かように含浸さ
せた触媒物質を８２℃で３時間乾燥させ、次いで空気
中、３７０℃で３時間か焼することによって製造したも
のである。
２１．９ｇの蒸留水中の０．５１ｇのＫＯＨの溶液中に
１時間浸漬することによって製造した。かように含浸さ
せた触媒物質を８２℃で３時間乾燥させ、次いで空気
中、３７０℃で３時間か焼することによって製造したも
のである。
【００１７】触媒Ｃ（発明）は、７０．９ｇの触媒Ａを
１０．０ｇのＫＦ（弗化カリウム）を含有する水性溶液
１００ｃｃ中に１．５時間浸漬することによって製造し
た。かように含浸させた触媒物質を蒸留水で３回洗浄
し、一晩蒸留水中に浸漬し、かつ、８２℃で２時間乾燥
させた。その後に、触媒物質を２１．５ｇの水中に０．
５３ｇのＫＦを含有する水性溶液で再び１．５時間含浸
した。２回含浸させた触媒物質を８２℃で乾燥させ、次
いで空気中、３７０℃で３時間か焼した。
１０．０ｇのＫＦ（弗化カリウム）を含有する水性溶液
１００ｃｃ中に１．５時間浸漬することによって製造し
た。かように含浸させた触媒物質を蒸留水で３回洗浄
し、一晩蒸留水中に浸漬し、かつ、８２℃で２時間乾燥
させた。その後に、触媒物質を２１．５ｇの水中に０．
５３ｇのＫＦを含有する水性溶液で再び１．５時間含浸
した。２回含浸させた触媒物質を８２℃で乾燥させ、次
いで空気中、３７０℃で３時間か焼した。
【００１８】触媒Ｄ（対照）は、２３．１ｇのＰｄ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 触媒（約０．０２重量％のＰｄを含有し、Ａｇ
を含まず；商品名「Ｇ−８３Ａ」の下にＵＣＩによって
供給されたものである）を７．０６ｇの蒸留水中の０．
１５７ｇのＫＯＨの溶液で浸漬し、次いで８２℃で数時
間乾燥させ、かつ、空気中、３７０℃で２時間か焼した
ものである。触媒Ｄは、０．５重量％のＫを含有した。
ｌ2 Ｏ3 触媒（約０．０２重量％のＰｄを含有し、Ａｇ
を含まず；商品名「Ｇ−８３Ａ」の下にＵＣＩによって
供給されたものである）を７．０６ｇの蒸留水中の０．
１５７ｇのＫＯＨの溶液で浸漬し、次いで８２℃で数時
間乾燥させ、かつ、空気中、３７０℃で２時間か焼した
ものである。触媒Ｄは、０．５重量％のＫを含有した。
【００１９】触媒Ｅ（発明）は、２３．１ｇの「Ｇ−８
３」（Ｐｄ／Ａｌ2 Ｏ3 ）を１００ｃｃのＨ2 Ｏ中の
４．３３ｇのＫＦの溶液中に３時間浸漬することによっ
て製造した。上層のＫＦをデカントし、次いでＫＦ−処
理触媒物質を蒸留水で数回すすぎ洗いし、かつ、３００
ｃｃの蒸留水中に一晩浸漬し、次いで８２℃で数時間乾
燥させた。その後に触媒物質を、０．１７ｇのＫＦおよ
び７．１ｇのＨ2 Ｏを含有する水性ＫＦ溶液で再び浸漬
した。２回浸漬した触媒物質を８２℃で数時間乾燥さ
せ、かつ、空気中、３４０℃で数時間か焼した。触媒Ｅ
は０．５重量％のＫを含有した。
３」（Ｐｄ／Ａｌ2 Ｏ3 ）を１００ｃｃのＨ2 Ｏ中の
４．３３ｇのＫＦの溶液中に３時間浸漬することによっ
て製造した。上層のＫＦをデカントし、次いでＫＦ−処
理触媒物質を蒸留水で数回すすぎ洗いし、かつ、３００
ｃｃの蒸留水中に一晩浸漬し、次いで８２℃で数時間乾
燥させた。その後に触媒物質を、０．１７ｇのＫＦおよ
び７．１ｇのＨ2 Ｏを含有する水性ＫＦ溶液で再び浸漬
した。２回浸漬した触媒物質を８２℃で数時間乾燥さ
せ、かつ、空気中、３４０℃で数時間か焼した。触媒Ｅ
は０．５重量％のＫを含有した。
【００２０】実施例II 本例では、２種のアセチレン水素化触媒（触媒Ｂおよび
Ｃ）の性能に及ぼす硫化水素毒化作用を例示する。
Ｃ）の性能に及ぼす硫化水素毒化作用を例示する。
【００２１】次のように選択的アセチレン水素化試験を
行った。約２０ｃｃの触媒ＢまたはＣを、内径１．２７
ｃｍ（０．５ｉｎ）および約４５．７２ｃｍ（１８ｉ
ｎ）の長さを有するステンレス鋼反応チューブ内に入れ
た。各触媒を、１４．０６ｋｇ／ｃｍ2 ゲージ圧（２０
０ｐｓｉｇ）下、流れる水素ガスで約５４．４〜６５．
５℃（約１３０〜１５０°Ｆ）の温度で約１６時間処理
した。その後に反応チューブを約４９℃（１２０°Ｆ）
に冷却し、そして、２７．１重量％のメタン、１５．９
重量％のエタン、５５．３重量％のエチレンおよび０．
３０重量％のアセチレンを含有する炭化水素含有供給ガ
スおよび１．３５重量％の水素を約９００ｃｃ／分の速
度で反応チューブに導入した。反応器温度を徐々に所望
反応温度に上昇させ、そして形成生成物の試料を種々の
時間間隔でガスクロマトグラフによって分析した。
行った。約２０ｃｃの触媒ＢまたはＣを、内径１．２７
ｃｍ（０．５ｉｎ）および約４５．７２ｃｍ（１８ｉ
ｎ）の長さを有するステンレス鋼反応チューブ内に入れ
た。各触媒を、１４．０６ｋｇ／ｃｍ2 ゲージ圧（２０
０ｐｓｉｇ）下、流れる水素ガスで約５４．４〜６５．
５℃（約１３０〜１５０°Ｆ）の温度で約１６時間処理
した。その後に反応チューブを約４９℃（１２０°Ｆ）
に冷却し、そして、２７．１重量％のメタン、１５．９
重量％のエタン、５５．３重量％のエチレンおよび０．
３０重量％のアセチレンを含有する炭化水素含有供給ガ
スおよび１．３５重量％の水素を約９００ｃｃ／分の速
度で反応チューブに導入した。反応器温度を徐々に所望
反応温度に上昇させ、そして形成生成物の試料を種々の
時間間隔でガスクロマトグラフによって分析した。
【００２２】２種の触媒に及ぼす硫化水素の毒化の影響
を評価するために、約１容量％のＨ 2 Ｓを含有する窒素
ガスを、上記の反応チューブ中に入れた各触媒２０ｃｃ
上に約１００ｃｃ／分の流量で通過させた。温度は約２
２．８℃（約７３°Ｆ）であり、圧力は１気圧であっ
た。Ｈ2 Ｓの漏出が検出（黄色ＣｄＳ沈澱を形成する水
性ＣｄＳＯ4 によって）された後に、Ｎ2 ／Ｈ2 Ｓガス
の流れを止めた。触媒Ｂの場合には、約６５０ｃｃのＮ
2 ／Ｈ2 Ｓガスを反応器に通した後にＨ2 Ｓの漏出が検
出された、これに対して触媒Ｃの場合には、Ｈ2 Ｓの漏
出は反応器に約３５０ｃｃのＮ2 ／Ｈ2 Ｓガスを通した
後に起った。次に、反応チューブを水素ガス流（流量：
約１００ｃｃ／分）で約９３．３℃（約２００°Ｆ）の
温度および約３．５ｋｇ／ｃｍ2 ゲージ（約５０ｐｓｉ
ｇ）の圧力で約２０時間パージした。その後に、各Ｈ2
Ｓ−毒化触媒について選択的アセチレン水素化試験（上
記の炭化水素含有ガスおよび上記の試験方法を使用し
て）を開始した。関連する試験結果を表Ｉに要約する。
を評価するために、約１容量％のＨ 2 Ｓを含有する窒素
ガスを、上記の反応チューブ中に入れた各触媒２０ｃｃ
上に約１００ｃｃ／分の流量で通過させた。温度は約２
２．８℃（約７３°Ｆ）であり、圧力は１気圧であっ
た。Ｈ2 Ｓの漏出が検出（黄色ＣｄＳ沈澱を形成する水
性ＣｄＳＯ4 によって）された後に、Ｎ2 ／Ｈ2 Ｓガス
の流れを止めた。触媒Ｂの場合には、約６５０ｃｃのＮ
2 ／Ｈ2 Ｓガスを反応器に通した後にＨ2 Ｓの漏出が検
出された、これに対して触媒Ｃの場合には、Ｈ2 Ｓの漏
出は反応器に約３５０ｃｃのＮ2 ／Ｈ2 Ｓガスを通した
後に起った。次に、反応チューブを水素ガス流（流量：
約１００ｃｃ／分）で約９３．３℃（約２００°Ｆ）の
温度および約３．５ｋｇ／ｃｍ2 ゲージ（約５０ｐｓｉ
ｇ）の圧力で約２０時間パージした。その後に、各Ｈ2
Ｓ−毒化触媒について選択的アセチレン水素化試験（上
記の炭化水素含有ガスおよび上記の試験方法を使用し
て）を開始した。関連する試験結果を表Ｉに要約する。
【００２３】
【表１】
【００２４】表Ｉにおける試験結果は、Ｈ2 Ｓ−毒化触
媒Ｂ（ＫＯＨ−促進Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 ）では約１
４８．８℃（３００°Ｆ）以上の温度でも全アセチレン
は完全に水素化されていなかったが、エチレンの実質的
量がエタンに水素化されている（エチレン／エタン比の
有意な減少に示されているよう）ために選択的アセチレ
ン水素化触媒としては本質的に無効であることを明らか
に示している。しかし、Ｈ2 Ｓ−毒化触媒（ＫＦ−促進
Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 ）の場合には、約１２８．８℃
（約２６４°Ｆ）で本質的に完全なアセチレン水素化が
行なわれているが、エチレン／エタン比が最初の値３．
７２から約２％しか減少していないことに立証されるよ
うに、エチレンのエタンへの望ましくない水素化は有意
でない程度にしか起こっていなかった。２３０．５℃
（４４７°Ｆ）の比較的高い温度ですら、この比は僅か
約５％減少したに過ぎなかった。
媒Ｂ（ＫＯＨ−促進Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 ）では約１
４８．８℃（３００°Ｆ）以上の温度でも全アセチレン
は完全に水素化されていなかったが、エチレンの実質的
量がエタンに水素化されている（エチレン／エタン比の
有意な減少に示されているよう）ために選択的アセチレ
ン水素化触媒としては本質的に無効であることを明らか
に示している。しかし、Ｈ2 Ｓ−毒化触媒（ＫＦ−促進
Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 ）の場合には、約１２８．８℃
（約２６４°Ｆ）で本質的に完全なアセチレン水素化が
行なわれているが、エチレン／エタン比が最初の値３．
７２から約２％しか減少していないことに立証されるよ
うに、エチレンのエタンへの望ましくない水素化は有意
でない程度にしか起こっていなかった。２３０．５℃
（４４７°Ｆ）の比較的高い温度ですら、この比は僅か
約５％減少したに過ぎなかった。
【００２５】Ｈ2 Ｓ−毒化触媒ＢとＣとの間の上記に示
したこの相違は、毒化されない触媒ＢおよびＣの性能が
実質的に同じであった（完全なアセチレン水素化が行な
われる本質的に同じ「クリーンアップ温度およびエチレ
ン／エタン比が最初の値から約１０％減少した本質的に
同じ「無制御」（runaway)温度に証明されるように）の
に鑑みて全く予想外のことであった。
したこの相違は、毒化されない触媒ＢおよびＣの性能が
実質的に同じであった（完全なアセチレン水素化が行な
われる本質的に同じ「クリーンアップ温度およびエチレ
ン／エタン比が最初の値から約１０％減少した本質的に
同じ「無制御」（runaway)温度に証明されるように）の
に鑑みて全く予想外のことであった。
【００２６】実施例III 本例では、２種のＫ−促進Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒
（アセチレン水素化に関して実施例Ｉに記載した触媒Ｂ
およびＣ）の性能に及ぼす有機ジサルファイドの毒化の
影響を例示する。
（アセチレン水素化に関して実施例Ｉに記載した触媒Ｂ
およびＣ）の性能に及ぼす有機ジサルファイドの毒化の
影響を例示する。
【００２７】最初に、実施例IIに記載の方法に本質的に
基づき、かつ、この例に記載の炭化水素供給物を使用
し、毒されていない触媒ＢおよびＣを別個のアセチレン
水素化において使用した。次に、液体のジメチルジサル
ファイド（ＤＭＤＳ）を含有するバブラーを通過させた
約２．１リットルの窒素流を、６９．４℃（１５７°
Ｆ）の温度で約７５ｃｃ／分の流量でそれぞれ触媒Ｂお
よびＣ上を通過させた。その後に、触媒ＢまたはＣを含
有する反応チューブを、約３．５ｋｇ／ｃｍ2 ゲージ
（５０ｐｓｉｇ）の圧力、約６８．３℃（１５５°Ｆ）
の温度で約１００ｃｃ／分の流量の水素ガスで一晩パー
ジした。次に、ＤＭＤＳ−毒化触媒を使用してアセチレ
ンの水素化試験（実施例Ｉに記載の方法によって）を行
った。関連する試験結果を表IIに要約する。
基づき、かつ、この例に記載の炭化水素供給物を使用
し、毒されていない触媒ＢおよびＣを別個のアセチレン
水素化において使用した。次に、液体のジメチルジサル
ファイド（ＤＭＤＳ）を含有するバブラーを通過させた
約２．１リットルの窒素流を、６９．４℃（１５７°
Ｆ）の温度で約７５ｃｃ／分の流量でそれぞれ触媒Ｂお
よびＣ上を通過させた。その後に、触媒ＢまたはＣを含
有する反応チューブを、約３．５ｋｇ／ｃｍ2 ゲージ
（５０ｐｓｉｇ）の圧力、約６８．３℃（１５５°Ｆ）
の温度で約１００ｃｃ／分の流量の水素ガスで一晩パー
ジした。次に、ＤＭＤＳ−毒化触媒を使用してアセチレ
ンの水素化試験（実施例Ｉに記載の方法によって）を行
った。関連する試験結果を表IIに要約する。
【００２８】
【表２】
【００２９】表IIにおける試験データは、ジメチルジサ
ルファイド（ＤＭＤＳ）に曝露した（によって毒され
た）触媒Ｃ（ＫＦ−促進Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 ）は、
クリーンアップ温度の相違［ＤＭＤＳ−毒化触媒Ｃの９
８．３℃（２０９°Ｆ）に対し、ＤＭＤＳ−毒化触媒Ｂ
の１４６．１℃（２９５°Ｆ）］およびクリーンアップ
温度でのエチレン／エタン比（ＤＭＤＳ−毒化触媒Ｃで
は３．６６であるのに対して、ＤＭＤＳ−毒化触媒Ｂで
は３．５７未満）によって証明されるようにＤＭＤＳ−
毒化触媒Ｂ（ＫＯＨ−促進Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 ）よ
り選択的アセチレン水素化触媒として有意に良好な性能
を示した。
ルファイド（ＤＭＤＳ）に曝露した（によって毒され
た）触媒Ｃ（ＫＦ−促進Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 ）は、
クリーンアップ温度の相違［ＤＭＤＳ−毒化触媒Ｃの９
８．３℃（２０９°Ｆ）に対し、ＤＭＤＳ−毒化触媒Ｂ
の１４６．１℃（２９５°Ｆ）］およびクリーンアップ
温度でのエチレン／エタン比（ＤＭＤＳ−毒化触媒Ｃで
は３．６６であるのに対して、ＤＭＤＳ−毒化触媒Ｂで
は３．５７未満）によって証明されるようにＤＭＤＳ−
毒化触媒Ｂ（ＫＯＨ−促進Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 ）よ
り選択的アセチレン水素化触媒として有意に良好な性能
を示した。
【００３０】実施例IV 本例では、２種のＫ−促進Ｐｄ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒（実施
例Ｉに記載のＡｇ無しの触媒ＤおよびＥ）の性能に及ぼ
すＨ2 Ｓの毒化の影響を例示する。
例Ｉに記載のＡｇ無しの触媒ＤおよびＥ）の性能に及ぼ
すＨ2 Ｓの毒化の影響を例示する。
【００３１】試験は、実質的に実施例IIに記載の方法に
よって行った。１容量％のＨ2 Ｓを含有する約９００ｃ
ｃのＮ2 ／Ｈ2 Ｓガス混合物を、それぞれ触媒Ｄおよび
Ｅ上を通過させた。結果を表III に要約する。
よって行った。１容量％のＨ2 Ｓを含有する約９００ｃ
ｃのＮ2 ／Ｈ2 Ｓガス混合物を、それぞれ触媒Ｄおよび
Ｅ上を通過させた。結果を表III に要約する。
【００３２】
【表３】
【００３３】表III における試験データは、Ｈ2 Ｓ−毒
化触媒Ｄ（ＫＯＨ−促進Ｐｄ／Ａｌ 2 Ｏ3 ）はアセチレ
ンの完全水素化（２７８℃およびこれ以上の温度での）
の触媒作用が無効になったが、Ｈ2 Ｓ−毒化触媒Ｅ（Ｋ
Ｆ−促進Ｐｄ／Ａｌ2 Ｏ3 ）の場合には、エチレンのエ
タンへの水素化が比較的少なく、アセチレンのエチレン
への完全な選択的水素化（比較的高いエチレン／エタン
比に立証されるように）が約２００℃で達成された。こ
れらの試験結果（Ｋ−促進Ｐｄ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒で得ら
れた）では、Ｋ−促進Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒を使
用した実施例IIにおいて得られた結果が確認された。
化触媒Ｄ（ＫＯＨ−促進Ｐｄ／Ａｌ 2 Ｏ3 ）はアセチレ
ンの完全水素化（２７８℃およびこれ以上の温度での）
の触媒作用が無効になったが、Ｈ2 Ｓ−毒化触媒Ｅ（Ｋ
Ｆ−促進Ｐｄ／Ａｌ2 Ｏ3 ）の場合には、エチレンのエ
タンへの水素化が比較的少なく、アセチレンのエチレン
への完全な選択的水素化（比較的高いエチレン／エタン
比に立証されるように）が約２００℃で達成された。こ
れらの試験結果（Ｋ−促進Ｐｄ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒で得ら
れた）では、Ｋ−促進Ｐｄ／Ａｇ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒を使
用した実施例IIにおいて得られた結果が確認された。
【００３４】Ｊｕｌｙ１３，１９９５提出の発明者等の
特願平７−１７７１６５（１７７６９／９５）におい
て、発明者等は（ａ）金属パラジウムまたはパラジウム
−含有化合物である少なくとも１種のパラジウム−含有
物質、（ｂ）金属銀または銀化合物である少なくとも１
種の銀含有物質、（ｃ）少なくとも１種のアルカリ金属
弗化物および（ｄ）少なくとも１種の無機支持体を含有
するジエンの水素化用として有用な触媒組成物を開示し
ている。本願の追加の事項は、パラジウム、少なくとも
１種のアルカリ金属弗化物および無機支持体を含有する
組成物であって、２〜６個の炭素原子を含有するアルキ
ンの水素化用の組成物である。しかし、本発明の組成物
は、該組成物はアルキン−含有供給物の水素化における
その使用に限定しない場合には銀は存在しなくてもよ
い。
特願平７−１７７１６５（１７７６９／９５）におい
て、発明者等は（ａ）金属パラジウムまたはパラジウム
−含有化合物である少なくとも１種のパラジウム−含有
物質、（ｂ）金属銀または銀化合物である少なくとも１
種の銀含有物質、（ｃ）少なくとも１種のアルカリ金属
弗化物および（ｄ）少なくとも１種の無機支持体を含有
するジエンの水素化用として有用な触媒組成物を開示し
ている。本願の追加の事項は、パラジウム、少なくとも
１種のアルカリ金属弗化物および無機支持体を含有する
組成物であって、２〜６個の炭素原子を含有するアルキ
ンの水素化用の組成物である。しかし、本発明の組成物
は、該組成物はアルキン−含有供給物の水素化における
その使用に限定しない場合には銀は存在しなくてもよ
い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (18)
- 【請求項１】 少なくとも１種の硫黄化合物も含まれる
供給物中に存在する１分子当り２〜６個の炭素原子を含
有する少なくとも１種のアルキンを、水素ガスで選択的
に水素添加して１分子当り２〜６個の炭素原子を含有す
る少なくとも１種の相当するアルケンを製造する方法で
あって、該供給物および水素ガスを、パラジウム、少な
くとも１種のアルカリ金属弗化物および無機支持体物質
を含有する触媒と接触させることを特徴とする前記の方
法。 - 【請求項２】 前記の少なくとも１種のアルキンが、ア
セチレン、プロピン、ブチン−１またはブチン−２であ
る請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 前記の少なくとも１種のアルキンがアセ
チレンであり、そして前記の少なくとも１種のアルケン
がエチレンである請求項２に記載の方法。 - 【請求項４】 前記の少なくとも１種の硫黄化合物が、
硫化水素、硫化カルボニル、メルカプタン、有機硫化
物、有機ジサルファイドまたは該硫黄化合物の任意の２
種以上の混合物である請求項１〜３の任意の１項に記載
の方法。 - 【請求項５】 前記の少なくとも１種の硫黄化合物が、
約１〜１，０００重量ｐｐｍの硫黄の量で前記の供給物
中に存在する請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 前記の触媒中に含まれる前記の少なくと
も１種のアルカリ金属弗化物が弗化カリウムであり、そ
して該触媒中の前記の無機支持体物質が、アルミナであ
る請求項１〜５の任意の１項に記載の方法。 - 【請求項７】 前記の触媒が、約０．０１〜１重量％の
パラジウムおよび約０．０５〜１．５重量％の弗素を含
有する請求項１〜６の任意の１項に記載の方法。 - 【請求項８】 前記の触媒中における弗素対パラジウム
の重量比が、約３：１〜約３０：１である請求項７に記
載の方法。 - 【請求項９】 前記の触媒が、銀を追加として含有する
請求項１〜８の任意の１項に記載の方法。 - 【請求項１０】 前記の触媒が、約０．０１〜１０重量
％の銀も含有する請求項９に記載の方法。 - 【請求項１１】 前記の触媒中における銀対パラジウム
の重量比が、約２：１〜約１０：１である請求項１０に
記載の方法。 - 【請求項１２】 前記の供給物がＣ2 〜Ｃ6 アルケン流
から成り、かつ、前記の少なくとも１種のアルキンが不
純物として該供給物中に存在する請求項１〜１１の任意
の１項に記載の方法。 - 【請求項１３】 前記の供給物が、約１〜５０，０００
重量ｐｐｍの量で前記の少なくとも１種のアルキンを含
有する請求項１２に記載の方法。 - 【請求項１４】 前記の接触を、約４０〜２００℃の反
応温度で行い、かつ、水素ガス対前記の少なくとも１種
のアルキンのモル比が、約０．５：１〜約１００：１の
範囲内である請求項１〜１３の任意の１項に記載の方
法。 - 【請求項１５】 １分子当り２〜６個の炭素原子を含有
するアルキンの水素化用の触媒組成物であって、パラジ
ウム、少なくとも１種のアルカリ金属弗化物および無機
支持体物質を含有することを特徴とする触媒組成物。 - 【請求項１６】 前記の触媒中に含まれている前記の少
なくとも１種のアルカリ金属弗化物が弗化カリウムであ
り、そして該触媒中の前記の無機支持体物質がアルミナ
である請求項１５に記載の組成物。 - 【請求項１７】 前記の触媒が、約０．０１〜１重量％
のパラジウムおよび約０．０５〜１．５重量％の弗素を
含有する請求項１５または１６に記載の組成物。 - 【請求項１８】 前記の触媒中における弗素対パラジウ
ムの重量比が、約３：１〜約３０：１である請求項１５
〜１７の任意の１項に記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US376178 | 1995-01-20 | ||
| US08/376,178 US5583274A (en) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | Alkyne hydrogenation process |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08245432A true JPH08245432A (ja) | 1996-09-24 |
| JP3866318B2 JP3866318B2 (ja) | 2007-01-10 |
Family
ID=23484007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00759096A Expired - Lifetime JP3866318B2 (ja) | 1995-01-20 | 1996-01-19 | アルキン含有供給物の選択的水素添加方法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5583274A (ja) |
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