JPH08195180A - 電子顕微鏡仕切弁制御装置 - Google Patents
電子顕微鏡仕切弁制御装置Info
- Publication number
- JPH08195180A JPH08195180A JP412095A JP412095A JPH08195180A JP H08195180 A JPH08195180 A JP H08195180A JP 412095 A JP412095 A JP 412095A JP 412095 A JP412095 A JP 412095A JP H08195180 A JPH08195180 A JP H08195180A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sluice valve
- valve
- sluice
- closed
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子顕微鏡のカメラ部を大気圧に戻すために
第２仕切弁を閉じる場合にも、電子銃を止めなくともよ
い仕切弁制御装置。 【構成】 Ｏリング１４が電子線８によって照射されな
い側に配置され、かつ、電子銃７から見て前段に配置さ
れた第１仕切弁２と、Ｏリング１６が電子線８によって
照射される側に配置され、かつ、電子銃７から見て後段
に配置された第２仕切弁３とを備え、第１仕切弁２を開
く前に第２仕切弁３を開き、第２仕切弁３を閉じる前に
第１仕切弁２を閉じるように制御するための制御手段２
３、２４を備えているので、第２仕切弁３のＯリング１
６が損傷を受けることはなくなる。そのため、電子ビー
ム放射をオンにしたままカメラ部を大気圧にすることが
可能になり、操作性の大幅な向上がもたらされる。
第２仕切弁を閉じる場合にも、電子銃を止めなくともよ
い仕切弁制御装置。 【構成】 Ｏリング１４が電子線８によって照射されな
い側に配置され、かつ、電子銃７から見て前段に配置さ
れた第１仕切弁２と、Ｏリング１６が電子線８によって
照射される側に配置され、かつ、電子銃７から見て後段
に配置された第２仕切弁３とを備え、第１仕切弁２を開
く前に第２仕切弁３を開き、第２仕切弁３を閉じる前に
第１仕切弁２を閉じるように制御するための制御手段２
３、２４を備えているので、第２仕切弁３のＯリング１
６が損傷を受けることはなくなる。そのため、電子ビー
ム放射をオンにしたままカメラ部を大気圧にすることが
可能になり、操作性の大幅な向上がもたらされる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子顕微鏡仕切弁制御
装置に関し、特に、仕切弁のＯリングを電子線によって
傷めないような制御装置に関する。
装置に関し、特に、仕切弁のＯリングを電子線によって
傷めないような制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は、典型的な電子顕微鏡の鏡筒の模
式的な断面図である。鏡筒１は、中間壁１１、１２に設
けた第１仕切弁２と第２仕切弁３により、電子銃７側か
ら、ガン部４、カラム部５、カメラ部６の３つの部屋に
分けられており、通常の観察時には、仕切弁２、３が図
示のように開かれ、３つの部分４〜６は全て真空状態に
保たれ、電子銃７から出た電子ビーム８は、中間壁１
１、１２の開口９、１０を通過して、カメラ部６のフィ
ルム上等に達する。
式的な断面図である。鏡筒１は、中間壁１１、１２に設
けた第１仕切弁２と第２仕切弁３により、電子銃７側か
ら、ガン部４、カラム部５、カメラ部６の３つの部屋に
分けられており、通常の観察時には、仕切弁２、３が図
示のように開かれ、３つの部分４〜６は全て真空状態に
保たれ、電子銃７から出た電子ビーム８は、中間壁１
１、１２の開口９、１０を通過して、カメラ部６のフィ
ルム上等に達する。
【０００３】従来においては、例えばカメラ部６中のフ
ィルムを交換する場合等においては、カメラ部６を大気
圧に戻さなければならないが、その時、第２仕切弁３を
閉じてカメラ部６だけを大気圧に戻す。そうすると、カ
ラム部５の方が圧力が低くなるため、第２仕切弁３は、
開口１０を閉じる弁体１５を中間壁１２のカメラ部６側
に設け、弁体１５のカラム部５側にＯリング１６を設け
た構造のものを用いている。
ィルムを交換する場合等においては、カメラ部６を大気
圧に戻さなければならないが、その時、第２仕切弁３を
閉じてカメラ部６だけを大気圧に戻す。そうすると、カ
ラム部５の方が圧力が低くなるため、第２仕切弁３は、
開口１０を閉じる弁体１５を中間壁１２のカメラ部６側
に設け、弁体１５のカラム部５側にＯリング１６を設け
た構造のものを用いている。
【０００４】また、第１仕切弁２は、ガン部４中の電子
銃７を交換する場合等においては、ガン部４を大気圧に
戻さなければならないため、同様の理由で、開口９を閉
じる弁体１３を中間壁１１のガン部４側に設け、弁体１
３のカラム部５側にＯリング１４を設けた構造のものを
用いている。
銃７を交換する場合等においては、ガン部４を大気圧に
戻さなければならないため、同様の理由で、開口９を閉
じる弁体１３を中間壁１１のガン部４側に設け、弁体１
３のカラム部５側にＯリング１４を設けた構造のものを
用いている。
【０００５】ところで、電子銃７から放射される電子ビ
ーム８を出したまま、弁体１５を中間壁１２に沿って移
動させて第２仕切弁３を閉じると、第２仕切弁３のＯリ
ング１６が電子ビーム８に曝され破損してしまうので、
従来は、電子銃７を切ってから第２仕切弁３を閉じてい
た。
ーム８を出したまま、弁体１５を中間壁１２に沿って移
動させて第２仕切弁３を閉じると、第２仕切弁３のＯリ
ング１６が電子ビーム８に曝され破損してしまうので、
従来は、電子銃７を切ってから第２仕切弁３を閉じてい
た。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電子銃
７として電界放射型のものを用いる場合、安定的に放射
するまでに時間がかかり、頻繁に電子ビーム８放出のオ
ン・オフができないので、第２仕切弁３を閉じる操作と
それに関連する操作に時間がかかり、操作性が非常に悪
かった。
７として電界放射型のものを用いる場合、安定的に放射
するまでに時間がかかり、頻繁に電子ビーム８放出のオ
ン・オフができないので、第２仕切弁３を閉じる操作と
それに関連する操作に時間がかかり、操作性が非常に悪
かった。
【０００７】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、電子顕微鏡のカメラ部６を大
気圧に戻すために第２仕切弁３を閉じる場合にも、電子
銃７を止めなくともよい仕切弁制御装置を提供すること
である。
ものであり、その目的は、電子顕微鏡のカメラ部６を大
気圧に戻すために第２仕切弁３を閉じる場合にも、電子
銃７を止めなくともよい仕切弁制御装置を提供すること
である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の電子顕微鏡仕切弁制御装置は、Ｏリングが電子線に
よって照射されない側に配置され、かつ、電子銃から見
て前段に配置された第１の仕切弁と、Ｏリングが電子線
によって照射される側に配置され、かつ、電子銃から見
て後段に配置された第２の仕切弁とを備え、前記第１の
仕切弁を開く前に前記第２の仕切弁を開き、前記第２の
仕切弁を閉じる前に前記第１の仕切弁を閉じるように制
御するための制御手段を備えたことを特徴とするもので
ある。
明の電子顕微鏡仕切弁制御装置は、Ｏリングが電子線に
よって照射されない側に配置され、かつ、電子銃から見
て前段に配置された第１の仕切弁と、Ｏリングが電子線
によって照射される側に配置され、かつ、電子銃から見
て後段に配置された第２の仕切弁とを備え、前記第１の
仕切弁を開く前に前記第２の仕切弁を開き、前記第２の
仕切弁を閉じる前に前記第１の仕切弁を閉じるように制
御するための制御手段を備えたことを特徴とするもので
ある。
【０００９】
【作用】本発明においては、第１の仕切弁を開く前に第
２の仕切弁を開き、第２の仕切弁を閉じる前に第１の仕
切弁を閉じるように制御するための制御手段を備えてい
るので、Ｏリングが電子線によって照射される側に配置
された第２仕切弁のＯリングが損傷を受けることはなく
なる。したがって、特に、電子ビーム放射のオン・オフ
動作を頻繁に行えない電界放射型の電子銃を用いる電子
顕微鏡においては、電子ビーム放射をオンにしたままカ
メラ部を大気圧にすることが可能になり、操作性の大幅
な向上がもたらされる。
２の仕切弁を開き、第２の仕切弁を閉じる前に第１の仕
切弁を閉じるように制御するための制御手段を備えてい
るので、Ｏリングが電子線によって照射される側に配置
された第２仕切弁のＯリングが損傷を受けることはなく
なる。したがって、特に、電子ビーム放射のオン・オフ
動作を頻繁に行えない電界放射型の電子銃を用いる電子
顕微鏡においては、電子ビーム放射をオンにしたままカ
メラ部を大気圧にすることが可能になり、操作性の大幅
な向上がもたらされる。
【００１０】
【実施例】次に、図１、図２を参照にして本発明の電子
顕微鏡仕切弁制御装置の１実施例について説明する。図
１は、図３と同様な電子顕微鏡の鏡筒の模式的な断面図
であり、図３と同じ要素は同じ番号で示してある。ま
た、図２は図１の装置の制御系の動作を示すフローチャ
ートである。
顕微鏡仕切弁制御装置の１実施例について説明する。図
１は、図３と同様な電子顕微鏡の鏡筒の模式的な断面図
であり、図３と同じ要素は同じ番号で示してある。ま
た、図２は図１の装置の制御系の動作を示すフローチャ
ートである。
【００１１】電子顕微鏡の鏡筒１は、中間壁１１、１２
に設けた第１仕切弁２と第２仕切弁３により、電子銃７
側から、ガン部４、カラム部５、カメラ部６の３つの部
屋に分けられており、通常の観察時には、仕切弁２、３
が図示のように開かれ、３つの部分４〜６は全て真空状
態に保たれ、電子銃７から出た電子ビーム８は、中間壁
１１、１２の開口９、１０を通過して、カメラ部６のフ
ィルム上等に達するようになっている。
に設けた第１仕切弁２と第２仕切弁３により、電子銃７
側から、ガン部４、カラム部５、カメラ部６の３つの部
屋に分けられており、通常の観察時には、仕切弁２、３
が図示のように開かれ、３つの部分４〜６は全て真空状
態に保たれ、電子銃７から出た電子ビーム８は、中間壁
１１、１２の開口９、１０を通過して、カメラ部６のフ
ィルム上等に達するようになっている。
【００１２】第１仕切弁２は、ガン部４中の電子銃７を
交換する場合等において、それを閉じてガン部４を大気
圧に戻さなければならないために、弁体１３を中間壁１
１のガン部４側に設け、弁体１３のカラム部５側にＯリ
ング１４を設けた構造となっており、第２仕切弁３は、
カメラ部６中のフィルムを交換する場合等において、カ
メラ部６を大気圧に戻さなければならないために、弁体
１５を中間壁１２のカメラ部６側に設け、弁体１５のカ
ラム部５側にＯリング１６を設けた構造となっている。
交換する場合等において、それを閉じてガン部４を大気
圧に戻さなければならないために、弁体１３を中間壁１
１のガン部４側に設け、弁体１３のカラム部５側にＯリ
ング１４を設けた構造となっており、第２仕切弁３は、
カメラ部６中のフィルムを交換する場合等において、カ
メラ部６を大気圧に戻さなければならないために、弁体
１５を中間壁１２のカメラ部６側に設け、弁体１５のカ
ラム部５側にＯリング１６を設けた構造となっている。
【００１３】そして、仕切弁２、３は、入力する電気信
号に基づいてそれぞれ弁体１３、１５を中間壁１１、１
２に沿って左右に移動させて開口９、１０を開閉する弁
駆動装置２１、２２によって、電気的に開閉動作がされ
るようになっている。これら弁駆動装置２１、２２に
は、ＣＰＵ２３から動作信号が入力するように接続され
ており、ＣＰＵ２３には、仕切弁２、３を後記する所定
の順序で開閉動作させるプログラム等を記憶するメモリ
ー２４と、仕切弁２、３を開閉させるべき指令等を入力
する入力装置２５とが接続されており、ＣＰＵ２３、メ
モリー２４、入力装置２５と後記するプログラムとが本
発明の仕切弁制御装置を構成している。
号に基づいてそれぞれ弁体１３、１５を中間壁１１、１
２に沿って左右に移動させて開口９、１０を開閉する弁
駆動装置２１、２２によって、電気的に開閉動作がされ
るようになっている。これら弁駆動装置２１、２２に
は、ＣＰＵ２３から動作信号が入力するように接続され
ており、ＣＰＵ２３には、仕切弁２、３を後記する所定
の順序で開閉動作させるプログラム等を記憶するメモリ
ー２４と、仕切弁２、３を開閉させるべき指令等を入力
する入力装置２５とが接続されており、ＣＰＵ２３、メ
モリー２４、入力装置２５と後記するプログラムとが本
発明の仕切弁制御装置を構成している。
【００１４】このような構成であるので、電子銃７から
の電子ビーム８が達する状態で、第１仕切弁２を閉じて
も、そのＯリング１４とは反対側の弁体１３上に電子ビ
ーム８が当たるので、第１仕切弁２のＯリング１４は損
傷を受けることはない。これに対して、電子銃７からの
電子ビーム８が達する状態で、第２仕切弁３を閉じる
と、そのＯリング１５に電子ビーム８が当たるので、第
２仕切弁３のＯリング１４は損傷を受け気密性を保てな
くなる。
の電子ビーム８が達する状態で、第１仕切弁２を閉じて
も、そのＯリング１４とは反対側の弁体１３上に電子ビ
ーム８が当たるので、第１仕切弁２のＯリング１４は損
傷を受けることはない。これに対して、電子銃７からの
電子ビーム８が達する状態で、第２仕切弁３を閉じる
と、そのＯリング１５に電子ビーム８が当たるので、第
２仕切弁３のＯリング１４は損傷を受け気密性を保てな
くなる。
【００１５】そこで、本発明においては、メモリー２４
に記憶されたプログラムにより、図２のフローチャート
に示したような順序で、第１仕切弁２、第２仕切弁３を
開閉する。図２（ａ）は図１のような構成の電子顕微鏡
の仕切弁２、３を閉じる場合の動作を示すフローチャー
トであり、図２（ｂ）はその閉じた仕切弁２、３を開く
場合の動作を示すフローチャートである。
に記憶されたプログラムにより、図２のフローチャート
に示したような順序で、第１仕切弁２、第２仕切弁３を
開閉する。図２（ａ）は図１のような構成の電子顕微鏡
の仕切弁２、３を閉じる場合の動作を示すフローチャー
トであり、図２（ｂ）はその閉じた仕切弁２、３を開く
場合の動作を示すフローチャートである。
【００１６】まず、例えばカメラ部６中のフィルムを交
換するためにカメラ部６を大気圧に戻す場合、図２
（ａ）において、ステップＳＴ１で第１仕切弁２を閉じ
る。そして、ステップＳＴ２で第１仕切弁２が閉じたこ
とを確認して、次のステップＳＴ３で第２仕切弁３が閉
じる。その後、ステップＳＴ４で第２仕切弁３が閉じた
ことを確認して閉成動作を終了する。また、その後、カ
メラ部６を真空に排気する場合には、図２（ｂ）におい
て、ステップＳＴ１で第２仕切弁３を開ける。そして、
ステップＳＴ２で第２仕切弁３が開いたことを確認し
て、次のステップＳＴ３で第１仕切弁２が開ける。その
後、ステップＳＴ４で第１仕切弁２が開いたことを確認
して開成動作を終了する。
換するためにカメラ部６を大気圧に戻す場合、図２
（ａ）において、ステップＳＴ１で第１仕切弁２を閉じ
る。そして、ステップＳＴ２で第１仕切弁２が閉じたこ
とを確認して、次のステップＳＴ３で第２仕切弁３が閉
じる。その後、ステップＳＴ４で第２仕切弁３が閉じた
ことを確認して閉成動作を終了する。また、その後、カ
メラ部６を真空に排気する場合には、図２（ｂ）におい
て、ステップＳＴ１で第２仕切弁３を開ける。そして、
ステップＳＴ２で第２仕切弁３が開いたことを確認し
て、次のステップＳＴ３で第１仕切弁２が開ける。その
後、ステップＳＴ４で第１仕切弁２が開いたことを確認
して開成動作を終了する。
【００１７】以上のような順序で第１仕切弁２、第２仕
切弁３を開閉すると、電子銃７をオンにして電子ビーム
８が出た状態のままでカメラ部６を大気圧に戻したり、
真空に排気しても、第２仕切弁３のＯリング１４が損傷
を受けることはなくなる。また、カメラ部６を大気圧に
戻した時、ガン部４からカメラ部６を見ると、２つの仕
切弁２、３によってガン部４が仕切られているため、従
来の第２仕切弁３のみによって仕切る場合に比べて密閉
性が良くなるので、ガン部４の真空の漏れ量が大幅に減
る効果もある。
切弁３を開閉すると、電子銃７をオンにして電子ビーム
８が出た状態のままでカメラ部６を大気圧に戻したり、
真空に排気しても、第２仕切弁３のＯリング１４が損傷
を受けることはなくなる。また、カメラ部６を大気圧に
戻した時、ガン部４からカメラ部６を見ると、２つの仕
切弁２、３によってガン部４が仕切られているため、従
来の第２仕切弁３のみによって仕切る場合に比べて密閉
性が良くなるので、ガン部４の真空の漏れ量が大幅に減
る効果もある。
【００１８】以上、本発明の電子顕微鏡仕切弁制御装置
を実施例に基づいて説明してきたが、本発明は実施例に
限定されず種々の変形が可能である。特に、制御回路に
ついては、ＣＰＵとプログラムを用いずに同様の作用を
するリレーを用いた回路等で構成することもできる。
を実施例に基づいて説明してきたが、本発明は実施例に
限定されず種々の変形が可能である。特に、制御回路に
ついては、ＣＰＵとプログラムを用いずに同様の作用を
するリレーを用いた回路等で構成することもできる。
【００１９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の電子顕微鏡仕切弁制御装置によると、第１の仕切弁を
開く前に第２の仕切弁を開き、第２の仕切弁を閉じる前
に第１の仕切弁を閉じるように制御するための制御手段
を備えているので、Ｏリングが電子線によって照射され
る側に配置された第２仕切弁のＯリングが損傷を受ける
ことはなくなる。したがって、特に、電子ビーム放射の
オン・オフ動作を頻繁に行えない電界放射型の電子銃を
用いる電子顕微鏡においては、電子ビーム放射をオンに
したままカメラ部を大気圧にすることが可能になり、操
作性の大幅な向上がもたらされる。
の電子顕微鏡仕切弁制御装置によると、第１の仕切弁を
開く前に第２の仕切弁を開き、第２の仕切弁を閉じる前
に第１の仕切弁を閉じるように制御するための制御手段
を備えているので、Ｏリングが電子線によって照射され
る側に配置された第２仕切弁のＯリングが損傷を受ける
ことはなくなる。したがって、特に、電子ビーム放射の
オン・オフ動作を頻繁に行えない電界放射型の電子銃を
用いる電子顕微鏡においては、電子ビーム放射をオンに
したままカメラ部を大気圧にすることが可能になり、操
作性の大幅な向上がもたらされる。
【図１】本発明の実施例１の仕切弁制御装置を備えた電
子顕微鏡の鏡筒の模式的な断面図である。
子顕微鏡の鏡筒の模式的な断面図である。
【図２】図１の装置の制御系の動作を示すフローチャー
トである。
トである。
【図３】従来の典型的な電子顕微鏡の鏡筒の模式的な断
面図である。
面図である。
１…鏡筒 ２…第１仕切弁 ３…第２仕切弁 ４…ガン部 ５…カラム部 ６…カメラ部 ７…電子銃 ８…電子ビーム ９、１０…開口 １１、１２…中間壁 １３、１５…弁体 １４、１６…Ｏリング ２１、２２…弁駆動装置 ２３…ＣＰＵ ２４…メモリー ２５…入力装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石橋 有 東京都昭島市武蔵野３丁目１番２号日本電 子株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｏリングが電子線によって照射されない
側に配置され、かつ、電子銃から見て前段に配置された
第１の仕切弁と、Ｏリングが電子線によって照射される
側に配置され、かつ、電子銃から見て後段に配置された
第２の仕切弁とを備え、前記第１の仕切弁を開く前に前
記第２の仕切弁を開き、前記第２の仕切弁を閉じる前に
前記第１の仕切弁を閉じるように制御するための制御手
段を備えたことを特徴とする電子顕微鏡仕切弁制御装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP412095A JPH08195180A (ja) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | 電子顕微鏡仕切弁制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP412095A JPH08195180A (ja) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | 電子顕微鏡仕切弁制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08195180A true JPH08195180A (ja) | 1996-07-30 |
Family
ID=11575935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP412095A Withdrawn JPH08195180A (ja) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | 電子顕微鏡仕切弁制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08195180A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1122761A1 (en) * | 2000-02-01 | 2001-08-08 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Optical column for charged particle beam device |
-
1995
- 1995-01-13 JP JP412095A patent/JPH08195180A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1122761A1 (en) * | 2000-02-01 | 2001-08-08 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Optical column for charged particle beam device |
| WO2001057910A1 (en) * | 2000-02-01 | 2001-08-09 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Optical column for charged particle beam device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6724001B1 (en) | Electron beam lithography apparatus with self actuated vacuum bypass valve | |
| JPS63157419A (ja) | 微細パタ−ン転写装置 | |
| JPS6187124A (ja) | マイクロリソグラフイ装置 | |
| US20040109152A1 (en) | Reticle Chambers and reticle cassettes providing temperature control and ready exchange of reticles for exposure | |
| US2292087A (en) | Evacuated electronic apparatus | |
| JP2766935B2 (ja) | Ｘ線露光装置 | |
| JPH08195180A (ja) | 電子顕微鏡仕切弁制御装置 | |
| US5317154A (en) | Electron microscope equipped with x-ray analyzer | |
| US6265723B1 (en) | Magnetic shield apparatus | |
| JP2655474B2 (ja) | 電子線直接描画方法及びその装置 | |
| JP2867389B2 (ja) | イオンビーム装置およびその使用方法 | |
| JPS6342459Y2 (ja) | ||
| KR100410989B1 (ko) | 이온 주입 장치의 진공 장치 및 이 장치의 제어 방법 | |
| JP2000231897A (ja) | 光学鏡筒及びそのクリーニング方法 | |
| JPH06174899A (ja) | 真空容器 | |
| JP3817546B2 (ja) | 自己作動型真空バイパス弁を有する電子ビーム・リソグラフィ装置 | |
| JPH03108311A (ja) | Ｘ線露光装置 | |
| JPH0343647Y2 (ja) | ||
| JPH0684771A (ja) | 荷電ビーム描画装置および荷電ビーム描画方法 | |
| JP2513528B2 (ja) | Ｘ線取出し装置 | |
| JPH05121302A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JP2001085290A (ja) | 半導体露光装置とデバイス製造方法 | |
| JP6063767B2 (ja) | 電子線描画装置の故障診断方法、電子線描画装置 | |
| JPH10134756A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| KR20130051779A (ko) | 진공 구조를 갖는 전자 현미경 및 이의 시료 교환방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020402 |