JPH0684771A - 荷電ビーム描画装置および荷電ビーム描画方法 - Google Patents
荷電ビーム描画装置および荷電ビーム描画方法Info
- Publication number
- JPH0684771A JPH0684771A JP25347892A JP25347892A JPH0684771A JP H0684771 A JPH0684771 A JP H0684771A JP 25347892 A JP25347892 A JP 25347892A JP 25347892 A JP25347892 A JP 25347892A JP H0684771 A JPH0684771 A JP H0684771A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 可変成形ビーム電子描画装置において、描画
シーケンス間にビーム偏向動作が止まったときの漏れビ
ームをカットし、パターン欠陥を発生しない装置。 【構成】 ブランキング電極と複数の成形アパーチャを
具備し、成形アパーチャに投影するビームの位置を制御
して任意のビームサイズを発生させる可変成形ビーム方
式の荷電ビーム描画装置において、描画回路もしくはブ
ランキング信号の停止状態を検出する機構を設け、この
描画回路もしくはブランキング信号の停止状態を検出し
た時、ブランキング電極に電圧を印加すると共に成形ア
パーチャでビームを遮るように成形偏向電極に電圧を印
加する機構が設けられて構成されている。また、描画回
路の描画動作の終了を計算機で監視し、描画が終了する
ごとに計算機から成形偏向用のＤ／Ａコンバータに成形
アパーチャでビームを遮るようなデータを設定する。
シーケンス間にビーム偏向動作が止まったときの漏れビ
ームをカットし、パターン欠陥を発生しない装置。 【構成】 ブランキング電極と複数の成形アパーチャを
具備し、成形アパーチャに投影するビームの位置を制御
して任意のビームサイズを発生させる可変成形ビーム方
式の荷電ビーム描画装置において、描画回路もしくはブ
ランキング信号の停止状態を検出する機構を設け、この
描画回路もしくはブランキング信号の停止状態を検出し
た時、ブランキング電極に電圧を印加すると共に成形ア
パーチャでビームを遮るように成形偏向電極に電圧を印
加する機構が設けられて構成されている。また、描画回
路の描画動作の終了を計算機で監視し、描画が終了する
ごとに計算機から成形偏向用のＤ／Ａコンバータに成形
アパーチャでビームを遮るようなデータを設定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＬＳＩ等の微細パター
ンを試料上に描画する荷電ビーム描画装置に係わり、漏
れビームによるレジストの露光を防ぐ装置およびその描
画方法に関する。
ンを試料上に描画する荷電ビーム描画装置に係わり、漏
れビームによるレジストの露光を防ぐ装置およびその描
画方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体ウェハ等の試料上に所望の
パターンを描画するものとして、可変成形ビームを用い
た電子ビーム描画装置が使われている。この様な電子ビ
ーム描画装置では、パターン描画の際ショットごとにブ
ランキング電極に電圧を印加して試料にビームが漏れな
いようカットしている。この方法で電流密度は１／１６
6 になり、描画回路が動作して高速にビームの位置が偏
向されている場合はレジストに影響を与えないが、描画
シーケンス間において描画回路が一時停止すると、わず
か数十ｍｓたらずの停止でレジストを露光する。これは
パターン欠陥の原因になっており、回避する方法が提案
されていないのが現状であった。
パターンを描画するものとして、可変成形ビームを用い
た電子ビーム描画装置が使われている。この様な電子ビ
ーム描画装置では、パターン描画の際ショットごとにブ
ランキング電極に電圧を印加して試料にビームが漏れな
いようカットしている。この方法で電流密度は１／１６
6 になり、描画回路が動作して高速にビームの位置が偏
向されている場合はレジストに影響を与えないが、描画
シーケンス間において描画回路が一時停止すると、わず
か数十ｍｓたらずの停止でレジストを露光する。これは
パターン欠陥の原因になっており、回避する方法が提案
されていないのが現状であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】可変成形ビーム方式の
電子ビーム描画装置において、描画シーケンス間におい
て描画回路が一時停止、ビームを偏向する動作が止まっ
たとき、漏れビームをカットする機能が要求されてい
た。
電子ビーム描画装置において、描画シーケンス間におい
て描画回路が一時停止、ビームを偏向する動作が止まっ
たとき、漏れビームをカットする機能が要求されてい
た。
【０００４】本発明は、上記事情を考慮して成されたも
ので、その目的とするところは、描画回路が一時停止し
ている間、漏れビームをカットし、パターン欠陥を発生
させない手段を提供することにある。
ので、その目的とするところは、描画回路が一時停止し
ている間、漏れビームをカットし、パターン欠陥を発生
させない手段を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は前述した目的を
達成する為に描画回路が一時停止している状態を検出
し、この状態の時ブランキング電極に電圧を印加する手
段と成形アパーチャでビームをカットする手段を具備し
た描画装置および描画方法を提供する。
達成する為に描画回路が一時停止している状態を検出
し、この状態の時ブランキング電極に電圧を印加する手
段と成形アパーチャでビームをカットする手段を具備し
た描画装置および描画方法を提供する。
【０００６】
【作用】本発明によれば、描画回路が一時停止している
間、ブランキング電極に電圧を印加すると共に成形アパ
ーチャでビームをカットすることにより、漏れビームの
量を飛躍的に減少させることができ、描画パターンに欠
陥を生じさせることはない。
間、ブランキング電極に電圧を印加すると共に成形アパ
ーチャでビームをカットすることにより、漏れビームの
量を飛躍的に減少させることができ、描画パターンに欠
陥を生じさせることはない。
【０００７】
【実施例】可変成形ビーム方式の電子ビーム描画装置２
０の概略構成図を図１に示す。１０は試料室であり、こ
の試料室内には半導体ウェハー等の試料１１を搭載した
試料台が収容されている。試料台１２は、計算機３０か
らの指令を受けた試料台駆動回路３１によりＸ方向およ
びＹ方向に移動することができる。また、成形ビームは
電子銃２１からのビームをレンズ２２ａ，２２ｂ等で収
束したり、偏向系２４で偏向することにより、第１のア
パーチャ２７ａの像を第２のアパーチャ２７ｂで成形
し、任意の寸法のビームを試料上に発生させることがで
きる。偏向器２５，２６は偏向制御回路３３からの偏向
信号により成形ビームを試料１１上で位置決めし、パタ
ーンを描画する。また、ブランキング電極２３に電圧を
印加すると、ブランキング用のアパーチャ（ビーム制限
アパーチャ）２７ｃで電子銃クロスオーバ像が移動して
ビームがカットされ、試料上の電流密度は１／１０6 程
度になる。通常の描画時には試料上でビームが高速（数
十ｎｓ）に偏向動作しているため、パターンに影響を与
えることはないが、例えば、ステージ連続移動方式の描
画装置の場合ステージが折り返す際、偏向制御回路３３
は動作を一時停止しビームの偏向が止まると共に僅かな
時間ステージが停止する。ここで、電流密度が１００Ａ
／ｃｍ2 の装置の場合、ステージの停止時間が１０ｍｓ
とすると、上記のブランキングを動作させても、１μＣ
／ｃｍ2 の露光量に相当し、高感度レジストを使用した
場合漏れビームでパターンが形成されてしまう。これは
ステップ＆リピート方式でも同様に、描画シーケンス間
において偏向制御回路３３の動作が一時停止すると共に
ステージの位置決め時の一瞬の停止時に漏れビームでパ
ターンが形成されてしまう。
０の概略構成図を図１に示す。１０は試料室であり、こ
の試料室内には半導体ウェハー等の試料１１を搭載した
試料台が収容されている。試料台１２は、計算機３０か
らの指令を受けた試料台駆動回路３１によりＸ方向およ
びＹ方向に移動することができる。また、成形ビームは
電子銃２１からのビームをレンズ２２ａ，２２ｂ等で収
束したり、偏向系２４で偏向することにより、第１のア
パーチャ２７ａの像を第２のアパーチャ２７ｂで成形
し、任意の寸法のビームを試料上に発生させることがで
きる。偏向器２５，２６は偏向制御回路３３からの偏向
信号により成形ビームを試料１１上で位置決めし、パタ
ーンを描画する。また、ブランキング電極２３に電圧を
印加すると、ブランキング用のアパーチャ（ビーム制限
アパーチャ）２７ｃで電子銃クロスオーバ像が移動して
ビームがカットされ、試料上の電流密度は１／１０6 程
度になる。通常の描画時には試料上でビームが高速（数
十ｎｓ）に偏向動作しているため、パターンに影響を与
えることはないが、例えば、ステージ連続移動方式の描
画装置の場合ステージが折り返す際、偏向制御回路３３
は動作を一時停止しビームの偏向が止まると共に僅かな
時間ステージが停止する。ここで、電流密度が１００Ａ
／ｃｍ2 の装置の場合、ステージの停止時間が１０ｍｓ
とすると、上記のブランキングを動作させても、１μＣ
／ｃｍ2 の露光量に相当し、高感度レジストを使用した
場合漏れビームでパターンが形成されてしまう。これは
ステップ＆リピート方式でも同様に、描画シーケンス間
において偏向制御回路３３の動作が一時停止すると共に
ステージの位置決め時の一瞬の停止時に漏れビームでパ
ターンが形成されてしまう。
【０００８】そこで、上記偏向制御回路３３が停止した
とき、第２成形アパーチャ２７ｂからビームが透過しな
いように成形偏向器２４で第１アパーチャ像を図２のよ
うに偏向すると試料上における漏れビームは１／１０6
程度に減少させることができる。これと同時に上記のブ
ランキングを動作させると飛躍的（１／１０12）に漏れ
ビームを減少させることができる。
とき、第２成形アパーチャ２７ｂからビームが透過しな
いように成形偏向器２４で第１アパーチャ像を図２のよ
うに偏向すると試料上における漏れビームは１／１０6
程度に減少させることができる。これと同時に上記のブ
ランキングを動作させると飛躍的（１／１０12）に漏れ
ビームを減少させることができる。
【０００９】具体的な漏れビームを遮断する制御方法
は、ブランキング制御回路３４の動作状態を成形ブラン
キング回路３６で監視する。図３に示すように、一定時
間ブランキング信号がビームＯＦＦ状態であることを検
出し、これをトリガにして可変成形ビーム制御回路３５
にデータを入力し、図２のようにビームが偏向されるよ
うに、成形偏向器のＤＡＣ（Ｄ／Ａコンバータ）にデー
タをセットする。このとき試料上では電流密度が１／１
０12に減少し、例えステージが１分間停止してもレジス
トを露光しない。描画回路が動作し始めるとＤＡＣ値は
リセットされパターンの描画を開始する。 ［その他の実施例１］成形偏向によるブランキングは特
殊な回路を装備しなくても実現可能である。図４に示す
ように、描画シーケンスが終了するごとに偏向制御回路
３３から計算機３０に割り込み信号を受け付け、描画制
御ソフトの割り込みルーチンの中で図２のようにビーム
が偏向されるように成形偏向用ＤＡＣにデータをセット
すると、計算機の負荷に応じて若干の時間遅れが問題に
なる場合があるが、上記と同様な効果が得られる。 ［その他の実施例２］成形偏向器でビームをブランキン
グさせる方法として、パターンデータにビームサイズ零
のショットデータを入れておいても同様な効果が得られ
る。ただし、描画シーケンスの最後にショットされるよ
うにデータを作成しなければならない。
は、ブランキング制御回路３４の動作状態を成形ブラン
キング回路３６で監視する。図３に示すように、一定時
間ブランキング信号がビームＯＦＦ状態であることを検
出し、これをトリガにして可変成形ビーム制御回路３５
にデータを入力し、図２のようにビームが偏向されるよ
うに、成形偏向器のＤＡＣ（Ｄ／Ａコンバータ）にデー
タをセットする。このとき試料上では電流密度が１／１
０12に減少し、例えステージが１分間停止してもレジス
トを露光しない。描画回路が動作し始めるとＤＡＣ値は
リセットされパターンの描画を開始する。 ［その他の実施例１］成形偏向によるブランキングは特
殊な回路を装備しなくても実現可能である。図４に示す
ように、描画シーケンスが終了するごとに偏向制御回路
３３から計算機３０に割り込み信号を受け付け、描画制
御ソフトの割り込みルーチンの中で図２のようにビーム
が偏向されるように成形偏向用ＤＡＣにデータをセット
すると、計算機の負荷に応じて若干の時間遅れが問題に
なる場合があるが、上記と同様な効果が得られる。 ［その他の実施例２］成形偏向器でビームをブランキン
グさせる方法として、パターンデータにビームサイズ零
のショットデータを入れておいても同様な効果が得られ
る。ただし、描画シーケンスの最後にショットされるよ
うにデータを作成しなければならない。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、可変成形ビーム方式の
荷電ビーム描画装置において、漏れビームによるパター
ン欠陥を発生させない描画装置を提供することが可能と
なる。
荷電ビーム描画装置において、漏れビームによるパター
ン欠陥を発生させない描画装置を提供することが可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の実施例に使用した電子ビーム描画装
置を示す概略図。
置を示す概略図。
【図２】 成形偏向器でビームをブランキングしている
様子を示す模式図。
様子を示す模式図。
【図３】 描画停止状態を検出し成形偏向器にデータを
セットする制御方法を示したブロック図。
セットする制御方法を示したブロック図。
【図４】 成形偏向のブランキングをソフトウェアで実
現した例を示したブロック図。
現した例を示したブロック図。
１０ 試料室 １１ 試料 １２ 試料台 ２０ 荷電ビーム描画装置 ２１ 電子銃 ２２ａ，２３ｂ レンズ ２３ ブランキング電極 ２４ 偏向系（成形偏向器） ２５，２６ 偏向器 ２７ａ 第１のアパーチャ ２７ｂ 第２のアパーチャ ２７ｃ ビーム制限アパーチャ ３０ 計算機 ３３ 偏向制御回路 ３４ ブランキング制御回路 ３５ 可変成形ビーム制御回路 ３６ ブランキング回路
Claims (2)
- 【請求項１】ブランキング電極と複数の成形アパーチャ
を具備し、成形アパーチャに投影するビームの位置を制
御して任意のビームサイズを発生させる可変成形ビーム
方式の荷電ビーム描画装置において、描画回路もしくは
ブランキング信号の停止状態を検出する機構を設け、こ
の状態を検出した時、ブランキング電極に電圧を印加す
ると共に成形アパーチャでビームを遮るように成形偏向
電極に電圧を印加する機構を設けたことを特徴とする荷
電ビーム描画装置。 - 【請求項２】ブランキング電極と複数の成形アパーチャ
を具備し、成形アパーチャに投影するビームの位置を制
御して任意のビームサイズを発生させる可変成形ビーム
方式の荷電ビーム描画装置において、描画回路の描画動
作の終了を計算機で監視し、描画が終了するごとに計算
機から成形偏向用のＤ／Ａコンバータに成形アパーチャ
でビームを遮るようなデータを設定することを特徴とす
る荷電ビーム描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25347892A JPH0684771A (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 荷電ビーム描画装置および荷電ビーム描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25347892A JPH0684771A (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 荷電ビーム描画装置および荷電ビーム描画方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0684771A true JPH0684771A (ja) | 1994-03-25 |
Family
ID=17251948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25347892A Pending JPH0684771A (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 荷電ビーム描画装置および荷電ビーム描画方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0684771A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6528919B2 (en) | 2000-06-12 | 2003-03-04 | Asmo Co., Ltd. | Brushless motor having water draining portion |
| US8153996B2 (en) | 2008-09-19 | 2012-04-10 | Nuflare Technology, Inc. | Pattern forming apparatus and pattern forming method |
-
1992
- 1992-08-31 JP JP25347892A patent/JPH0684771A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6528919B2 (en) | 2000-06-12 | 2003-03-04 | Asmo Co., Ltd. | Brushless motor having water draining portion |
| US8153996B2 (en) | 2008-09-19 | 2012-04-10 | Nuflare Technology, Inc. | Pattern forming apparatus and pattern forming method |
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