JPH08225477A - 光学活性1−アルコキシアルキルエステル、その製造方法、および光学活性エーテル化合物の製造方法 - Google Patents
光学活性1−アルコキシアルキルエステル、その製造方法、および光学活性エーテル化合物の製造方法Info
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- JPH08225477A JPH08225477A JP3321095A JP3321095A JPH08225477A JP H08225477 A JPH08225477 A JP H08225477A JP 3321095 A JP3321095 A JP 3321095A JP 3321095 A JP3321095 A JP 3321095A JP H08225477 A JPH08225477 A JP H08225477A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 光学活性アルコキシケトンをバイヤー-ビリ
ガー酸化することを特徴とする、一般式(A) 【化1】 (式中、R1は置換もしくは未置換のアルキル基またはフ
ェニル基を表わし、R2は置換もしくは未置換のアルキル
基を表わし、R3は置換もしくは未置換のアルキル基また
はフェニル基を表わす。ただし、*を付した炭素は不斉
炭素であって、それらの絶対配置はRまたはSである。)
で表わされる光学活性1−アルコキシアルキルエステル
の製造方法、新規な光学活性1−アルコキシアルキルエ
ステルおよび一般式(A)で表わされる光学活性1−ア
ルコキシアルキルエステルにルイス酸存在下、有機銅反
応剤を作用させることを特徴とする光学活性エーテル化
合物の製造方法。 【効果】 これまで立体選択的合成が困難であった、光
学活性1−アルコキシアルキルエステルを容易に製造す
ることができ、またそれを用いて簡便に光学活性エーテ
ル化合物を製造することができる。
ガー酸化することを特徴とする、一般式(A) 【化1】 (式中、R1は置換もしくは未置換のアルキル基またはフ
ェニル基を表わし、R2は置換もしくは未置換のアルキル
基を表わし、R3は置換もしくは未置換のアルキル基また
はフェニル基を表わす。ただし、*を付した炭素は不斉
炭素であって、それらの絶対配置はRまたはSである。)
で表わされる光学活性1−アルコキシアルキルエステル
の製造方法、新規な光学活性1−アルコキシアルキルエ
ステルおよび一般式(A)で表わされる光学活性1−ア
ルコキシアルキルエステルにルイス酸存在下、有機銅反
応剤を作用させることを特徴とする光学活性エーテル化
合物の製造方法。 【効果】 これまで立体選択的合成が困難であった、光
学活性1−アルコキシアルキルエステルを容易に製造す
ることができ、またそれを用いて簡便に光学活性エーテ
ル化合物を製造することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶等の有機機能材料や
医薬等の生理活性物質などの合成中間体として有用な光
学活性1−アルコキシアルキルエステル、その製造方法
およびその一用途としての、光学活性エーテル化合物の
製造方法に関する。
医薬等の生理活性物質などの合成中間体として有用な光
学活性1−アルコキシアルキルエステル、その製造方法
およびその一用途としての、光学活性エーテル化合物の
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】アセタール誘導体は有機機能材料や生理
活性物質の重要な合成中間体である。その中で、ヘミア
セタールのエステルである1−アルコキシアルキルエス
テルも有機機能材料や生理活性物質の合成中間体とし
て、また温和な条件下で加水分解できることから、アル
コールやカルボン酸の保護基として使用されている。し
かし、光学活性1−アルコキシアルキルエステルについ
ては糖類を除けばほとんど知られていない。特にアセタ
ール炭素のみが不斉な光学活性ヘミアセタールのエステ
ルとしては唯一、酢酸 1-メトキシ-2,2,2-トリクロロエ
チルの光学活性体がラセミ体を酵素を用いて不斉加水分
解する方法で製造できることが報告されているにすぎな
い(R. Chenevert, M. Desjadins, and R. Gagnon, Che
mistry Letters, 1990, 33-34)。また、1−アルコキ
シアルキルエステルの合成法としては、ビニルエーテル
へのカルボン酸の付加(M.Tordeux, R. Dorme, C. Waks
elman,Synthetic Communication, 13, 629-633 (198
3))や、1-クロロアルキルエーテルとカルボン酸塩の反
応(K. Pihlaja and A. Lampi, Acta Chemica Scandina
via B, 40, 196-199 (1986))などにかぎられており、
これらの方法では光学活性体を合成することは困難であ
る。
活性物質の重要な合成中間体である。その中で、ヘミア
セタールのエステルである1−アルコキシアルキルエス
テルも有機機能材料や生理活性物質の合成中間体とし
て、また温和な条件下で加水分解できることから、アル
コールやカルボン酸の保護基として使用されている。し
かし、光学活性1−アルコキシアルキルエステルについ
ては糖類を除けばほとんど知られていない。特にアセタ
ール炭素のみが不斉な光学活性ヘミアセタールのエステ
ルとしては唯一、酢酸 1-メトキシ-2,2,2-トリクロロエ
チルの光学活性体がラセミ体を酵素を用いて不斉加水分
解する方法で製造できることが報告されているにすぎな
い(R. Chenevert, M. Desjadins, and R. Gagnon, Che
mistry Letters, 1990, 33-34)。また、1−アルコキ
シアルキルエステルの合成法としては、ビニルエーテル
へのカルボン酸の付加(M.Tordeux, R. Dorme, C. Waks
elman,Synthetic Communication, 13, 629-633 (198
3))や、1-クロロアルキルエーテルとカルボン酸塩の反
応(K. Pihlaja and A. Lampi, Acta Chemica Scandina
via B, 40, 196-199 (1986))などにかぎられており、
これらの方法では光学活性体を合成することは困難であ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、有機機能材
料や生理活性物質などの合成中間体として有用な光学活
性1−アルコキシアルキルエステルおよびその製造方法
を提供し、さらにこれを用いた光学活性エーテル化合物
の製造方法を提供する。
料や生理活性物質などの合成中間体として有用な光学活
性1−アルコキシアルキルエステルおよびその製造方法
を提供し、さらにこれを用いた光学活性エーテル化合物
の製造方法を提供する。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、光学活性アルコキシケトンを酸化することによ
って光学活性1−アルコキシアルキルエステルが得ら
れ、さらにこれに、ルイス酸存在下、有機銅反応剤を作
用させることによって、光学活性エーテル化合物が得ら
れることを見出し、本発明を完成するに至った。
た結果、光学活性アルコキシケトンを酸化することによ
って光学活性1−アルコキシアルキルエステルが得ら
れ、さらにこれに、ルイス酸存在下、有機銅反応剤を作
用させることによって、光学活性エーテル化合物が得ら
れることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0005】すなわち本発明は、一般式(I)
【0006】
【化6】
【0007】(式中、R1は置換もしくは未置換のアルキ
ル基またはフェニル基を表わし、R2は置換もしくは未置
換のアルキル基を表わし、R3は置換もしくは未置換のア
ルキル基またはフェニル基を表わす。ただし、*を付し
た炭素は不斉炭素であって、それらの絶対配置はRまた
はSのいずれか一方である。)で表わされる光学活性ア
ルコキシケトンを酸化することを特徴とする、一般式
(II)
ル基またはフェニル基を表わし、R2は置換もしくは未置
換のアルキル基を表わし、R3は置換もしくは未置換のア
ルキル基またはフェニル基を表わす。ただし、*を付し
た炭素は不斉炭素であって、それらの絶対配置はRまた
はSのいずれか一方である。)で表わされる光学活性ア
ルコキシケトンを酸化することを特徴とする、一般式
(II)
【0008】
【化7】
【0009】(式中、R1、R2、R3および*を付した炭素
は上記と同一である。)で表わされる光学活性1−アル
コキシアルキルエステルの製造方法を提供する。
は上記と同一である。)で表わされる光学活性1−アル
コキシアルキルエステルの製造方法を提供する。
【0010】さらに本発明は、一般式(IIa)
【0011】
【化8】
【0012】(式中、R1'は置換もしくは未置換のアル
キル基またはフェニル基を表わし、R2'は置換もしくは
未置換のアルキル基を表わし、R3'は置換もしくは未置
換のアルキル基またはフェニル基を表わす。ただし、R
1'、R2'およびR3'上にキラルな不斉炭素をもたず、R2'
はトリクロロメチル基以外である。また、*を付した炭
素は不斉炭素であって、それらの絶対配置はRまたはSで
ある。)で表わされる光学活性1−アルコキシアルキル
エステルを提供する。
キル基またはフェニル基を表わし、R2'は置換もしくは
未置換のアルキル基を表わし、R3'は置換もしくは未置
換のアルキル基またはフェニル基を表わす。ただし、R
1'、R2'およびR3'上にキラルな不斉炭素をもたず、R2'
はトリクロロメチル基以外である。また、*を付した炭
素は不斉炭素であって、それらの絶対配置はRまたはSで
ある。)で表わされる光学活性1−アルコキシアルキル
エステルを提供する。
【0013】上記一般式(I)、(II)、(IIa)中、
R1、R1'、R3、R3'としては、置換もしくは未置換のメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基などのアルキル基もしくは置換または未置換
のフェニル基が挙げられる。その置換基としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基などのアルキル基、ビニル基、1-プロペニル
基、1-ブテニル基などのアルケニル基、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子のハロゲン原子、メトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基などの
アルコキシル基もしくはアリールオキシ基、アセトキシ
基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基などのアシロキシ基、メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル
基、フェノキシカルボニル基などのアルコキシカルボニ
ル基およびフェニル基などが挙げられる。ただし、R1、
R1'、R3、R3'のアルキル基の1位にハロゲン基、および
アルコキシル基が置換しないことが望ましい。また、R
1'およびR3'上にはキラルな不斉炭素を有しない。
R1、R1'、R3、R3'としては、置換もしくは未置換のメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基などのアルキル基もしくは置換または未置換
のフェニル基が挙げられる。その置換基としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基などのアルキル基、ビニル基、1-プロペニル
基、1-ブテニル基などのアルケニル基、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子のハロゲン原子、メトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基などの
アルコキシル基もしくはアリールオキシ基、アセトキシ
基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基などのアシロキシ基、メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル
基、フェノキシカルボニル基などのアルコキシカルボニ
ル基およびフェニル基などが挙げられる。ただし、R1、
R1'、R3、R3'のアルキル基の1位にハロゲン基、および
アルコキシル基が置換しないことが望ましい。また、R
1'およびR3'上にはキラルな不斉炭素を有しない。
【0014】また、R2、R2'としては、置換もしくは未
置換のメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基などのアルキル基が挙げられる。
その置換基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基、
ビニル基、1-プロペニル基、1-ブテニル基などのアルケ
ニル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子のハロゲン原
子、メトキシ基、エトキ基、プロポキシ基、ブトキシ
基、フェノキシ基などのアルコキシル基もしくはアリー
ルオキシ基、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ブ
タノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などのアシロキ
シ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
プロポキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基など
のアルコキシカルボニル基もしくはアリールオキシカル
ボニル基およびフェニル基などが挙げられ、反応効率の
点で、アルキル基、アルコキシル基あるいはアリールオ
キシ基などの電子供与性基が好ましい。ただし、R2'は
トリクロロメチル基以外であり、またR2'上にキラルな
不斉炭素を有しない。
置換のメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基などのアルキル基が挙げられる。
その置換基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基、
ビニル基、1-プロペニル基、1-ブテニル基などのアルケ
ニル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子のハロゲン原
子、メトキシ基、エトキ基、プロポキシ基、ブトキシ
基、フェノキシ基などのアルコキシル基もしくはアリー
ルオキシ基、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ブ
タノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などのアシロキ
シ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
プロポキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基など
のアルコキシカルボニル基もしくはアリールオキシカル
ボニル基およびフェニル基などが挙げられ、反応効率の
点で、アルキル基、アルコキシル基あるいはアリールオ
キシ基などの電子供与性基が好ましい。ただし、R2'は
トリクロロメチル基以外であり、またR2'上にキラルな
不斉炭素を有しない。
【0015】ここで、一般式(I)で表される光学活性
アルコキシケトンは光学活性α-ヒドロキシケトンのエ
ーテル化、光学活性β-アルコキシアルコールの酸化、
光学活性α-ハロケトンとアルコラートとの反応、光学
活性α-アルコキシカルボン酸誘導体と有機金属化合物
の反応など既知の方法により容易に得られる。
アルコキシケトンは光学活性α-ヒドロキシケトンのエ
ーテル化、光学活性β-アルコキシアルコールの酸化、
光学活性α-ハロケトンとアルコラートとの反応、光学
活性α-アルコキシカルボン酸誘導体と有機金属化合物
の反応など既知の方法により容易に得られる。
【0016】一般式(I)で表される光学活性アルコキ
シケトンから一般式(II)で表される光学活性1−アル
コキシアルキルエステルを製造する際に用いることので
きる酸化剤としては、3-クロロ過安息香酸、過安息香
酸、4-ニトロ過安息香酸、3,5-ジニトロ過安息香酸、過
酢酸、トリフルオロ過酢酸、モノ過フタル酸、モノ過マ
レイン酸、3,3,3-トリクロロ過プロパン酸、ビス(トリ
メチルシリル)ペルオキシド、t-ブチルヒドロペルオキ
シド、トリフェニルメチルヒドロペルオキシド、モノ過
フタル酸マグネシウム6水和物、PhSeO3Hなどの有機酸
化剤、過酸化水素、SO5H2、K2S2O8、K2SO5、CrO3、K2Cr
2O7、Na2CO4、SeO2などの無機酸化剤、さらに酸素とア
ルデヒドに酢酸銅、酢酸ニッケルなど金属触媒を加える
方法などバイヤー-ビリガー(Baeyer-Villiger)反応に
よく用いられるものが挙げられるが、3-クロロ過安息香
酸、過安息香酸、4-ニトロ過安息香酸、3,5-ジニトロ過
安息香酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、モノ過フタル
酸、モノ過マレイン酸、3,3,3-トリクロロ過プロパン酸
など有機過酸が好ましい。使用量はケトン(I)1モル
に対して1.0〜30モル等量用いることができるが、望ま
しくは1.0〜5.0モル等量である。反応においては溶媒を
用いることが好ましく、溶媒としてはジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、アセトニトリル、ジエチル
エーテル、酢酸、水などを用いることができるが、ジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、アセトニトリ
ルが好ましい。反応温度は-100℃から溶媒還流温度の範
囲で行なえるが、好ましくは-20℃から50℃の範囲であ
る。
シケトンから一般式(II)で表される光学活性1−アル
コキシアルキルエステルを製造する際に用いることので
きる酸化剤としては、3-クロロ過安息香酸、過安息香
酸、4-ニトロ過安息香酸、3,5-ジニトロ過安息香酸、過
酢酸、トリフルオロ過酢酸、モノ過フタル酸、モノ過マ
レイン酸、3,3,3-トリクロロ過プロパン酸、ビス(トリ
メチルシリル)ペルオキシド、t-ブチルヒドロペルオキ
シド、トリフェニルメチルヒドロペルオキシド、モノ過
フタル酸マグネシウム6水和物、PhSeO3Hなどの有機酸
化剤、過酸化水素、SO5H2、K2S2O8、K2SO5、CrO3、K2Cr
2O7、Na2CO4、SeO2などの無機酸化剤、さらに酸素とア
ルデヒドに酢酸銅、酢酸ニッケルなど金属触媒を加える
方法などバイヤー-ビリガー(Baeyer-Villiger)反応に
よく用いられるものが挙げられるが、3-クロロ過安息香
酸、過安息香酸、4-ニトロ過安息香酸、3,5-ジニトロ過
安息香酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、モノ過フタル
酸、モノ過マレイン酸、3,3,3-トリクロロ過プロパン酸
など有機過酸が好ましい。使用量はケトン(I)1モル
に対して1.0〜30モル等量用いることができるが、望ま
しくは1.0〜5.0モル等量である。反応においては溶媒を
用いることが好ましく、溶媒としてはジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、アセトニトリル、ジエチル
エーテル、酢酸、水などを用いることができるが、ジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、アセトニトリ
ルが好ましい。反応温度は-100℃から溶媒還流温度の範
囲で行なえるが、好ましくは-20℃から50℃の範囲であ
る。
【0017】さらに本発明は、一般式(II)
【0018】
【化9】
【0019】(式中、R1は置換もしくは未置換のアルキ
ル基またはフェニル基を表わし、R2は置換もしくは未置
換のアルキル基を表わし、R3は置換もしくは未置換のア
ルキル基またはフェニル基を表わす。ただし、*を付し
た炭素は不斉炭素であって、それらの絶対配置はRまた
はSである。)で表される光学活性1−アルコキシアル
キルエステルにルイス酸存在下、有機銅反応剤を作用さ
せることを特徴とする、一般式(III)
ル基またはフェニル基を表わし、R2は置換もしくは未置
換のアルキル基を表わし、R3は置換もしくは未置換のア
ルキル基またはフェニル基を表わす。ただし、*を付し
た炭素は不斉炭素であって、それらの絶対配置はRまた
はSである。)で表される光学活性1−アルコキシアル
キルエステルにルイス酸存在下、有機銅反応剤を作用さ
せることを特徴とする、一般式(III)
【0020】
【化10】
【0021】(式中、R1およびR2は上記と同一であり、
R4は置換もしくは未置換のアルキル基、ビニル基または
フェニル基を表わす。ただし、*を付した炭素は不斉炭
素であって、それらの絶対配置はRまたはSである。)で
表わされる光学活性エーテル化合物の製造方法を提供す
る。
R4は置換もしくは未置換のアルキル基、ビニル基または
フェニル基を表わす。ただし、*を付した炭素は不斉炭
素であって、それらの絶対配置はRまたはSである。)で
表わされる光学活性エーテル化合物の製造方法を提供す
る。
【0022】上記一般式(III)中、R4としては、置換
もしくは未置換のメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基およ
び置換もしくは未置換のビニル基、フェニル基が挙げら
れる。その置換基としてはメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキ
ル基、ビニル基、1-プロペニル基、1-ブテニル基などの
アルケニル基、フッ素原子または塩素原子のハロゲン原
子、メトキシ基、エトキ基、プロポキシ基、ブトキシ
基、フェノキシ基などアルコキシル基もしくはアリール
オキシ基およびフェニル基などが挙げられる。ただし、
R4のアルキル基およびビニル基の1位および2位にハロ
ゲン原子およびアルコキシル基が置換しないことが望ま
しい。
もしくは未置換のメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基およ
び置換もしくは未置換のビニル基、フェニル基が挙げら
れる。その置換基としてはメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキ
ル基、ビニル基、1-プロペニル基、1-ブテニル基などの
アルケニル基、フッ素原子または塩素原子のハロゲン原
子、メトキシ基、エトキ基、プロポキシ基、ブトキシ
基、フェノキシ基などアルコキシル基もしくはアリール
オキシ基およびフェニル基などが挙げられる。ただし、
R4のアルキル基およびビニル基の1位および2位にハロ
ゲン原子およびアルコキシル基が置換しないことが望ま
しい。
【0023】ここで用いる有機銅化合物としては、R4C
u、 R4 2CuLi、R4CuCNLi、R4 2CuCNLi2などが挙げられ
る。使用量はヘミアセタールエステル(II)1モルに対
して1.0〜10モル等量用いることができるが、望ましく
は1.0〜2.0等量である。ルイス酸としてはBF3-O(C
2H5)2、TiCl4、TiCl3(O-i-C3H7)、TiCl2(O-i-C3H7)2、T
iCl(O-i-C3H7)3、Ti(O-i-C3H7)4、ZnCl2、SnCl4などが
挙げられるが、BF3-O(C2H5)2が好ましい。使用量はヘミ
アセタールエステル(II)1モルに対して0.1〜10モル
等量用いることができるが、望ましくは0.5〜2.0モル等
量である。この反応においては、溶媒を用いることが好
ましく、とくに非プロトン性有機溶媒、例えばジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン(THF)、ジメトキシメタン、1,2-ジメトキシエタ
ン、ジオキサン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどを
用いることができるが、ジエチルエーテル、THFが好ま
しい。さらに、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMP
A)、テトラメチルエチレンジアミン、ジメチルホルム
アミド、N-メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒
を添加することもできる。反応温度は-100℃から溶媒還
流温度の範囲で行なえるが、好ましくは-80℃から室温
の範囲である。なお、本発明における一般式(I)(I
I)(IIa)(III)で表される光学活性化合物は、その
光学純度が30% e.e.から100% e.e.のものであ
る。
u、 R4 2CuLi、R4CuCNLi、R4 2CuCNLi2などが挙げられ
る。使用量はヘミアセタールエステル(II)1モルに対
して1.0〜10モル等量用いることができるが、望ましく
は1.0〜2.0等量である。ルイス酸としてはBF3-O(C
2H5)2、TiCl4、TiCl3(O-i-C3H7)、TiCl2(O-i-C3H7)2、T
iCl(O-i-C3H7)3、Ti(O-i-C3H7)4、ZnCl2、SnCl4などが
挙げられるが、BF3-O(C2H5)2が好ましい。使用量はヘミ
アセタールエステル(II)1モルに対して0.1〜10モル
等量用いることができるが、望ましくは0.5〜2.0モル等
量である。この反応においては、溶媒を用いることが好
ましく、とくに非プロトン性有機溶媒、例えばジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン(THF)、ジメトキシメタン、1,2-ジメトキシエタ
ン、ジオキサン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどを
用いることができるが、ジエチルエーテル、THFが好ま
しい。さらに、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMP
A)、テトラメチルエチレンジアミン、ジメチルホルム
アミド、N-メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒
を添加することもできる。反応温度は-100℃から溶媒還
流温度の範囲で行なえるが、好ましくは-80℃から室温
の範囲である。なお、本発明における一般式(I)(I
I)(IIa)(III)で表される光学活性化合物は、その
光学純度が30% e.e.から100% e.e.のものであ
る。
【0024】
【実施例】以下に実施例をあげて、本発明を具体的に説
明するが、もちろん本発明の主旨、及び適用範囲は、こ
れら実施例により制限されるものではない。
明するが、もちろん本発明の主旨、及び適用範囲は、こ
れら実施例により制限されるものではない。
【0025】なお、化合物の構造はNMR、IR、MS及び元
素分析により確認した。IRにおける(neat)は液膜によ
る測定を表わす。NMRにおけるCDCl3は溶媒である重水素
化クロロホルムを表わし、sは1重線、dは2重線、tは
3重線、qは4線、mは多重線を表わし、Jは結合定数を
表す。MSにおけるかっこの中の数値はそのピークの相対
強度を表わす。
素分析により確認した。IRにおける(neat)は液膜によ
る測定を表わす。NMRにおけるCDCl3は溶媒である重水素
化クロロホルムを表わし、sは1重線、dは2重線、tは
3重線、qは4線、mは多重線を表わし、Jは結合定数を
表す。MSにおけるかっこの中の数値はそのピークの相対
強度を表わす。
【0026】(参考例1)(R)-(+)-3-ベンジルオキシ-2
-ブタノンの合成
-ブタノンの合成
【0027】
【化11】
【0028】(1)(2R,3R)-(+)-3-ベンジルオキシ-2-
ブタノールの合成 文献(J. S. Bradshawら J. Org. Chem., 55, 3129-313
7 (1990))記載の方法を参考にして、(2R,3R)-(-)-ブタ
ンジオール(1.80 g, 20.0 mmol)のジメチルホルムア
ミド(DMF)(15 ml)溶液に0℃で水素化ナトリウム
(60%油性, 1.60g, 40.0 mmol)を加えた後、さらに臭
化ベンジル(3.42 g, 20.0 mmol)の DMF(15 ml)溶
液を滴下し、30 分間攪拌した。反応混合物にエーテル
(50 ml)を加えて、2 M 塩酸(100 ml)に注いだ。有
機層を分離後、水層からエーテル (20ml × 3) で抽出
した。有機層はまとめて飽和食塩水(50 ml)で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させたのち、濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン
/酢酸エチル=5/1)によって精製し、(2R,3R)-(+)-3-
ベンジルオキシ-2-ブタノール(1.27 g, 収率 35%)を
得た。 無色液体 沸点 90 ℃/0.04 mmHg(ガラスチューブオ
ーブン,外温)文献値68〜70/0.065 mmHg Rf (ヘキサン/酢酸エチル=5:1) 0.3 [α]D 20 -75°(C 1.0, CHCl3) IR (neat) 3434, 2976, 2874, 1497, 1454, 1379, 109
2, 739, 698 cm-1 1 H NMR (CDCl3) δ 1.17 (d, J = 6.2 Hz, 3 H), 1.17
(d, J = 6.2 Hz, 3 H),2.71 (d, J = 2.4 Hz, 1 H), 3.
27-3.35 (m, 1 H), 3.57-3.66 (m, 1 H), 4.45(d, J =
11 Hz, 1 H), 4.68 (d, J = 11 Hz, 1 H), 7.27-7.39
(m, 5 H) MS (m/z) 135 (4), 107 (6), 91 (100), 77 (9), 65 (2
6)
ブタノールの合成 文献(J. S. Bradshawら J. Org. Chem., 55, 3129-313
7 (1990))記載の方法を参考にして、(2R,3R)-(-)-ブタ
ンジオール(1.80 g, 20.0 mmol)のジメチルホルムア
ミド(DMF)(15 ml)溶液に0℃で水素化ナトリウム
(60%油性, 1.60g, 40.0 mmol)を加えた後、さらに臭
化ベンジル(3.42 g, 20.0 mmol)の DMF(15 ml)溶
液を滴下し、30 分間攪拌した。反応混合物にエーテル
(50 ml)を加えて、2 M 塩酸(100 ml)に注いだ。有
機層を分離後、水層からエーテル (20ml × 3) で抽出
した。有機層はまとめて飽和食塩水(50 ml)で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させたのち、濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン
/酢酸エチル=5/1)によって精製し、(2R,3R)-(+)-3-
ベンジルオキシ-2-ブタノール(1.27 g, 収率 35%)を
得た。 無色液体 沸点 90 ℃/0.04 mmHg(ガラスチューブオ
ーブン,外温)文献値68〜70/0.065 mmHg Rf (ヘキサン/酢酸エチル=5:1) 0.3 [α]D 20 -75°(C 1.0, CHCl3) IR (neat) 3434, 2976, 2874, 1497, 1454, 1379, 109
2, 739, 698 cm-1 1 H NMR (CDCl3) δ 1.17 (d, J = 6.2 Hz, 3 H), 1.17
(d, J = 6.2 Hz, 3 H),2.71 (d, J = 2.4 Hz, 1 H), 3.
27-3.35 (m, 1 H), 3.57-3.66 (m, 1 H), 4.45(d, J =
11 Hz, 1 H), 4.68 (d, J = 11 Hz, 1 H), 7.27-7.39
(m, 5 H) MS (m/z) 135 (4), 107 (6), 91 (100), 77 (9), 65 (2
6)
【0029】(2)(R)-(+)-3-ベンジルオキシ-2-ブタ
ノンの合成 クロロクロム酸ピリジニウム(PCC)(2.12 g, 9.86 mm
ol)のジクロロメタン(5 ml)懸濁液に(2R,3R)-(+)-3-
ベンジルオキシ-2-ブタノール(887 mg, 4.93mmol)の
ジクロロメタン(5 ml)溶液を加え、室温で2時間攪拌
した。反応混合物をジクロロメタン(20 ml)で希釈
し、セライトを加え数分間攪拌し、セライトでろ過し
た。ろ液は濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(2回、クロホルムおよびヘキサン/酢酸エチ
ル=5/1)によって精製し、(R)-(+)-3-ベンジルオキ
シ-2-ブタノン(669 mg, 収率 76%, 99% e.e.) を得
た。
ノンの合成 クロロクロム酸ピリジニウム(PCC)(2.12 g, 9.86 mm
ol)のジクロロメタン(5 ml)懸濁液に(2R,3R)-(+)-3-
ベンジルオキシ-2-ブタノール(887 mg, 4.93mmol)の
ジクロロメタン(5 ml)溶液を加え、室温で2時間攪拌
した。反応混合物をジクロロメタン(20 ml)で希釈
し、セライトを加え数分間攪拌し、セライトでろ過し
た。ろ液は濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(2回、クロホルムおよびヘキサン/酢酸エチ
ル=5/1)によって精製し、(R)-(+)-3-ベンジルオキ
シ-2-ブタノン(669 mg, 収率 76%, 99% e.e.) を得
た。
【0030】無色液体 沸点 75 ℃/0.08 mmHg Rf (ヘキサン/酢酸エチル=10:1) 0.3 [α]D 20 +46°(C 1.1, CHCl3) IR (neat) 2982, 2870, 1782, 1454, 1356, 1114, 106
5, 1020, 739 cm-1 1 H NMR (CDCl3) δ 1.34 (d, J = 6.9 Hz, 3 H), 2.20
(s, 3 H), 3.91 (q, J =6.9 Hz, 1 H), 4.50 (d, J = 1
1.7 Hz, 1 H), 4.57 (d, J = 11.7 Hz, 1 H), 7.28-7.3
9 (m, 5 H) MS (m/z) 135 (13), 91 (100), 65 (13), 43 (39) 元素分析: C11H14O2 として、計算値: C, 74.22; H, 7.
92%. 実測値: C, 74.22;H, 8.04%
5, 1020, 739 cm-1 1 H NMR (CDCl3) δ 1.34 (d, J = 6.9 Hz, 3 H), 2.20
(s, 3 H), 3.91 (q, J =6.9 Hz, 1 H), 4.50 (d, J = 1
1.7 Hz, 1 H), 4.57 (d, J = 11.7 Hz, 1 H), 7.28-7.3
9 (m, 5 H) MS (m/z) 135 (13), 91 (100), 65 (13), 43 (39) 元素分析: C11H14O2 として、計算値: C, 74.22; H, 7.
92%. 実測値: C, 74.22;H, 8.04%
【0031】(実施例1)(S)-(+)-酢酸 1-ベンジルオ
キシエチルの合成
キシエチルの合成
【0032】
【化12】
【0033】(R)-(+)-3-ベンジルオキシ-2-ブタノン(4
00 mg, 2.25 mmol, 99% e.e.)のジクロロメタン(10 m
l)溶液に室温で炭酸水素ナトリウム(245 mg, 2.92 mm
ol)、メタクロロ過安息香酸(583 mg, 3.38 mmol)を
加え、1時間攪拌した。反応混合物に水(25 ml)を加
え、クロロホルム(15 ml × 3)で抽出した。有機層は
まとめて飽和食塩水(20 ml)で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥させたのち、濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(2回、クロホルムおよびヘ
キサン/酢酸エチル=10/1)によって精製し、(S)-(+)-
酢酸 1-ベンジルオキシエチル (307 mg, 70%, 83% e.
e.) を得た。
00 mg, 2.25 mmol, 99% e.e.)のジクロロメタン(10 m
l)溶液に室温で炭酸水素ナトリウム(245 mg, 2.92 mm
ol)、メタクロロ過安息香酸(583 mg, 3.38 mmol)を
加え、1時間攪拌した。反応混合物に水(25 ml)を加
え、クロロホルム(15 ml × 3)で抽出した。有機層は
まとめて飽和食塩水(20 ml)で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥させたのち、濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(2回、クロホルムおよびヘ
キサン/酢酸エチル=10/1)によって精製し、(S)-(+)-
酢酸 1-ベンジルオキシエチル (307 mg, 70%, 83% e.
e.) を得た。
【0034】無色液体 沸点 80 ℃/0.2 mmHg Rf (ヘキサン/酢酸エチル=10/1) 0.4 [α]D 20 +7.5° (C 1.1, CHCl3) IR (neat) 2996, 2940, 1736, 1373, 1242, 1136, 101
0, 932 cm-1 1 H NMR (CDCl3) δ 1.44 (d, J =5.2 Hz, 3 H), 2.05
(s, 3 H), 4.58 (d, J =11.9 Hz, 1 H), 4.71 (d, J =
11.9 Hz, 1 H), 6.03 (q, J = 5.2 Hz, 1 H), 7.27-7.3
8 (m, 5 H) MS (m/z) 134 (21), 105 (9), 91 (100), 77 (6), 65
(14) 元素分析: C11H14O3 として、計算値: C, 68.02; H, 7.
27%. 実測値: C, 67.73;H, 7.31%
0, 932 cm-1 1 H NMR (CDCl3) δ 1.44 (d, J =5.2 Hz, 3 H), 2.05
(s, 3 H), 4.58 (d, J =11.9 Hz, 1 H), 4.71 (d, J =
11.9 Hz, 1 H), 6.03 (q, J = 5.2 Hz, 1 H), 7.27-7.3
8 (m, 5 H) MS (m/z) 134 (21), 105 (9), 91 (100), 77 (6), 65
(14) 元素分析: C11H14O3 として、計算値: C, 68.02; H, 7.
27%. 実測値: C, 67.73;H, 7.31%
【0035】(参考例2)(S)-4-ベンジルオキシ-2,2-
ジメチル-3-ペンタノンの合成
ジメチル-3-ペンタノンの合成
【0036】
【化13】
【0037】(1)(S)-(+)-2,2,5-トリメチル-4-ジオ
キソラノンの合成 文献(F. A. Davisら J. Am. Chem. Soc., 112, 6679-6
690 (1990))記載の方法に従って、L-乳酸(50 g, 0.55
mol)のアセトン(200 ml)溶液に反応温度を-5 ℃以
下に保ちながら、硫酸(90 ml)を滴下した。滴下終了
後、反応液にベンゼン(100 ml)を加え抽出した。水層
はベンゼン(50 ml × 5)でさらに繰り返し抽出し、抽
出液は合わせたのち無水炭酸カリウムを加え晩攪拌し
た。無水炭酸カリウムを濾別し、濾液を濃縮後、蒸留
し、(S)-(+)-2,2,5-トリメチル-4-ジオキソラノン(10.
5 g, 収率 15%)を得た。 無色液体 沸点 61 ℃/20 mmHg 文献値 50〜53 ℃/20
mmHg [α]D 20 +34°(c 1.0, CHCl3) 文献値 [α]D 20 +33.3
°(c 2.0, CHCl3)1 H NMR (CDCl3) δ 1.47 (d, J = 9.2 Hz, 3 H), 1.55
(s, 3 H), 1.62 (s, 3 H), 4.47 (q, J = 6.8 Hz, 1 H)
キソラノンの合成 文献(F. A. Davisら J. Am. Chem. Soc., 112, 6679-6
690 (1990))記載の方法に従って、L-乳酸(50 g, 0.55
mol)のアセトン(200 ml)溶液に反応温度を-5 ℃以
下に保ちながら、硫酸(90 ml)を滴下した。滴下終了
後、反応液にベンゼン(100 ml)を加え抽出した。水層
はベンゼン(50 ml × 5)でさらに繰り返し抽出し、抽
出液は合わせたのち無水炭酸カリウムを加え晩攪拌し
た。無水炭酸カリウムを濾別し、濾液を濃縮後、蒸留
し、(S)-(+)-2,2,5-トリメチル-4-ジオキソラノン(10.
5 g, 収率 15%)を得た。 無色液体 沸点 61 ℃/20 mmHg 文献値 50〜53 ℃/20
mmHg [α]D 20 +34°(c 1.0, CHCl3) 文献値 [α]D 20 +33.3
°(c 2.0, CHCl3)1 H NMR (CDCl3) δ 1.47 (d, J = 9.2 Hz, 3 H), 1.55
(s, 3 H), 1.62 (s, 3 H), 4.47 (q, J = 6.8 Hz, 1 H)
【0038】(2)(S)-(+)-2,2-ジメチル-4-ヒドロキ
シ-3-ペンタノンの合成 文献(F. A. Davisら J. Am. Chem. Soc., 112, 6679-6
690 (1990))記載の方法に従って、(S)-(+)-2,2,5-トリ
メチル-4-ジオキソラノン(20.0 g, 154 mmol)のテト
ラヒドロフラン(THF)(200 ml) 溶液に、-78 ℃で t
-ブチルリチウム (1.76 M ヘキサン溶液, 87.5 ml, 15
4 mmol)を滴下し2時間攪拌した。反応液に水(100 m
l)を加え、室温に戻した後に混合液をエーテル (50
ml × 3)で抽出した。有機層は飽和食塩水(100 ml)
で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残
渣を蒸留し、 40-46 ℃/5 mmHg の留分を7.08 g得た。
粗生成物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ペン
タン/エーテル=3/1)によって精製し、(S)-(+)-2,2-
ジメチル-4-ヒドロキシ-3-ペンタノン(3.05 g, 収率 8
%)を得た。 無色液体 Rf (ペンタン/エーテル=3/1) 0.3 [α]D 20 +50°(c 1.0, CHCl3) 文献値 [α]D 20 +61.5
°(c 2.0, CHCl3)1 H NMR (CDCl3) δ 1.22 (s, 9 H), 1.33 (d, J = 4.1
Hz, 3 H), 3.34 (d, J =7.6 Hz, 1 H), 4.55-4.65 (m,
1 H)
シ-3-ペンタノンの合成 文献(F. A. Davisら J. Am. Chem. Soc., 112, 6679-6
690 (1990))記載の方法に従って、(S)-(+)-2,2,5-トリ
メチル-4-ジオキソラノン(20.0 g, 154 mmol)のテト
ラヒドロフラン(THF)(200 ml) 溶液に、-78 ℃で t
-ブチルリチウム (1.76 M ヘキサン溶液, 87.5 ml, 15
4 mmol)を滴下し2時間攪拌した。反応液に水(100 m
l)を加え、室温に戻した後に混合液をエーテル (50
ml × 3)で抽出した。有機層は飽和食塩水(100 ml)
で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残
渣を蒸留し、 40-46 ℃/5 mmHg の留分を7.08 g得た。
粗生成物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ペン
タン/エーテル=3/1)によって精製し、(S)-(+)-2,2-
ジメチル-4-ヒドロキシ-3-ペンタノン(3.05 g, 収率 8
%)を得た。 無色液体 Rf (ペンタン/エーテル=3/1) 0.3 [α]D 20 +50°(c 1.0, CHCl3) 文献値 [α]D 20 +61.5
°(c 2.0, CHCl3)1 H NMR (CDCl3) δ 1.22 (s, 9 H), 1.33 (d, J = 4.1
Hz, 3 H), 3.34 (d, J =7.6 Hz, 1 H), 4.55-4.65 (m,
1 H)
【0039】(3)(S)-4-ベンジルオキシ-2,2-ジメチ
ル-3-ペンタノンの合成 (S)-(+)-2,2-ジメチル-4-ヒドロキシ-3-ペンタノン(26
0 mg, 2.0 mmol)の DMF(5 ml)溶液に酸化銀(696 m
g, 3.0 mmol)、臭化ベンジル(476μl, 4.0 mmol)を
加えて室温で一晩攪拌した。反応混合物をクロロホルム
(20 ml)で希釈し、セライトで懸濁液を濾過した。濾
液は 2 M 塩酸(10 ml)、飽和食塩水(10ml)で洗浄し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/
ヘキサン=4/1)によって精製し、(S)-4-ベンジルオ
キシ-2,2-ジメチル-3-ペンタノン(97 mg, 収率 22%, 8
6% e.e.)を得た。 無色液体 Rf (クロロホルム/ヘキサン=4/1) 0.51 H NMR (CDCl3) δ 1.18 (s, 9 H), 1.36 (d, J = 6.6
Hz, 3 H), 4.48 (d, J =12 Hz, 1 H), 4.49 (q, J = 6.
4 Hz, 1 H), 4.52 (d, J = 12 Hz, 1 H), 7.22-7.45
(m, 5 H)
ル-3-ペンタノンの合成 (S)-(+)-2,2-ジメチル-4-ヒドロキシ-3-ペンタノン(26
0 mg, 2.0 mmol)の DMF(5 ml)溶液に酸化銀(696 m
g, 3.0 mmol)、臭化ベンジル(476μl, 4.0 mmol)を
加えて室温で一晩攪拌した。反応混合物をクロロホルム
(20 ml)で希釈し、セライトで懸濁液を濾過した。濾
液は 2 M 塩酸(10 ml)、飽和食塩水(10ml)で洗浄し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/
ヘキサン=4/1)によって精製し、(S)-4-ベンジルオ
キシ-2,2-ジメチル-3-ペンタノン(97 mg, 収率 22%, 8
6% e.e.)を得た。 無色液体 Rf (クロロホルム/ヘキサン=4/1) 0.51 H NMR (CDCl3) δ 1.18 (s, 9 H), 1.36 (d, J = 6.6
Hz, 3 H), 4.48 (d, J =12 Hz, 1 H), 4.49 (q, J = 6.
4 Hz, 1 H), 4.52 (d, J = 12 Hz, 1 H), 7.22-7.45
(m, 5 H)
【0040】(実施例2)(R)-(+)-2,2-ジメチルプロパ
ン酸 1-ベンジルオキシエチルの合成
ン酸 1-ベンジルオキシエチルの合成
【0041】
【化14】
【0042】(S)-4-ベンジルオキシ-2,2-ジメチル-3-ペ
ンタノン(80 mg, 0.36 mmol)のジクロロメタン(4 m
l)溶液に炭酸水素ナトリウム(39 mg, 0.47 mmol)、
メタクロロ過安息香酸(95 mg, 0.55 mmol)を加えて室
温で3日間攪拌した。反応混合物に水(10 ml)を加え
て有機層を分離後、水層を酢酸エチル(10 ml × 3)で
抽出した。有機層は合わせて飽和食塩水(10 ml)で洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/
酢酸エチル=15/1) によって精製し、(R)-(+)-2,2-ジ
メチルプロパン酸1-ベンジルオキシエチル(36 mg, 収
率 42%, 70% e.e.)を得た。 無色液体 Rf (ヘキサン/酢酸エチル=15/1) 0.31 H NMR (CDCl3) δ 1.22 (s, 9 H), 1.43 (d, J = 5.2
Hz, 3 H), 4.55 (d, J =12 Hz, 1 H), 4.69 (d, J = 12
Hz, 1 H), 6.02 (q, J = 5.2 Hz, 1 H), 7.20-7.41
(m, 5 H)
ンタノン(80 mg, 0.36 mmol)のジクロロメタン(4 m
l)溶液に炭酸水素ナトリウム(39 mg, 0.47 mmol)、
メタクロロ過安息香酸(95 mg, 0.55 mmol)を加えて室
温で3日間攪拌した。反応混合物に水(10 ml)を加え
て有機層を分離後、水層を酢酸エチル(10 ml × 3)で
抽出した。有機層は合わせて飽和食塩水(10 ml)で洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/
酢酸エチル=15/1) によって精製し、(R)-(+)-2,2-ジ
メチルプロパン酸1-ベンジルオキシエチル(36 mg, 収
率 42%, 70% e.e.)を得た。 無色液体 Rf (ヘキサン/酢酸エチル=15/1) 0.31 H NMR (CDCl3) δ 1.22 (s, 9 H), 1.43 (d, J = 5.2
Hz, 3 H), 4.55 (d, J =12 Hz, 1 H), 4.69 (d, J = 12
Hz, 1 H), 6.02 (q, J = 5.2 Hz, 1 H), 7.20-7.41
(m, 5 H)
【0043】(実施例3)(S)-(+)-2-ベンジルオキシヘ
キサンの合成
キサンの合成
【0044】
【化15】
【0045】ヨウ化銅(428 mg, 2.25 mmol)のエーテ
ル(5 ml)懸濁液に、-30 ℃でブチルリチウム(1.65 M
ヘキサン溶液, 2.73 ml, 4.50 mmol)を加え、5分間
攪拌した。これを-78 ℃に冷却したのち、(S)-(+)-酢酸
1-ベンジルオキシエチル(147 mg, 0.75 mmol, 71% e.
e.)を加え3分間攪拌した。さらに、三フッ化ホウ素エ
ーテル錯体(120 μl, 0.98 mmol)のエーテル(1 ml)
溶液を5分間かけて滴下し、30分間攪拌した。反応液を
エーテル(5 ml)で希釈し、希塩化アンモニウム水溶液
(10 ml)を加え室温まで昇温した。懸濁液をセライト
上でろ過し、ろ液はエーテル(10 ml × 2)で抽出し
た。有機層はまとめて飽和食塩水(10 ml)で洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=40/
1)によって精製し、(S)-(+)-2-ベンジルオキシヘキサ
ン(72mg, 収率 50%, 60% e.e.)を得た。
ル(5 ml)懸濁液に、-30 ℃でブチルリチウム(1.65 M
ヘキサン溶液, 2.73 ml, 4.50 mmol)を加え、5分間
攪拌した。これを-78 ℃に冷却したのち、(S)-(+)-酢酸
1-ベンジルオキシエチル(147 mg, 0.75 mmol, 71% e.
e.)を加え3分間攪拌した。さらに、三フッ化ホウ素エ
ーテル錯体(120 μl, 0.98 mmol)のエーテル(1 ml)
溶液を5分間かけて滴下し、30分間攪拌した。反応液を
エーテル(5 ml)で希釈し、希塩化アンモニウム水溶液
(10 ml)を加え室温まで昇温した。懸濁液をセライト
上でろ過し、ろ液はエーテル(10 ml × 2)で抽出し
た。有機層はまとめて飽和食塩水(10 ml)で洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=40/
1)によって精製し、(S)-(+)-2-ベンジルオキシヘキサ
ン(72mg, 収率 50%, 60% e.e.)を得た。
【0046】無色液体 沸点 100 ℃/0.3 mmHg Rf (ヘキサン/酢酸エチル=40/1) 0.3 [α]D 20 +14°(C 0.99, CHCl3) IR (neat) 2961, 2932, 2861, 1454, 1375, 1343, 111
9, 1092, 1071, 733, 696cm-1 1 H NMR (CDCl3) δ 0.90 (t, J = 6.9 Hz, 3 H), 1.19
(d, J =6.1 Hz, 3 H), 1.25-1.49 (m, 5 H), 1.56-1.66
(m, 1 H), 3.46-3.55 (m, 1 H), 4.46 (d, J =12 Hz,
1 H), 4.56 (d, J = 12 Hz, 1 H), 7.24-7.37 (m, 5 H) MS (m/z) 135 (7), 107 (2), 101 (2), 91 (100), 65
(10) 元素分析: C13H20O として、計算値: C, 81.20; H, 1
0.48%. 実測値: C, 81.29; H, 10.61%
9, 1092, 1071, 733, 696cm-1 1 H NMR (CDCl3) δ 0.90 (t, J = 6.9 Hz, 3 H), 1.19
(d, J =6.1 Hz, 3 H), 1.25-1.49 (m, 5 H), 1.56-1.66
(m, 1 H), 3.46-3.55 (m, 1 H), 4.46 (d, J =12 Hz,
1 H), 4.56 (d, J = 12 Hz, 1 H), 7.24-7.37 (m, 5 H) MS (m/z) 135 (7), 107 (2), 101 (2), 91 (100), 65
(10) 元素分析: C13H20O として、計算値: C, 81.20; H, 1
0.48%. 実測値: C, 81.29; H, 10.61%
【0047】
【発明の効果】本発明によりこれまで立体選択的合成が
困難であった、光学活性1−アルコキシアルキルエステ
ルを容易に製造することができ、またそれを用いて簡便
に光学活性エーテル化合物を製造することができる。
困難であった、光学活性1−アルコキシアルキルエステ
ルを容易に製造することができ、またそれを用いて簡便
に光学活性エーテル化合物を製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 69/14 C07C 69/14 69/24 69/24 69/78 9546−4H 69/78 // C07M 7:00
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1は置換もしくは未置換のアルキル基またはフ
ェニル基を表わし、R2は置換もしくは未置換のアルキル
基を表わし、R3は置換もしくは未置換のアルキル基また
はフェニル基を表わす。ただし、*を付した炭素は不斉
炭素であって、それらの絶対配置はRまたはSのいずれか
一方である。)で表わされる光学活性アルコキシケトン
を酸化することを特徴とする、一般式(II) 【化2】 (式中、R1、R2、R3および*を付した炭素は上記と同一
である。)で表わされる光学活性1−アルコキシアルキ
ルエステルの製造方法。 - 【請求項2】 一般式(IIa) 【化3】 (式中、R1'は置換もしくは未置換のアルキル基または
フェニル基を表わし、R2'は置換もしくは未置換のアル
キル基を表わし、R3'は置換もしくは未置換のアルキル
基またはフェニル基を表わす。ただし、R1'、R2'および
R3'上にキラルな不斉炭素をもたず、R2'はトリクロロメ
チル基以外である。また、*を付した炭素は不斉炭素で
あって、それらの絶対配置はRまたはSである。)で表わ
される光学活性1−アルコキシアルキルエステル。 - 【請求項3】 一般式(II) 【化4】 (式中、R1は置換もしくは未置換のアルキル基またはフ
ェニル基を表わし、R2は置換もしくは未置換のアルキル
基を表わし、R3は置換もしくは未置換のアルキル基また
はフェニル基を表わす。ただし、*を付した炭素は不斉
炭素であって、それらの絶対配置はRまたはSである。)
で表される光学活性1−アルコキシアルキルエステルに
ルイス酸存在下、有機銅反応剤を作用させることを特徴
とする、一般式(III) 【化5】 (式中、R1およびR2は上記と同一であり、R4は置換もし
くは未置換のアルキル基、ビニル基またはフェニル基を
表わす。ただし、*を付した炭素は不斉炭素であって、
それらの絶対配置はRまたはSである。)で表わされる光
学活性エーテル化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3321095A JPH08225477A (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | 光学活性1−アルコキシアルキルエステル、その製造方法、および光学活性エーテル化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3321095A JPH08225477A (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | 光学活性1−アルコキシアルキルエステル、その製造方法、および光学活性エーテル化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08225477A true JPH08225477A (ja) | 1996-09-03 |
Family
ID=12380097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3321095A Pending JPH08225477A (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | 光学活性1−アルコキシアルキルエステル、その製造方法、および光学活性エーテル化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08225477A (ja) |
-
1995
- 1995-02-22 JP JP3321095A patent/JPH08225477A/ja active Pending
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