JPH10101640A - 新規チオエステル - Google Patents
新規チオエステルInfo
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- JPH10101640A JPH10101640A JP25184696A JP25184696A JPH10101640A JP H10101640 A JPH10101640 A JP H10101640A JP 25184696 A JP25184696 A JP 25184696A JP 25184696 A JP25184696 A JP 25184696A JP H10101640 A JPH10101640 A JP H10101640A
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- compound
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Abstract
(57)【要約】
【課題】新規なα，α−ジフルオロ−β−ヒドロキシチ
オエステル及びその製造法を提供する。 【解決手段】一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1およびＲ2はアルキル基、置換されていても
よいアリール基または置換されていてもよいアラルキル
基を示す。〕で表される化合物。
オエステル及びその製造法を提供する。 【解決手段】一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1およびＲ2はアルキル基、置換されていても
よいアリール基または置換されていてもよいアラルキル
基を示す。〕で表される化合物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なα，α−ジ
フルオロ−β−ヒドロキシチオエステルに関する。
フルオロ−β−ヒドロキシチオエステルに関する。
【０００２】本発明のチオエステルは、抗ウイルス剤、
抗ガン剤として使用されるヌクレオシドアナログの製造
中間体として有用である。
抗ガン剤として使用されるヌクレオシドアナログの製造
中間体として有用である。
【０００３】
【従来の技術】含フッ素化合物は、医薬、農薬等の分野
において、そのフッ素原子の導入による新たな生理活性
が期待されるため、近年注目を集めている。
において、そのフッ素原子の導入による新たな生理活性
が期待されるため、近年注目を集めている。
【０００４】α，α−ジフルオロ−β−ヒドロキシエス
テルは、J. Fried ら〔TetrahedronLett., 25, 2301 (1
984)〕による、ブロモジフルオロエステルとアルデヒド
を用いたReformatsky 反応や、小林ら〔Tetrahedron Le
tt., 29, 2301〕による２，２−ジフルオロケテンシリ
ルアセタールを中間体とするアルドール反応などによ
り、多く開発されている。
テルは、J. Fried ら〔TetrahedronLett., 25, 2301 (1
984)〕による、ブロモジフルオロエステルとアルデヒド
を用いたReformatsky 反応や、小林ら〔Tetrahedron Le
tt., 29, 2301〕による２，２−ジフルオロケテンシリ
ルアセタールを中間体とするアルドール反応などによ
り、多く開発されている。
【０００５】β−ヒドロキシカルボン酸は、脂肪酸のβ
酸化の中間体であり、かつ、脳内神経伝達物質であるγ
−アミノ酪酸もβ−ヒドロキシカルボン酸構造を有して
おり、β−ヒドロキシカルボン酸のアナログである種々
のα，α−ジフルオロ−β−ヒドロキシチオエステル
は、生体の機能を調節する医薬、農薬として、或いはそ
の製造中間体として有用であり、各種の構造を有するチ
オエステルの提供が望まれていた。
酸化の中間体であり、かつ、脳内神経伝達物質であるγ
−アミノ酪酸もβ−ヒドロキシカルボン酸構造を有して
おり、β−ヒドロキシカルボン酸のアナログである種々
のα，α−ジフルオロ−β−ヒドロキシチオエステル
は、生体の機能を調節する医薬、農薬として、或いはそ
の製造中間体として有用であり、各種の構造を有するチ
オエステルの提供が望まれていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規なα，
α−ジフルオロ−β−ヒドロキシチオエステルを提供す
ることを目的とする。
α−ジフルオロ−β−ヒドロキシチオエステルを提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、以下のα，α
−ジフルオロ−β−ヒドロキシチオエステルを提供する
ものである。
−ジフルオロ−β−ヒドロキシチオエステルを提供する
ものである。
【０００８】項１． 一般式（Ｉ）
【０００９】
【化２】
【００１０】〔式中、Ｒ1およびＲ2はアルキル基、置換
されていてもよいアリール基または置換されていてもよ
いアラルキル基を示す。〕で表される化合物。
されていてもよいアリール基または置換されていてもよ
いアラルキル基を示す。〕で表される化合物。
【００１１】本発明は、水酸基を有する炭素原子
（Ｃ*）がＲ体またはＳ体である上記チオエステル化合
物の光学異性体を包含する。
（Ｃ*）がＲ体またはＳ体である上記チオエステル化合
物の光学異性体を包含する。
【００１２】
【発明の実施の形態】Ｒ1及びＲ2で表されるアルキル基
としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブ
チル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデ
シル、エイコシルなどの炭素数１〜２０の低級アルキル
基が挙げられる。
としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブ
チル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデ
シル、エイコシルなどの炭素数１〜２０の低級アルキル
基が挙げられる。
【００１３】Ｒ1及びＲ2で表される置換されていてもよ
いアリール基としては、置換されていてもよいフェニル
基、ナフチル基が挙げられる。
いアリール基としては、置換されていてもよいフェニル
基、ナフチル基が挙げられる。
【００１４】Ｒ1及びＲ2で表される置換されていてもよ
いアラルキル基としては、置換されていてもよいベンジ
ル基、２−フェニルエチル基等が挙げられる。
いアラルキル基としては、置換されていてもよいベンジ
ル基、２−フェニルエチル基等が挙げられる。
【００１５】アリール基、アラルキル基の置換基として
は、上記のメチル、エチル、プロピル、ｔーブチル等の
Ｃ1〜Ｃ4の低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、ｔーブトキシ等のＣ1〜Ｃ4の低級アルコキシ
基、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子など
のハロゲン原子、ＯＨ基、ＣＮ基、ＳＨ基、カルボキシ
ル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−
ブトキシカルボニルなどのＣ1〜Ｃ4の低級アルコキシカ
ルボニル基、１個又は２個のＣ1〜Ｃ4の低級アルキル基
で置換されていてもよいアミノ基、ＣＦ3基、ニトロ
基、アセチル、プロピオニル、ブチリルなどのＣ2〜Ｃ5
の脂肪族低級アシル基、メチレンジオキシ基等が挙げら
れる。
は、上記のメチル、エチル、プロピル、ｔーブチル等の
Ｃ1〜Ｃ4の低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、ｔーブトキシ等のＣ1〜Ｃ4の低級アルコキシ
基、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子など
のハロゲン原子、ＯＨ基、ＣＮ基、ＳＨ基、カルボキシ
ル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−
ブトキシカルボニルなどのＣ1〜Ｃ4の低級アルコキシカ
ルボニル基、１個又は２個のＣ1〜Ｃ4の低級アルキル基
で置換されていてもよいアミノ基、ＣＦ3基、ニトロ
基、アセチル、プロピオニル、ブチリルなどのＣ2〜Ｃ5
の脂肪族低級アシル基、メチレンジオキシ基等が挙げら
れる。
【００１６】好ましいＲ1は、炭素数１〜１５の直鎖又
は分枝を有するアルキル基及びフェニル基であり、特に
炭素数１〜４の直鎖又は分枝を有するアルキル基又はフ
ェニル基が好ましい。
は分枝を有するアルキル基及びフェニル基であり、特に
炭素数１〜４の直鎖又は分枝を有するアルキル基又はフ
ェニル基が好ましい。
【００１７】好ましいＲ2は、炭素数１〜２０の直鎖又
は分枝を有するアルキル基又は置換されていてもよいア
リール基、特にフェニル基が好ましい。
は分枝を有するアルキル基又は置換されていてもよいア
リール基、特にフェニル基が好ましい。
【００１８】本発明の好ましい一般式（Ｉ）の化合物
は：Ｒ1が炭素数１〜４の直鎖又は分枝を有するアルキ
ル基又はフェニル基であり、Ｒ2が、炭素数１〜２０の
直鎖又は分枝を有するアルキル基又は置換されていても
よいアリール基であり、特にＲ1が炭素数１〜４の直鎖
又は分枝を有するアルキル基又はフェニル基であり、Ｒ
2がフェニル基である化合物がより好ましい。
は：Ｒ1が炭素数１〜４の直鎖又は分枝を有するアルキ
ル基又はフェニル基であり、Ｒ2が、炭素数１〜２０の
直鎖又は分枝を有するアルキル基又は置換されていても
よいアリール基であり、特にＲ1が炭素数１〜４の直鎖
又は分枝を有するアルキル基又はフェニル基であり、Ｒ
2がフェニル基である化合物がより好ましい。
【００１９】本発明の製造法は、一般式（II）の化合物
を溶媒中ルイス酸の存在下に一般式（III）のアルデヒ
ド化合物と反応させることにより得られる。
を溶媒中ルイス酸の存在下に一般式（III）のアルデヒ
ド化合物と反応させることにより得られる。
【００２０】
【化３】
【００２１】〔式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、同一又は異な
ったハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはアル
コキシ基を示す。Ｒ1及びＲ2は、前記に同じ。〕 Ｒ3〜Ｒ5は、同一又は異なって、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基又はアルコキシ基を示す。
ったハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはアル
コキシ基を示す。Ｒ1及びＲ2は、前記に同じ。〕 Ｒ3〜Ｒ5は、同一又は異なって、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基又はアルコキシ基を示す。
【００２２】Ｒ3〜Ｒ5で表されるアルキル基としては、
メチル、エチル、ｎ−プロピル基、イソプロピル、ｎ−
ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル基な
どの炭素数１〜４の低級アルキル基が挙げられる。
メチル、エチル、ｎ−プロピル基、イソプロピル、ｎ−
ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル基な
どの炭素数１〜４の低級アルキル基が挙げられる。
【００２３】Ｒ3〜Ｒ5で表されるアリール基としては、
フェニル基等が挙げられる。
フェニル基等が挙げられる。
【００２４】Ｒ3〜Ｒ5で表されるハロゲン原子として
は、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子が挙
げられる。
は、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子が挙
げられる。
【００２５】Ｒ3〜Ｒ5で表されるアルコキシ基として
は、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポ
キシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、t
ert−ブトキシ基などの炭素数１〜４の低級アルコキシ
基が挙げられる。
は、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポ
キシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、t
ert−ブトキシ基などの炭素数１〜４の低級アルコキシ
基が挙げられる。
【００２６】好ましいＲ3〜Ｒ5は、Ｒ3〜Ｒ5が全て同一
で、メチル基、エチル基のもの、もしくは３つのうちの
１つがｔ−ブチル基で２つがメチル基のものである。
で、メチル基、エチル基のもの、もしくは３つのうちの
１つがｔ−ブチル基で２つがメチル基のものである。
【００２７】ルイス酸としては、ＴｉＣｌ4、ＡｌＣ
ｌ3、ＢＦ3・Ｅｔ2Ｏ、ＢＢｒ3、ＳｎＣｌ4、ＺｎＣｌ2
等の他に下記構造式の酒石酸−ホウ素複合体、Ｌ（また
はＤ）−ロイシンスルホンアミド−ホウ素複合体、Ｌ
（またはＤ）−バリンスルホンアミド−ホウ素複合体な
どの光学活性なルイス酸が挙げられ、
ｌ3、ＢＦ3・Ｅｔ2Ｏ、ＢＢｒ3、ＳｎＣｌ4、ＺｎＣｌ2
等の他に下記構造式の酒石酸−ホウ素複合体、Ｌ（また
はＤ）−ロイシンスルホンアミド−ホウ素複合体、Ｌ
（またはＤ）−バリンスルホンアミド−ホウ素複合体な
どの光学活性なルイス酸が挙げられ、
【００２８】
【化４】
【００２９】チタン、ホウ素を含有するルイス酸が好ま
しい。ルイス酸として、上記のような光学活性体を用い
ると、生成物として光学活性な化合物を得ることができ
る。溶媒としては、特に限定されないが、テトラヒドロ
フラン、トルエン、ジクロロメタン、プロピオニトリ
ル、ニトロエタン、ジエチルエーテル、アセトニトリル
等が好ましい。
しい。ルイス酸として、上記のような光学活性体を用い
ると、生成物として光学活性な化合物を得ることができ
る。溶媒としては、特に限定されないが、テトラヒドロ
フラン、トルエン、ジクロロメタン、プロピオニトリ
ル、ニトロエタン、ジエチルエーテル、アセトニトリル
等が好ましい。
【００３０】反応は、化合物（II）１モルに対し、ルイ
ス酸を触媒量から３当量、好ましくは0.05〜1.1当量、
化合物（III）を１〜２モル使用し、−１００〜１００
℃、好ましくは−７８〜４０℃の温度で１時間〜１週間
反応させる。
ス酸を触媒量から３当量、好ましくは0.05〜1.1当量、
化合物（III）を１〜２モル使用し、−１００〜１００
℃、好ましくは−７８〜４０℃の温度で１時間〜１週間
反応させる。
【００３１】なお、一般式（II）の化合物は、特開平７
−２８５９７３号の記載に従い製造される。
−２８５９７３号の記載に従い製造される。
【００３２】
【発明の効果】本発明によれば、医薬及び農薬原料とし
て有用なα，α−ジフルオロ−β−ヒドロキシチオエス
テルを容易に製造できる。
て有用なα，α−ジフルオロ−β−ヒドロキシチオエス
テルを容易に製造できる。
【００３３】
【実施例】以下、本発明を実施例を用いてより詳細に説
明する。
明する。
【００３４】実施例１
【００３５】
【化５】
【００３６】アルゴン気流下、ベンズアルデヒド（１０
２μｌ、１ｍｍｏｌ）の無水ジクロロメタン（１０ｍ
ｌ）に−７８℃で２，２−ジフルオロケテンシリル−
Ｏ，Ｓ−アセタール（Ｉａ）（２３３mg、１．１ｍｍｏ
ｌ）及び四塩化チタン（１２１μｌ、１．１ｍｍｏｌ）
を加え、同温度で３時間撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液
を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下濃縮後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）を用いて分離精製
し、目的化合物（IIIa）を２２１mg（収率９０％）得
た。
２μｌ、１ｍｍｏｌ）の無水ジクロロメタン（１０ｍ
ｌ）に−７８℃で２，２−ジフルオロケテンシリル−
Ｏ，Ｓ−アセタール（Ｉａ）（２３３mg、１．１ｍｍｏ
ｌ）及び四塩化チタン（１２１μｌ、１．１ｍｍｏｌ）
を加え、同温度で３時間撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液
を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下濃縮後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）を用いて分離精製
し、目的化合物（IIIa）を２２１mg（収率９０％）得
た。
【００３７】(IIIa) 無色油状物質 ＩＲ(cm-1) 3473, 1682, 1200, 1085, 924.19 F-NMR δ110.20(dd, J=260.6、 8.1, 1F)、110.20(d
d, J=260.6、 8.1, 1F)1 H-NMR δ1.26(t, J=7.4, 3H), 2.71(d, J=5.0, 1H),
2.95(q, J=7.4, 2H),5.12-5.27(m, 1H), 7.35-7.50(m,
5H).実施例２
d, J=260.6、 8.1, 1F)1 H-NMR δ1.26(t, J=7.4, 3H), 2.71(d, J=5.0, 1H),
2.95(q, J=7.4, 2H),5.12-5.27(m, 1H), 7.35-7.50(m,
5H).実施例２
【００３８】
【化６】
【００３９】ベンズアルデヒド（１０２μｌ、１ｍｍｏ
ｌ）、２，２−ジフルオロケテンシリル−Ｏ，Ｓ−アセ
タール（Ｉｂ）（２８６mg、１．１ｍｍｏｌ）及び四塩
化チタン（１２１μｌ、１．１ｍｍｏｌ）を用いて実施
例１と同様の操作を行った。シリカゲルクロマトグラフ
ィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で分離精製し、
無色結晶の目的物（IIIb）を２６５mg（収率９０％）得
た。
ｌ）、２，２−ジフルオロケテンシリル−Ｏ，Ｓ−アセ
タール（Ｉｂ）（２８６mg、１．１ｍｍｏｌ）及び四塩
化チタン（１２１μｌ、１．１ｍｍｏｌ）を用いて実施
例１と同様の操作を行った。シリカゲルクロマトグラフ
ィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で分離精製し、
無色結晶の目的物（IIIb）を２６５mg（収率９０％）得
た。
【００４０】(IIIb) 無色柱状晶、融点＝111.1〜111.9
℃（エーテル−ヘキサンより再結晶） ＩＲ(cm-1) 3363, 1686, 1196, 1081, 911, 737.実施例３
℃（エーテル−ヘキサンより再結晶） ＩＲ(cm-1) 3363, 1686, 1196, 1081, 911, 737.実施例３
【００４１】
【化７】
【００４２】ハイドロシンナムアルデヒド（１２４ｍ
ｇ、１ｍｍｏｌ）、２，２−ジフルオロケテンシリル−
Ｏ，Ｓ−アセタール（Ｉａ）（２３３mg、１．１ｍｍｏ
ｌ）及び四塩化チタン（１２１μｌ、１．１ｍｍｏｌ）
を用いて実施例１と同様の操作を行った。シリカゲルク
ロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で
分離精製し、目的化合物（IIIc）を２３４mg（収率８５
％）得た。
ｇ、１ｍｍｏｌ）、２，２−ジフルオロケテンシリル−
Ｏ，Ｓ−アセタール（Ｉａ）（２３３mg、１．１ｍｍｏ
ｌ）及び四塩化チタン（１２１μｌ、１．１ｍｍｏｌ）
を用いて実施例１と同様の操作を行った。シリカゲルク
ロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で
分離精製し、目的化合物（IIIc）を２３４mg（収率８５
％）得た。
【００４３】(IIIc) 無色油状物質 ＩＲ(cm-1) 3436, 1686, 1092, 701.19 F-NMR δ112.73(dd, J=263.5、 8.5, 1F)、119.41(d
d, J=263.5、 14.7, 1F)1 H-NMR δ1.31(t, J=7.5, 3H), 1.78-2.15(m, 2H), 2.
62-3.00(m, 2H),2.99(q, J=7.5, 2H), 3.96-4.15(m, 1
H), 7.15-7.35(m, 5H).実施例４
d, J=263.5、 14.7, 1F)1 H-NMR δ1.31(t, J=7.5, 3H), 1.78-2.15(m, 2H), 2.
62-3.00(m, 2H),2.99(q, J=7.5, 2H), 3.96-4.15(m, 1
H), 7.15-7.35(m, 5H).実施例４
【００４４】
【化８】
【００４５】２−Ｏ−（２，６−ジイソプロポキシベン
ゾイル）タータリックアシッド７４ｍｇ（０．２ｍｍｏ
ｌ）の無水プロピオニトリル溶液に、氷冷下ボラン−Ｔ
ＨＦ溶液（２．０６Ｍ、０．２ｍｍｏｌ）を滴下し、同
温度で１時間撹拌した。反応液を−７８℃まで冷却した
後、ベンズアルデヒド（１０２μｌ、１ｍｍｏｌ）を加
え、同温度で３０分間撹拌した後、２，２−ジフルオロ
ケテンシリル−Ｏ，Ｓ−アセタール（Ｉｂ）（２８６m
g、１．１ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を−４０℃まで
昇温し、２２時間撹拌後、２Ｎ塩酸に注ぎ、エーテルで
抽出した。溶媒を減圧留去し、ＴＨＦ（10ml）及び2N-H
Cl（2ml）を加え、室温で１時間撹拌した。反応溶液を
エーテルで抽出し、飽和ＮａＨＣＯ3水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下濃縮後、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
９：１）を用いて分離精製し、目的化合物（IIIb）を２
５３mg（収率８６％）得た。また、生成物（IIIb）のエ
ナンチオ選択性をＨＰＬＣ（カラム：ダイセルＯＤ−
Ｈ、エタノール：ヘキサン＝１：２０）を用いて測定し
たところ、２７．６％ｅｅであった。
ゾイル）タータリックアシッド７４ｍｇ（０．２ｍｍｏ
ｌ）の無水プロピオニトリル溶液に、氷冷下ボラン−Ｔ
ＨＦ溶液（２．０６Ｍ、０．２ｍｍｏｌ）を滴下し、同
温度で１時間撹拌した。反応液を−７８℃まで冷却した
後、ベンズアルデヒド（１０２μｌ、１ｍｍｏｌ）を加
え、同温度で３０分間撹拌した後、２，２−ジフルオロ
ケテンシリル−Ｏ，Ｓ−アセタール（Ｉｂ）（２８６m
g、１．１ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を−４０℃まで
昇温し、２２時間撹拌後、２Ｎ塩酸に注ぎ、エーテルで
抽出した。溶媒を減圧留去し、ＴＨＦ（10ml）及び2N-H
Cl（2ml）を加え、室温で１時間撹拌した。反応溶液を
エーテルで抽出し、飽和ＮａＨＣＯ3水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下濃縮後、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
９：１）を用いて分離精製し、目的化合物（IIIb）を２
５３mg（収率８６％）得た。また、生成物（IIIb）のエ
ナンチオ選択性をＨＰＬＣ（カラム：ダイセルＯＤ−
Ｈ、エタノール：ヘキサン＝１：２０）を用いて測定し
たところ、２７．６％ｅｅであった。
【００４６】実施例５
【００４７】
【化９】
【００４８】Ｌ−ロイシンスルホンアミド（１．１ｍｍ
ｏｌ，３４８ｍｇ）をプロピオニトリル（５ｍｌ）に溶
かし、室温でＢＨ3−ＴＨＦ溶液（１．８７Ｍ−ＴＨ
Ｆ、１．０ｍｍｏｌ，５３４μｌ）を加え、１０分間撹
拌する。その後４５℃で１時間撹拌した後、−４５℃に
冷やし、ベンズアルデヒド（１．０ｍｍｏｌ，１０２μ
ｌ）、ジフルオロケテンシリルアセタール（２５４mg、
１．２ｍｍｏｌ）を滴下し、同温度で２４時間撹拌す
る。反応溶液を飽和ＮａＨＣＯ3に加え、ジエチルエー
テルで抽出する。溶媒を減圧濃縮し、ＴＨＦ（１０ｍ
ｌ）及び２Ｎ−ＨＣｌ（2ml）を加え、室温で１時間撹
拌する。反応溶液をジエチルエーテルで抽出し、飽和Ｎ
ａＨＣＯ3水で洗浄する。無水ＭｇＳＯ4で乾燥後、濾
過、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、目的化
合物を１３４mg（収率５５％）得た。また、光学収率
は、Daicel Chiracel OD-H (ヘキサン：エタノール＝２
０：１）より８０％ｅｅであった。
ｏｌ，３４８ｍｇ）をプロピオニトリル（５ｍｌ）に溶
かし、室温でＢＨ3−ＴＨＦ溶液（１．８７Ｍ−ＴＨ
Ｆ、１．０ｍｍｏｌ，５３４μｌ）を加え、１０分間撹
拌する。その後４５℃で１時間撹拌した後、−４５℃に
冷やし、ベンズアルデヒド（１．０ｍｍｏｌ，１０２μ
ｌ）、ジフルオロケテンシリルアセタール（２５４mg、
１．２ｍｍｏｌ）を滴下し、同温度で２４時間撹拌す
る。反応溶液を飽和ＮａＨＣＯ3に加え、ジエチルエー
テルで抽出する。溶媒を減圧濃縮し、ＴＨＦ（１０ｍ
ｌ）及び２Ｎ−ＨＣｌ（2ml）を加え、室温で１時間撹
拌する。反応溶液をジエチルエーテルで抽出し、飽和Ｎ
ａＨＣＯ3水で洗浄する。無水ＭｇＳＯ4で乾燥後、濾
過、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、目的化
合物を１３４mg（収率５５％）得た。また、光学収率
は、Daicel Chiracel OD-H (ヘキサン：エタノール＝２
０：１）より８０％ｅｅであった。
【００４９】実施例６
【００５０】
【化１０】
【００５１】Ｌ−バリンスルホンアミド（０．２２ｍｍ
ｏｌ，６６．５ｍｇ）をプロピオニトリル（５ｍｌ）に
溶かし、室温でＢＨ3−ＴＨＦ溶液（２．０６Ｍ−ＴＨ
Ｆ溶液，９７μｌ）を加え、１０分間撹拌する。その後
４５℃で１時間撹拌した後、−４５℃に冷やし、ベンズ
アルデヒド（１．０ｍｍｏｌ，１０２μｌ）、ジフルオ
ロケテンシリルアセタール（２５４mg、１．２ｍｍｏ
ｌ）を滴下し、同温度で２４時間撹拌する。反応溶液を
飽和ＮａＨＣＯ3に加え、ジエチルエーテル(50ml×２）
で抽出する。溶媒を減圧濃縮し、ＴＨＦ（１０ｍｌ）及
び２Ｎ−ＨＣｌ（２ｍｌ）を加え、室温で１時間撹拌す
る。反応溶液をジエチルエーテルで抽出し、飽和ＮａＨ
ＣＯ3水で洗浄する。無水ＭｇＳＯ4で乾燥後、濾過、減
圧濃縮し、残渣をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキ
サン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、目的化合物を
２３４mg（収率９５％）得た。また、光学収率は、Daic
el Chiracel OD-H (ヘキサン：エタノール＝２０：１）
より１９％ｅｅであった。
ｏｌ，６６．５ｍｇ）をプロピオニトリル（５ｍｌ）に
溶かし、室温でＢＨ3−ＴＨＦ溶液（２．０６Ｍ−ＴＨ
Ｆ溶液，９７μｌ）を加え、１０分間撹拌する。その後
４５℃で１時間撹拌した後、−４５℃に冷やし、ベンズ
アルデヒド（１．０ｍｍｏｌ，１０２μｌ）、ジフルオ
ロケテンシリルアセタール（２５４mg、１．２ｍｍｏ
ｌ）を滴下し、同温度で２４時間撹拌する。反応溶液を
飽和ＮａＨＣＯ3に加え、ジエチルエーテル(50ml×２）
で抽出する。溶媒を減圧濃縮し、ＴＨＦ（１０ｍｌ）及
び２Ｎ−ＨＣｌ（２ｍｌ）を加え、室温で１時間撹拌す
る。反応溶液をジエチルエーテルで抽出し、飽和ＮａＨ
ＣＯ3水で洗浄する。無水ＭｇＳＯ4で乾燥後、濾過、減
圧濃縮し、残渣をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキ
サン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、目的化合物を
２３４mg（収率９５％）得た。また、光学収率は、Daic
el Chiracel OD-H (ヘキサン：エタノール＝２０：１）
より１９％ｅｅであった。
Claims (3)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1およびＲ2はアルキル基、置換されていても
よいアリール基または置換されていてもよいアラルキル
基を示す。〕で表される化合物。 - 【請求項２】水酸基を有する炭素原子（Ｃ*）がＲ体で
ある光学活性な請求項１の化合物。 - 【請求項３】水酸基を有する炭素原子（Ｃ*）がＳ体で
ある光学活性な請求項１の化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25184696A JPH10101640A (ja) | 1996-09-24 | 1996-09-24 | 新規チオエステル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25184696A JPH10101640A (ja) | 1996-09-24 | 1996-09-24 | 新規チオエステル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10101640A true JPH10101640A (ja) | 1998-04-21 |
Family
ID=17228795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25184696A Pending JPH10101640A (ja) | 1996-09-24 | 1996-09-24 | 新規チオエステル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10101640A (ja) |
-
1996
- 1996-09-24 JP JP25184696A patent/JPH10101640A/ja active Pending
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