JPH08242009A - パワー半導体デバイス - Google Patents
パワー半導体デバイスInfo
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- JPH08242009A JPH08242009A JP7334138A JP33413895A JPH08242009A JP H08242009 A JPH08242009 A JP H08242009A JP 7334138 A JP7334138 A JP 7334138A JP 33413895 A JP33413895 A JP 33413895A JP H08242009 A JPH08242009 A JP H08242009A
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- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 パワー半導体デバイスの電流容量を高める。
【解決手段】 陽極3が陰極2よりも大きく半導体基体
1よりも小さい直径を有する。
1よりも小さい直径を有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、傾斜した縁面を有
する半導体基体、陰極、陽極及び少なくとも陽極と半導
体基体との間に合金化することなく形成される接合を有
するパワー半導体デバイスに関する。
する半導体基体、陰極、陽極及び少なくとも陽極と半導
体基体との間に合金化することなく形成される接合を有
するパワー半導体デバイスに関する。
【0002】
【従来の技術】上記形式のパワー半導体デバイスは例え
ば欧州特許第0242626号明細書及びドイツ連邦共
和国特許第3633266号明細書に記載されている。
このデバイスは一般に使用されているパワー半導体デバ
イスとは異なり、合金化によるものではなく加圧焼結又
は拡散溶接により半導体基体と接合されている陽極を有
する。拡散溶接又は加圧焼結は合金化に比べて低温でよ
いが、しかし高圧を必要とする。それにより窩腔のない
材料相互の接合が陽極と半導体基体との間に形成され
る。
ば欧州特許第0242626号明細書及びドイツ連邦共
和国特許第3633266号明細書に記載されている。
このデバイスは一般に使用されているパワー半導体デバ
イスとは異なり、合金化によるものではなく加圧焼結又
は拡散溶接により半導体基体と接合されている陽極を有
する。拡散溶接又は加圧焼結は合金化に比べて低温でよ
いが、しかし高圧を必要とする。それにより窩腔のない
材料相互の接合が陽極と半導体基体との間に形成され
る。
【0003】陽極を形成する際に必要な高圧のために従
来は陰極と陽極は形状が全く同一に形成されて来た。特
にパワー半導体デバイスの場合その陰極側の表面は例え
ば4°の負の傾斜角を有し、そのため半導体基体の比較
的大きな縁範囲が十分には冷却されないままになってい
た。これは熱負荷能力を低減させ、その結果電流容量が
低下することになる。
来は陰極と陽極は形状が全く同一に形成されて来た。特
にパワー半導体デバイスの場合その陰極側の表面は例え
ば4°の負の傾斜角を有し、そのため半導体基体の比較
的大きな縁範囲が十分には冷却されないままになってい
た。これは熱負荷能力を低減させ、その結果電流容量が
低下することになる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
形式のパワー半導体デバイスの電流容量を高めるように
改良することにある。
形式のパワー半導体デバイスの電流容量を高めるように
改良することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】この課題は本発明によ
り、陽極が陰極よりも大きく半導体基体よりも小さい直
径を有することにより解決される。
り、陽極が陰極よりも大きく半導体基体よりも小さい直
径を有することにより解決される。
【0006】
【実施例】本発明を実施例及び図面に基づき以下に詳述
する。
する。
【0007】図2に示す従来のパワー半導体デバイスは
陰極2及び陽極13を介して接触化されている半導体基
体1を有する。接触部は通常モリブデンから成る。陰極
側の表面6の上には金属層4が、また陽極側の表面7の
上には金属層5が施されている。これらの金属層は加圧
下及び比較的低温下に電極2、13と半導体基体1との
間に拡散ろう付け又は焼結接合を生じさせる金属又は合
金を含有する。焼結接合の技術については例えば上述の
欧州特許第0242626号明細書に、また拡散ろう付
けの技術については例えば上述のドイツ連邦共和国特許
第3633266号明細書に示されている。従って個々
の処理工程の説明はここでは省略する。
陰極2及び陽極13を介して接触化されている半導体基
体1を有する。接触部は通常モリブデンから成る。陰極
側の表面6の上には金属層4が、また陽極側の表面7の
上には金属層5が施されている。これらの金属層は加圧
下及び比較的低温下に電極2、13と半導体基体1との
間に拡散ろう付け又は焼結接合を生じさせる金属又は合
金を含有する。焼結接合の技術については例えば上述の
欧州特許第0242626号明細書に、また拡散ろう付
けの技術については例えば上述のドイツ連邦共和国特許
第3633266号明細書に示されている。従って個々
の処理工程の説明はここでは省略する。
【0008】電極2、13は形状が同一であり、即ちそ
れらは同じ直径を有し、互いに対向して設けられてい
る。陰極側の表面6は負の角度で傾斜する縁面9を有す
る。この角度は通常0°より大きく10°より小さい。
半導体基体1の縁は付加的に正の角度で傾斜する面8を
有する。この傾斜角度はここでは一般に20°〜60°
である。半導体基体1の縁は例えばシリコンゴムからな
る絶縁スリーブ14により囲まれており、このスリーブ
はまた陰極側の表面6の一部、縁面9、縁面8及び陽極
側の表面7の一部を覆っている。
れらは同じ直径を有し、互いに対向して設けられてい
る。陰極側の表面6は負の角度で傾斜する縁面9を有す
る。この角度は通常0°より大きく10°より小さい。
半導体基体1の縁は付加的に正の角度で傾斜する面8を
有する。この傾斜角度はここでは一般に20°〜60°
である。半導体基体1の縁は例えばシリコンゴムからな
る絶縁スリーブ14により囲まれており、このスリーブ
はまた陰極側の表面6の一部、縁面9、縁面8及び陽極
側の表面7の一部を覆っている。
【0009】図2に示す従来のパワー半導体デバイスの
縁は陰極2及び陽極13の側面からの放熱を介してのみ
冷却される。従ってこの半導体デバイスの電流容量は低
減させられている。
縁は陰極2及び陽極13の側面からの放熱を介してのみ
冷却される。従ってこの半導体デバイスの電流容量は低
減させられている。
【0010】図1に示されている本発明による半導体デ
バイスは図2のそれとはその直径が陰極2の直径よりも
大きい陽極3を有している点で本質的に異なっている。
しかし製造技術上の理由から陽極3は半導体基体1の縁
までは達しておらず、傾斜する縁面9の下方で終わって
いる。しかし陽極3は傾斜する縁面8の下まで達しても
よい。それにより半導体基体の冷却は決定的に改善する
ことができる。そのため電流容量は高められる。
バイスは図2のそれとはその直径が陰極2の直径よりも
大きい陽極3を有している点で本質的に異なっている。
しかし製造技術上の理由から陽極3は半導体基体1の縁
までは達しておらず、傾斜する縁面9の下方で終わって
いる。しかし陽極3は傾斜する縁面8の下まで達しても
よい。それにより半導体基体の冷却は決定的に改善する
ことができる。そのため電流容量は高められる。
【0011】大きさの異なる電極2、3は拡散溶接又は
加圧焼結により設けられる。その際生じる半導体基体1
の曲げ応力は適切な加圧装置により、例えば弾性封入物
の使用により、半導体基体にとって安全な程度に低下さ
せることができる。スリーブ10は電極を設ける前に施
すと有利である。スリーブ10が例えばシリコンゴム製
である場合圧縮力の均等化を図ることができる。
加圧焼結により設けられる。その際生じる半導体基体1
の曲げ応力は適切な加圧装置により、例えば弾性封入物
の使用により、半導体基体にとって安全な程度に低下さ
せることができる。スリーブ10は電極を設ける前に施
すと有利である。スリーブ10が例えばシリコンゴム製
である場合圧縮力の均等化を図ることができる。
【0012】陰極2に比べて大きい陽極3は図2の従来
例とは異なり非対称の絶縁スリーブを必要とする。この
スリーブは10と符号付けられている。上述したように
絶縁スリーブ10はシリコンゴムから成っていてもよ
く、このゴムは半導体基体1の表面に生じるすべてのp
n接合を覆う。その際陽極側の表面7の上に施されてい
る金属層5はこのゴムにより被覆されてもよい。従って
ゴムと金属層との間を正確に調整する必要はない。
例とは異なり非対称の絶縁スリーブを必要とする。この
スリーブは10と符号付けられている。上述したように
絶縁スリーブ10はシリコンゴムから成っていてもよ
く、このゴムは半導体基体1の表面に生じるすべてのp
n接合を覆う。その際陽極側の表面7の上に施されてい
る金属層5はこのゴムにより被覆されてもよい。従って
ゴムと金属層との間を正確に調整する必要はない。
【0013】この実施例において陰極2も陽極3も拡散
ろう付け又は加圧焼結により半導体基体1と接合される
ものであると記載した。しかし上述の方法を陽極側だけ
に使用することも可能である。更に本発明はパワー半導
体の場合電極の面に対してその陰極側の縁面9を0°〜
10°の角度に傾斜させないで使用することも可能であ
る。縁面9は縁の阻止能力が例えば段階付けられた拡散
を経て調整される場合には電極の主平面に対して並行
(プレーナ縁)であってもよい。
ろう付け又は加圧焼結により半導体基体1と接合される
ものであると記載した。しかし上述の方法を陽極側だけ
に使用することも可能である。更に本発明はパワー半導
体の場合電極の面に対してその陰極側の縁面9を0°〜
10°の角度に傾斜させないで使用することも可能であ
る。縁面9は縁の阻止能力が例えば段階付けられた拡散
を経て調整される場合には電極の主平面に対して並行
(プレーナ縁)であってもよい。
【図1】本発明によるパワー半導体デバイスの一実施例
の断面図。
の断面図。
【図2】従来技術によるパワー半導体デバイスの断面
図。
図。
1 半導体基体 2 陰極 3、13 陽極 4、5 金属層 6 陰極側の表面 7 陽極側の表面 8 正の角度に傾斜する縁面 9 負の角度に傾斜する縁面 10、14 絶縁スリーブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 390041531 オイペック、オイロペイツシエ、ゲゼルシ ヤフト、フユア、ライスツングスハルプラ イター、ミツト、ベシユレンクテル、ハフ ツング、ウント、コンパニ、コマンデイー ト、ゲゼルシヤフト EUPEC EUROPAEISCHE GESELLSCHAFT FUER L EISTUNGSHALBLEITER MIT BESCHRANKTER HA FTUNG + COMPANY・KOM MADITGESELLSCHAFT ドイツ連邦共和国ワルシユタインベレツケ (番地なし) (72)発明者 ペーター フオス ドイツ連邦共和国 81925 ミユンヘン ルトリープシユトラーセ 42
Claims (6)
- 【請求項1】 傾斜した縁面を有する半導体基体、陰
極、陽極及び少なくとも陽極と半導体基体との間に合金
化することなく形成される接合を有するパワー半導体デ
バイスにおいて、陽極(3)の直径が陰極(2)よりは
大きく半導体基体(1)よりは小さいことを特徴とする
パワー半導体デバイス。 - 【請求項2】 半導体基体(1)の陰極側の縁面(9)
が陰極(2)の範囲外で0°よりも大きく10°よりも
小さい角度で陰極(2)の表面に対して傾斜しており、
陽極(3)の縁がこの面に対向していることを特徴とす
る請求項1記載のパワー半導体デバイス。 - 【請求項3】 陰極(2)と半導体基体(1)の縁との
間に陰極の表面に対して20°〜60°の角度で傾斜し
ている縁面(8)が設けられており、陽極(3)の縁が
この縁面(8)に対向していることを特徴とする請求項
1記載のパワー半導体デバイス。 - 【請求項4】 電極の範囲外の半導体基体(1)が絶縁
スリーブ(10)で覆われていることを特徴とする請求
項1ないし3の1つに記載のパワー半導体デバイス。 - 【請求項5】 少なくとも陽極(3)が半導体基体
(1)と加圧焼結又は拡散溶接により接合されているこ
とを特徴とする請求項1記載のパワー半導体デバイス。 - 【請求項6】 陽極(3)を設ける前に絶縁スリーブ
(10)を施すことを特徴とする請求項4又は5記載の
半導体デバイス。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4443271.2 | 1994-12-02 | ||
DE4443271 | 1994-12-02 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08242009A true JPH08242009A (ja) | 1996-09-17 |
Family
ID=6534971
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7334138A Pending JPH08242009A (ja) | 1994-12-02 | 1995-11-29 | パワー半導体デバイス |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6054727A (ja) |
EP (1) | EP0715351B1 (ja) |
JP (1) | JPH08242009A (ja) |
DE (1) | DE59510269D1 (ja) |
Families Citing this family (9)
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---|---|---|---|---|
CA2649926C (en) | 2006-05-12 | 2013-07-23 | Sca Hygiene Products Ab | Elastic laminate and a method for producing an elastic laminate |
MX2008014154A (es) | 2006-05-12 | 2008-11-18 | Sca Hygiene Prod Ab | Articulo absorbente del tipo de calzoncillos y un metodo para producir articulos absorbentes de tipo de calzoncillos. |
BRPI0722259A2 (pt) * | 2007-11-14 | 2014-04-08 | Sca Hygiene Prod Ab | Método para produção de um vestuário absorvente, e vestuário absorvente produzido de acordo com o método |
BRPI0722260A2 (pt) | 2007-11-14 | 2014-04-01 | Sca Hygiene Prod Ab | Método de produção de um vestuário absorvente, e um vestuário absorvente produzido de acordo com o método |
DE102008058003B4 (de) * | 2008-11-19 | 2012-04-05 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls und Halbleitermodul |
DE102010064247A1 (de) * | 2010-12-28 | 2012-06-28 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Einpressdiode und Einpressdiode |
DE102011087487A1 (de) * | 2011-11-30 | 2013-06-06 | Infineon Technologies Bipolar Gmbh & Co. Kg | Halbleiterbauelement mit optimiertem Randabschluss |
BR112016001416A2 (pt) | 2013-07-23 | 2017-08-29 | Myriant Corp | Bactéria escherichia coli e método de produção de ácido succínico utilizando difusão facilitada para importação de açúcar |
EP4006990B1 (en) * | 2020-11-27 | 2023-04-05 | Hitachi Energy Switzerland AG | Semiconductor device with a side surface having different partial regions |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3586932A (en) * | 1969-12-12 | 1971-06-22 | Gen Electric | Five layer gate controlled thyristor with novel turn on characteristics |
US3681667A (en) * | 1969-12-12 | 1972-08-01 | Gen Electric | Controlled rectifier and triac with laterally off-set gate and auxiliary segments for accelerated turn on |
US3654529A (en) * | 1971-04-05 | 1972-04-04 | Gen Electric | Loose contact press pack |
US4080620A (en) * | 1975-11-17 | 1978-03-21 | Westinghouse Electric Corporation | Reverse switching rectifier and method for making same |
IN168174B (ja) * | 1986-04-22 | 1991-02-16 | Siemens Ag | |
DE3633266A1 (de) | 1986-09-30 | 1988-03-31 | Siemens Ag | Verfahren zum grossflaechigen verbinden eines scheibenfoermigen halbleiterkoerpers mit einer metallischen substratscheibe |
JP2739970B2 (ja) * | 1988-10-19 | 1998-04-15 | 株式会社東芝 | 圧接型半導体装置 |
JPH0574824A (ja) * | 1991-08-26 | 1993-03-26 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
-
1995
- 1995-11-29 JP JP7334138A patent/JPH08242009A/ja active Pending
- 1995-11-30 DE DE59510269T patent/DE59510269D1/de not_active Expired - Fee Related
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- 1995-12-04 US US08/566,551 patent/US6054727A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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