JP2002105045A - ボンクレキン酸前駆化合物及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、ボンクレキン酸の実用的で簡便な
合成方法を提供するためのボンクレキン酸前駆体であ
る、ボンクレキン酸のＣ_１〜Ｃ_１０セグメント（ボンク
レキン酸分子の左半分）及びＣ_１１〜Ｃ_２２セグメント
（ボンクレキン酸分子の右半分）の実用的で且つ効率的
な製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 例えば、１−ｔ−ブチルジフェニルシリ
ルオキシ−４−イオド−２−ブテンとＮ−プロピオニル
オキサゾリジノンとの反応から始まって、合計８工程で
ボンクレキン酸のＣ_１〜Ｃ_１０セグメントを合成する方
法と、（Ｓ）−４−メチル−５−トリチルオキシメチル
−２（５Ｈ）−フラノンをフラノール体とする反応から
始まって、合計８工程でボンクレキン酸のＣ_１１〜Ｃ
_２２セグメントを合成する方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、アポトーシスの阻
害活性を有することからアポトーシスに関する研究に必
須の化合物として有用性の高いボンクレキン酸の前駆化
合物であるボンクレキン酸のＣ_１〜Ｃ_１０セグメント及
びボンクレキン酸のＣ_１１〜Ｃ_２２セグメントの製造方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ボンクレキン酸はボンクレク酸ともよば
れ、一般にＡＴＰ−ＡＤＰ交換輸送体の阻害剤として知
られており、下記構造式で示される。

【０００３】

【化９５】

【０００４】ボンクレキン酸は最近の研究により細胞死
の一つであるアポトーシスに対し阻害作用を有すること
が明らかとなったことから、アポトーシスの分子機構解
明の研究をする上で必須の化合物として世界中の生化学
者から注目を集めている。ボンクレキン酸は、Pseudomo
nas cocovenenansという細菌が、ココナッツを培地とし
た場合に産生する化合物として単離されたが、実験条件
の再現が困難であり、各国の研究者たちはその入手に難
渋している。ボンクレキン酸の化学的合成法としては、
これまで報告が１例のみあるが（J.Am.Chem.Soc. 1984,
106, 462-463）、この方法では実質上必要量は得られ
ない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ボンクレキ
ン酸の実用的で簡便な合成方法を提供するためのボンク
レキン酸前駆体であるボンクレキン酸のＣ_１〜Ｃ_１０セ
グメント（ボンクレキン酸分子の左半分）及びボンクレ
キン酸のＣ_１１〜Ｃ_２２セグメント（ボンクレキン酸分
子の右半分）の実用的で且つ効率的な製造方法を提供す
ることを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、下記（１）〜
（８）の工程を含んでなるボンクレキン酸のＣ_１〜Ｃ
_１０セグメントの製造方法に関する。 （１）一般式［１］

【化９６】 ［式中、Ｒ^１は、

【化９７】 （但し、Ｒ^２は、ベンジル基、イソプロピル基又はメチ
ル基を表し、Ｒ^３，Ｒ^４はそれぞれ独立して水素原子又
はフェニル基を表す。）（以下、保護基Ａと略すことが
ある。）又は

【化９８】 （以下、保護基Ｂと略すことがある。）を表す。］で示
される化合物を、一般式［２］

【化９９】 （式中、Ｒ^５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
キシメチル基を表し、Ｘ^１はハロゲン原子を表す。）で
示される化合物と反応させて、一般式［３］

【化１００】 （式中、Ｒ^１，Ｒ^５は前記と同じ。）で示される化合物
とする工程。 （２）上記（１）で得られた一般式［３］で示される化
合物を還元して、一般式［４］

【化１０１】 （式中、Ｒ^５は前記と同じ。）で示されるアルコール体
とする工程。 （３）上記（２）で得られたアルコール体を酸化して、
一般式［５］

【化１０２】 （式中、Ｒ^５は前記と同じ。）で示されるアルデヒド体
とした後、一般式［６］

【化１０３】 （式中、Ｒ^８，Ｒ^９はそれぞれ独立してアルキル基を表
す。また、Ｒ^８とＲ^９とが一緒になってアルキレン基を
形成していてもよい。）で示されるジクロロメチルボロ
ニックエステルと反応させて、一般式［７］

【化１０４】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^８及びＲ^９は前記と同じ。）で示され
るボロニックエステル体とする工程。 （４）上記（３）で得られたボロニックエステル体を、
一般式［８］

【化１０５】 （式中、Ｒ^６は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
キシメチル基を表す。）で示される化合物と反応させ
て、一般式［９］

【化１０６】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^６は前記と同じ。但し、Ｒ^５≠Ｒ^６）
で示されるカップリング体とする工程。 （５）上記（４）で得られたカップリング体を、一般式
［１０］

【化１０７】 （式中、Ｒ^７は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
キシメチル基を表し、Ｘ^２はハロゲン原子を表す。）で
示される化合物と反応させて、一般式［１１］

【化１０８】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^６及びＲ^７は前記と同じ。但し、Ｒ^５
≠Ｒ^６且つＲ^５≠Ｒ^７）で示される化合物とする工程。 （６）上記（５）で得られた一般式［１１］で示される
化合物の１０位の水酸基の保護基Ｒ^５を脱保護して、一
般式［１２］

【化１０９】 （式中、Ｒ^６，Ｒ^７は前記と同じ。）で示されるアリル
アルコール体とする工程。 （７）上記（６）で得られ
たアリルアルコール体の水酸基をハロゲン置換して、一
般式［１３］

【化１１０】 （式中、Ｘ^３はハロゲン原子を表し、Ｒ^６，Ｒ^７は前記
と同じ。）で示されるハロゲン体とする工程。 （８）上記（７）で得られたハロゲン体を一般式［１
４］

【化１１１】 （式中、Ｒ^１０は低級アルキル基又はアリール基を表
し、Ｍはアルカリ金属原子を表す。）で示されるスルフ
ィン酸塩と反応させて、一般式［１５］

【化１１２】 （式中、Ｒ^６，Ｒ^７及びＲ^１０は前記と同じ。）で示さ
れるスルホン体とする工程。

【０００７】また、本発明は、上記ボンクレキン酸のＣ
_１〜Ｃ_１０セグメントの製造方法に於ける各中間体とそ
れら中間体の製造方法に関する。

【０００８】更に、本発明は、下記（１１）〜（１８）
の工程を含んでなるボンクレキン酸のＣ_１１〜Ｃ_２２セ
グメントの製造法に関する。 （１１）一般式［２１］

【化１１３】 （式中、Ｒ^１１は水酸基の保護基を表す。）で示される
化合物を還元して、一般式［２２］

【化１１４】 （式中、Ｒ^１１は前記と同じ。）で示されるフラノール
体とする工程。 （１２）上記（１１）で得られた一般式［２２］で示さ
れるフラノール体を一般式［２３］

【化１１５】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
ル基を表す。）で示されるホスホランと反応させて、一
般式［２４］

【化１１６】 （式中、Ｒ^１１，Ｒ^１２は前記と同じ。）で示される化
合物とする工程。 （１３）上記（１２）で得られた一般式［２４］で示さ
れる化合物の７位の水酸基の保護基を脱保護して、一般
式［２５］

【化１１７】 （式中、Ｒ^１２は前記と同じ。）で示されるジヒドロキ
シ体とする工程。 （１４）上記（１３）で得られた一般式［２５］で示さ
れるジヒドロキシ体の７位の水酸基をトシル化、メシル
化又はハロゲン置換して、一般式［２６］

【化１１８】 （式中、Ｘ^１１はトシルオキシ基、メシルオキシ基又は
ハロゲン原子を表し、Ｒ ^１２は前記と同じ。）で示され
る化合物とする工程。 （１５）上記（１４）で得られた一般式［２６］で示さ
れる化合物を塩基で処理して、一般式［２７］

【化１１９】 （式中、Ｒ^１２は前記と同じ。）で示される６，７−エ
ポキシ体とする工程。 （１６）上記（１５）で得られた一般式［２７］で示さ
れる６，７−エポキシ体を一般式［２８］

【化１２０】 （式中、Ｒ^１３は水酸基の保護基を表す。）で示される
化合物と反応させて、一般式［２９］

【化１２１】 （式中、Ｒ^１２，Ｒ^１３は前記と同じ。）で示される化
合物とする工程。 （１７）上記（１６）で得られた一般式［２９］で示さ
れる化合物の６位の水酸基をメチル化して、一般式［３
０］

【化１２２】 （式中、Ｒ^１２，Ｒ^１３は前記と同じ。）で示される化
合物とする工程。 （１８）上記（１７）で得られた一般式［３０］で示さ
れる化合物の三重結合を部分水素化して、一般式［３
１］

【化１２３】 （式中、Ｒ^１２，Ｒ^１３は前記と同じ。）で示される化
合物とする工程。

【０００９】また、本発明は、上記ボンクレキン酸のＣ
_１１〜Ｃ_２２セグメントの製造法に於ける各中間体とそ
れら中間体の製造法に関する。

【００１０】本発明に係る上記工程（１）において、一
般式［２］で示される化合物のＸ^１としては、例えば塩
素、臭素、沃素等のハロゲン原子が挙げられるが、臭素
原子又は沃素原子が好ましく、沃素原子が特に好まし
い。また、一般式［２］で示される化合物のＲ^５は、ｔ
−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル
基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル
基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメ
チル基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基の何
れでも良いが、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ｔ−ブ
チルジメチルシリル基等が特に好ましい。一般式［１］
で示される化合物を一般式［２］で示される化合物と反
応させるに際しては、例えば、先ず一般式［１］で示さ
れる化合物をリチオ化又はナトリウム化した後、一般式
［２］で示される化合物と反応させるのが好ましい。リ
チオ化は、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル系
溶媒中、ｎ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチ
ウムジイソプロピルアミド、或いはｎ−ブチルリチウム
とジイソプロピルアミンとの組み合わせ等のリチオ化試
薬を用いて、−５０℃以下、好ましくは−７０℃以下
で、常法に従ってリチオ化反応させればよく、リチオ化
後、これに一般式［２］で示される化合物を反応させれ
ば、一般式［３］で示される化合物が容易に得られる。
一般式［２］で示される化合物を反応させる際の反応温
度は、通常−５０〜−１０℃、好ましくは−４０〜−２
０℃、反応時間は、通常１〜１０時間、好ましくは２〜
５時間程度である。

【００１１】また、ナトリウム化は、例えばＴＨＦ、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル
系溶媒中、ヘキサメチルホスホルアミド（ＨＭＰＡ）の
存在下、例えばビストリメチルシリルアミドナトリウム
塩（ＮＨＭＤＳ）、水素化ナトリウム等のナトリウム化
剤を用いて、−５０℃以下、好ましくは−７０℃以下
で、常法に従ってナトリウム化反応させればよく、ナト
リウム化後、これに一般式［２］で示される化合物を反
応させれば、一般式［３］で示される化合物が容易に得
られる。一般式［２］で示される化合物を反応させる際
の反応温度は、通常−５０℃以下、好ましくは−７０℃
以下で、反応時間は、通常１〜１０時間、好ましくは２
〜５時間程度である。リチオ化、ナトリウム化の何れが
好ましいかについては、種々の要因の絡みがあるので一
概には言えないが、通常、一般式［１］において、Ｒ^１
が保護基Ａの場合にはリチオ化が適しており、Ｒ^１が保
護基Ｂの場合にはナトリウム化が適している。

【００１２】本発明に係る上記工程（２）において、一
般式［３］で示される化合物の還元は、還元後一般式
［４］で示されるアルコール体となり得るような還元方
法であればどのような還元方法でもよいが、通常は、水
素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム等の還元
剤が好ましく用いられる。溶媒は、通常ＴＨＦ、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶
媒が用いられ、還元反応の反応温度は、通常０℃前後、
反応時間は、通常数十分〜数時間程度である。

【００１３】本発明に係る上記工程（３）において、一
般式［６］で示される化合物及び一般式［７］で示され
る化合物のＲ^８，Ｒ^９で示されるアルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基等、炭素数１〜６の低級アルキル
基が挙げられ、直鎖状、分岐状の何れでもよく、また、
Ｒ^８とＲ^９とが一緒になってアルキレン基を形成してい
る場合のアルキレン基としては、例えばエチレン基、ト
リメチレン基、テトラメチレン基、１，２−ジメチルエ
チレン基、１，１，２，２−テトラメチルエチレン基等
が挙げられる。

【００１４】一般式［４］で示されるアルコール体を酸
化してアルデヒド体とする反応に用いられる試薬として
は、一般式［４］で示されるアルコール体を酸化してア
ルデヒド体とし得る試薬であればどのようなものでも良
いが、例えば、塩化オキサリル及びジメチルスルホキシ
ドと例えばトリエチルアミン等の塩基との組み合わせが
挙げられる。この場合の反応溶媒としては、通常塩化メ
チレン、ジクロルメタン、クロロホルム等が用いられ
る。反応温度は通常−５０℃以下、好ましくは−７０℃
以下で、反応時間は始め塩化オキサリル及びジメチルス
ルホキシドとアルコール体とを一緒にした時点で通常数
十分程度、その後、更に例えばトリエチルアミン等の塩
基を加え、更に数十分程度撹拌し、反応させればよい。
アルコール体を酸化してアルデヒド体とする反応に用い
られる上記以外の試薬としては、例えば、クロロクロム
酸ピリジニウム、二クロム酸ピリジニウム、Dess-Marti
n試薬（１，１，１−トリアセトキシ−１，１−ジヒド
ロ−１，２−ベンズイオドキソル−３（１Ｈ）−オ
ン）、ＴＲＡＰ（テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム
パールテネイト）とＮ−メチルモルホリン Ｎ−オキシ
ドとの組み合わせ試薬等が挙げられる。

【００１５】アルデヒド体とジクロロメチルボロニック
エステルとの反応は、通常ＴＨＦ等のエーテル系溶媒
中、過剰量の無水塩化クロム及び過剰量の無水ヨウ化リ
チウムの存在下に反応が行われる。反応は通常室温で行
われ、反応時間は通常数時間乃至十数時間である。無水
塩化クロムと無水ヨウ化リチウムとの組み合わせ以外
に、無水塩化クロム、マンガン、無水ヨウ化リチウム及
び塩化トリメチルシリルの組み合わせもある。この場合
には、無水塩化クロムの使用量が触媒量なので、工業的
規模での生産を考えた場合には、有害な廃棄物の量が少
なくなるという点でメリットがある。

【００１６】本発明に係る上記工程（４）において、一
般式［８］で示される化合物のＲ^６は、ｔ−ブチルジフ
ェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチ
ルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチル
シリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル
基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセ
チル基又はメトキシエトキシメチル基の何れでも良い
が、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル基等が特
に好ましい。一般式［７］で示されるボロニックエステ
ル体と一般式［８］で示される化合物との反応は、通常
パラジウム錯体触媒及びアルカリの存在下に行われる。
パラジウム錯体触媒としては、３級ホスフィン又は３級
ホスファイトを配位子とする低原子価錯体、或いは、３
級ホスフィン又は３級ホスファイトを配位子として含ま
ないパラジウム錯体と、３級ホスフィン又は／及び３級
ホスファイトとを併用し、反応系中で形成させた３級ホ
スフィン又は／及び３級ホスファイトを配位子とする低
原子価錯体等が挙げられ、好ましい具体例としては、３
級ホスフィン又は３級ホスファイトを配位子とする低原
子価錯体としては、例えばテトラキス（トリフェニルホ
スフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホ
スフィン）パラジウム等が挙げられ、３級ホスフィン又
は／及び３級ホスファイトと組み合わせて使用するパラ
ジウム錯体としては、例えばジベンジリデンアセトンパ
ラジウム・クロロホルム付加物、酢酸パラジウム等が挙
げられる。また、この反応に於いて用いられるアルカリ
としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液
が好ましく用いられる。反応溶媒としては通常ＴＨＦ等
のエーテル系溶媒が好ましく用いられ、反応は通常溶媒
還流下に５〜１５時間位行われる。

【００１７】本発明に係る上記工程（５）において、一
般式［１０］で示される化合物のＸ ^２としては、例えば
塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子が挙げられる。ま
た、Ｒ ^７は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソ
プロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリ
エチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフ
ェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル
基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエトキ
シメチル基の何れでも良いが、メトキシメチル基、アセ
チル基等が特に好ましい。一般式［９］で示されるカッ
プリング体と一般式［１０］で示される化合物との反応
は通常塩基の存在下に行われる。ここで使用される塩基
としては、例えばジイソプロピルエチルアミンや４−ジ
メチルアミノピリジン等の脂肪族や芳香族の３級アミン
類が挙げられる。反応溶媒としては、通常塩化メチレ
ン、ジクロルメタン、クロロホルム等が好ましく用いら
れ、反応は通常室温で数時間程度で充分である。

【００１８】本発明に係る上記工程（６）において、一
般式［１１］で示される化合物の１０位の水酸基の保護
基Ｒ^５を脱保護して、一般式［１２］で示されるアリル
アルコール体とする反応に用いられる脱保護試薬は、Ｒ
^５の種類により自ずから異なるが、例えばＲ^５がｔ−ブ
チルジフェニルシリル基の場合には、例えばテトラブチ
ルアンモニウムフルオリド等が好ましく用いられる。反
応溶媒としては通常ＴＨＦ等のエーテル系溶媒が好まし
く用いられ、反応は通常室温で数時間程度で充分であ
る。

【００１９】本発明に係る上記工程（７）において、一
般式［１３］で示される化合物のＸ ^３としては、例えば
塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子が挙げられる。一般
式［１１］で示されるアリルアルコール体の水酸基をハ
ロゲン置換する際に用いられるハロゲン化剤としては、
アルコール性の水酸基をハロゲン化し得るハロゲン化剤
であればどのようなものでも良いが、例えば、四塩化炭
素とトリフェニルホスフィンの組み合わせ、四臭化炭素
とトリフェニルホスフィンの組み合わせ、三臭化リン、
ヨウ化メチルとホスホン酸トリフェニルとの組み合わせ
等が挙げられる。反応溶媒としては、通常塩化メチレ
ン、ジクロルエタン、クロロホルム等が好ましく用いら
れ、反応は通常室温で行われ反応時間は通常３〜８時間
位である。

【００２０】本発明に係る上記工程（８）において、一
般式［１４］で示される化合物のＲ ^１０で示される低級
アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等、炭素数
１〜６の低級アルキル基が挙げられ、直鎖状、分子状の
何れでもよく、また、Ｒ^１０で示されるアリール基とし
ては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフ
チル基、メチルナフチル基等が挙げられる。また、Ｍで
示されるアルカリ金属原子としては、例えばナトリウ
ム、カリウム、リチウム等が挙げられる。一般式［１
３］で示されるハロゲン体と一般式［１４］で示される
化合物との反応は、通常ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）溶媒中で行われる。反応温度は通常室温で反応時間
は通常１０〜３０時間位である。

【００２１】本発明のボンクレキン酸のＣ_１〜Ｃ_１０セ
グメントの製造方法に於いて、出発物質として用いられ
る一般式［２］で示される化合物は、例えば下記合成ス
キームに従って合成することが出来る。

【００２２】

【化１２４】

【００２３】なお、上記反応スキームに於ける略号等の
正式名称は以下のとおりである。 ＭＰＭＣｌ：ｐ−メトキシフェニルメチルクロライド ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド ＭＰＭ：ｐ−メトキシフェニルメチル ＴＢＤＰＳＣｌ：ｔ−ブチルジフェニルシリルクロライ
ド ＴＢＤＰＳ：ｔ−ブチルジフェニルシリル ４−ＤＭＡＰ：４−ジメチルアミノピリジン ＤＤＱ：ジクロロジシアノベンゾキノン Ｒｅｄ−Ａｌ：水素化ビス（２−メトキシエトキシ）ア
ルミニウムナトリウム また、本発明のボンクレキン酸のＣ_１〜Ｃ_１０セグメン
トの製造方法に於いて、一般式［７］で示されるボロニ
ックエステル体と反応させる一般式［８］で示される化
合物は、例えば下記合成スキームに従って合成すること
が出来る。なお、下記合成スキーム中の略号の意味は上
記と同じである。

【００２４】

【化１２５】

【００２５】本発明に係る上記工程（１１）において、
一般式［２１］で示される化合物及び一般式［２２］で
示される化合物のＲ^１１で示される水酸基の保護基とし
ては、例えば、トリチル基（トリフェニルメチル基）、
ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリ
ル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル
基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメ
チル基、メトキシエトキシメチル基が挙げられ、何れも
使用可能であるが、トリチル基、ｔ−ブチルジメチルシ
リル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等が特に好まし
い。一般式［２１］で示される化合物の還元は、還元後
一般式［２２］で示されるフラノール体となり得るよう
な還元方法であればどのような還元方法でもよいが、通
常は、例えば、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素
化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、水
素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム等の金属水
素化物を用いて行われる。なかでも、水素化ジイソブチ
ルアルミニウム及び水素化リチウムアルミニウムが特に
好ましく用いられる。反応は、通常、ベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素系溶媒やｎ−ヘキサン、石油エー
テル等の脂肪族炭化水素系溶媒中で行われる。反応温度
は、通常−５０℃以下、好ましくは−７０℃以下、反応
時間は、反応温度その他の反応条件により自ずから異な
り、一様ではないが、通常数十分〜数時間程度である。
なお、本工程で得られる一般式［２２］で示される化合
物は、通常、精製することなく次の工程に用いられる。

【００２６】本発明に係る上記工程（１２）において、
一般式［２３］で示される化合物（ホスホラン）及び一
般式［２４］で示される化合物のＲ^１２で示されるアル
キル基としては、例えば、炭素数が１〜２０、好ましく
は１〜１０、より好ましくは１〜６の直鎖状又は分枝状
のアルキル基が挙げられ、より具体的には、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、第二級ブチル基、第三級ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられる。アリー
ル基としては、例えば、炭素数６〜３０、好ましくは６
〜２０、より好ましくは６〜１５の単環、多環又は縮合
環式の芳香族炭化水素基が挙げられ、より具体的には、
例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル
基、メチルナフチル基等が挙げられる。アラルキル基と
しては、例えば、炭素数７〜３０、好ましくは７〜２
０、より好ましくは７〜１５の単環、多環又は縮合環式
のアラルキル基が挙げられ、より具体的には、例えば、
ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチ
ルエチル基等が挙げられる。一般式［２２］で示される
化合物と一般式［２３］で示されるホスホランとの反応
は、通常、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶
媒中で行われ、反応温度は、通常５０℃以上、好ましく
は用いた溶媒の還流温度、反応時間は、他の反応条件に
より自ずから異なるが、通常数十分〜数時間程度であ
る。

【００２７】なお、工程（１２）において、一般式［２
２］で示されるフラノール体を一般式［２３］で示され
るホスホランと反応させて一般式［２４］で示される化
合物（エステル体）とし、このエステル体をそのまま
（１３）以降の工程に持っていく代わりに、エステル体
を還元してアルコール体とし、更にこの水酸基を保護し
て、一般式［２４'］

【化１２６】 （式中、Ｒ_０ ^１３は水酸基の保護基を表す。）で示され
る化合物とした後、（１３）以降の工程に進む方法も可
能である。この場合の、一般式［２４］で示される化合
物（エステル体）を還元してアルコール体とする方法と
しては、例えば、還元剤として水素化ジイソブチルアル
ミニウムを用い、ＴＨＦ、塩化メチレン、トルエン等の
溶媒中、−７８℃〜０℃で反応させる方法や、還元剤と
して水素化リチウムアルミニウムを使用し、ＴＨＦやジ
エチルエーテル中で反応させる方法等がある。また、得
られたアルコール体の水酸基の保護基Ｒ_０ ^１３として
は、例えば、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソ
プロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリ
エチルシリル基、トリメチルシリル基等が挙げられる。

【００２８】本発明に係る上記工程（１３）において、
一般式［２４］で示される化合物の７位の水酸基の保護
基Ｒ^１１を脱保護して、一般式［２５］で示されるジヒ
ドロキシ体とする反応に用いられる脱保護試薬は、Ｒ
^１１の種類により自ずから異なるが、例えばＲ^１１がト
リチル基の場合には、例えば、ｐ−トルエンスルホン
酸、ギ酸、酢酸、塩酸、トリフルオロ酢酸等の酸触媒が
用いられ、例えばＲ^１１がｔ−ブチルジメチルシリル基
やｔ−ブチルジフェニルシリル基等の場合には、例えば
テトラブチルアンモニウムフルオリド等が好ましく用い
られる。反応溶媒としては、酸触媒を用いる系では、通
常エタノール等のアルコール系溶媒が用いられ、テトラ
ブチルアンモニウムフルオリド等が用いられる系では、
通常ＴＨＦ等のエーテル系溶媒が好ましく用いられる。
反応は前者の場合は通常室温で１〜６時間程度、後者の
場合は通常室温で数十分程度である。

【００２９】本発明に係る上記工程（１４）において、
一般式［２６］で示される化合物のＸ^１１としては、ト
シルオキシ基（ｐ−トルエンスルホニルオキシ基）、メ
シルオキシ基基（メタンスルホニルオキシ基）、例えば
塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子が挙げられる。一般
式［２５］で示されるジヒドロキシ体の７位の水酸基を
トシル化する場合に用いられる試薬としては、例えばト
シルクロライドと塩基（例えばピリジン等）の組み合わ
せが挙げられ、反応溶媒としては、例えば塩化メチレ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化
水素等が挙げられる。反応温度は通常０〜室温程度、反
応時間は通常数十分〜数時間程度である。一般式［２
５］で示されるジヒドロキシ体の７位の水酸基をメシル
化する場合に用いられる試薬としては、例えばメシルク
ロライドと塩基（例えばピリジン等）の組み合わせが挙
げられ、反応溶媒としては、例えば塩化メチレン、ジク
ロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素等が
挙げられる。反応温度は通常０〜室温程度、反応時間は
通常数十分〜数時間程度である。一般式［２５］で示さ
れるジヒドロキシ体の７位の水酸基をハロゲン置換する
際に用いられるハロゲン化剤としては、アルコール性の
水酸基をハロゲン化し得るハロゲン化剤であればどのよ
うなものでも良いが、例えば、四塩化炭素とトリフェニ
ルホスフィンの組み合わせ、四臭化炭素とトリフェニル
ホスフィンの組み合わせ、三臭化リン、ヨウ化メチルと
ホスホン酸トリフェニルとの組み合わせ等が挙げられ、
反応溶媒としては、通常塩化メチレン、ジクロルエタ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素が好ましく用
いられる。反応は通常室温で行われ反応時間は通常３〜
８時間位である。

【００３０】本発明に係る上記工程（１５）において、
一般式［２６］で示される化合物を塩基で処理して、一
般式［２７］で示される６，７−エポキシ体とする反応
に用いられる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等
が挙げられる。反応溶媒としては、通常アセトン等のケ
トン類が用いられ、反応は通常溶媒還流下に３〜１０時
間程度行われる。

【００３１】本発明に係る上記工程（１６）において、
一般式［２８］で示される化合物及び一般式［２９］で
示される化合物のＲ^１３で示される水酸基の保護基とし
ては、例えば、トリチル基（トリフェニルメチル基）、
ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリ
ル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル
基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメ
チル基、メトキシエトキシメチル基が挙げられ、何れも
使用可能であるが、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−
ブチルジフェニルシリル基等が特に好ましい。一般式
［２７］で示されるエポキシ体を一般式［２８］で示さ
れる化合物と反応させるに際しては、例えば、先ず一般
式［２８］で示される化合物をリチオ化又はマグネシウ
ム化した後、一般式［２７］で示されるエポキシ体と反
応させるのが好ましい。リチオ化は、例えばジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）等のエーテル系溶媒中、ｎ−ブチルリチウ
ム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミ
ド、或いはｎ−ブチルリチウムとジイソプロピルアミン
との組み合わせ等のリチオ化試薬を用いて、−５０℃以
下、好ましくは−７０℃以下で、常法に従ってリチオ化
反応させればよく、リチオ化後、同温度でこれに三ふっ
化ホウ素−ジエチルエーテルを反応させた後、一般式
［７］で示されるエポキシ体を反応させれば、一般式
［２９］で示される化合物が容易に得られる。一般式
［２７］で示される化合物を反応させる際の反応温度
は、リチオ化の反応温度と同じでよく、反応時間は、通
常１〜５時間程度である。

【００３２】また、マグネシウム化は、例えばＴＨＦ、
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテ
ル系溶媒中、例えば塩化メチルマグネシウム、臭化メチ
ルマグネシウム、ヨウ化メチルマグネシウム等のマグネ
シウム化剤を用いて、−５０℃以下、好ましくは−７０
℃以下で、常法に従ってマグネシウム化反応させればよ
く、マグネシウム化後、これに三ふっ化ホウ素−ジエチ
ルエーテルを反応させた後、一般式［２７］で示される
エポキシ体を反応させれば、一般式［２９］で示される
化合物が容易に得られる。

【００３３】本発明に係る上記工程（１７）において、
一般式［２９］で示される化合物の６位の水酸基をメチ
ル化する場合のメチル化試薬としては、例えば、ヨウ化
メチルと酸化銀の組み合わせが挙げられ、反応溶媒とし
ては例えばアセトニトリル等の極性非プロトン性溶媒が
挙げられる。反応は通常、溶媒還流下に１０〜３０時間
程度行われる。

【００３４】本発明に係る上記工程（１８）において、
一般式［３０］で示される化合物の三重結合を部分酸化
して一般式［３１］で示される化合物とする反応に用い
られる試薬としては、例えば、水素ガス、リンドラー触
媒、キノリンの組み合わせが挙げられる。この場合の反
応溶媒としては例えばｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素
系溶媒が好ましく用いられる。反応は、水素ガス雰囲気
下（１気圧）、通常１時間程度の撹拌で充分である。

【００３５】なお、上記工程（１３）において、一般式
［２４］で示される化合物の代わりに一般式［２４'］
で示される化合物を用いて同様に反応（７位の水酸基の
保護基Ｒ^１１を脱保護する反応）を行い、得られた化合
物を同様にして（１４）〜（１８）の工程に賦す場合の
反応条件等は上記と全く同じでよい。

【００３６】本発明のボンクレキン酸のＣ_１１〜Ｃ_２２
セグメントの製造方法に於いて、出発物質として用いら
れる一般式［２１］で示される化合物は、例えば下記合
成スキームに従って合成することが出来る。なお、合成
スキーム中のＴｒはトリチル基の略号である。

【００３７】

【化１２７】

【００３８】また、本発明のボンクレキン酸のＣ_１１〜
Ｃ_２２セグメントの製造方法に於いて、一般式［２７］
で示される６，７−エポキシ体と反応させる一般式［２
８］で示される化合物は、例えば下記合成スキームに従
って合成することが出来る。なお、下記合成スキーム中
の略号の意味は前記と同じである。

【００３９】

【化１２８】

【００４０】かくして得られた上記一般式［３１］で示
されるボンクレキン酸のＣ_１１〜Ｃ _２２セグメントをそ
の１２位の保護された水酸基部位をトシル化、メシル化
又はハロゲン置換して下記一般式［３２］

【００４１】

【化１２９】

【００４２】（式中、Ｘ^１２はトシルオキシ基、メシル
オキシ基又はハロゲン原子を表す。）で示される化合物
とした後、ボンクレキン酸分子の左半分に当たる前記一
般式［１５］で示されるボンクレキン酸のＣ_１〜Ｃ_１０
セグメントとカップリング反応させ、然る後、各種保護
基を適宜脱離させることによりボンクレキン酸が容易に
且つ効率よく得られる。

【００４３】なお、上記工程（１３）において、一般式
［２４］で示される化合物の代わりに一般式［２４'］
で示される化合物を用いて同様に反応（７位の水酸基の
保護基Ｒ^１１を脱保護する反応）を行い、一般式［２
４］で示される化合物を用いた場合と同様にして（１
４）〜（１８）の工程に付した場合に得られるボンクレ
キン酸のＣ_１１〜Ｃ_２２セグメントを、上記と同様にし
てその１２位の保護された水酸基部位をトシル化、メシ
ル化又はハロゲン置換した後、ボンクレキン酸のＣ _１〜
Ｃ_１０セグメントとカップリング反応させた場合には、
Ｒ_０ ^１３で示される水酸基の保護基を脱保護し、然る後
このアルコール体を酸化してカルボン酸にする必要があ
る。この場合の、Ｒ_０ ^１３で示される水酸基の保護基を
脱保護する方法は、保護基の種類により自ずから異なり
一様ではないが、例えば、Ｒ_０ ^１３がトリチル基の場合
には、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、ギ酸、酢酸、
塩酸、トリフルオロ酢酸等の酸触媒が用いられ、例えば
Ｒ_０ ^１３がｔ−ブチルジメチルシリル基やｔ−ブチルジ
フェニルシリル基等の場合には、例えばテトラブチルア
ンモニウムフルオリド等が好ましく用いられる。また、
アルコール体をカルボン酸に酸化する方法としては、ジ
ョーンズ試薬（クロム酸の硫酸水溶液）による酸化や、
二酸化マンガンによる酸化が一般的である。

【００４４】また、上記一般式［３２］で示される化合
物をそのままボンクレキン酸のＣ_１〜Ｃ_１０セグメント
とカップリング反応させる代わりに、一般式［３２］で
示される化合物［エステル体（ＣＯ_２Ｒ^１２）］を還元
してアルコール体（ＣＨ_２ＯＨ）とし、更にこの水酸基
を保護してＣＨ_２ＯＲ_０ ^１３（但し、Ｒ_０ ^１３は前記と
同じ。）とした後、ボンクレキン酸のＣ_１〜Ｃ_１０セグ
メントとカップリング反応させることも可能である。こ
の場合もカップリング反応後は、上記と同様Ｒ _０ ^１３で
示される水酸基の保護基を脱保護し、然る後このアルコ
ール体を酸化してカルボン酸にする必要がある。なお、
Ｒ_０ ^１３で示される水酸基の保護基を脱保護する方法、
及びアルコール体をカルボン酸に酸化する方法は、上で
述べた通りである。

【００４５】

【実施例】次に実施例及び参考例により本発明をより詳
細に説明するが、本発明はこれらの実施例、参考例に限
定されるものではない。

【００４６】参考例１ ４−（４−メトキシベンジルオ
キシ）−２−ブチン−１−オールの合成 ２−ブチン−１，４−ジオール（３０．０ｇ、０．３４
９ｍｏｌ) のＤＭＳＯ溶液（７０ｍｌ）に水酸化カリウ
ム（２４．１ｇ、０．３６６ｍｏｌ）を加えた後、塩化
ｐ−メトキシベンジル（２３．６ｍｌ、０．１７４ｍｏ
ｌ）を滴下し、０℃で１０分間、さらに室温で１．５時
間撹拌した。反応混合液を０℃に冷却し、飽和塩化アン
モニウム水溶液を加えエーテルで希釈した後、飽和食塩
水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精
製し、無色油状物としてモノ−ｐ−メトキシベンジルエ
ーテル体（２４．９ｇ、６９％）を得た。^１ H NMR (400MHz, CDCl_３) δ：1.58(brs, 1H, D_２0 ex
change), 3.81(s, 3H),4.18(t, J=1.8Hz, 2H), 4.33(t,
J=1.8Hz, 2H),4.53(s, 2H), 6.88(d, J=8.7Hz, 2H),7.
28(d, J=8.7Hz, 2H)。^１３ C NMR (75MHz, CDCl_３) δ：50.71(t), 55.14(q),
56.88(t), 71.17(t), 81.33(s),84.81(s), 113.72(d),
129.13(s), 129.66(d), 159.24(s)。 FT-IR (neat) 3405, 1612, 1514, 1250, 1032, 821 cm^−１。 MS (EI) m/z 121(100), 206(M^＋)。 HRMS(EI) 計算値：206.0943（C_１２H_１４O_３(M^＋)として） 実測値：206.0937。

【００４７】参考例２ ４−（４−メトキシベンジルオ
キシ）−２−ブテン−ｌ−オールの合成 参考例１で得られたモノ−ｐ−メトキシベンジルエーテ
ル体（７．７ｇ、３７．２ｍｍｏｌ）をエーテル（６０
０ｍｌ）に溶かし、−２５℃に冷却した後、Ｒｅｄ−Ａ
ｌ（６０％トルエン溶液：４４．７ｍｌ、１４８．９ｍ
ｍｏｌ）をゆっくり滴下し、１．５時間撹拌した。この
反応溶液に酢酸エチル（４０ｍｌ）、１Ｍ水酸化ナトリ
ウム（６３ｍｌ）を加えた後、セライト濾過し濃縮し
た。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン：酢酸エチル=２：３）により精製し、無色油状
物としてトランスオレフィン体（７．５ｇ、９６％）を
得た。^１ H NMR (400MHz, CDCl_３) δ：1.52(d, J=0.9Hz, 1H,
D_２0 exchange), 3.80(s, 3H),4.01(d, J=5.5Hz, 2H),
4.16(d, J=5.0Hz, 2H),4.46(s, 2H), 5.84(dt, J=15.5,
5.5Hz, 1H),5.91(dt, J=15.9, 5.0Hz, 1H),6.88(d, J=
8.7Hz, 2H), 7.26(d, J=8.7Hz, 2H)。^１３ C NMR (75MHz, CDCl_３) δ：55.12(q), 62.58(t),
69.70(t), 71.78(t), 113.66(d),127.43(d), 129.29
(d), 130.07(s), 132.29(d), 159.06(s)。 FT-IR (neat) 3390, 1613, 1514, 1249, 1035, 974, 821 cm^−１。 MS (EI) m/z 121(100), 208(M^＋) HRMS (EI) 計算値：208.1099（ C_１２H_１６O_３(M^＋) として） 実測値：208.1109。

【００４８】参考例３ １−ｔ−ブチルジフェニルシリ
ルオキシ−４−（４−メトキシベンジルオキシ）−２−
ブテンの合成 参考例２で得られたトランスオレフィン体（１．０ｇ、
４．８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（２０ｍｌ）にイ
ミダゾール（０．６ｇ、８．６ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチル
ジフェニルクロロシラン（１．５ｍｌ、５．８ｍｍｏ
ｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（４．９ｍｇ、０．
００４ｍｍｏｌ）を加え、室温で０．５時間撹拌した。
反応混合液に蒸留水を加え塩化メチレンで抽出した後、
飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１
７：３）で精製し、無色油状物質としてｔ−ブチルジフ
ェニルシリルエーテル体（２．０ｇ、９６％）を得た。

【００４９】参考例４ ４−ｔ−ブチルジフェニルシリ
ルオキシ−２−ブテン−１−オールの合成 参考例３で得られたｔ−ブチルジフェニルシリルエーテ
ル体（２．０ｇ、４．６ｍｍｏｌ）を塩化メチレン／蒸
留水（１８／１）に溶かし、２，３−ジクロロ−５，６
−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（１．４ｇ、６．０
ｍｍｏｌ）を加え、室温で０．５時間撹拌した。反応混
合液を塩化メチレンで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、溶媒を留去した。残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチ
ル＝４：１）で精製し、アリルアルコール体（０．９
ｇ、６１％）を得た。^１ H NMR (400MHz, CDCl_３) δ：1.07(s, 9H), 1.56(br
s, 1H), 4.14(dd, J=5.5, 1.4Hz, 2H),4.22(dd, J=4.6,
1.8Hz, 2H),5.79(dtt, J=15.5, 4.6, 1.4Hz, 1H),5.92
(dtt, J=15.5, 5.5, 1.8Hz, 1H), 7.36-7.43(m, 6H),7.
68(dd, J=7.7, 1.4Hz, 4H)。^１３ C NMR (75MHz, CDCl_３) δ：19.19(s), 26.79(q),
63.10(t), 63.73(t), 127.63(d),128.84(d), 129.63
(d), 130.50(d), 133.57(s), 135.50(d)。 FT-IR (neat) 1113, 984, 702 cm^−１。

【００５０】参考例５ １−ブロモ−４−ｔ−ブチルジ
フェニルシリルオキシ−２−ブテンの合成 参考例４で得られたアリルアルコール体（５００ｍｇ、
１．５３１ｍｍｏｌ）を塩化メチレンに溶かし、トリフ
ェニルホスフィン（４８２ｍｇ、１．８３８ｍｍｏ
ｌ）、四臭化炭素（７６２ｍｇ、２．２９７ｍｍｏｌ）
を加え室温で１０分間撹拌した。反応混合液を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で洗浄し、塩化メチレンで抽出し
た後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、溶媒を留去した。残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル
＝１９：１）で精製し、臭素体（４８８ｍｇ、８２％）
を得た。

【００５１】参考例６ １−ｔ−ブチルジフェニルシリ
ルオキシ−４−イオド−２−ブテンの合成 参考例４で得られたアリルアルコール体（７．１４ｇ、
２１．８６８ｍｍｏｌ）をベンゼン（１４０ｍｌ）に溶
かし、イミダゾール（３．７２ｇ、５４．６７１ｍｍｏ
ｌ）、トリフェニルホスフィン（１１．４７ｇ、４３．
７３７ｍｍｏｌ）、ヨウ素（１１．１０ｇ、４３．７３
７ｍｍｏｌ）を加え室温で３０分間撹拌した。反応混合
液を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液（３００ｍｌ×
４）、飽和食塩水（１００ｍｌ×１）で洗浄した。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去し
た。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン：酢酸エチル＝１９：１）で精製し、ヨウ素体
（７．０ｇ、７４％）を得た。

【００５２】参考例７ ４−（４−メトキシベンジルオ
キシ）−１−ブテンの合成 ３−ブチン−１−オール（１０．０ｇ、０．１４３ｍｏ
ｌ）のＴＨＦ溶液（２００ｍｌ）を０℃に冷却し、水素
化ナトリウム（鉱油中６２．７％含有；１１．５ｇ、
０．３００ｍｏｌ）を加え、１．５時間撹拌した後、塩
化ｐ−メトキシベンジル（２６．８ｇ、２３．２ｍｌ、
０．１７１ｍｏｌ）とヨウ化テトラ−ｎ−ブチルアンモ
ニウム（１．６ｇ、４．３ｍｍｏｌ）を加え、室温で５
時間撹拌した。反応混合液を０℃に冷却して水を加え、
ヘキサンで希釈し、有機層を水で洗浄した。有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去した。残
留物を減圧蒸留（９９−１１６℃／１．５ｍｍＨｇ）
し、無色油状物としてｐ−メトキシベンジルエーテル体
（２１．２ｇ、７８％）を得た。

【００５３】参考例８ ５−（４−メトキシベンジルオ
キシ）−２−ペンチン−１−オールの合成 参考例７で得られた４−（４−メトキシベンジルオキ
シ）−１−ブテン（２０．２ｇ、０．１０６ｍｏｌ）の
ＴＨＦ溶液（２２２ｍｌ）を−７８℃に冷却し、ｎ−ブ
チルリチウム（２．５２Ｍへキサン溶液；５０．４ｍ
ｌ、０．１２７ｍｏｌ）を滴下し、２時間撹拌した後、
同温下パラホルムアルデヒド（９．６ｇ、０．３１８ｍ
ｏｌ）を加え、室温に昇温して２時間撹拌した。この反
応溶液に水を加え、エーテルで希釈し、飽和食塩水を加
えて分液した後、さらにエーテルで抽出し、有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン：酢酸
エチル=3:1)により精製し、無色油状物としてアルコー
ル体（１８．０ｇ、７７％）を得た。

【００５４】参考例９ （Ｚ）−３−イオド−５−（４
−メトキシベンジルオキシ）−２−ペンテン−１−オー
ルの合成 Ｒｅｄ−Ａｌ（６５％トルエン溶液；２５．５ｍｌ、８
１．８ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（６０ｍｌ）を０℃に
冷却し、参考例８で得られた５−（４−メトキシベンジ
ルオキシ）−２−ペンチン−１−オール（８．２ｇ、３
７．２ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（１００ｍｌ）を滴下
し、室温に昇温して４．５時間撹拌した。反応溶液を０
℃に冷却し、酢酸エチル（４．２ｍｌ、４２．４ｍｍｏ
ｌ）を加えた後、−５０℃に冷却し、ヨウ素（１４．２
ｇ、５５．８ｍｍｏｌ）を加え、徐々に室温まで昇温し
て２時間撹拌した。反応溶液に飽和亜硫酸ナトリウム水
溶液を加え、エーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、溶媒を留去した。残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル＝５：１）で精製し、黄色油状物としてヨウ化ビニ
ル体（８．５ｇ、６６％）を得た。^１ H NMR (400MHz, CDCl_３) δ：2.78(t, J=6.4Hz, 2
H), 3.59(t, J=6.4Hz, 2H), 3.80(s, 3H),4.19(d, J=5.
5Hz, 2H), 4.46(s, 2H), 5.94(t, J=5.5Hz, 1H),6.88
(d, J=8.7Hz, 2H), 7.25(d, J=8.7Hz, 2H)。^１３ C NMR (75MHz, CDCl_３) δ：45.10(t), 55.23(q),
67.19(t), 68.27(t), 72.67(t),104.99(s), 113.76
(d), 129.33(d), 130.03(s),135.77(d), 159.17(s)。

【００５５】実施例１ （Ｒ）−４−ベンジル−３−
（（２Ｓ，４Ｅ）−６−ｔ−ブチルジフェニルシリルオ
キシ−２−メチル−５−ヘキセノイル）−１，３−オキ
サゾリジン−２−オンの合成 ジイソプロピルアミン（０．０７ｍｌ、０．５１４ｍｍ
ｏｌ）のＴＨＦ溶液（１．５ｍｌ）を０℃に冷却し、ｎ
−ブチルリチウム（１．５２Ｍへキサン溶液０．３４ｍ
ｌ、０．５１４ｍｍｏｌ）を２０分以上かけて加え、同
温にて３０分撹拌した。反応溶液を−７８℃に冷却し、
（Ｒ）−４−ベンジル−３−プロピオニル−１，３−オ
キサゾリジン−２−オン（１００ｍｇ、０．４２９ｍｍ
ｏｌ）のＴＨＦ溶液（２．０ｍｌ）溶液を２０分以上か
けて加え、同温にて１時間撹拌した。これに参考例６で
得られたヨウ素体（２８１ｍｇ、０．６４３ｍｍｏｌ）
を１０分以上かけて加え、−４０℃から−２０℃で３．
５時間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶
液を加え、溶媒を留去した後、水を加えてエーテルで抽
出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、無色油
状のジアステレオマー混合物としてアルキル化体（１９
６．１ｍｇ、８４％、d.r.＝９４：６）を得た。^１ H NMR (400MHz, CDCl_３) δ：1.03(s, 9H), 1.18(d,
J=6.8Hz, 3H),2.23(ddd, J=13.7, 6.8, 6.8Hz, 1H),2.
51(ddd, J=13.7, 6.8, 6.8Hz, 1H),2.61(dd, J=13.2, 1
0.0Hz, 1H),3.27(dd, J=13.2, 3.2Hz, 1H),3.85(ddq, J
=6.8, 6.8, 6.8Hz, 1H), 4.11-4.19(m, 4H),4.67(dddd,
J=10.0, 7.7, 3.4, 3.2Hz, 1H),5.64(dt, J=15.5, 4.6
Hz, 1H),5.72(ddd, J=15.5, 6.8, 6.8Hz, 1H),7.16(d,
J=6.8Hz, 2H), 7.27-7.40(m, 9H),7.66(dd, J=5.9, 1.8
Hz, 4H)。^１３ C NMR (75MHz, CDCl_３) δ 16.44(q), 19.16(s), 26.76(q), 36.40(t), 37.44(d),3
8.04(t), 55.33(d), 64.18(t), 65.94(t), 127.02(d),1
27.22(d), 127.59(d), 128.86(d), 129.35(d), 129.55
(d),131.61(d), 133.65(s), 133.70(s), 135.35(s), 13
5.47(d),135.48(d), 153.05(s), 176.50(s)。 FT-IR (neat) 1782, 1699, 1386, 1112, 971, 703 cm^−１。

【００５６】実施例２ （Ｓ）−６−ｔ−ブチルジフェ
ニルシリルオキシ−２−メチル−４−ヘキセン−１−オ
ールの合成 水素化リチウムアルミニウム（７９９ｍｇ、２１．０４
３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３６ｍｌ）を０℃に冷却
し、実施例１で得られたアルキル化体（３．８ｇ、７．
０１４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４０ｍｌ）を滴下し、
同温にて１．５時間撹拌した。反応溶液を０℃に保った
ままエーテルで希釈しながら蒸留水を加え、室温で１時
間撹拌した後、セライト濾過し、濾液を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、濃縮した。残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：
１）で精製し、無色油状のアルコール体（１．８ｇ、６
８％）を得た。^１ H NMR (400MHz, CDCl_３) δ：0.91(d, J=6.4Hz, 3
H), 1.05(s, 9H), 1.52(brs, 1H),1.66-1.75(m, 1H),
1.92(ddd, J=13.2, 7.3, 6.8Hz, 1H),2,14(ddd, J=13.
7, 6.6, 6.4Hz, 1H),3,44(dd, J=10.5, 6.4Hz, 1H),3.5
0(dd, J=10.5, 5.9Hz, 1H),4.17(d, J=4.1Hz, 2H), 5.5
8(dt, J=15.0, 4.6Hz, 1H),5.67(dt, J=15.5, 6.8Hz, 1
H), 7.36-7.44(m, 6H),7.68(dd, J=7.7, 1.4Hz, 4H)。^１３ C NMR (75MHz, CDCl_３) δ：16.35(q), 19.19(s),
26.80(q), 35.81(d), 36.06(t),64.42(t), 67.79(t),
127.57(d), 128.95(d), 129.54(d),130.46(d), 133.82
(s), 135.51(d)。 FT-IR (neat) 3355, 1112, 971, 702 cm^−１。

【００５７】実施例３ （Ｓ）−２−（７−ｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシ−３−メチル−１，５−ヘプタ
ジエニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，
２−ジオキサボロリジンの合成 塩化オキサリル（０．３１ｍｌ、３．５２２ｍｍｏｌ）
の塩化メチレン溶液（４ｍｌ）を−７８℃に冷却し、ジ
メチルスルホキシド（０．３４ｍｌ、４．４０３ｍｍｏ
ｌ）を加えた後、実施例２で得られたアルコール体（５
４０．９ｍｇ、１．４６８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶
液（１０ｍｌ）を滴下し、１５分間撹拌した。同温にて
トリエチルアミン（１．５３ｍｌ、１１．００６ｍｍｏ
ｌ）を加え、１０分間撹拌した後、室温に昇温して１５
分間撹拌した。反応溶液に蒸留水を加え、塩化メチレン
で抽出した後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した後、残留物をエーテ
ルに溶かして濾過した。得られたアルデヒド（５６４．
１ｍｇ）は精製することなく次の反応に付した。^１ H NMR (400MHz, CDCl_３) δ：1.05(s, 9H), 1.09(d,
J=6.8Hz, 3H), 2.08-2.18(m, 1H),2.35-2.49(m, 2H),
4.14-4.17(m, 2H), 5.62-5.64(m, 2H),7.31-7.44(m, 6
H), 7.67(dd, J=7.7, 1.4Hz, 4H),9.64(d, J=1.4Hz, 1
H)。^１３ C NMR (75MHz, CDCl_３) δ：12.95(q), 19.14(s),
26.75(q), 33.14(t), 46.00(d),64.09(t), 126.71(d),
127.56(d), 129.56(d), 131.58(d),133.64(s), 135.43
(d), 204.48(d)。 アルゴン気流下、無水塩化クロム（１．５１ｇ、１２．
３１１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）懸濁液にアルデヒ
ド体（５６４．１ｍｇ、１．５３９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ
（９ｍｌ）溶液、４，４，５，５−テトラメチル−２−
ジクロロメチル−２−ボラ−１，３−シクロペンタン
（６４９ｍｇ、３．０７８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（９ｍ
ｌ）溶液、無水ヨウ化リチウム（８２４ｍｇ、６．１５
６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（７ｍｌ）溶液を加え、室温で１
２時間撹拌した。反応溶液を蒸留水の中に注ぎ、エーテ
ルで抽出した後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
１９：１）で精製し、無色油状のボロニックエステル体
（５５３．９ｍｇ、７７％、２steps）を得た。^１ H NMR (400MHz, CDCl_３) δ：0.99(d, J=6.4Hz, 3
H), 1.05(s, 9H), 1.26(s, 16H),1.95-2.04(m,IH), 2.1
5(ddd, J=13.2, 6.8, 6.4Hz, 1H),2.26(ddd, J=13.2,
6.6, 6.4Hz, 1H),4.15(d, J=4.6Hz, 2H), 5.40(dd, J=1
8.2, 0.9Hz, 1H),5.55(dt, J=15.5, 4.6Hz, 1H),5.63(d
t, J=15.5, 6.8Hz, 1H),6.57(dd, J=18.2, 6.4Hz, 1H),
7.35-7.43(m, 6H), 7.67(dd, J=7.7, 1.4Hz, 4H)。

【００５８】実施例４ （２Ｚ,４Ｅ,６Ｓ,８Ｅ）−１
０−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−３−（２−
（４−メトキシベンジルオキシ）エチル）−６−メチル
−２，４，８−デカトリエン−１−オールの合成 ジベンジリデンアセトンパラジウム・クロロホルム付加
物（７．４ｍｇ、７．２μｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１ｍ
ｌ）にトリフェニルホスフィン（１５．０ｍｇ、５７．
３μｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１ｍｌ）を加えた後、参考
例９で得られたヨウ化ビニル体（１６６．３ｍｇ、０．
４７８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２ｍｌ）を加え、室温
で１５分間撹拌した後、実施例３で得られたボロニック
エステル（２５７．８ｍｇ、０．５２６ｍｍｏｌ）のＴ
ＨＦ溶液（２ｍｌ）と２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液
（０．４８ｍｌ、０．９５５ｍｍｏｌ）を加え、１０時
間還流した。反応溶液をエーテルで抽出した後、飽和食
塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、黄
色油状のカップリング体（２４０ｍｇ、７８％）を得
た。^１ H NMR (400MHz, CDCl_３) δ：0.99(d, J=6.8Hz, 3
H), 1.04(s, 9H),1.19-1.27(m, 1H, D_２0 exchange),
1.98-2.11(m, 2H),2.22-2.31(m, 1H), 2.51(t, J=7.3H
z, 2H),3.53(t, J=7.3Hz, 2H), 3.79(s, 3H), 4.15(d,
J=3.6Hz, 2H),4.25(d, J=6.8Hz, 2H), 4.42(s, 2H), 5.
50(t, J=6.8Hz, 1H),5.55-5.62(m, 2H), 5.66(dd, J=1
5.9, 7.3Hz, 1H),6.22(d, J=16.0Hz, 1H), 6.86(d, J=
8.3Hz, 2H),7.24(d, J=8.3Hz, 2H), 7.35-7.43(m, 6H),
7.67(d, J=6.4Hz, 4H)。^１３ C NMR (75MHz, CDCl_３) δ：19.16(s), 19.86(q),
26.78(q), 34.28(t), 37.38(d),39.67(t), 55.18(q),
58.51(t), 64.40(t), 68.95(t),72.43(t), 113.71(d),
123.62(d), 127.46(d), 127.55(d),128.80(d), 129.20
(d), 129.52(d), 130.36(d), 130.39(s),133.79(s), 13
5.47(d), 135.89(s), 137.86(d), 159.10(s)。

【００５９】実施例５ （２Ｚ,４Ｅ,６Ｓ,８Ｅ）−１
０−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−３−（２−
（４−メトキシベンジルオキシ）エチル）−１−（メト
キシメトキシ）−６−メチル−２，４，８−デカトリエ
ンの合成 実施例４で得られたカップリング体（２９６．９ｍｇ、
０．５０８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（６ｍｌ）溶液に
４−ジメチルアミノピリジン（０．６２ｍｇ、０．００
５ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（０．１６
ｍｌ、０．９１４ｍｍｏｌ）、クロロメチルメチルエー
テル（０．０６ｍｌ、０．７６２ｍｍｏｌ）を加え、室
温で２時間撹拌した。反応溶液を塩化メチレンで抽出し
た後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、濃縮した。残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：
１）で精製し、無色油状のメトキシメチルエーテル体
（２６４．９ｍｇ、８３％）を得た。^１ H NMR (400MHz, CDCl_３) δ：0.99(d, J=6.8Hz, 3
H), 1.05(s, 9H),2.00(ddd, J=13.7, 6.8, 6.8Hz, 1H),
2.09(ddd, J=13.7, 6.8, 6.4Hz, 1H),2.26(dtq, J=7.3,
6.8, 6.8Hz, 1H), 2.52(t, J=7.3Hz, 2H),3.35(s, 3
H), 3.53(t, J=7.3Hz, 2H), 3.78(s, 3H),4.15(t, J=4.
1Hz, 2H), 4.18(d, J=6.8Hz, 2H),4.41(s, 2H), 4.61
(s, 2H), 5.45(t, J=6.8Hz, 1H),5.54(dt, J=15.5, 4.1
Hz, 1H),5.61(ddd, J=15.5, 6.8, 6.4Hz, 1H),5.67(dd,
J=15.5, 7.3Hz, 1H),6.22(d, J=15.5Hz, 1H), 6.85(d,
J=8.7Hz, 2H),7.23(d, J=8.7Hz, 2H), 7.34-7.42(m, 6
H),7.67(dd, J=7.7, 1.4Hz)。^１３ C NMR (75MHz, CDCl_３) δ：19.17(s), 19.81(q),
26.80(q), 34.33(t), 37.35(d),39.68(t), 55.18(q),
62.97(t), 64.42(t), 69.08(t),72.44(t), 95.65(t), 1
13.71(d), 123.74(d), 124.40(d),127.56(d), 128.82
(d), 129.18(d), 129.52(d),130.38(d), 130.50(s), 13
3.83(s), 135.48(d),136.92(s), 137.85(d), 159.10
(s)。 FT-IR (neat) 1613, 1513, 1248, 1111, 1039, 967, 822, 704 c
m^−１。

【００６０】実施例６ （２Ｅ,５Ｓ,６Ｅ,８Ｚ）−８
−（２−（４−メトキシベンジルオキシ）エチル）−１
０−（メトキシメトキシ）−５−エチル−２，６，８−
デカトリエン−１−オールの合成 実施例５で得られた化合物（８８５．６ｍｇ、１．４０
８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１８ｍｌ）を０℃に冷却
し、テトラブチルアンモニウムフルオリド（１．０Ｍ
ＴＨＦ溶液、７ｍｌ、７．０４１ｍｍｏｌ）を加え、室
温で２時間撹拌した。反応溶液を塩化メチレンで希釈
し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７：３）で
精製し、無色油状のアリルアルコール体（５２５．８ｍ
ｇ、９６％）を得た。^１ H NMR(400MHz, CDCl_３) δ：1.01(d, J=6.4Hz, 3H),
1.49(t, J=5.0Hz, 1H, D_２0 exchange),2.05-2.08(m, 2
H), 2.29(dtq, J=7.7, 6.8, 6.4Hz, 1H),2.52(t, J=7.3
Hz, 2H), 3.37(s, 3H),3.54(t, J=7.3Hz, 2H),3.80(s,
3H), 4.05(m, 2H, D_２0 d, J=3.6Hz, 2H),4.17(dd, J=1
2.3, 6.8Hz, 1H),4.21(dd, J=12.3, 7.3Hz, 1H),4.44
(s, 2H), 4.62(s, 2H), 5.46(t, J=6.8Hz, 1H),5.55-5.
64(m, 2H), 5.64(dd, J=15.9, 7.7Hz, 1H),6.21(d, J=1
5.5Hz, 1H), 6.87(d, J=8.7Hz, 2H),7.25(d, J=8.7Hz,
2H)。^１３ C NMR(75MHz, CDCl_３) δ 20.01(q), 34.33(t), 37.27(d), 39.58(t), 55.15(q),5
5.18(q), 62.77(t), 63.43(t), 68.93(t), 72.36(t),9
5.41(t), 113.68(d), 123.96(d), 124.30(d), 129.19
(d),130.38(s), 130.55(d), 130.79(d), 137.12(s),13
7.60(d), 159.06(s)。 FT-IR (neat) 1613, 1514, 1248, 1098, 1037, 969, 821 cm^−１。 MS (EI) m/z 121(100), 390(M^＋)。 HRMS (EI) 計算値：390.2406（C_２３H_３４O_４(M^＋)として） 実測値：390.2389。

【００６１】実施例７ （２Ｚ,４Ｅ,６Ｓ,８Ｅ）−１
０−クロロ−３−（２−（４−メトキシベンジルオキ
シ）エチル）−１−（メトキシメトキシ）−６−メチル
−２，４，８−デカトリエンの合成 実施例６で得られたアリルアルコール体（１９．７ｍ
ｇ、０．０５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（０．４ｍ
ｌ）にトリフェニルホスフィン（３２ｍｇ、０．１２１
ｍｍｏｌ）、四塩化炭素（０．０１５ｍｌ、０．１５１
ｍｍｏｌ）を加え、室温で４．５時間撹拌した。反応溶
液を飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、塩化メチレン
で抽出した後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
９３：７）で精製し、無色油状の塩素体（１５．５ｍ
ｇ、７５％）を得た。^１ H NMR(400MHz, CDCl_３) δ：1.01(d, J=6.8Hz, 3H),
2.05(ddd, J=13.7, 7.3, 6.8Hz, 1H),2.09(ddd, J=13.
7, 7.3, 6.8Hz, 1H),2.29(dtq, J=7.3, 6.8, 6.8Hz, 1
H),2.52(t, J=7.3Hz, 2H),3.37(s, 3H), 3.54(t, J=7.3
Hz, 2H),3.80(s, 3H),4.00(d, J=6.8Hz, 2H), 4.19(d,
J=6.8Hz, 2H),4.44(s, 2H), 4.63(s, 2H), 5.47(t, J=
6.8Hz, 1H),5.59(dt, J=15.5, 7.3Hz, 1H),5.64(dd, J=
15.5, 7.3Hz, 1H),5.69(dt, J=15.5, 7.3Hz, 1H),6.22
(d, J=15.5Hz, 1H),6.87(d, J=8.7Hz, 2H), 7.25(d, J=
8.7Hz, 2H)。^１３ C NMR(75MHz,CDCl_３) δ：19.93(q), 34.28(t), 3
7.08(d), 39.36(t),45.13(t), 55.16(q), 62.85(t), 6
8.99(t), 72.41(t),95.59(t), 113.37(d), 124.13(d),
124.60(d), 127.48(d),129.15(d), 130.42(s), 133.74
(d), 136.82(s),137.14(d), 159.06(s)。 FT-IR (neat) 1613, 1513, 1248, 1098, 1038, 967, 821, 677 c
m^−１。 MS (EI) m/z 121(100), 408(M^＋)。 HRMS (EI) 計算値：408.2067（ C_２３H_３３ClO_４(M^＋)として） 実測値：408.2083。

【００６２】実施例８ （２Ｚ,４Ｅ,６Ｓ,８Ｅ）−１
０−フェニルスルホニル−３−（２−（４−メトキシベ
ンジルオキシ）エチル）−１−（メトキシメトキシ）−
６−メチル−２，４，８−デカトリエンの合成 実施例７で得られた塩素体（４７４．７ｍｇ、１．１６
１ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（９．５ｍｌ）にベンゼンス
ルフィン酸ナトリウム（２８５．８ｍｇ、１．７４１ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温で２０．５時間撹拌した。反応溶
液に蒸留水を加えた後、エーテルで抽出した。有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル＝９：１）で精製し、無色油状のスルホン体（５１
６．８ｍｇ、８７％）を得た。^１ H NMR(400MHz, CDCl_３) δ：0.90(d, J=6.8Hz, 3H),
1.98(ddd, J=14.1, 6.8, 6.8Hz, 1H),2.06(ddd, J=14.
1, 6.8, 6.8Hz, 1H),2.18(dtq, J=7.3, 6.8, 6.8Hz, 1
H),2.49(t, J=7.3Hz, 2H),3.37(s, 3H), 3.52(t, J=7.3
Hz, 2H),3.73(d, J=6.8Hz, 2H),3.80(s, 3H), 4.18(d,
J=6.8Hz, 2H), 4.43(s, 2H),4.62(s, 2H), 5.26(dt, J=
15.5, 6.8Hz, 1H),5.46(t, J=6.8Hz, 1H), 5.48(dt, J=
15.5, 6.8Hz, 1H),5.57(dd, J=15.9, 7.3Hz, 1H), 6.16
(d, J=15.9Hz, 1H),6.86(d, J=8.7Hz, 2H), 7.24(d, J=
8.7Hz, 2H),7.53(dd, J=7.3, 7.3Hz, 2H), 7.63(t, J=
7.3Hz, 1H),7.85(dd, J=7.3, 1.4Hz, 2H)。^１３ C NMR(75MHz, CDCl_３) δ：19.74(q), 34.19(t),
36.92(d), 39.86(t), 55.19(q),59.96(t), 62.88(t), 6
8.93(t), 72.42(t), 95.61(t),113.69(d), 117.40(d),
124.15(d), 124.69(d),128.34(d), 128.95(d), 129.15
(d), 130.41(s),133.54(d), 136.68(s), 136.92(d), 13
8.43(s),139.43(d), 159.09(s)。 FT-IR (neat) 1612, 1513, 1306, 1248, 1146, 1088, 1037, 970, 82
1,734 cm^−１。

【００６３】実施例９ Ｎ−（（２Ｓ,４Ｅ）−６−ｔ
−ブチルジフェニルシリルオキシ−２−メチル−５−ヘ
キセノイル）−１０，２−カンファーサルタムの合成 Ｎ−プロピオニル−１０，２−カンファーサルタム
（１．１１ｇ、４．０８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５ｍ
ｌ／ｍｍｏｌ）を−７８℃に冷却し、ビストリメチルシ
リルアミドナトリウム塩（１．０Ｍ ＴＨＦ溶液；４．
９ｍｌ、４．８９ｍｍｏｌ）を１０分以上かけて加え、
同温にて１時間撹拌した。これに参考例５で得られた臭
素体（３．１８ｇ、８．１６ｍｍｏｌ）のＨＭＰＡ溶液
（１．４ｍｌ、８．１６ｍｍｏｌ）を滴下し、３時間撹
拌した後、０℃に昇温して１．５時間撹拌した。反応溶
液に蒸留水を加え、エーテルで抽出した。有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（ベンゼン：ヘキサ
ン＝７：３）で精製し、黄色結晶のジアステレオマー混
合物としてアルキル化体（１．２２ｇ、５２％）を得、
メタノールから３回再結晶後、ジアステレオマー比を約
９３：７とした。^１ H-NMR (CDCl_３) δ：0.93(s, 3H), 1.04(s, 9H), 1.
07(s, 3H),1.15(d, J=6.6Hz, 3H), 1.25-1.42(m, 2H),
1.77-2.06(m, 5H), 2.19-2.26(m, 1H),2.38-2.46(m, 1
H), 3.18(dq, J=6.6, 6.6 Hz),3.40(d, J=13.8Hz, 1H),
3.48 (d, J=13.6Hz, 1H),3.87(dd, J=7.2, 5.3Hz, 1
H), 4.07-4.12(m, 2H),5.54-5.68(m, 2H), 7.35-7.44
(m, 6H), 7.64-7.67(m, 4H)。

【００６４】実施例１０ （Ｓ）−６−ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ−２−メチル−４−ヘキセン−１−
オールの合成 水素化リチウムアルミニウム（１０１．４ｍｇ、２．６
７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５ｍｌ）を０℃に冷却し、
実施例９で得られたアルキル化体（１．５５ｇ、２．６
７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２６ｍｌ）を滴下し、室温
にて０．５時間撹拌した。反応溶液を０℃に冷却し、エ
ーテルで希釈しながら蒸留水を加え、室温で１時間撹拌
した後、セライト濾過し、濾液を無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１７：３）
で精製し、無色油状のアルコール体（０．９５ｇ、９７
％）を得た。

【００６５】参考例１０ １,２：５,６−ジ−Ｏ−イソ
プロピリジエン−Ｄ−マンニトールの合成 減圧乾燥した塩化亜鉛（３４．２ｇ、２５１ｍｍｏｌ）
に、アセトン（２００ｍｌ）を加え、室温で１時間撹拌
し、２０℃に冷却した後、D-マンニトール（２１．４
ｇ、１１７ｍｍｏｌ）を加え、完全に溶解するまで室温
で撹拌した。０℃に冷却した後、炭酸カリウム（３５．
７ｇ、２５８ｍｍｏｌ）と水（４０ｍｌ）の懸濁液を加
えた。反応液を濾過した後、塩化メチレン（１５０ｍ
ｌ）で洗浄した。この濾液（アセトン溶液）に飽和アン
モニア水を加えて、塩基性にし、４０℃以下で、アセト
ンを減圧留去すると、結晶が析出した。得られた結晶を
先の塩化メチレン洗浄液に溶解し、水層を分離した。有
機層を冷水（１０ｍｌ）で洗浄し、炭酸カリウムで乾燥
し、溶媒を減圧留去すると、１，２：５，６−ジ−Ｏ−
イソプロピリジエン−Ｄ−マンニトール（３０．１ｇ）
が無色針状結晶として得られた。この化合物は精製する
ことなく次の反応に用いた。 ｍ.ｐ.: １０５．１℃−１０７．４℃。

【００６６】参考例１１ エチル ４，５−Ｏ−イソプ
ロピリジエン−（Ｓ）−４，５−ジヒドロキシ−２−ペ
ンテノエートの合成 １,２：５,６−ジ−Ｏ−イソプロピリジエン−Ｄ−マン
ニトール（２５ｇ，９５ｍｍｏｌ）を５％炭酸水素ナト
リウム水溶液（２５０ｍｌ）に溶解し、０℃に冷却し過
ヨウ素酸ナトリウム（２５ｇ，１２０ｍｍol）を加え
て、１時間撹拌した。その後、トリエチルフォスフォノ
アセテート（４２ｍｌ，２１０ｍｍｏｌ）と６Ｍ炭酸カ
リウム（３３０ｍｌ）を０℃で加え、室温で５時間撹拌
した。反応液を酢酸エチル（２５０ｍｌ×３）で抽出
し、飽和食塩水（３００ｍｌ）で洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、エチル ４，５−Ｏ
−イソプロピリジエン−（Ｓ）−４，５−ジヒドロキシ
−２−ペンテノエート（５２．６ｇ）を無色油状物質と
して得た。この化合物は精製することなく次の反応に用
いた。^１ H-NMR (300MHz,CDCl_３,TMS) δ:1.28(3H, t, J=7H
z), 1.40(3H, s), 1.44(3H, s),3.67(2H, q, J=7Hz),
4.23(2H, m), 4.67(1H, brq),6.05(1H, dd, J=2Hz, 16H
z), 6.88(1H, dd, J=Hz, 16Hz)。

【００６７】参考例１２ エチル ４，５−Ｏ−イソプ
ロピリジエン（３Ｓ）−４，５−ジヒドロキシ−３−フ
ェニルチオペンタノエートの合成 エチル ４，５−Ｏ−イソプロピリジエン−（Ｓ）−
４，５−ジヒドロキシ−２−ペンテノエート（１５９
ｇ）をベンゼン（５００ｍｌ）に溶解し、チオフェノー
ル（９８ｍｌ，９３３ｍｍｏｌ）とジイソプロピルエチ
ルアミン（１８１ｍｌ，１．０７ｍｏｌ）を加え、４２
時間撹拌した。反応液を１０％炭酸ナトリウム水溶液
（５００ｍｌ）で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、溶媒を減圧留去した後、ヘキサン／酢酸エチル（２
０／１）で、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
すことにより、エチル ４，５−Ｏ−イソプロピリジエ
ン（３Ｓ）−４，５−ジヒドロキシ−３−フェニルチオ
ペンタノエート（１８２ｇ，参考例１０からの通算収率
８２％）が淡黄色油状物質として得られた。^１ H-NMR (300MHz, CDCl_３, TMS) δ:1.26(3H, t, J=7H
z), 1.32(3H, s), 1.38(3H, s),2.51(1H, dd, J=9Hz, 1
6Hz), 2.91(1H, dd, J=5Hz, 16Hz),3.31-3.51(1H, m),
3.70-4.25(5H, m), 7.22-7.35(3H, m),7.35-7.52(2H,
m)。

【００６８】参考例１３ （３Ｓ）−５−ヒドロキシ−
３−フェニルチオ−４−ペンタノリドの合成 エチル４，５−Ｏ‐イソプロピリジエン（３Ｓ）−４，
５−ジヒドロキシ−３−フェニルチオペンタノエート
（５６０ｍｇ，１．８ｍｍｏｌ）をエタノール（７．２
ｍｌ）に溶解し、濃塩酸（０．８ｍｌ）を加え、３時間
撹拌した。反応液の溶媒を減圧留去した後、塩化メチレ
ン（１５ｍｌ×３）で抽出し、５％炭酸水素ナトリウム
（２０ｍｌ）、飽和食塩水（３０ｍｌ）で洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧留去すると、（３Ｓ）−５
−ヒドロキシ−３−フェニルチオ−４−ペンタノリド
（３４８ｍｇ）が黄色油状物質として得られた。この化
合物は精製することなく次の反応に用いた。^１ H-NMR (300MHz, CDCl_３, TMS) δ:2.28(1H, br.t, J
=7Hz), 2.47(1H, br.q, J=6Hz, 7Hz),2.54(1H, dd, J=7
Hz, 16Hz), 2.72(1H, dd, J=9Hz, 18Hz),2.91(1H, dd,
J=8Hz, 18Hz), 3.06(1H, dd, J=9Hz, 18Hz),3.61(1H, d
dd, J=3Hz, 7Hz, 11Hz), 3.83-4.27(6H, m),4.50(1H,
m), 4.83(1H, m), 7.24-7.50(10H, m)。

【００６９】参考例１４ （３Ｓ）−５−ヒドロキシ−
３−フェニルスルフィニル−４−ペンタノリドの合成 （３Ｓ）−５−ヒドロキシ−３−フェニルチオ−４−ペ
ンタノリド（１０ｇ，４４．６ｍｍｏｌ）を３０％過酸
化水素水（１０．３ｍｌ，１１２ｍｍｏｌ）、酢酸
（６．５ｍｌ）に溶解し、室温で２時間撹拌した。反応
液を飽和食塩水（３０ｍｌ）で希釈し、塩化メチレン
（６０ｍｌ×３）で抽出し、飽和食塩水（７０ｍｌ）で
洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去す
ると、（３Ｓ）−５−ヒドロキシ−３−フェニルスルフ
ィニル−４−ペンタノリド（２２．１ｇ）が黄色油状物
質として得られた。この化合物は精製することなく次の
反応に用いた。

【００７０】参考例１５ （Ｓ）−５−ヒドロキシ−２
−ペンテン−４−オリドの合成 （３Ｓ）−５−ヒドロキシ−３−フェニルスルフィニル
−４−ペンタノリド（１２ｇ，４９．３ｍｍｏｌ）をト
ルエン（５０ｍｌ）に溶解し、炭酸カルシウム（１８．
３ｇ，１８２ｍｍｏｌ）を加え、３時間加熱還流した。
反応液を濾過し、減圧留去し、得られた粗生成物を酢酸
エチルで、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す
ことにより、（Ｓ）−５−ヒドロキシ−２−ペンテン−
４−オリド（３．８ｇ，３steps，５８％）を無色針状
晶として得た。 ｍ.ｐ.：６２．５−６５．０℃。^１ H-NMR (300MHz, CDCl_３, TMS) δ:2.09(1H, br.q),
3.80(1H, dd, J=5Hz, 12Hz),4.00(1H, dd, J=4Hz, 12H
z), 5.16(1H, m),6.21(1H, dd, J=2Hz, 7Hz), 7.48(1H,
dd, J=1Hz, 7Hz)。 [α]_Ｄ ^２３：−121(c=0.58，H_２O)。

【００７１】参考例１６ トリチルエーテル体の合成 （Ｓ）−５−ヒドロキシ−２−ペンテン−４−オリド
(１００ｍｇ，０．８８ｍｍｏｌ）をピリジン（１．０
ｍｌ）に溶解し、塩化トリチル（４８８ｍｇ，１．７５
ｍｍｏｌ）を加えた後、１００℃で９０分間加熱した。
その後飽和重曹水溶液（２ｍｌ）でピリジン塩酸塩を中
和した後、塩化メチレン（１０ｍｌ×３）で抽出し、飽
和重曹水溶液（１０ｍｌ）で洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物を酢
酸エチル／ヘキサン（１／４）で、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付すことにより、トリチルエーテル
体（３０２ｍｇ，８７％）を無色プリズム晶として得
た。 ｍ.ｐ.：１２４．２℃−１３０．３℃。

【００７２】参考例１７ （Ｓ）−３−カルボキシ−４
−（１−ヒドロキシ−２−トリチルオキシメチル）−１
−ピラゾリン−γ−ラクトンの合成 トリチルエーテル体（２．６ｇ，７．３ｍｍｏｌ）をテ
トラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解し、ジアゾメタン
のエーテル溶液（１００ｍｌ，２５．５ｍｍｏｌ）を加
え、室温で２日間撹拌した。安息香酸で過剰のジアゾメ
タンを分解させた後、析出した結晶を濾取すると（Ｓ）
−３−カルボキシ−４−（１−ヒドロキシ−２−トリチ
ルオキシメチル）−１−ピラゾリン−γ−ラクトン
（２．５ｇ，８６％）を無色プリズム晶として得た。 ｍ.ｐ.：１５１℃−１５３℃。^１ H-NMR (300MHz, CDCl_３, TMS) δ:2.44(1H, m), 3.0
2(1H, m), 3.50(1H, m), 4.06(1H, m),4.32(2H, m), 5.
56(1H, m), 6.80(15H, m)。

【００７３】参考例１８ （Ｓ）−４−メチル−５−ト
リチルオキシメチル−２（５Ｈ）−フラノンの合成 （Ｓ）−３−カルボキシ−４−（１−ヒドロキシ−２−
トリチルオキシメチル）−１−ピラゾリン−γ−ラクト
ン（１．３ｇ，３．３４ｍｍｏｌ）をジオキサン（４０
ｍｌ）に溶解し、５０時間加熱還流した。溶媒を減圧留
去すると、（Ｓ）−４−メチル−５−トリチルオキシメ
チル−２（５Ｈ）−フラノン（１．２ｇ，９７％）が無
色プリズム晶として得られた。 ｍ.ｐ.：１５９℃−１６２℃。^１ H-NMR (300MHz, CDCl_３, TMS) δ:1.82(3H, s), 3.1
6(1H, dq, J=10Hz, J=4Hz),3.62(1H, dq, J=10Hz, 3H
z), 4.68(1H, m), 5.74(1H, m),6.80(15H, m)。

【００７４】参考例１９ （Ｓ）−５−ヒドロキシメチ
ル−４−メチル−２（５Ｈ）−フラノンの合成 （Ｓ）−５−ヒドロキシ−２−ペンテン−４−オリド
（３００ｍｇ）をテトラヒドロフラン（２ｍｌ）に溶解
し、０℃に冷却した。その後ジアゾメタン（１０ｍｌ）
を加え、０℃で２日間撹拌した。反応液を４０℃に加熱
し、ジオキサン（２４０ｍｌ）を加えて、２日間加熱還
流した。反応液を減圧留去し、得られた粗生成物を塩化
メチレン/メタノール（９７／３）で、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付すことにより所望の生成物
（１９％，５６ｍｇ）が無色油状物質として得られた。^１ H-NMR (300 MHz, CDCl_３, TMS) δ:2.11(3H, m), 2.
22(1H, t, J=6.7Hz),3.78(1H, ddd, J=4.2Hz, 6.7Hz, 1
2.6Hz),4.07(1H, ddd, J=3Hz, 6.7Hz, 12.6Hz), 4.90(1
H, m),5.89(1H, m)。 [α]_Ｄ ^２３：−11.73・x (c=1.62，CHCl_３)。

【００７５】実施例１１ （５Ｓ）−２，５−ジヒドロ
−４−メチル−５−トリチルオキシメチル−２−フラノ
ールの合成 アルゴン気流下、（Ｓ）−４−メチル−５−トリチルオ
キシメチル−２（５Ｈ）−フラノン（９０ｍｇ）をトル
エン（３ｍｌ）に溶解し、−７８℃に冷却し、水素化ジ
イソブチルアルミニウム（０．４８ｍｌ）をゆっくり加
え、−７８℃で撹拌した。反応液をエーテル（３ｍｌ）
で希釈し、水（０．４８ｍｌ）を加え、０℃で１時間撹
拌した。その後セライト濾過し、溶媒を減圧留去し、１
４７．９ｍｇの所望の生成物が無色油状物質として得ら
れた。この化合物は精製することなく次の反応に用い
た。

【００７６】実施例１２ （５Ｓ）−５−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシメチル）−２，５−ジヒドロ−４
−メチル−２−フラノールの合成 アルゴン気流下、（Ｓ）−（５−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシメチル）−４−メチル−２（５Ｈ）−フラノ
ン（８０ｍｇ）をトルエン（４ｍｌ）に溶解し、−７８
℃に冷却して、水素化ジイソブチルアルミニウム（０．
４４ｍｌ）をゆっくり加え、−７８℃で撹拌した。反応
液をジエチルエーテル（１０ｍｌ）で希釈し、水（４ｍ
ｌ）を加え、０℃で１時間撹拌した。その後セライト濾
過し、溶媒を減圧留去し、７５．２ｍｇの所望の生成物
が無色油状物質として得られた。この化合物は精製する
ことなく次の反応に用いた。^１ H-NMR (300MHz, CDCl_３, TMS) δ:0.05(3H, s), 0.0
9(3H, s), 0.90(9H, s), 1.75(3H, s),1.81(3H, s), 3.
22(1H, d, J=11Hz), 3.32(1H, d, J=11Hz),3.64(4H,
m), 4.73(1H, m), 4.82(1H, m), 5.53(1H, br.s),5.62
(1H, br.s), 5.74(1H, d), 5.86(1H, d)。 IR(Neat): 3418 cm^−１。

【００７７】実施例１３ （２Ｅ,４Ｚ,６Ｓ）−エチル
６−ヒドロキシ−２，５−ジメチル−７−トリチルオキ
シ−２，４−ヘプタジエノエートの合成 実施例１１で得られた（５Ｓ）−２，５−ジヒドロ−４
−メチル−５−トリチルオキシメチル−２−フラノール
（１２７ｍｇ，０．２７ｍｍｏｌ）をベンゼン（４ｍ
ｌ）に溶解し、ホスホラン（１１７ｍｇ，０．３２ｍｍ
ｏｌ）を加え、２時間加熱還流した。反応液を濃縮して
溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物を酢酸エチル／ヘ
キサン（１／９）で、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付すことにより、７５ｍｇ（実施例１１からの通
算収率６０％）の所望の生成物が無色油状物質として得
られた。^１ H-NMR (300 MHz, CDCl_３, TMS) δ:1.32(3H, t, J=7
Hz), 1.80(3H, s), 1.90(3H, s),2.33(1H, br.s, D_２O
exchangable), 3.20(2H, m),4.24(2H, q, J=7Hz), 4.98
(1H, m), 6.21(1H, d, J=12Hz),7.35(16H, m)。^１３ C-NMR(75Hz, CDCl_３, TMS) δ:168.5(s), 143.6
(s), 132.3(d), 128.5(d), 127.7(d),127.0(d), 126.4
(s), 123.3(d), 86.9(s), 69.2(d),66.0(t), 60.4(t),
19.4(q), 14.2(q), 12.2(q)。 IR(Neat): 3470, 1703, 1633, 1597 cm^−１。 MS(CI,isoBu)m/z:457(M^＋)。

【００７８】実施例１４ （２Ｅ,４Ｚ,６Ｓ）−エチル
７−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−６−ヒドロキシ
−２，５−ジメチル−２，４−ヘプタジエノエートの合
成 実施例１２で得られた（５Ｓ）−５−（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシメチル）−２，５−ジヒドロ−４−メ
チル−２−フラノール（７４ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）
をベンゼン（２ｍｌ）に溶解し、ホスホラン（１３４ｍ
ｇ，０．３６ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流した。
反応液を濃縮して溶媒を減圧留去し、酢酸エチル／ヘキ
サン（１／９）で、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付すことにより、４６ｍｇ（実施例１２からの通算
収率４３％）の所望の生成物が無色油状物質として得ら
れた。^１ H-NMR (300 MHz, CDCl_３, TMS) δ:0.09(3H, s), 0.
10(3H, s), 0.91(9H, s),1.30(3H, t, J=7Hz), 1.92(6
H, s), 2.66(1H, d, J=2Hz),3.53(1H, dd, J=16Hz, 10H
z), 3.60(1H, dd, J=4Hz, 10Hz),4.20(2H, q, J=7Hz),
4.79(1H, m), 6.25(1H, d, J=12Hz),7.45(1H, d, J=12H
z)。^１３ C-NMR (75Hz, CDCl_３, TMS) δ:168.5(s), 144.8
(s), 131.9(d), 126.5(s), 123.1(d),70.8(d), 65.8
(t), 60.5(t), 25.6(q), 19.9(q), 18.2(s),14.2(q), 1
2.2(q)。 IR (Neat): 3476 cm^−１,1704 cm^−１,1635 cm^−１,160
1 cm^−１,1258 cm^−１,1195 cm^−１。 MS(m/z):328(M^＋),271(100%)。 HRMS(EI) 計算値：328.2070（C_１７H_３２O_４Si(M^＋)として） 実測値：328.2061。 [α]_Ｄ ^２３：＋5.3(c=0.94，CHCl_３)。

【００７９】実施例１５ （２Ｅ,４Ｚ,６Ｓ）−エチル
６，７−ジヒドロキシ−２，５−ジメチル−２，４−ヘ
プタジエノエートの合成 実施例１３で得られた（２Ｅ,４Ｚ,６Ｓ）−エチル ６
−ヒドロキシ−２，５−ジメチル−７−トリチルオキシ
−２，４−ヘプタジエノエート（３０ｍｇ，０．０６６
ｍｍｏｌ）をエタノール（１．５ｍｌ）に溶解し、ｐ−
トルエンスルホン酸（０．５７ｍｇ，０．００３３ｍｍ
ｏｌ）を加え、室温で４時間３０分撹拌した。反応液に
飽和重曹水溶液（１０ｍｌ）を加えて、塩化メチレン
（６０ｍｌ×３）で抽出し、飽和食塩水（４０ｍｌ）で
洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し
て、得られた粗生成物をメタノール／クロロホルム（１
／９）で、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す
ことにより、１４．４ｍｇ（９９％）の所望の生成物が
得られた。^１ H-NMR (300 MHz, CDCl_３, TMS) δ:1.31(3H, t, J=7
Hz), 1.98(6H, s), 2.25(1H, br.s),3.54(3H, m), 4.22
(2H, q, J=7Hz), 4.92(1H, m),6.22(1H, d, J=12Hz),
7.46(1H, d, J=12Hz).^１３ C-NMR (75Hz, CDCl_３, TMS)δ:168.9(s), 145.4
(s), 132.3(d), 126.4(s), 122.9(d),71.2(d), 65.3
(t), 60.7(t), 19.7(q), 18.2(s), 14.2(q),12.2(q). IR (Neat): 3397, 1700, 1629, 1598, 1261,1111 cm
^−１ [α]^Ｄ _２３：−19.5°(c=1.08, CHCl_３）

【００８０】実施例１６ （２Ｅ,４Ｚ,６Ｓ）−エチル
６，７−ジヒドロキシ−２，５−ジメチル−２，４−ヘ
プタジエノエートの合成 実施例１４で得られた（２Ｅ,４Ｚ,６Ｓ）−エチル ７
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−６−ヒドロキシ−
２，５−ジメチル−２，４−ヘプタジエノエート（２４
ｍｇ，０．０７３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１
ｍｌ）に溶解し、テトラブチルアンモニウムフルオリド
（０．０８７ｍｌ，０．０８７ｍｍｏｌ）を加え、室温
で１０分間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水
溶液（５ｍｌ）を加え、塩化メチレン（１０ｍｌ×３）
で抽出し、飽和食塩水（１０ｍｌ）で洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して得られた粗生成
物をメタノール／クロロホルム（１／９）で、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、１５ｍ
ｇ（９７％）の所望の生成物が得られた。^１ H-NMR (300 MHz, CDCl_３, TMS) δ:1.31(3H, t, J=7
Hz), 1.98(6H, s), 2.25(1H, br.s),3.54(3H, m), 4.22
(2H, q, J=7Hz), 4.92(1H, m),6.22(1H, d, J=12Hz),
7.46(1H, d, J=12Hz)。^１３ C-NMR (75Hz, CDCl_３, TMS) δ:168.9(s), 145.4
(s), 132.3(d), 126.4(s), 122.9(d),71.2(d), 65.3
(t), 60.7(t), 19.7(q), 18.2(s),14.2(q), 12.2(q)。 IR(Neat): 3397, 1700, 1629, 1598, 1261, 1111 cm
^−１。 [α]^Ｄ _２３：−19.5(c=1.08, CHCl_３）。

【００８１】実施例１７ （２Ｅ,４Ｚ,６Ｓ）−エチル
６−ヒドロキシ−２，５−ジメチル−７−ｐ−トルエン
スルホニルオキシ−２，４−ヘプタジエノエートの合成 （２Ｅ,４Ｚ,６Ｓ）−エチル ６，７−ジヒドロキシ−
２，５−ジメチル−２，４−ヘプタジエノエート（１８
０ｍｇ，０．８４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（０．５ｍ
ｌ）、ピリジン（０．１７ｍｌ，１．６８ｍｍｏｌ）に
溶解し、０℃に冷却した後、トシルクロリド（１６０ｍ
ｇ，０．８４ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌し
た。反応液を塩化メチレン（２０ｍｌ）で希釈し、１０
％硫酸銅水溶液（２０ｍｌ）、飽和食塩水（２０ｍｌ）
で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去
して、酢酸エチル／ヘキサン（２／８）で、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付すことにより、２９６ｍ
ｇ（９５％）の所望の生成物が得られた。^１ H-NMR (300MHz, CDCl_３, TMS) δ:1.32(3H, t, J=7H
z), 1.86(3H, s), 1.92(3H, s),2.23(1H, d, J=3Hz),
2.45(3H, s),3.98(1H, dd, J=13Hz, 7Hz),4.07(1H, dd,
J=4Hz, 7Hz),4.22(2H, q, J=7Hz), 5.08(1H, m),6.24
(1H, d, J=12Hz), 7.37(3H, m),7.81(2H, d, J=8Hz)。^１３ C-NMR (75Hz, CDCl_３, TMS) δ:168.3(s), 145.1
(s), 141.8(s), 132.6(s), 131.1(d),129.9(d), 128.0
(s), 127.9(d), 124.5(d), 71.9(t),68.0(d), 60.7(t),
21.6(q), 19.4(q), 14.3(q), 12.3(q)。IR (Neat): 34
91,1703,1635,1597,1365,1265,1189,1176cm^−１。 MS (m/z): 368(M^＋), 109 (100%)。 HRMS (EI) 計算値：368.1294（C_１８H_２４O_６S(M^＋)として） 実測値：368.1328。 [α]^Ｄ _２３：＋25.3°(c=0.91, CHCl_３)。

【００８２】実施例１８ （２Ｅ,４Ｚ,６Ｓ）−エチル
６，７−エポキシ−２，５−ジメチル−２，４−ヘプタ
ジエノエートの合成 （２Ｅ,４Ｚ,６Ｓ）−エチル ６−ヒドロキシ−２，５
−ジメチル−７−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−２，
４−ヘプタジエノエート（３００ｍｇ，０．８１ｍｍｏ
ｌ）をアセトン（１０ｍｌ）に溶解し、炭酸カリウム
（５６２ｍｇ，４．０７ｍｍｏｌ）を加え、７時間加熱
還流した。反応液を濃縮して溶媒を減圧留去し、塩化メ
チレン（１００ｍｌ）で希釈し、水（５０ｍｌ）で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。
この粗生成物を酢酸エチル／ヘキサン（２／８）で、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、
所望の６，７−エポキシ体（１５０ｍｇ，９３％）が無
色油状物質として得られた。^１ H-NMR (300 MHz, CDCl_３, TMS) δ:1.31(3H, t, J=7
Hz), 1.72(3H, s), 1.95(3H, s),2.84(1H, dd, J=3Hz,
5Hz), 2.99(1H, dd, J=5Hz, 5Hz),3.93(1H, m), 4.23(2
H, q, J=7Hz), 6.42(1H, d, J=12Hz),7.63(1H, d, J=12
Hz)。^１３ C-NMR (75Hz, CDCl_３, TMS) δ:168.5(s), 141.1
(s), 131.6(d), 127.9(s), 126.1(d),60.6(t), 49.9
(d), 46.4(t), 17.4(q), 14.3(q), 12.2(q)。 IR (Neat): 1704, 1632, 1599, 1265, 1206 cm^−１。 MS(m/z): 196 (M^＋), 83 (100%)。 HRMS (EI) 計算値：196.1099（C_１１H_１６O_３(M^＋)として） 実測値：196.1082

【００８３】参考例２０ ３−ブロモ−２−プロピン−
１−オールの合成 水酸化カルシウム（１８．５ｇ，０．２５ｍｏｌ）の水
溶液（２００ｍｌ）を０℃に冷却し、臭素（７．７ｍ
ｌ，０．１５ｍｏｌ）を滴下した。この溶液にジエチル
エーテルを加え、−８℃に冷却して、徐々にプロパルギ
ルアルコール（７．３ｇ，０．１３ｍｏｌ）を滴下し
た。その後室温に昇温し３時間攪拌した後、０℃に冷却
し、チオ硫酸ナトリウム（５．２ｇ）を加え、２０分間
攪拌した。反応液に濃塩酸（２５ｍｌ）を加えて固体を
溶解し、ジエチルエーテル（１５０ｍｌｘ４）で反応液
を抽出した。有機層を１０％炭酸ナトリウム水溶液（５
０ｍｌ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を減圧留去し、蒸留（３ｍｍＨｇ，４８℃）すると、
３−ブロモ−２−プロピン−１−オール（４．４ｇ，２
５％）が無色油状物質として得られた。

【００８４】参考例２１ （Ｅ）−３−ブロモ−２−プ
ロペン−１−オールの合成 窒素気流下、水素化リチウムアルミニウム（０．５７
ｇ，１５ｍｍｏｌ）と塩化アルミニウム（１．４９ｇ，
１１ｍｍｏｌ）にジエチルエーテル（１０ｍｌ）を−５
℃でゆっくり滴下した後、３−ブロモ−２−プロピン−
１−オール（１．０ｇ，７．５ｍｍｏｌ）を‐５℃でゆ
っくり滴下し、その後３時間加熱還流した。反応液に水
（１０ｍｌ）を加えてセライト濾過し、濾液をジエチル
エーテル（３０ｍｌ×３）で抽出し、飽和重曹水溶液
（３０ｍｌ）で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物を蒸留（１８ｍｍ
Ｈｇ，７８℃）すると（Ｅ）−３−ブロモ−２−プロペ
ン−１−オール（４０７ｍｇ，４０％）が無色油状物質
として得られた。

【００８５】参考例２２ （Ｅ）−１−ブロモ−３−ｔ
−ブチルジフェニルシリルオキシ−１−プロペンの合成 （Ｅ）−３−ブロモ−２−プロペン−１−オール（４０
７ｍｇ，３ｍｍｏｌ）とイミダゾール（２８３ｍｇ，
４．２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５０ｍｌ）溶液に０
℃でＴＢＤＰＳＣｌ（９７６ｍｇ，４ｍｍｏｌ）と４−
ジメチルアミノピリジン（３６ｍｇ）を加え、４時間攪
拌した。反応液を塩化メチレン（５０ｍｌ）で希釈し、
水（５０ｍｌ）で洗浄した後、この水層から塩化メチレ
ン（６０ｍｌ×３）で抽出し、有機層を合わせて硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗
生成物を蒸留（２ｍｍＨｇ，２３０℃）すると、所望の
生成物（１．２９ｇ，９７％）が無色油状物質として得
られた。

【００８６】参考例２３ （Ｅ）−５−ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ−３−ペンテン−１−インの合成 （Ｅ）−１−ブロモ−３−ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ−１−プロペン（３００ｍｇ，０．７８ｍｍｏ
ｌ）をテトラヒドロフラン（９ｍｌ）に溶解し、これに
塩化エチニルマグネシウム（４．８ｍｌ，２．３４ｍｍ
ｏｌ）を加えた。別に、トリス（ジベンジリデンアセト
ン）ジパラジウム（０）−クロロホルム付加物（２４ｍ
ｇ）とトリフェニルフォスフィン（４８ｍｇ）をテトラ
ヒドロフラン（６ｍｌ）に溶解し、溶液が紫から黄色に
変化したのを確認した後、このパラジウム溶液を先の反
応液に加え、７時間加熱還流した。反応液をエーテルで
希釈し、飽和塩化アンモニウム（６０ｍｌ）、飽和食塩
水（６０ｍｌ）で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物を酢酸エチ
ル／ヘキサン（１／１６）で、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付すことにより、所望の生成物（１７
５．５ｍｇ，５０％）が黄色油状物質として得られた。^１ H-NMR (300MHz，CDCl_３, TMS) δ:1.05(9H, s), 2.8
8(1H, m), 4.24(2H, m),5.91(1H, dd, J=2Hz, 16Hz),
6.29(1H, td, J=4Hz, J=16Hz),7.40(6H, m), 7.65(4H,
m)。^１３ C-NMR (75MHz, CDCl_３) δ:143.8(s), 135.4(d),
131.2(s), 129.7(d), 127.7(d),107.6(d), 83.0(s), 7
7.8(d), 63.4(t), 26.7(q), 20.3(s)。 IR (Neat): 3292, 2105, 953, 1113, 954 cm^−１。

【００８７】実施例１９ （２Ｅ,４Ｚ,６Ｒ,１０Ｅ）
−エチル １２−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−
６−ヒドロキシ−２，５−ジメチル−２,４,１０−ドデ
カトリエン−８−イノエートの合成 アルゴン気流下、参考例２３で得られた（Ｅ）−５−ｔ
−ブチルジフェニルシリルオキシ−３−ペンテン−１−
イン（１７３ｍｇ）をテトラヒドロフラン（２ｍｌ）に
溶解し、−７８℃に冷却して、ｎ−ブチルリチウム
（１．５２Ｍヘキサン溶液、０．３６ｍＬ，０．０５４
ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、−７８℃で１０分間撹拌し
た。その後、ＢＦ_３・ＯＥｔ_２ （０．０７ｍｌ）をゆ
っくり加え、−７８℃で１０分間撹拌した。これに実施
例１８で得られた（２Ｅ,４Ｚ,６Ｓ）−エチル ６，７
−エポキシ−２，５−ジメチル−２，４−ヘプタジエノ
エート（７０ｍｇ）を加え、−７８℃で２時間撹拌し
た。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（６０ｍｌ）
を加え、酢酸エチル（１００ｍｌ×３）で抽出し、硫酸
マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得ら
れた粗生成物を酢酸エチル／ヘキサン（２／８）で、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、
所望の生成物（１５３ｍｇ，８３％）が得られた。^１ H-NMR(300 MHz, CDCl_３, TMS) δ:1.06(9H, s), 1.3
1(3H, t, J=7Hz), 1.74(1H, t),1.93(3H, s), 2.01(3H,
s), 3.80(3H, m), 4.26(4H, m),5.90(1H, dd, J=16Hz,
J=2Hz),6.18(1H, td, J=16Hz, J=10Hz), 6.32(1H, J=1
2Hz),7.33-7.50(7H, m), 7.64-7.74(4H, m)。^１３ C-NMR (75MHz, CDCl_３) δ:168.3(s), 141.9(d),
141.0(s), 135.4(d), 133.1(s),129.7(d), 127.7(d), 1
24.0(d), 108.3(d), 87.0(s), 65.0(t),63.4(t), 60.8
(t), 37.9(d), 26.7(d), 21.6(q), 19.3(s),14.2(q), 1
2.5(q)。 IR (Neat): 3443, 2216, 1703, 1633, 1599, 1263, 119
2, 1113,954 cm^−１。 MS(m/z): 516 (M^＋), 199 (100%)。 HRMS(EI) 計算値：516.2696 （C_３２H_４０O_４Si(M^＋)として） 実測値：516.2704。

【００８８】実施例２０ （２Ｅ,４Ｚ,６Ｒ,１０Ｅ）−
エチル １２−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ−６
−メトキシ−２，５−ジメチル−２,４,１０−ドデカト
リエン−８−イノエートの合成 （２Ｅ,４Ｚ,６Ｒ,１０Ｅ）−エチル １２−ｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシ−６−ヒドロキシ−２，５−ジ
メチル−２,４，１０−ドデカトリエン−８−イノエー
ト（９．４ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ）をアセトニトリ
ル（０．２ｍｌ）に溶解し、酸化銀（４．９ｍｇ，０．
０２１ｍｍｏｌ）と沃化メチル（９．０ｍｇ，０．０６
４ｍｍｏｌ）を加え、２４時間加熱還流した。反応液を
セライト濾過し、濾液を減圧留去した後、酢酸エチル／
ヘキサン（１／９）で、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付すことにより、所望の生成物（３．１ｍｇ，
５４％）が無色油状物質として得られた。^１ H-NMR (300MHz, CDCl_３, TMS) δ:1.05(9H, s), 1.3
0(3H, t, J=7Hz), 1.94(3H, s),2.00(3H, s), 3.37(3H,
s), 3.53(1H, d, J=5Hz),3.57(1H, d, J=3Hz), 4.20(5
H, m),5.88(1H, dd, J=18Hz, J=2Hz),6.15(1H, td, J=1
8Hz, J=4Hz), 7.33-7.44(6H, m),7.50(1H, d, J=12Hz),
7.64-7.69(4H, m)。 IR (Neat): 2253, 1697, 1633, 1601, 1190, 1112, 954
cm^−１。 MS(m/z): 530 (M^＋), 32 (100%)。 HRMS(EI) 計算値：530.2852（C_３３H_４２O_４Si(M^＋)として） 実測値：530.2850。

【００８９】実施例２１ （２Ｅ,４Ｚ,６Ｒ,８Ｚ,１０
Ｅ）−エチル １２−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキ
シ−６−メトキシ−２，５−ジメチル−２,４,８,１０
−ドデカテトラエノエートの合成 （２Ｅ,４Ｚ,６Ｒ,１０Ｅ）−エチル １２−ｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシ−６−メトキシ−２，５−ジメ
チル−２,４,１０−ドデカトリエン−８−イノエート
（９．４ｍｇ，０．０１８ｍｍｏｌ）をヘキサン（２ｍ
ｌ）に溶解し、キノリン（４．６ｍｇ）及びリンドラー
触媒（９．４ｍｇ）を加え水素雰囲気下（１気圧）で１
時間攪拌した。反応液をセライト濾過し、濾液を減圧留
去した。得られた粗生成物を高速液体クロマトグラフィ
ー（１０％酢酸エチル／ヘキサン）で精製し、所望の生
成物（３．２ｍｇ，３３％）を無色油状物質として得
た。^１ H-NMR (300MHz, CDCl_３, TMS) δ:1.05(9H, s), 1.2
9(3H, t, J=7Hz), 1.91(3H, s),1.93(3H, s), 3.35(3H,
s), 3.38-3.47(2H,m),4.10(2H, q, J=7Hz), 4.26(3H,
m), 5.50(1H, t, J=10Hz),5.80(1H, td, J=18Hz, 4Hz),
6.10(1H, t, J=10Hz),6.20(1H, d, J=12Hz), 6.50(1H,
dd, J=18Hz, 2Hz),7.40(6H, m), 7.55(1H, d, J=12H
z), 7.64(4H, m)。^１３ C-NMR (75 MHz, CDCl_３) δ:168.6(s), 146.2(s),
135.5(d), 133.6(d), 132.5(s),130.3(d), 129.6(d),
128.2(d), 127.6(d), 126.1(s),124.7(d), 123.0(d), 7
4.5(t), 64.5(t), 60.4(t), 58.8(q),40.1(d), 26.7
(q), 21.4(q), 19.1(q), 14.3(q), 12.4(q)。 MS (m/z): 532 (M^＋), 69 (100%)。 HRMS (EI) 計算値：532.3009 （C_３３H_４４O_４Si(M^＋)として） 実測値：532.3038。

【００９０】

【発明の効果】本発明は、ボンクレキン酸の実用的で簡
便な合成方法を提供するためのボンクレキン酸前駆体で
あるボンクレキン酸Ｃ_１〜Ｃ_１０セグメント（ボンクレ
キン酸分子の左半分）とボンクレキン酸Ｃ_１１〜Ｃ_２２
セグメント（ボンクレキン酸分子の右半分）の実用的で
且つ効率的な製造方法を提供するものであり、本発明の
方法によれば、ボンクレキン酸の大量供給が可能となる
ので、今後アポトーシスの研究が飛躍的に進展すること
が予想され、また、誘導体合成により多くの疾患の治療
薬にも発展しうる可能性も充分考えられるので、斯業に
貢献するところ甚だ大なる発明である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB84 AC62 TA02 TB32

Claims (72)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記（１）〜（８）の工程を含んでなる
   ボンクレキン酸のＣ _１〜Ｃ_１０セグメントの製造方法。 （１）一般式［１］ 【化１】 ［式中、Ｒ^１は、 【化２】 （但し、Ｒ^２は、ベンジル基、イソプロピル基又はメチ
   ル基を表し、Ｒ^３，Ｒ^４はそれぞれ独立して水素原子又
   はフェニル基を表す。）又は 【化３】 を表す。］で示される化合物を、一般式［２］ 【化４】 （式中、Ｒ^５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
   イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
   トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
   シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
   ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
   キシメチル基を表し、Ｘ^１はハロゲン原子を表す。）で
   示される化合物と反応させて、一般式［３］ 【化５】 （式中、Ｒ^１，Ｒ^５は前記と同じ。）で示される化合物
   とする工程。 （２）上記（１）で得られた一般式［３］で示される化
   合物を還元して、一般式［４］ 【化６】 （式中、Ｒ^５は前記と同じ。）で示されるアルコール体
   とする工程。 （３）上記（２）で得られたアルコール体を酸化して、
   一般式［５］ 【化７】 （式中、Ｒ^５は前記と同じ。）で示されるアルデヒド体
   とした後、一般式［６］ 【化８】 （式中、Ｒ^８，Ｒ^９はそれぞれ独立してアルキル基を表
   す。また、Ｒ^８とＲ^９とが一緒になってアルキレン基を
   形成していてもよい。）で示されるジクロロメチルボロ
   ニックエステルと反応させて、一般式［７］ 【化９】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^８及びＲ^９は前記と同じ。）で示され
   るボロニックエステル体とする工程。 （４）上記（３）で得られたボロニックエステル体を、
   一般式［８］ 【化１０】 （式中、Ｒ^６は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
   イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
   トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
   シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
   ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
   キシメチル基を表す。）で示される化合物と反応させ
   て、一般式［９］ 【化１１】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^６は前記と同じ。但し、Ｒ^５≠Ｒ^６）
   で示されるカップリング体とする工程。 （５）上記（４）で得られたカップリング体を、一般式
   ［１０］ 【化１２】 （式中、Ｒ^７は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
   イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
   トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
   シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
   ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
   キシメチル基を表し、Ｘ^２はハロゲン原子を表す。）で
   示される化合物と反応させて、一般式［１１］ 【化１３】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^６及びＲ^７は前記と同じ。但し、Ｒ^５
   ≠Ｒ^６且つＲ^５≠Ｒ^７）で示される化合物とする工程。 （６）上記（５）で得られた一般式［１１］で示される
   化合物の１０位の水酸基の保護基Ｒ^５を脱保護して、一
   般式［１２］ 【化１４】 （式中、Ｒ^６，Ｒ^７は前記と同じ。）で示されるアリル
   アルコール体とする工程。 （７）上記（６）で得られ
   たアリルアルコール体の水酸基をハロゲン置換して、一
   般式［１３］ 【化１５】 （式中、Ｘ^３はハロゲン原子を表し、Ｒ^６，Ｒ^７は前記
   と同じ。）で示されるハロゲン体とする工程。 （８）上記（７）で得られたハロゲン体を一般式［１
   ４］ 【化１６】 （式中、Ｒ^１０は低級アルキル基又はアリール基を表
   し、Ｍはアルカリ金属原子を表す。）で示されるスルフ
   ィン酸塩と反応させて、一般式［１５］ 【化１７】 （式中、Ｒ^６，Ｒ^７及びＲ^１０は前記と同じ。）で示さ
   れるスルホン体とする工程。
2. 【請求項２】 前記（１）の工程において、一般式
   ［１］で示される化合物をリチオ化又はナトリウム化し
   た後、一般式［２］で示される化合物と反応させて、一
   般式［３］で示される化合物とする請求項１に記載の製
   造方法。
3. 【請求項３】 前記（２）の工程において、一般式
   ［３］で示される化合物を水素化リチウムアルミニウム
   で還元して一般式［４］で示される化合物とする請求項
   １又は２に記載の製造方法。
4. 【請求項４】 前記（３）の工程において、一般式
   ［４］で示されるアルコール体を塩化オキサリル及びジ
   メチルスルホキシド並びに塩基と反応させて一般式
   ［５］で示されるアルデヒド体とした後、一般式［６］
   で示されるジクロロメチルボロニックエステルと反応さ
   せて、一般式［７］で示されるボロニックエステル体と
   する請求項１〜３の何れかに記載の製造方法。
5. 【請求項５】 アルデヒド体を無水塩化クロム及び無水
   ヨウ化リチウムの存在下、ジクロロメチルボロニックエ
   ステルと反応させる請求項４に記載の製造方法。
6. 【請求項６】 前記（４）の工程において、一般式
   ［７］で示されるボロニックエステル体をパラジウム錯
   体触媒及びアルカリの存在下、一般式［８］で示される
   化合物と反応させて一般式［９］で示されるカップリン
   グ体とする請求項１〜５の何れかに記載の製造方法。
7. 【請求項７】 前記（５）の工程において、一般式
   ［９］で示されるカップリング体を塩基の存在下、一般
   式［１０］で示される化合物と反応させて一般式［１
   １］で示される化合物とする請求項１〜６の何れかに記
   載の製造方法。
8. 【請求項８】 前記（７）の工程において、アリルアル
   コール体の水酸基を四塩化炭素とトリフェニルホスフィ
   ンを用いて塩素置換して一般式［１３］で示されるハロ
   ゲン体とする請求項１〜７の何れかに記載の製造方法。
9. 【請求項９】 一般式［１］ 【化１８】 ［式中、Ｒ^１は、 【化１９】 （但し、Ｒ^２は、ベンジル基、イソプロピル基又はメチ
   ル基を表し、Ｒ^３，Ｒ^４はそれぞれ独立して水素原子又
   はフェニル基を表す。）又は 【化２０】 を表す。］で示される化合物をリチオ化又はナトリウム
   化した後、一般式［２］ 【化２１】 （式中、Ｒ^５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
   イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
   トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
   シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
   ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
   キシメチル基を表し、Ｘ^１はハロゲン原子を表す。）で
   示される化合物と反応させることを特徴とする、一般式
   ［３］ 【化２２】 （式中、Ｒ^１，Ｒ^５は前記と同じ。）で示される化合物
   の製造方法。
10. 【請求項１０】 Ｒ^１が、 【化２３】 であり、Ｒ^５がｔ−ブチルジフェニルシリル基であり、
    Ｘ^１が沃素である請求項９に記載の製造方法。
11. 【請求項１１】 一般式［３］ 【化２４】 ［式中、Ｒ^１は、 【化２５】 （但し、Ｒ^２は、ベンジル基、イソプロピル基又はメチ
    ル基を表し、Ｒ^３，Ｒ^４はそれぞれ独立して水素原子又
    はフェニル基を表す。）又は 【化２６】 を表し、Ｒ^５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
    イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
    トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
    シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
    ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
    キシメチル基を表す。］で示される化合物。
12. 【請求項１２】 一般式［３］ 【化２７】 ［式中、Ｒ^１は、 【化２８】 （但し、Ｒ^２は、ベンジル基、イソプロピル基又はメチ
    ル基を表し、Ｒ^３，Ｒ^４はそれぞれ独立して水素原子又
    はフェニル基を表す。）又は 【化２９】 を表し、Ｒ^５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
    イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
    トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
    シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
    ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
    キシメチル基を表す。］で示される化合物を還元するこ
    とを特徴とする、一般式［４］ 【化３０】 （式中、Ｒ^５は前記と同じ。）で示される化合物の製造
    方法。
13. 【請求項１３】 水素化リチウムアルミニウムで還元す
    る請求項１２に記載の製造方法。
14. 【請求項１４】 一般式［４］ 【化３１】 （式中、Ｒ^５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
    イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
    トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
    シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
    ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
    キシメチル基を表す。）で示される化合物。
15. 【請求項１５】 一般式［４］ 【化３２】 （式中、Ｒ^５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
    イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
    トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
    シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
    ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
    キシメチル基を表す。）で示される化合物を塩化オキサ
    リル及びジメチルスルホキシド並びに塩基と反応させ
    て、一般式［５］ 【化３３】 （式中、Ｒ^５は前記と同じ。）で示されるアルデヒド体
    とした後、一般式［６］ 【化３４】 （式中、Ｒ^８，Ｒ^９はそれぞれ独立してアルキル基を表
    す。また、Ｒ^８とＲ^９とが一緒になってアルキレン基を
    形成していてもよい。）で示されるジクロロメチルボロ
    ニックエステルと反応させることを特徴とする、一般式
    ［７］ 【化３５】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^８及びＲ^９は前記と同じ。）で示され
    る化合物の製造方法。
16. 【請求項１６】 アルデヒド体を無水塩化クロム及び無
    水ヨウ化リチウムの存在下、ジクロロメチルボロニック
    エステルと反応させる請求項１５に記載の製造方法。
17. 【請求項１７】 一般式［５］ 【化３６】 （式中、Ｒ^５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
    イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
    トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
    シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
    ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
    キシメチル基を表す。）で示される化合物。
18. 【請求項１８】 一般式［７］ 【化３７】 （式中、Ｒ^５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
    イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
    トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
    シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
    ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
    キシメチル基を表し、Ｒ^８，Ｒ^９はそれぞれ独立してア
    ルキル基を表す。また、Ｒ^８とＲ^９とが一緒になってア
    ルキレン基を形成していてもよい。）で示される化合物
19. 【請求項１９】 一般式［７］ 【化３８】 （式中、Ｒ^５は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
    イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
    トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
    シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
    ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
    キシメチル基を表し、Ｒ^８，Ｒ^９はそれぞれ独立してア
    ルキル基を表す。また、Ｒ^８とＲ^９とが一緒になってア
    ルキレン基を形成していてもよい。）で示される化合物
    をパラジウム錯体触媒及びアルカリの存在下、一般式
    ［８］ 【化３９】 （式中、Ｒ^６は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
    イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
    トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
    シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
    ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
    キシメチル基を表す。）で示される化合物と反応させる
    ことを特徴とする、一般式［９］ 【化４０】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^６は前記と同じ。）で示される化合物
    の製造方法。
20. 【請求項２０】 一般式［９］ 【化４１】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^６は、それぞれ独立してｔ−ブチルジ
    フェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブ
    チルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチ
    ルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル
    基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセ
    チル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）で示さ
    れる化合物。
21. 【請求項２１】Ｒ^５がｔ−ブチルジフェニルシリル基で
    あり、Ｒ^６がｐ−メトキシフェニルメチル基である請求
    項２０に記載の化合物。
22. 【請求項２２】 一般式［９］ 【化４２】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^６は、それぞれ独立してｔ−ブチルジ
    フェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブ
    チルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチ
    ルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル
    基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセ
    チル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）で示さ
    れる化合物を塩基の存在下、一般式［１０］ 【化４３】 （式中、Ｒ^７は、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリ
    イソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、
    トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、ｐ−メトキ
    シフェニルメチル基、ベンジル基、テトラヒドロピラニ
    ル基、メトキシメチル基、アセチル基又はメトキシエト
    キシメチル基を表し、Ｘ^２はハロゲン原子を表す。）で
    示される化合物と反応させることを特徴とする、一般式
    ［１１］ 【化４４】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^６及びＲ^７は前記と同じ。）で示され
    る化合物の製造方法。
23. 【請求項２３】 Ｒ^５がｔ−ブチルジフェニルシリル基
    であり、Ｒ^６がｐ−メトキシフェニルメチル基であり、
    Ｒ^７がメトキシメチル基である請求項２２に記載の製造
    方法。
24. 【請求項２４】 一般式［１１］ 【化４５】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ独立してｔ−ブ
    チルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、
    ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、ト
    リメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベ
    ンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル
    基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表
    す。）で示される化合物。
25. 【請求項２５】 Ｒ^５がｔ−ブチルジフェニルシリル基
    であり、Ｒ^６がｐ−メトキシフェニルメチル基であり、
    Ｒ７がメトキシメチル基である請求項２４に記載の化合
    物。
26. 【請求項２６】 一般式［１１］ 【化４６】 （式中、Ｒ^５，Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ独立してｔ−ブ
    チルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、
    ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、ト
    リメチルシリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベ
    ンジル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル
    基、アセチル基又はメトキシエトキシメチル基を表
    す。）で示される化合物の１０位の水酸基の保護基Ｒ^５
    を脱保護することを特徴とする、一般式［１２］ 【化４７】 （式中、Ｒ^６，Ｒ^７は前記と同じ。）で示される化合物
    の製造方法。
27. 【請求項２７】 一般式［１１］で示される化合物の１
    ０位の水酸基の保護基Ｒ^５がｔ−ブチルジフェニルシリ
    ル基であり、テトラブチルアンモニウムフルオリドを用
    いてこれを脱保護する請求項２６に記載の製造方法。
28. 【請求項２８】 一般式［１２］ 【化４８】 （式中、Ｒ^６，Ｒ^７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフ
    ェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチ
    ルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチル
    シリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル
    基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセ
    チル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）で示さ
    れる化合物。
29. 【請求項２９】 一般式［１２］ 【化４９】 （式中、Ｒ^６，Ｒ^７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフ
    ェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチ
    ルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチル
    シリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル
    基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセ
    チル基又はメトキシエトキシメチル基を表す。）で示さ
    れる化合物の水酸基をハロゲン置換することを特徴とす
    る、一般式［１３］ 【化５０】 （式中、Ｘ^３はハロゲン原子を表し、Ｒ^６，Ｒ^７は前記
    と同じ。）で示される化合物の製造方法。
30. 【請求項３０】 四塩化炭素とトリフェニルホスフィン
    を用いて塩素置換する請求項２９に記載の製造方法。
31. 【請求項３１】 一般式［１３］ 【化５１】 （式中、Ｒ^６，Ｒ^７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフ
    ェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチ
    ルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチル
    シリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル
    基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセ
    チル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｘ^３はハ
    ロゲン原子を表す。）で示される化合物。
32. 【請求項３２】 Ｒ^６がｐ−メトキシフェニルメチル基
    であり、Ｒ^７がメトキシメチル基であり、Ｘ^３が塩素原
    子である請求項３１に記載の化合物。
33. 【請求項３３】 一般式［１３］ 【化５２】 （式中、Ｒ^６，Ｒ^７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフ
    ェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチ
    ルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチル
    シリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル
    基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセ
    チル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｘ^３はハ
    ロゲン原子を表す。）で示される化合物を一般式［１
    ４］ 【化５３】 （式中、Ｒ^１０は低級アルキル基又はアリール基を表
    し、Ｍはアルカリ金属原子を表す。）で示されるスルフ
    ィン酸塩と反応させることを特徴とする、一般式［１
    ５］ 【化５４】 （式中、Ｒ^６，Ｒ^７及びＲ^１０は前記と同じ。）で示さ
    れる化合物の製造方法。
34. 【請求項３４】 一般式［１５］ 【化５５】 （式中、Ｒ^６，Ｒ^７はそれぞれ独立してｔ−ブチルジフ
    ェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチ
    ルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチル
    シリル基、ｐ−メトキシフェニルメチル基、ベンジル
    基、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、アセ
    チル基又はメトキシエトキシメチル基を表し、Ｒ^１０は
    低級アルキル基又はアリール基を表す。）で示される化
    合物。
35. 【請求項３５】 Ｒ^６がｐ−メトキシフェニルメチル基
    であり、Ｒ７がメトキシメチル基であり、Ｒ^１０がフェ
    ニル基である請求項３４に記載の化合物。
36. 【請求項３６】 下記（１１）〜（１８）の工程を含ん
    でなるボンクレキン酸のＣ_１１〜Ｃ_２２セグメントの製
    造法。 （１１）一般式［２１］ 【化５６】 （式中、Ｒ^１１は水酸基の保護基を表す。）で示される
    化合物を還元して、一般式［２２］ 【化５７】 （式中、Ｒ^１１は前記と同じ。）で示されるフラノール
    体とする工程。 （１２）上記（１１）で得られた一般式［２２］で示さ
    れるフラノール体を一般式［２３］ 【化５８】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
    ル基を表す。）で示されるホスホランと反応させて、一
    般式［２４］ 【化５９】 （式中、Ｒ^１１，Ｒ^１２は前記と同じ。）で示される化
    合物とする工程。 （１３）上記（１２）で得られた一般式［２４］で示さ
    れる化合物の７位の水酸基の保護基を脱保護して、一般
    式［２５］ 【化６０】 （式中、Ｒ^１２は前記と同じ。）で示されるジヒドロキ
    シ体とする工程。 （１４）上記（１３）で得られた一般式［２５］で示さ
    れるジヒドロキシ体の７位の水酸基をトシル化、メシル
    化又はハロゲン置換して、一般式［２６］ 【化６１】 （式中、Ｘ^１１はトシルオキシ基、メシルオキシ基又は
    ハロゲン原子を表し、Ｒ ^１２は前記と同じ。）で示され
    る化合物とする工程。 （１５）上記（１４）で得られた一般式［２６］で示さ
    れる化合物を塩基で処理して、一般式［２７］ 【化６２】 （式中、Ｒ^１２は前記と同じ。）で示される６，７−エ
    ポキシ体とする工程。 （１６）上記（１５）で得られた一般式［２７］で示さ
    れる６，７−エポキシ体を一般式［２８］ 【化６３】 （式中、Ｒ^１３は水酸基の保護基を表す。）で示される
    化合物と反応させて、一般式［２９］ 【化６４】 （式中、Ｒ^１２，Ｒ^１３は前記と同じ。）で示される化
    合物とする工程。 （１７）上記（１６）で得られた一般式［２９］で示さ
    れる化合物の６位の水酸基をメチル化して、一般式［３
    ０］ 【化６５】 （式中、Ｒ^１２，Ｒ^１３は前記と同じ。）で示される化
    合物とする工程。 （１８）上記（１７）で得られた一般式［３０］で示さ
    れる化合物の三重結合を部分水素化して、一般式［３
    １］ 【化６６】 （式中、Ｒ^１２，Ｒ^１３は前記と同じ。）で示される化
    合物とする工程。
37. 【請求項３７】 前記（１１）の工程において、一般式
    ［２１］で示される化合物を金属水素化物で還元して一
    般式［２２］で示されるフラノール体とする、請求項３
    ６に記載の製造法。
38. 【請求項３８】 前記（１４）の工程において、一般式
    ［２５］で示されるジヒドロキシ体の７位の水酸基をト
    シル化して、一般式［２６］で示される化合物とする、
    請求項３６又は３７に記載の製造法。
39. 【請求項３９】 前記（１６）の工程において、一般式
    ［２８］で示される化合物をリチオ化又はマグネシウム
    化した後、一般式［２７］で示される６，７−エポキシ
    体と反応させる、請求項３６〜３８の何れかに記載の製
    造法。
40. 【請求項４０】 前記（１８）の工程において、一般式
    ［３０］で示される化合物の三重結合をリンドラー触媒
    を用いて部分水素化して、一般式［３１］で示される化
    合物とする請求項３６〜３９の何れかに記載の製造法。
41. 【請求項４１】 一般式［２１］ 【化６７】 （式中、Ｒ^１１は水酸基の保護基を表す。）で示される
    化合物を還元することを特徴とする、一般式［２２］ 【化６８】 （式中、Ｒ^１１は前記と同じ。）で示される化合物の製
    造法。
42. 【請求項４２】 金属水素化物で還元する、請求項４１
    に記載の製造法。
43. 【請求項４３】 一般式［２２］ 【化６９】 （式中、Ｒ^１１は水酸基の保護基を表す。）で示される
    化合物。
44. 【請求項４４】 一般式［２２］において、Ｒ^１１がト
    リチル基又はｔ−ブチルジメチルシリル基である請求項
    ４３に記載の化合物。
45. 【請求項４５】 一般式［２２］ 【化７０】 （式中、Ｒ^１１は水酸基の保護基を表す。）で示される
    化合物を一般式［２３］ 【化７１】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
    ル基を表す。）で示されるホスホランと反応させること
    を特徴とする、一般式［２４］ 【化７２】 （式中、Ｒ^１１，Ｒ^１２は前記と同じ。）で示される化
    合物の製造法。
46. 【請求項４６】 一般式［２４］ 【化７３】 （式中、Ｒ^１１は水酸基の保護基を表し、Ｒ^１２はアル
    キル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）で示さ
    れる化合物
47. 【請求項４７】 一般式［２４］において、Ｒ^１１がト
    リチル基又はｔ−ブチルジメチルシリル基で、Ｒ^１２が
    アルキル基である請求項４６に記載の化合物。
48. 【請求項４８】 一般式［２４］ 【化７４】 （式中、Ｒ^１１は水酸基の保護基を表し、Ｒ^１２はアル
    キル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）で示さ
    れる化合物の７位の水酸基の保護基を酸触媒の存在下に
    脱保護することを特徴とする、一般式［２５］ 【化７５】 （式中、Ｒ^１２は前記と同じ。）で示される化合物の製
    造法。
49. 【請求項４９】 Ｒ^１１がトリチル基である請求項４８
    に記載の製造法。
50. 【請求項５０】 一般式［２４］ 【化７６】 （式中、Ｒ^１１は水酸基の保護基を表し、Ｒ^１２はアル
    キル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）で示さ
    れる化合物の７位の水酸基の保護基をテトラブチルアン
    モニウムフルオリドで脱保護することを特徴とする、一
    般式［２５］ 【化７７】 （式中、Ｒ^１２は前記と同じ。）で示される化合物の製
    造法。
51. 【請求項５１】 Ｒ^１１がｔ−ブチルジメチルシリル基
    又はｔ−ブチルジフェニルシリル基である請求項５０に
    記載の製造法。
52. 【請求項５２】 一般式［２５］ 【化７８】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
    ル基を表す。）で示される化合物。
53. 【請求項５３】 一般式［２５］において、Ｒ^１２がア
    ルキル基である請求項５２に記載の化合物。
54. 【請求項５４】 一般式［２５］ 【化７９】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
    ル基を表す。）で示される化合物の７位の水酸基をトシ
    ル化、メシル化又はハロゲン置換することを特徴とす
    る、一般式［２６］ 【化８０】 （式中、Ｘ^１１はトシルオキシ基、メシルオキシ基又は
    ハロゲン原子を表し、Ｒ ^１２は前記と同じ。）で示され
    る化合物の製造法。
55. 【請求項５５】 一般式［２５］で示される化合物の７
    位の水酸基をトシル化して、一般式［２６］で示される
    化合物とする、請求項５４に記載の製造法。
56. 【請求項５６】 一般式［２６］ 【化８１】 （式中、Ｘ^１１はトシルオキシ基、メシルオキシ基又は
    ハロゲン原子を表し、Ｒ ^１２はアルキル基、アリール基
    又はアラルキル基を表す。）で示される化合物
57. 【請求項５７】 一般式［２６］において、Ｘ^１１がト
    シルオキシ基で、Ｒ ^１２がアルキル基ある請求項５６に
    記載の化合物。
58. 【請求項５８】 一般式［２６］ 【化８２】 （式中、Ｘ^１１はトシルオキシ基、メシルオキシ基又は
    ハロゲン原子を表し、Ｒ ^１２はアルキル基、アリール基
    又はアラルキル基を表す。）で示される化合物を塩基で
    処理することを特徴とする、一般式［２７］ 【化８３】 （式中、Ｒ^１２は前記と同じ。）で示される化合物の製
    造法。
59. 【請求項５９】 Ｘ^１１がトシルオキシ基である請求項
    ５８に記載の製造法。
60. 【請求項６０】 一般式［２７］ 【化８４】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
    ル基を表す。）で示される化合物
61. 【請求項６１】 一般式［２７］ 【化８５】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
    ル基を表す。）で示される化合物を一般式［２８］ 【化８６】 （式中、Ｒ^１３は水酸基の保護基を表す。）で示される
    化合物と反応させることを特徴とする、一般式［２９］ 【化８７】 （式中、Ｒ^１２，Ｒ^１３は前記と同じ。）で示される化
    合物の製造法。
62. 【請求項６２】 一般式［２８］で示される化合物をリ
    チオ化又はマグネシウム化した後、一般式［２７］で示
    される化合物と反応させる、請求項６１に記載の製造
    法。
63. 【請求項６３】 一般式［２８］で示される化合物をリ
    チオ化した後、一般式［２７］で示される化合物と反応
    させる、請求項６１に記載の製造法。
64. 【請求項６４】 一般式［２９］ 【化８８】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
    ル基を表し、Ｒ^１３は水酸基の保護基を表す。）で示さ
    れる化合物。
65. 【請求項６５】 Ｒ^１２がアルキル基で、Ｒ^１３がｔ−
    ブチルジフェニルシリル基である請求項６４に記載の化
    合物。
66. 【請求項６６】 一般式［２９］ 【化８９】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
    ル基を表し、Ｒ^１３は水酸基の保護基を表す。）で示さ
    れる化合物の６位の水酸基をメチル化することを特徴と
    する、一般式［３０］ 【化９０】 （式中、Ｒ^１２，Ｒ^１３は前記と同じ。）で示される化
    合物の製造法。
67. 【請求項６７】 一般式［３０］ 【化９１】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
    ル基を表し、Ｒ^１３は水酸基の保護基を表す。）で示さ
    れる化合物
68. 【請求項６８】 Ｒ^１２がアルキル基で、Ｒ^１３がｔ−
    ブチルジフェニルシリル基である請求項６７に記載の化
    合物。
69. 【請求項６９】 一般式［３０］ 【化９２】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
    ル基を表し、Ｒ^１３は水酸基の保護基を表す。）で示さ
    れる化合物の三重結合を部分水素化することを特徴とす
    る、一般式［３１］ 【化９３】 （式中、Ｒ^１２，Ｒ^１３は前記と同じ。）で示される化
    合物の製造法。
70. 【請求項７０】 リンドラー触媒を用いて三重結合を部
    分水素化する請求項６９に記載の製造法。
71. 【請求項７１】 一般式［３１］ 【化９４】 （式中、Ｒ^１２はアルキル基、アリール基又はアラルキ
    ル基を表し、Ｒ^１３は水酸基の保護基を表す。）で示さ
    れる化合物。
72. 【請求項７２】 Ｒ^１２がアルキル基で、Ｒ^１３がｔ−
    ブチルジフェニルシリル基である請求項７１に記載の化
    合物。