JPH08184833A - 基板搬送機構及びそれを用いた配向処理装置 - Google Patents
基板搬送機構及びそれを用いた配向処理装置Info
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- JPH08184833A JPH08184833A JP33955394A JP33955394A JPH08184833A JP H08184833 A JPH08184833 A JP H08184833A JP 33955394 A JP33955394 A JP 33955394A JP 33955394 A JP33955394 A JP 33955394A JP H08184833 A JPH08184833 A JP H08184833A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 長尺なフィルム基板を歪みが生じないように
搬送し、ラビング不良が発生しないようにする。 【構成】 全周にわたって吸引孔を有するエンドレスベ
ルト３７の一部は、真空ボックス３１の上面側開口部を
覆うように配置されている。フィルム基板２２は、真空
ボックス３１の上面側開口部の上側において、エンドレ
スベルト３７の上面に吸着されて搬送され、その搬送方
向に対して所定の角度傾斜して配置されたラビングロー
ル２６によってララビングされる。この場合、フィルム
基板２２には、その搬送速度に応じた力と、ラビングロ
ール２６の回転速度に応じた力との合成力が加わるが、
フィルム基板２２を歪みが生じないように搬送すること
ができる。
搬送し、ラビング不良が発生しないようにする。 【構成】 全周にわたって吸引孔を有するエンドレスベ
ルト３７の一部は、真空ボックス３１の上面側開口部を
覆うように配置されている。フィルム基板２２は、真空
ボックス３１の上面側開口部の上側において、エンドレ
スベルト３７の上面に吸着されて搬送され、その搬送方
向に対して所定の角度傾斜して配置されたラビングロー
ル２６によってララビングされる。この場合、フィルム
基板２２には、その搬送速度に応じた力と、ラビングロ
ール２６の回転速度に応じた力との合成力が加わるが、
フィルム基板２２を歪みが生じないように搬送すること
ができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は基板搬送機構及びそれ
を用いた配向処理装置に関する。
を用いた配向処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、液晶セルにおける液晶分子の配
向処理方法には、基板の表面に配向膜を形成し、この配
向膜の表面をラビングロールによって一方向にラビング
する方法が知られている。ところで、基板として可撓性
を有するフィルム基板を用いる場合、各液晶セルに対応
する定尺なフィルム基板ごとにラビング処理を施すと非
能率的であるので、長尺なフィルム基板を用いてロール
・ツー・ロールによる連続処理でラビングを行なってい
る。
向処理方法には、基板の表面に配向膜を形成し、この配
向膜の表面をラビングロールによって一方向にラビング
する方法が知られている。ところで、基板として可撓性
を有するフィルム基板を用いる場合、各液晶セルに対応
する定尺なフィルム基板ごとにラビング処理を施すと非
能率的であるので、長尺なフィルム基板を用いてロール
・ツー・ロールによる連続処理でラビングを行なってい
る。
【０００３】図４（Ａ）及び（Ｂ）は従来のこのような
配向処理で用いられている配向処理装置の一部を示した
ものである。この配向処理装置では、矢印Ｃ方向に搬送
されるフィルム基板１が、ラビングロール２とこのラビ
ングロール２の下側に対向配置されたバックアップロー
ル３との間を通過するようになっている。ラビングロー
ル２は、ロール本体２ａの外周面に植毛布からなるラビ
ング布２ｂが巻き付けられたものからなっている。ラビ
ングロール２とバックアップロール３は、フィルム基板
１の搬送方向に対して所定の角度傾斜して配置されてい
る。
配向処理で用いられている配向処理装置の一部を示した
ものである。この配向処理装置では、矢印Ｃ方向に搬送
されるフィルム基板１が、ラビングロール２とこのラビ
ングロール２の下側に対向配置されたバックアップロー
ル３との間を通過するようになっている。ラビングロー
ル２は、ロール本体２ａの外周面に植毛布からなるラビ
ング布２ｂが巻き付けられたものからなっている。ラビ
ングロール２とバックアップロール３は、フィルム基板
１の搬送方向に対して所定の角度傾斜して配置されてい
る。
【０００４】そして、ラビングロール２がフィルム基板
１の搬送方向とは逆の方向つまり矢印Ｄ方向に回転する
とともに、バックアップロール３がフィルム基板１の搬
送方向と同方向つまり矢印Ｅ方向にフィルム基板１の搬
送速度と同期して回転すると、ラビングロール２とバッ
クアップロール３との間を連続的に搬送されるフィルム
基板１の上面に形成されたポリイミド等からなる配向膜
（図示せず）の表面がラビングロール２によって連続し
てラビングされる。
１の搬送方向とは逆の方向つまり矢印Ｄ方向に回転する
とともに、バックアップロール３がフィルム基板１の搬
送方向と同方向つまり矢印Ｅ方向にフィルム基板１の搬
送速度と同期して回転すると、ラビングロール２とバッ
クアップロール３との間を連続的に搬送されるフィルム
基板１の上面に形成されたポリイミド等からなる配向膜
（図示せず）の表面がラビングロール２によって連続し
てラビングされる。
【０００５】しかしながら、従来のこのような配向処理
装置では、フィルム基板１の搬送方向に対して所定の角
度傾斜して配置されたラビングロール２がフィルム基板
１の搬送方向とは逆の方向つまり矢印Ｄ方向に回転して
ラビングを行っているので、次のような問題があった。
すなわち、フィルム基板１には、矢印Ｃで示す方向への
搬送速度に応じた力と、ラビングロール２の矢印Ｄで示
す方向への回転速度に応じた力との合成力が加わること
になる。この結果、フィルム基板１が可撓性を有してい
るので、ラビングロール２とバックアップロール３との
間を通過するフィルム基板１に歪みが生じ、ラビング不
良が発生することがあるという問題があった。
装置では、フィルム基板１の搬送方向に対して所定の角
度傾斜して配置されたラビングロール２がフィルム基板
１の搬送方向とは逆の方向つまり矢印Ｄ方向に回転して
ラビングを行っているので、次のような問題があった。
すなわち、フィルム基板１には、矢印Ｃで示す方向への
搬送速度に応じた力と、ラビングロール２の矢印Ｄで示
す方向への回転速度に応じた力との合成力が加わること
になる。この結果、フィルム基板１が可撓性を有してい
るので、ラビングロール２とバックアップロール３との
間を通過するフィルム基板１に歪みが生じ、ラビング不
良が発生することがあるという問題があった。
【０００６】一方、液晶セルの基板としてガラス基板を
用いる場合には、ロール・ツー・ロールによる連続処理
でラビングを行なうことができないので、図５（Ａ）及
び（Ｂ）に示すような配向処理装置を用いている。この
配向処理装置では、吸着ステージ１１上にガラス基板１
２を位置決めして吸着させ、この吸着されたガラス基板
１２と共に吸着ステージ１１を実線で示す位置から矢印
Ｆ方向に移動させて一点鎖線で示す位置に至らせ、この
ときフィルム基板１の搬送方向に対して所定の角度傾斜
して配置されたラビングロール１３がフィルム基板１の
搬送方向とは逆の方向つまり矢印Ｇ方向に回転し、これ
によりガラス基板１２の上面に形成されたポリイミド等
からなる配向膜（図示せず）の表面がラビングロール１
３によってラビングされる。
用いる場合には、ロール・ツー・ロールによる連続処理
でラビングを行なうことができないので、図５（Ａ）及
び（Ｂ）に示すような配向処理装置を用いている。この
配向処理装置では、吸着ステージ１１上にガラス基板１
２を位置決めして吸着させ、この吸着されたガラス基板
１２と共に吸着ステージ１１を実線で示す位置から矢印
Ｆ方向に移動させて一点鎖線で示す位置に至らせ、この
ときフィルム基板１の搬送方向に対して所定の角度傾斜
して配置されたラビングロール１３がフィルム基板１の
搬送方向とは逆の方向つまり矢印Ｇ方向に回転し、これ
によりガラス基板１２の上面に形成されたポリイミド等
からなる配向膜（図示せず）の表面がラビングロール１
３によってラビングされる。
【０００７】このように、ガラス基板用の配向処理装置
の場合には、吸着ステージ１１上に吸着されたガラス基
板１２に対してラビングを行っているので、ガラス基板
１２に、矢印Ｆで示す方向への搬送速度に応じた力と、
ラビングロール１３の矢印Ｇで示す方向への回転速度に
応じた力との合成力が加わっても、吸着ステージ１１上
に吸着されたガラス基板１２の位置がそのまま維持さ
れ、さらにガラス基板１２は硬質であるためラビング不
良が発生することはない。しかしながら、多数のガラス
基板１２に対して配向処理を行う場合には、まず実線で
示す位置にある吸着ステージ１１上に１枚のガラス基板
１２を位置決めして吸着させ、次いで吸着ステージ１１
を矢印Ｆ方向に移動させながらラビングロール１３によ
ってラビングを行い、次いで一点鎖線で示す位置に到達
した吸着ステージ１１からガラス基板１２を取り除き、
次いで吸着ステージ１１を実線で示す位置に戻し、以
下、以上のような動作を繰り返すことになり、したがっ
て配向処理に時間がかかり、生産性が悪いという問題が
あった。
の場合には、吸着ステージ１１上に吸着されたガラス基
板１２に対してラビングを行っているので、ガラス基板
１２に、矢印Ｆで示す方向への搬送速度に応じた力と、
ラビングロール１３の矢印Ｇで示す方向への回転速度に
応じた力との合成力が加わっても、吸着ステージ１１上
に吸着されたガラス基板１２の位置がそのまま維持さ
れ、さらにガラス基板１２は硬質であるためラビング不
良が発生することはない。しかしながら、多数のガラス
基板１２に対して配向処理を行う場合には、まず実線で
示す位置にある吸着ステージ１１上に１枚のガラス基板
１２を位置決めして吸着させ、次いで吸着ステージ１１
を矢印Ｆ方向に移動させながらラビングロール１３によ
ってラビングを行い、次いで一点鎖線で示す位置に到達
した吸着ステージ１１からガラス基板１２を取り除き、
次いで吸着ステージ１１を実線で示す位置に戻し、以
下、以上のような動作を繰り返すことになり、したがっ
て配向処理に時間がかかり、生産性が悪いという問題が
あった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
フィルム基板用の配向処理装置の場合には、ラビングロ
ール２とバックアップロール３との間を通過するフィル
ム基板１に歪みが生じ、ラビング不良が発生することが
あるという問題があった。一方、ガラス基板用の配向処
理装置の場合には、配向処理に時間がかかり、生産性が
悪いという問題があった。この発明の目的は、フィルム
基板の場合には歪みが生じないように搬送することがで
き、ガラス基板の場合には連続して搬送することができ
る基板搬送機構及びそれを用いた配向処理装置を提供す
ることにある。
フィルム基板用の配向処理装置の場合には、ラビングロ
ール２とバックアップロール３との間を通過するフィル
ム基板１に歪みが生じ、ラビング不良が発生することが
あるという問題があった。一方、ガラス基板用の配向処
理装置の場合には、配向処理に時間がかかり、生産性が
悪いという問題があった。この発明の目的は、フィルム
基板の場合には歪みが生じないように搬送することがで
き、ガラス基板の場合には連続して搬送することができ
る基板搬送機構及びそれを用いた配向処理装置を提供す
ることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明に係
る基板搬送機構は、吸着手段を有するエンドレスベルト
と、前記エンドレスベルトを走行させる走行手段とを具
備し、前記エンドレスベルトの上面に基板を吸着させて
搬送するようにしたものである。請求項２記載の発明に
係る基板搬送機構は、上面側を開口部とされた真空ボッ
クスと、前記真空ボックス内を真空とする真空手段と、
一部が前記真空ボックスの開口部を覆うように配置さ
れ、全周にわたって吸引孔を有するエンドレスベルト
と、前記エンドレスベルトを走行させる走行手段とを具
備し、前記真空ボックス内が真空とされることにより、
前記エンドレスベルトにおける前記真空ボックスの開口
部を覆った部分の上面側が前記吸引孔を介して負圧とな
り、この負圧となった前記エンドレスベルトの上面に基
板を吸着させて搬送するようにしたものである。請求項
５記載の発明に係る配向処理装置は、請求項１記載の基
板搬送機構の前記エンドレスベルトの上面側にラビング
ロールを前記基板の搬送方向に対して所定の角度傾斜さ
せて配置し、前記エンドレスベルトの上面に吸着されて
搬送される前記基板上に形成された配向膜の表面を前記
ラビングロールによってラビングするようにしたもので
ある。請求項６記載の発明に係る配向処理装置は、請求
項２記載の基板搬送機構の前記エンドレスベルトにおけ
る前記真空ボックスの開口部を覆った部分の上面側にラ
ビングロールを前記基板の搬送方向に対して所定の角度
傾斜させて配置し、前記エンドレスベルトの上面に吸着
されて搬送される前記基板上に形成された配向膜の表面
を前記ラビングロールによってラビングするようにした
ものである。
る基板搬送機構は、吸着手段を有するエンドレスベルト
と、前記エンドレスベルトを走行させる走行手段とを具
備し、前記エンドレスベルトの上面に基板を吸着させて
搬送するようにしたものである。請求項２記載の発明に
係る基板搬送機構は、上面側を開口部とされた真空ボッ
クスと、前記真空ボックス内を真空とする真空手段と、
一部が前記真空ボックスの開口部を覆うように配置さ
れ、全周にわたって吸引孔を有するエンドレスベルト
と、前記エンドレスベルトを走行させる走行手段とを具
備し、前記真空ボックス内が真空とされることにより、
前記エンドレスベルトにおける前記真空ボックスの開口
部を覆った部分の上面側が前記吸引孔を介して負圧とな
り、この負圧となった前記エンドレスベルトの上面に基
板を吸着させて搬送するようにしたものである。請求項
５記載の発明に係る配向処理装置は、請求項１記載の基
板搬送機構の前記エンドレスベルトの上面側にラビング
ロールを前記基板の搬送方向に対して所定の角度傾斜さ
せて配置し、前記エンドレスベルトの上面に吸着されて
搬送される前記基板上に形成された配向膜の表面を前記
ラビングロールによってラビングするようにしたもので
ある。請求項６記載の発明に係る配向処理装置は、請求
項２記載の基板搬送機構の前記エンドレスベルトにおけ
る前記真空ボックスの開口部を覆った部分の上面側にラ
ビングロールを前記基板の搬送方向に対して所定の角度
傾斜させて配置し、前記エンドレスベルトの上面に吸着
されて搬送される前記基板上に形成された配向膜の表面
を前記ラビングロールによってラビングするようにした
ものである。
【００１０】
【作用】請求項１または２記載の発明に係る基板搬送機
構によれば、エンドレスベルトの上面に基板を吸着させ
て搬送することになるので、フィルム基板の場合には歪
みが生じないように搬送することができ、ガラス基板の
場合には連続して搬送することができる。この結果、請
求項５または６記載の発明に係る配向処理装置によれ
ば、フィルム基板の場合には歪みが生じないように搬送
することができるので、ラビング不良が発生しないよう
にすることができ、ガラス基板の場合には連続して搬送
することができるので、配向処理に要する時間を短縮す
ることができ、生産性の向上を図ることができる。
構によれば、エンドレスベルトの上面に基板を吸着させ
て搬送することになるので、フィルム基板の場合には歪
みが生じないように搬送することができ、ガラス基板の
場合には連続して搬送することができる。この結果、請
求項５または６記載の発明に係る配向処理装置によれ
ば、フィルム基板の場合には歪みが生じないように搬送
することができるので、ラビング不良が発生しないよう
にすることができ、ガラス基板の場合には連続して搬送
することができるので、配向処理に要する時間を短縮す
ることができ、生産性の向上を図ることができる。
【００１１】
【実施例】図１（Ａ）及び（Ｂ）はこの発明の第１実施
例におけるフィルム基板用の配向処理装置の要部を示し
たものである。この配向処理装置では、供給ロール２１
から繰り出された可撓性を有するフィルム基板２２は、
前段側ガイドロール２３、前段側搬送ロール（スプロケ
ットホイール）２４、基板搬送機構２５とラビングロー
ル２６との間、後段側搬送ロール（スプロケットホイー
ル）２７及び後段側ガイドロール２８を順次経た後、巻
取ロール２９に巻き取られるようになっている。このう
ち両搬送ロール２４、２７は、図示しないモータの駆動
により、同期して図１（Ａ）において時計方向に回転す
るようになっている。ラビングロール２６は、ロール本
体２６ａの外周面に植毛布からなるラビング布２６ｂが
巻き付けられたものからなっている。ラビングロール２
６は、ラビング角度設定のため軸方向中心部を中心にし
て水平方向に回転自在とされ、また上下動自在とされて
いる。なお、ラビングロール２６と基板搬送機構２５と
の配置関係については後で説明する。
例におけるフィルム基板用の配向処理装置の要部を示し
たものである。この配向処理装置では、供給ロール２１
から繰り出された可撓性を有するフィルム基板２２は、
前段側ガイドロール２３、前段側搬送ロール（スプロケ
ットホイール）２４、基板搬送機構２５とラビングロー
ル２６との間、後段側搬送ロール（スプロケットホイー
ル）２７及び後段側ガイドロール２８を順次経た後、巻
取ロール２９に巻き取られるようになっている。このう
ち両搬送ロール２４、２７は、図示しないモータの駆動
により、同期して図１（Ａ）において時計方向に回転す
るようになっている。ラビングロール２６は、ロール本
体２６ａの外周面に植毛布からなるラビング布２６ｂが
巻き付けられたものからなっている。ラビングロール２
６は、ラビング角度設定のため軸方向中心部を中心にし
て水平方向に回転自在とされ、また上下動自在とされて
いる。なお、ラビングロール２６と基板搬送機構２５と
の配置関係については後で説明する。
【００１２】基板搬送機構２５は、図２（Ａ）及び
（Ｂ）に示すようになっている。この基板搬送機構２５
は、上面側を開口部３１ａとされた真空ボックス３１を
備えている。真空ボックス３１の周壁上端部にはゴム等
からなるシールリング３２が設けられている。この場
合、詳細には図示していないが、一例として、真空ボッ
クス３１の周壁上端部中央に半円形状の溝が形成され、
この溝に断面円形のシールリング３２が接着されて配置
されている。真空ボックス３１の底部中央部にはパイプ
３３の一端部が接続されている。パイプ３３の他端部は
真空ポンプ３４に接続されている。
（Ｂ）に示すようになっている。この基板搬送機構２５
は、上面側を開口部３１ａとされた真空ボックス３１を
備えている。真空ボックス３１の周壁上端部にはゴム等
からなるシールリング３２が設けられている。この場
合、詳細には図示していないが、一例として、真空ボッ
クス３１の周壁上端部中央に半円形状の溝が形成され、
この溝に断面円形のシールリング３２が接着されて配置
されている。真空ボックス３１の底部中央部にはパイプ
３３の一端部が接続されている。パイプ３３の他端部は
真空ポンプ３４に接続されている。
【００１３】真空ボックス３１の前段側には前段側ベル
ト車３５が配置され、後段側には後段側ベルト車３６が
配置されている。両ベルト車３５、３６にはエンドレス
ベルト３７が巻き付けられている。エンドレスベルト３
７の幅は、図１（Ｂ）に示すように、フィルム基板２２
の幅よりも所定の量だけ大きくなっている。そして、エ
ンドレスベルト３７の幅方向中央部には吸引孔３８が幅
方向に例えば５つで全周にわたって多数形成されてい
る。エンドレスベルト３７の上側の中央部は、真空ボッ
クス３１の開口部３１ａを覆ってシールリング３２に摺
接するように配置されている。後段側ベルト車３６は、
図１（Ａ）に示す両搬送ロール２５、２７を回転させる
ためのモータの駆動により、矢印Ｐ方向に回転するよう
になっている。ここで、ラビングロール２６と基板搬送
機構２５との配置関係について説明すると、ラビングロ
ール２６は、真空ボックス３１の上方に配置され、下降
すると、フィルム基板２２及びエンドレスベルト３７を
介して、真空ボックス３１の周壁上端部に設けられたシ
ールリング３２に当接されるようになっている。
ト車３５が配置され、後段側には後段側ベルト車３６が
配置されている。両ベルト車３５、３６にはエンドレス
ベルト３７が巻き付けられている。エンドレスベルト３
７の幅は、図１（Ｂ）に示すように、フィルム基板２２
の幅よりも所定の量だけ大きくなっている。そして、エ
ンドレスベルト３７の幅方向中央部には吸引孔３８が幅
方向に例えば５つで全周にわたって多数形成されてい
る。エンドレスベルト３７の上側の中央部は、真空ボッ
クス３１の開口部３１ａを覆ってシールリング３２に摺
接するように配置されている。後段側ベルト車３６は、
図１（Ａ）に示す両搬送ロール２５、２７を回転させる
ためのモータの駆動により、矢印Ｐ方向に回転するよう
になっている。ここで、ラビングロール２６と基板搬送
機構２５との配置関係について説明すると、ラビングロ
ール２６は、真空ボックス３１の上方に配置され、下降
すると、フィルム基板２２及びエンドレスベルト３７を
介して、真空ボックス３１の周壁上端部に設けられたシ
ールリング３２に当接されるようになっている。
【００１４】次に、この配向処理装置でラビングを行な
う場合について説明する。まず、ラビングロール２６を
上限位置において軸方向中心部を中心にして水平方向に
回転させ、ラビング角度を設定する。また、モータの駆
動により、両搬送ロール２５、２７を同期させて図１
（Ａ）において時計方向に回転させ、フィルム基板２２
を矢印Ｑ方向に所定の搬送速度で連続的に搬送する。ま
た、後段側ベルト車３６を矢印Ｐ方向に回転させ、エン
ドレスベルト３７及び前段側ベルト車３５を同方向に所
定の回転速度で回転させる。すなわち、真空ボックス３
１の上側に位置するエンドレスベルト３７をフィルム基
板２２の矢印Ｑで示す搬送方向と同方向にフィルム基板
２２の搬送速度と同期させて走行させる。さらに、真空
ポンプ３４の駆動により、真空ボックス３１内を真空と
し、エンドレスベルト３７における真空ボックス３１の
開口部３１ａを覆ってシールリング３２に摺接された部
分の上面側を吸引孔３８を介して負圧とし、この負圧と
なったエンドレスベルト３７の上面にフィルム基板２２
を吸着させる。この結果、フィルム基板２２は、真空ボ
ックス３１の開口部３１ａの上側において、エンドレス
ベルト３７の上面に吸着されて搬送されることになる。
う場合について説明する。まず、ラビングロール２６を
上限位置において軸方向中心部を中心にして水平方向に
回転させ、ラビング角度を設定する。また、モータの駆
動により、両搬送ロール２５、２７を同期させて図１
（Ａ）において時計方向に回転させ、フィルム基板２２
を矢印Ｑ方向に所定の搬送速度で連続的に搬送する。ま
た、後段側ベルト車３６を矢印Ｐ方向に回転させ、エン
ドレスベルト３７及び前段側ベルト車３５を同方向に所
定の回転速度で回転させる。すなわち、真空ボックス３
１の上側に位置するエンドレスベルト３７をフィルム基
板２２の矢印Ｑで示す搬送方向と同方向にフィルム基板
２２の搬送速度と同期させて走行させる。さらに、真空
ポンプ３４の駆動により、真空ボックス３１内を真空と
し、エンドレスベルト３７における真空ボックス３１の
開口部３１ａを覆ってシールリング３２に摺接された部
分の上面側を吸引孔３８を介して負圧とし、この負圧と
なったエンドレスベルト３７の上面にフィルム基板２２
を吸着させる。この結果、フィルム基板２２は、真空ボ
ックス３１の開口部３１ａの上側において、エンドレス
ベルト３７の上面に吸着されて搬送されることになる。
【００１５】次に、ラビングロール２６を下降させてフ
ィルム基板２２の上面に形成されたポリイミド等からな
る配向膜（図示せず）の表面に接触させる。すなわち、
ラビングロール２６を下降させ、フィルム基板２２及び
エンドレスベルト３７を介して、真空ボックス３１の周
壁上端部に設けられたシールリング３２に当接させる。
この状態において、ラビングロール２６がフィルム基板
２２の搬送方向とは逆の方向つまり矢印Ｒ向に回転する
と、ラビングロール２６と真空ボックス３１との間をエ
ンドレスベルト３７の上面に吸着されて連続的に搬送さ
れるフィルム基板２２の上面に形成されたポリイミド等
からなる配向膜（図示せず）の表面がラビングロール２
６によって連続してラビングされる。
ィルム基板２２の上面に形成されたポリイミド等からな
る配向膜（図示せず）の表面に接触させる。すなわち、
ラビングロール２６を下降させ、フィルム基板２２及び
エンドレスベルト３７を介して、真空ボックス３１の周
壁上端部に設けられたシールリング３２に当接させる。
この状態において、ラビングロール２６がフィルム基板
２２の搬送方向とは逆の方向つまり矢印Ｒ向に回転する
と、ラビングロール２６と真空ボックス３１との間をエ
ンドレスベルト３７の上面に吸着されて連続的に搬送さ
れるフィルム基板２２の上面に形成されたポリイミド等
からなる配向膜（図示せず）の表面がラビングロール２
６によって連続してラビングされる。
【００１６】このように、この配向処理装置では、エン
ドレスベルト３７における真空ボックス３１の開口部３
１ａを覆った部分の負圧となった上面にフィルム基板２
２を吸着させて搬送しているので、フィルム基板２２
に、矢印Ｑで示す方向への搬送速度に応じた力と、ラビ
ングロール２６の矢印Ｒで示す方向への回転速度に応じ
た力との合成力が加わっても、エンドレスベルト３７上
に吸着されたフィルム基板２２の位置がそのまま維持さ
れることになる。この結果、フィルム基板２２が可撓性
を有していても、フィルム基板２２を歪みが生じないよ
うに搬送することができ、したがってラビング不良が発
生しないようにすることができる。
ドレスベルト３７における真空ボックス３１の開口部３
１ａを覆った部分の負圧となった上面にフィルム基板２
２を吸着させて搬送しているので、フィルム基板２２
に、矢印Ｑで示す方向への搬送速度に応じた力と、ラビ
ングロール２６の矢印Ｒで示す方向への回転速度に応じ
た力との合成力が加わっても、エンドレスベルト３７上
に吸着されたフィルム基板２２の位置がそのまま維持さ
れることになる。この結果、フィルム基板２２が可撓性
を有していても、フィルム基板２２を歪みが生じないよ
うに搬送することができ、したがってラビング不良が発
生しないようにすることができる。
【００１７】次に、図３（Ａ）及び（Ｂ）はこの発明の
第２実施例におけるガラス基板用の配向処理装置の要部
を示したものである。これらの図において、図１（Ａ）
及び（Ｂ）と同一部分には同一の符号を付し、その説明
を適宜省略する。この配向処理装置では、基板搬送機構
２５の前段側に前段側基板搬送部４１が設けられ、後段
側に後段側基板搬送部４２が設けられている。両基板搬
送部４１、４２は、基本的には同じ構造であって、ころ
コンベヤからなり、両側壁４３、４４間に複数のころ４
５、４６が並列して設けられ、図示しないモータの駆動
により、これらのころ４５、４６が図示しない歯車を介
して同期して図３（Ａ）において時計方向に回転するよ
うになっている。両基板搬送部４１、４２の異なる点
は、前段側基板搬送部４１の両側壁４３の後段側が、前
段側から後段側に向かうに従って漸次幅狭となるテーパ
ー状の基板位置規制用ガイド部４７となっている点であ
る。
第２実施例におけるガラス基板用の配向処理装置の要部
を示したものである。これらの図において、図１（Ａ）
及び（Ｂ）と同一部分には同一の符号を付し、その説明
を適宜省略する。この配向処理装置では、基板搬送機構
２５の前段側に前段側基板搬送部４１が設けられ、後段
側に後段側基板搬送部４２が設けられている。両基板搬
送部４１、４２は、基本的には同じ構造であって、ころ
コンベヤからなり、両側壁４３、４４間に複数のころ４
５、４６が並列して設けられ、図示しないモータの駆動
により、これらのころ４５、４６が図示しない歯車を介
して同期して図３（Ａ）において時計方向に回転するよ
うになっている。両基板搬送部４１、４２の異なる点
は、前段側基板搬送部４１の両側壁４３の後段側が、前
段側から後段側に向かうに従って漸次幅狭となるテーパ
ー状の基板位置規制用ガイド部４７となっている点であ
る。
【００１８】次に、この配向処理装置でラビングを行な
う場合について説明する。まず、ラビングロール２６の
ラビング角度を上限位置において設定する。また、エン
ドレスベルト３７を矢印Ｐ方向に所定の回転速度でつま
り両基板搬送部４１、４２の矢印Ｓで示す方向の搬送速
度と同期させて回転させる。さらに、真空ボックス３１
内を真空とし、エンドレスベルト３７における真空ボッ
クス３１の開口部３１ａを覆った部分の上面側を負圧と
する。
う場合について説明する。まず、ラビングロール２６の
ラビング角度を上限位置において設定する。また、エン
ドレスベルト３７を矢印Ｐ方向に所定の回転速度でつま
り両基板搬送部４１、４２の矢印Ｓで示す方向の搬送速
度と同期させて回転させる。さらに、真空ボックス３１
内を真空とし、エンドレスベルト３７における真空ボッ
クス３１の開口部３１ａを覆った部分の上面側を負圧と
する。
【００１９】そして、前段側基板搬送部４１の駆動によ
りガラス基板４８が矢印Ｓ方向に搬送されてくると、こ
のガラス基板４８は基板位置規制用ガイド部４７によっ
てθ方向の位置を規制される。この後、ガラス基板４８
は、矢印Ｐで示す方向に回転しているエンドレスベルト
３７の前段側の上面にただ単に載置されて矢印Ｓ方向に
搬送され、次いでその先端が真空ボックス３１の前段側
に対応する位置に至ると、エンドレスベルト３７の上面
に吸着される。この吸着されたガラス基板４８はエンド
レスベルト３７の回転に伴ってさらに矢印Ｓ方向に搬送
されるが、所定のタイミングで、矢印Ｒ方向に回転して
いるラビングロール２６が下降してガラス基板４８の上
面に形成されたポリイミド等からなる配向膜（図示せ
ず）の表面に接触し、ラビングが行われる。ラビング終
了後のガラス基板４８は、エンドレスベルト３７の上面
に対する吸着を解除された後、後段側基板搬送部４２に
よって搬送される。このようにして、多数のガラス基板
４８のラビングが連続して行われることになる。
りガラス基板４８が矢印Ｓ方向に搬送されてくると、こ
のガラス基板４８は基板位置規制用ガイド部４７によっ
てθ方向の位置を規制される。この後、ガラス基板４８
は、矢印Ｐで示す方向に回転しているエンドレスベルト
３７の前段側の上面にただ単に載置されて矢印Ｓ方向に
搬送され、次いでその先端が真空ボックス３１の前段側
に対応する位置に至ると、エンドレスベルト３７の上面
に吸着される。この吸着されたガラス基板４８はエンド
レスベルト３７の回転に伴ってさらに矢印Ｓ方向に搬送
されるが、所定のタイミングで、矢印Ｒ方向に回転して
いるラビングロール２６が下降してガラス基板４８の上
面に形成されたポリイミド等からなる配向膜（図示せ
ず）の表面に接触し、ラビングが行われる。ラビング終
了後のガラス基板４８は、エンドレスベルト３７の上面
に対する吸着を解除された後、後段側基板搬送部４２に
よって搬送される。このようにして、多数のガラス基板
４８のラビングが連続して行われることになる。
【００２０】このように、この配向処理装置では、エン
ドレスベルト３７における真空ボックス３１の開口部３
１ａを覆った部分の負圧となった上面にガラス基板４８
を吸着させて搬送しているので、ガラス基板４８に、矢
印Ｓで示す方向への搬送速度に応じた力と、ラビングロ
ール２６の矢印Ｒで示す方向への回転速度に応じた力と
の合成力が加わっても、エンドレスベルト３７上に吸着
されたガラス基板４８のθ方向の位置がそのまま維持さ
れることになる。この結果、ガラス基板４８をθ方向の
位置をそのまま維持して搬送することができ、したがっ
てラビング不良が発生しないようにすることができる。
また、ガラス基板４８を連続して搬送することができる
ので、配向処理に要する時間を短縮することができ、生
産性の向上を図ることができる。
ドレスベルト３７における真空ボックス３１の開口部３
１ａを覆った部分の負圧となった上面にガラス基板４８
を吸着させて搬送しているので、ガラス基板４８に、矢
印Ｓで示す方向への搬送速度に応じた力と、ラビングロ
ール２６の矢印Ｒで示す方向への回転速度に応じた力と
の合成力が加わっても、エンドレスベルト３７上に吸着
されたガラス基板４８のθ方向の位置がそのまま維持さ
れることになる。この結果、ガラス基板４８をθ方向の
位置をそのまま維持して搬送することができ、したがっ
てラビング不良が発生しないようにすることができる。
また、ガラス基板４８を連続して搬送することができる
ので、配向処理に要する時間を短縮することができ、生
産性の向上を図ることができる。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１または２
記載の発明に係る基板搬送機構によれば、エンドレスベ
ルトの上面に基板を吸着させて搬送しているので、フィ
ルム基板の場合には歪みが生じないように搬送すること
ができ、ガラス基板の場合には連続して搬送することが
できる。この結果、請求項５または６記載の発明に係る
配向処理装置によれば、フィルム基板の場合には歪みが
生じないように搬送することができるので、ラビング不
良が発生しないようにすることができ、ガラス基板の場
合には連続して搬送することができるので、配向処理に
要する時間を短縮することができ、生産性の向上を図る
ことができる。
記載の発明に係る基板搬送機構によれば、エンドレスベ
ルトの上面に基板を吸着させて搬送しているので、フィ
ルム基板の場合には歪みが生じないように搬送すること
ができ、ガラス基板の場合には連続して搬送することが
できる。この結果、請求項５または６記載の発明に係る
配向処理装置によれば、フィルム基板の場合には歪みが
生じないように搬送することができるので、ラビング不
良が発生しないようにすることができ、ガラス基板の場
合には連続して搬送することができるので、配向処理に
要する時間を短縮することができ、生産性の向上を図る
ことができる。
【図１】（Ａ）はこの発明の第１実施例におけるフィル
ム基板用の配向処理装置の要部の概略正面図、（Ｂ）は
その一部の平面図。
ム基板用の配向処理装置の要部の概略正面図、（Ｂ）は
その一部の平面図。
【図２】（Ａ）は基板搬送機構の概略縦断正面図、
（Ｂ）はその一部の平面図。
（Ｂ）はその一部の平面図。
【図３】（Ａ）はこの発明の第２実施例におけるガラス
基板用の配向処理装置の要部の概略縦断正面図、（Ｂ）
はその平面図。
基板用の配向処理装置の要部の概略縦断正面図、（Ｂ）
はその平面図。
【図４】（Ａ）は従来のフィルム基板用の配向処理装置
の一部の正面図、（Ｂ）はその平面図。
の一部の正面図、（Ｂ）はその平面図。
【図５】（Ａ）は従来のガラス基板用の配向処理装置の
一部の正面図、（Ｂ）はその平面図。
一部の正面図、（Ｂ）はその平面図。
２２ フィルム基板 ２５ 基板搬送機構 ２６ ラビングロール ３１ 真空ボックス ３１ａ 開口部 ３４ 真空ポンプ ３７ エンドレスベルト
Claims (7)
- 【請求項１】 吸着手段を有するエンドレスベルトと、
前記エンドレスベルトを走行させる走行手段とを具備
し、前記エンドレスベルトの上面に基板を吸着させて搬
送することを特徴とする基板搬送機構。 - 【請求項２】 上面側を開口部とされた真空ボックス
と、前記真空ボックス内を真空とする真空手段と、一部
が前記真空ボックスの開口部を覆うように配置され、全
周にわたって吸引孔を有するエンドレスベルトと、前記
エンドレスベルトを走行させる走行手段とを具備し、前
記真空ボックス内が真空とされることにより、前記エン
ドレスベルトにおける前記真空ボックスの開口部を覆っ
た部分の上面側が前記吸引孔を介して負圧となり、この
負圧となった前記エンドレスベルトの上面に基板を吸着
させて搬送することを特徴とする基板搬送機構。 - 【請求項３】 前記真空ボックスの前記エンドレスベル
トが摺接する部分にはシールリングが設けられているこ
とを特徴とする請求項２記載の基板搬送機構。 - 【請求項４】 前記基板は長尺のフィルム基板またはガ
ラス基板からなることを特徴とする請求項１〜３のいず
れかに記載の基板搬送機構。 - 【請求項５】 請求項１記載の基板搬送機構の前記エン
ドレスベルトの上面側にラビングロールを前記基板の搬
送方向に対して所定の角度傾斜させて配置し、前記エン
ドレスベルトの上面に吸着されて搬送される前記基板上
に形成された配向膜の表面を前記ラビングロールによっ
てラビングするようにしたことを特徴とする配向処理装
置。 - 【請求項６】 請求項２または３記載の基板搬送機構の
前記エンドレスベルトにおける前記真空ボックスの開口
部を覆った部分の上面側にラビングロールを前記基板の
搬送方向に対して所定の角度傾斜させて配置し、前記エ
ンドレスベルトの上面に吸着されて搬送される前記基板
上に形成された配向膜の表面を前記ラビングロールによ
ってラビングするようにしたことを特徴とする配向処理
装置。 - 【請求項７】 前記基板は長尺のフィルム基板またはガ
ラス基板からなることを特徴とする請求項５または６記
載の配向処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33955394A JPH08184833A (ja) | 1994-12-30 | 1994-12-30 | 基板搬送機構及びそれを用いた配向処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33955394A JPH08184833A (ja) | 1994-12-30 | 1994-12-30 | 基板搬送機構及びそれを用いた配向処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08184833A true JPH08184833A (ja) | 1996-07-16 |
Family
ID=18328565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33955394A Pending JPH08184833A (ja) | 1994-12-30 | 1994-12-30 | 基板搬送機構及びそれを用いた配向処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08184833A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003044593A1 (en) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Lg Chem, Ltd. | Rubbing device |
| JP2006251506A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Joyo Kogaku Kk | フレキシブルフィルムの配向処理方法及び装置 |
| JP2008185982A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Fujifilm Corp | ラビング方法及び装置、それを用いた光学フィルムの製造方法及び装置 |
| JP2008224701A (ja) * | 2007-03-08 | 2008-09-25 | Jsr Corp | 液晶配向膜の製造方法 |
| JP2010516477A (ja) * | 2007-01-26 | 2010-05-20 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | 連続移動するシート材をレーザ加工する方法及びシステム |
| CN110596959A (zh) * | 2019-08-30 | 2019-12-20 | 信利半导体有限公司 | 一种阵列基板及其摩擦配向方法 |
| CN111439529A (zh) * | 2020-04-02 | 2020-07-24 | 浙江师范大学 | 一种零件检验生产线 |
-
1994
- 1994-12-30 JP JP33955394A patent/JPH08184833A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7018470B2 (en) | 2001-11-22 | 2006-03-28 | Lg Chem, Ltd. | Rubbing device |
| WO2003044593A1 (en) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Lg Chem, Ltd. | Rubbing device |
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| TWI451927B (zh) * | 2007-01-26 | 2014-09-11 | Electro Scient Ind Inc | 用於雷射處理連續移動薄片材料之方法及系統 |
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| JP2014028400A (ja) * | 2007-01-26 | 2014-02-13 | Electro Scientific Industries Inc | 連続移動するシート材をレーザ加工する方法及びシステム |
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| US9029731B2 (en) | 2007-01-26 | 2015-05-12 | Electro Scientific Industries, Inc. | Methods and systems for laser processing continuously moving sheet material |
| US10118252B2 (en) | 2007-01-26 | 2018-11-06 | Electro Scientific Industries, Inc. | Methods and systems for laser processing continuously moving sheet material |
| JP2008185982A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Fujifilm Corp | ラビング方法及び装置、それを用いた光学フィルムの製造方法及び装置 |
| JP2008224701A (ja) * | 2007-03-08 | 2008-09-25 | Jsr Corp | 液晶配向膜の製造方法 |
| CN110596959A (zh) * | 2019-08-30 | 2019-12-20 | 信利半导体有限公司 | 一种阵列基板及其摩擦配向方法 |
| CN110596959B (zh) * | 2019-08-30 | 2022-05-06 | 信利半导体有限公司 | 一种阵列基板及其摩擦配向方法 |
| CN111439529A (zh) * | 2020-04-02 | 2020-07-24 | 浙江师范大学 | 一种零件检验生产线 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041005 |