JPH08184573A - Ｘ線分析におけるマスク径の判別方法 - Google Patents
Ｘ線分析におけるマスク径の判別方法Info
- Publication number
- JPH08184573A JPH08184573A JP34044394A JP34044394A JPH08184573A JP H08184573 A JPH08184573 A JP H08184573A JP 34044394 A JP34044394 A JP 34044394A JP 34044394 A JP34044394 A JP 34044394A JP H08184573 A JPH08184573 A JP H08184573A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- diameter
- sample
- ray
- slit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 特別の装置を必要としたりすることなく、マ
スク径の判別を正確に行って、Ｘ線分析時の測定ミスを
なくせるマスク径の判別方法を提供する。 【構成】 マスク３の少なくとも表面を、試料２中の含
量が微量またはゼロであり、かつ、マスク径３１の大き
さに応じて異なる種類の特異元素からなる材料により形
成して、この特異元素からの２次Ｘ線の強度を測定する
ことによりマスク径を判別する。また、視野制限スリッ
ト１４を通過する２次Ｘ線の変化でマスク径を判別す
る。
スク径の判別を正確に行って、Ｘ線分析時の測定ミスを
なくせるマスク径の判別方法を提供する。 【構成】 マスク３の少なくとも表面を、試料２中の含
量が微量またはゼロであり、かつ、マスク径３１の大き
さに応じて異なる種類の特異元素からなる材料により形
成して、この特異元素からの２次Ｘ線の強度を測定する
ことによりマスク径を判別する。また、視野制限スリッ
ト１４を通過する２次Ｘ線の変化でマスク径を判別す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、試料をＸ線分析する
際に使用するマスクの孔径（マスク径）を判別する方法
に関するものである。
際に使用するマスクの孔径（マスク径）を判別する方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、試料のＸ線分析を行うときに
は、孔径の異なる複数種類のマスクを用意しておき、こ
れら各マスクのうち試料サイズに対応するものを選択し
て試料に被覆し、この試料のマスク孔から露出される測
定面に１次Ｘ線を照射し、この測定面から発生する２次
Ｘ線を検出するようにしている。また、以上のＸ線分析
は、各種の測定条件をＸ線分析装置に入力することによ
り自動的に行われ、このとき測定条件の１つとして試料
サイズに応じて選択されるマスクの孔径（マスク径）が
前記Ｘ線分析装置に入力される。
は、孔径の異なる複数種類のマスクを用意しておき、こ
れら各マスクのうち試料サイズに対応するものを選択し
て試料に被覆し、この試料のマスク孔から露出される測
定面に１次Ｘ線を照射し、この測定面から発生する２次
Ｘ線を検出するようにしている。また、以上のＸ線分析
は、各種の測定条件をＸ線分析装置に入力することによ
り自動的に行われ、このとき測定条件の１つとして試料
サイズに応じて選択されるマスクの孔径（マスク径）が
前記Ｘ線分析装置に入力される。
【０００３】そして、試料サイズに応じたマスク径を選
択するとき、従来では、試料ホルダーにマスク径と対応
するバーコードを設け、または、マスク径を目で確認し
たり手作業で機械的に測定して、マスク径の判別を行っ
ている。
択するとき、従来では、試料ホルダーにマスク径と対応
するバーコードを設け、または、マスク径を目で確認し
たり手作業で機械的に測定して、マスク径の判別を行っ
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、以上のよう
に、試料ホルダーにバーコードを設けて、このバーコー
ドでマスクを判別するときには、１つのホルダーに１つ
のマスクしか取り付けられない。このため、各マスクに
対応する多くのホルダーが必要となる。しかも、前記バ
ーコードを読み取るための読取装置のような特別な装置
を別途必要とする。
に、試料ホルダーにバーコードを設けて、このバーコー
ドでマスクを判別するときには、１つのホルダーに１つ
のマスクしか取り付けられない。このため、各マスクに
対応する多くのホルダーが必要となる。しかも、前記バ
ーコードを読み取るための読取装置のような特別な装置
を別途必要とする。
【０００５】また、前記マスク径を目で確認したり手作
業で測定する場合には、ミスが発生し易い。したがっ
て、誤った測定条件をＸ線分析装置に入力してしまうこ
とがあった。なお、前記各マスクの表面にバーコードを
直接貼付して、マスク径を判別することも考えられる
が、この場合でも、やはりバーコードの読取装置が別途
必要となるうえに、Ｘ線分析時に前記バーコードが破壊
するおそれがあるため、採用できない。
業で測定する場合には、ミスが発生し易い。したがっ
て、誤った測定条件をＸ線分析装置に入力してしまうこ
とがあった。なお、前記各マスクの表面にバーコードを
直接貼付して、マスク径を判別することも考えられる
が、この場合でも、やはりバーコードの読取装置が別途
必要となるうえに、Ｘ線分析時に前記バーコードが破壊
するおそれがあるため、採用できない。
【０００６】この発明は、特別の装置を必要としたりす
ることなく、マスク径の判別を正確に行って、Ｘ線分析
時の測定ミスをなくすことができるマスク径の判別方法
を提供することを目的としている。
ることなく、マスク径の判別を正確に行って、Ｘ線分析
時の測定ミスをなくすことができるマスク径の判別方法
を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の第１発明では、マスクの少なくとも
表面を、試料中の含量が微量またはゼロであり、かつ、
マスク径の大きさに応じて異なる種類の特異元素からな
る材料により形成して、この特異元素からの２次Ｘ線の
強度を測定することによりマスク径を判別する。
め、請求項１記載の第１発明では、マスクの少なくとも
表面を、試料中の含量が微量またはゼロであり、かつ、
マスク径の大きさに応じて異なる種類の特異元素からな
る材料により形成して、この特異元素からの２次Ｘ線の
強度を測定することによりマスク径を判別する。
【０００８】請求項２記載の第２発明では、前記マスク
の少なくとも表面を、試料中の含量が微量またはゼロで
ある特異元素からなる材料により形成し、また、２次Ｘ
線を通過させる視野制限スリットを備え、この視野制限
スリットの孔径を変化させながら、視野制限スリットを
通過する特異元素からの２次Ｘ線の強度を測定すること
によりマスク径を判別する。
の少なくとも表面を、試料中の含量が微量またはゼロで
ある特異元素からなる材料により形成し、また、２次Ｘ
線を通過させる視野制限スリットを備え、この視野制限
スリットの孔径を変化させながら、視野制限スリットを
通過する特異元素からの２次Ｘ線の強度を測定すること
によりマスク径を判別する。
【０００９】
【作用および効果】請求項１記載の第１発明によれば、
孔径の異なる各マスクに設けられた異なる特異元素から
発生する２次Ｘ線の強度を測定することにより、マスク
径の判別を誤りなく確実に行うことができ、このマスク
径に応じた測定条件をＸ線分析装置に入力して正確なＸ
線分析が行える。
孔径の異なる各マスクに設けられた異なる特異元素から
発生する２次Ｘ線の強度を測定することにより、マスク
径の判別を誤りなく確実に行うことができ、このマスク
径に応じた測定条件をＸ線分析装置に入力して正確なＸ
線分析が行える。
【００１０】請求項２記載の発明によれば、視野制限ス
リットの孔径を変化させながら、この視野制限スリット
を通過する特異元素からの２次Ｘ線強度の変化を測定す
ることにより、マスク径の判別を誤りなく確実に行うこ
とができて、Ｘ線分析装置による正確な分析が行える。
この場合は、第１発明のように、径の異なる各マスクに
それぞれ異なる特異元素を設けることなく、たとえば１
種類の特異元素を各マスクに設けて、その２次Ｘ線強度
の強弱を測定することにより、各マスク径の判別が行え
る。
リットの孔径を変化させながら、この視野制限スリット
を通過する特異元素からの２次Ｘ線強度の変化を測定す
ることにより、マスク径の判別を誤りなく確実に行うこ
とができて、Ｘ線分析装置による正確な分析が行える。
この場合は、第１発明のように、径の異なる各マスクに
それぞれ異なる特異元素を設けることなく、たとえば１
種類の特異元素を各マスクに設けて、その２次Ｘ線強度
の強弱を測定することにより、各マスク径の判別が行え
る。
【００１１】また、以上の第１，第２発明では、従来の
バーコードを用いる場合のように、このバーコードを読
み取るための特別の装置を必要とすることなく、試料の
分析に使用されるＸ線分析装置を利用して、前記マスク
径の判別を正確に行うことができる。また、各マスクに
対応する多くのホルダーを必要とすることなく、このホ
ルダーを各マスクに共用する。つまり、種々の試料に共
有することができる。
バーコードを用いる場合のように、このバーコードを読
み取るための特別の装置を必要とすることなく、試料の
分析に使用されるＸ線分析装置を利用して、前記マスク
径の判別を正確に行うことができる。また、各マスクに
対応する多くのホルダーを必要とすることなく、このホ
ルダーを各マスクに共用する。つまり、種々の試料に共
有することができる。
【００１２】
【実施例】以下、第１発明の一実施例を図面に基づいて
説明する。図１は蛍光Ｘ線分析装置の概略構成図を示し
ている。同図において、ホルダー１に試料２を保持さ
せ、この試料２の上部に、そのサイズに応じた孔径をも
つマスク３を選択して取付け、このマスク３に設けた孔
３１により前記試料２の測定面を露出させている。
説明する。図１は蛍光Ｘ線分析装置の概略構成図を示し
ている。同図において、ホルダー１に試料２を保持さ
せ、この試料２の上部に、そのサイズに応じた孔径をも
つマスク３を選択して取付け、このマスク３に設けた孔
３１により前記試料２の測定面を露出させている。
【００１３】また、前記試料２の測定面には、Ｘ線管４
から１次Ｘ線Ｂ１を照射し、この１次Ｘ線Ｂ１で前記試
料２の原子を励起して、その元素特有の蛍光２次Ｘ線Ｂ
２を発生させる。この２次Ｘ線Ｂ２は、分光結晶５に入
射され、ブラッグの式を満足する所定波長の２次Ｘ線Ｂ
２のみが前記分光結晶５により回析されて、蛍光Ｘ線検
出器６で検出される。
から１次Ｘ線Ｂ１を照射し、この１次Ｘ線Ｂ１で前記試
料２の原子を励起して、その元素特有の蛍光２次Ｘ線Ｂ
２を発生させる。この２次Ｘ線Ｂ２は、分光結晶５に入
射され、ブラッグの式を満足する所定波長の２次Ｘ線Ｂ
２のみが前記分光結晶５により回析されて、蛍光Ｘ線検
出器６で検出される。
【００１４】そして、第１の発明では、前記試料２のサ
イズに応じたマスク３を判別するにあたって、一般的に
は分析試料中に全く含まれず、または、含有量がごく微
量である特異元素、たとえばランタン，セリウム，プラ
チナまたは金などの元素を用い、これら種類の異なる各
特異元素により、それぞれ孔径の異なる前記各マスク３
を形成する。一例として、孔径５mm（５φ）のマスクを
ランタン、１０φをセリウム、２０φをプラチナ、３０
φを金で形成する。
イズに応じたマスク３を判別するにあたって、一般的に
は分析試料中に全く含まれず、または、含有量がごく微
量である特異元素、たとえばランタン，セリウム，プラ
チナまたは金などの元素を用い、これら種類の異なる各
特異元素により、それぞれ孔径の異なる前記各マスク３
を形成する。一例として、孔径５mm（５φ）のマスクを
ランタン、１０φをセリウム、２０φをプラチナ、３０
φを金で形成する。
【００１５】また、前記各マスク３の表面に、それぞれ
上記の各特異元素からなる皮膜を各別にコーティングし
てもよい。
上記の各特異元素からなる皮膜を各別にコーティングし
てもよい。
【００１６】そして、前記各特異元素から発生する特有
の２次Ｘ線強度を測定することにより前記各マスク３を
判別する。
の２次Ｘ線強度を測定することにより前記各マスク３を
判別する。
【００１７】つまり、前記Ｘ線検出器６の出力側に、前
記各特異元素から発生する２次Ｘ線強度を波高値分析に
より検出する検知回路７と、この検知回路７で検出され
る２次Ｘ線強度により前記各マスク３を判別するマスク
径判定手段８を接続する。また、この判定手段８の入力
側にメモリ９を接続して、このメモリ９には、各マスク
３の孔径と、これら各マスク３に設けられたそれぞれの
特異元素とを記憶させておく。
記各特異元素から発生する２次Ｘ線強度を波高値分析に
より検出する検知回路７と、この検知回路７で検出され
る２次Ｘ線強度により前記各マスク３を判別するマスク
径判定手段８を接続する。また、この判定手段８の入力
側にメモリ９を接続して、このメモリ９には、各マスク
３の孔径と、これら各マスク３に設けられたそれぞれの
特異元素とを記憶させておく。
【００１８】そして、前記Ｘ線管４からの１次Ｘ線Ｂ１
が前記マスク３の特異元素に照射され、この特異元素か
ら発生する特有の２次Ｘ線Ｂ２が、前記分光結晶５によ
り回析されて検出器６で検出される。また、その検出結
果が前記検知回路７からマスク径判定手段８に送られ、
この判定手段８で、前記検知回路７からの検出結果がメ
モリ９による記憶内容と照合される。
が前記マスク３の特異元素に照射され、この特異元素か
ら発生する特有の２次Ｘ線Ｂ２が、前記分光結晶５によ
り回析されて検出器６で検出される。また、その検出結
果が前記検知回路７からマスク径判定手段８に送られ、
この判定手段８で、前記検知回路７からの検出結果がメ
モリ９による記憶内容と照合される。
【００１９】こうして、前記判定手段８でマスク３の孔
径が判定され、この判定手段８から孔径に対応した設定
信号ａが測定条件の１つとしてＸ線分析装置に入力さ
れ、このＸ線分析装置による試料２のＸ線分析が自動的
に行われる。このとき、前記設定信号ａを含む各種の測
定条件に基づき、前記Ｘ線管４の電力や分光結晶５およ
び検出器６の種類などを変えることにより、前記試料２
の自動分析が行われる。
径が判定され、この判定手段８から孔径に対応した設定
信号ａが測定条件の１つとしてＸ線分析装置に入力さ
れ、このＸ線分析装置による試料２のＸ線分析が自動的
に行われる。このとき、前記設定信号ａを含む各種の測
定条件に基づき、前記Ｘ線管４の電力や分光結晶５およ
び検出器６の種類などを変えることにより、前記試料２
の自動分析が行われる。
【００２０】次に、第２の発明を図２に基づいて説明す
る。この第２発明では、上述した特異元素を用い、その
少なくとも１種類で前記マスク３を形成し、または、こ
のマスク３の表面に前記特異元素を皮膜としてコーティ
ングする。そして、前記マスク３の特異元素から発生し
て分光結晶５に至る２次Ｘ線Ｂ２の経路に、円板状のス
リット部材１０を設ける。
る。この第２発明では、上述した特異元素を用い、その
少なくとも１種類で前記マスク３を形成し、または、こ
のマスク３の表面に前記特異元素を皮膜としてコーティ
ングする。そして、前記マスク３の特異元素から発生し
て分光結晶５に至る２次Ｘ線Ｂ２の経路に、円板状のス
リット部材１０を設ける。
【００２１】前記スリット部材１０は中心に回転軸１１
を備えており、このスリット部材１０は、その外周囲に
設けた歯車に噛み合うピニオン１２をモータ１３で駆動
することにより、前記回転軸１１を中心に回転する。そ
して、前記スリット部材１０の外周部には、図３に示す
ように、各マスク径と対応する孔径の異なるたとえば６
個の円形の視野制限スリット１４が形成されている。前
記スリット１４の孔径は、各マスク径と対応する、たと
えば５，１０，２０，２５，３０，３５φとされてい
る。
を備えており、このスリット部材１０は、その外周囲に
設けた歯車に噛み合うピニオン１２をモータ１３で駆動
することにより、前記回転軸１１を中心に回転する。そ
して、前記スリット部材１０の外周部には、図３に示す
ように、各マスク径と対応する孔径の異なるたとえば６
個の円形の視野制限スリット１４が形成されている。前
記スリット１４の孔径は、各マスク径と対応する、たと
えば５，１０，２０，２５，３０，３５φとされてい
る。
【００２２】そして、第１発明の場合と同様に、前記検
出器６の出力側に、前記検知回路７とマスク径判定手段
８を接続し、このマスク径判定手段８の入力側には、前
記各スリット１４の孔径と番号が記憶されたメモリ９を
接続する。
出器６の出力側に、前記検知回路７とマスク径判定手段
８を接続し、このマスク径判定手段８の入力側には、前
記各スリット１４の孔径と番号が記憶されたメモリ９を
接続する。
【００２３】また、前記モータ１３の回転軸には、前記
スリット１４の孔径番号を示すマーク、たとえば番号に
対応した数の透孔または突起を円周上に並べたディスク
１５が取り付けられ、このディスク１５に対向して前記
マークを光学的または磁気的に検知するセンサ１６が配
置されている。さらに、前記モータ１３には、これを駆
動してスリット部材１０を所定角度ずつ回転させる駆動
回路１７が接続されている。
スリット１４の孔径番号を示すマーク、たとえば番号に
対応した数の透孔または突起を円周上に並べたディスク
１５が取り付けられ、このディスク１５に対向して前記
マークを光学的または磁気的に検知するセンサ１６が配
置されている。さらに、前記モータ１３には、これを駆
動してスリット部材１０を所定角度ずつ回転させる駆動
回路１７が接続されている。
【００２４】以上の第２発明によるマスク径の判別時に
は、前記モータ１３の駆動によりスリット部材１０が回
転されて、そのスリット１４の１つが前記マスク３の特
異元素から発生する２次Ｘ線Ｂ２の経路上に位置し、前
記スリット１４を２次Ｘ線Ｂ２が通過したとき、その強
度が前記検出器６により検出され、その検出結果が前記
検知回路７から判定手段８に送られる。また、前記スリ
ット１４が２次Ｘ線Ｂ２の経路上に位置したとき、前記
ディスク１５からの信号が前記センサ１６に送られ、こ
のセンサ１６から前記スリット１４の番号が前記判定手
段８に入力される。
は、前記モータ１３の駆動によりスリット部材１０が回
転されて、そのスリット１４の１つが前記マスク３の特
異元素から発生する２次Ｘ線Ｂ２の経路上に位置し、前
記スリット１４を２次Ｘ線Ｂ２が通過したとき、その強
度が前記検出器６により検出され、その検出結果が前記
検知回路７から判定手段８に送られる。また、前記スリ
ット１４が２次Ｘ線Ｂ２の経路上に位置したとき、前記
ディスク１５からの信号が前記センサ１６に送られ、こ
のセンサ１６から前記スリット１４の番号が前記判定手
段８に入力される。
【００２５】また、前記判定手段８では、前記検知回路
７で検知された２次Ｘ線強度と、前記センサ１６による
番号および前記メモリ９による記憶内容とが比較判断さ
れる。
７で検知された２次Ｘ線強度と、前記センサ１６による
番号および前記メモリ９による記憶内容とが比較判断さ
れる。
【００２６】そして、前記検知回路７で検知される２次
Ｘ線が所定強度以上の場合には、前記スリット１４を通
過する２次Ｘ線量が多いので、このスリット１４の径が
マスク径よりも大きいと前記判定手段８で判断され、こ
の判定手段８から前記駆動回路１７に信号が出力され、
前記モータ１３により前記スリット部材１０が回転され
て、次のスリット１４が２次Ｘ線の経路上に回転位置さ
れる。
Ｘ線が所定強度以上の場合には、前記スリット１４を通
過する２次Ｘ線量が多いので、このスリット１４の径が
マスク径よりも大きいと前記判定手段８で判断され、こ
の判定手段８から前記駆動回路１７に信号が出力され、
前記モータ１３により前記スリット部材１０が回転され
て、次のスリット１４が２次Ｘ線の経路上に回転位置さ
れる。
【００２７】実際のマスク径判定にあたっては、前記モ
ータ１３の回転によりスリット１４をその孔径の大きい
ものから順次２次Ｘ線の経路上に回転位置させて、スリ
ット１４を通過した２次Ｘ線強度を測定し、この２次Ｘ
線強度が所定強度以下となったときには、スリット１４
の孔径と前記マスク径とが一致したと前記判定手段８で
判断される。こうしてマスク３の孔径が判定され、判定
手段８からそのマスク径に対応した設定信号が測定条件
の１つとしてＸ線分析装置に入力され、このＸ線分析装
置による試料２のＸ線分析が自動的に行われる。たとえ
ば、マスク３の孔径が２０φの場合、スリット１４の孔
径が３５，３０，２５φのときは、マスク３の孔３１の
周縁の特異元素から発生する大きな２次Ｘ線強度が検出
されるのに対し、２０φのときには２次Ｘ線強度がほと
んど検出されず、このことから前記マスク径が２０φで
あると判別できる。
ータ１３の回転によりスリット１４をその孔径の大きい
ものから順次２次Ｘ線の経路上に回転位置させて、スリ
ット１４を通過した２次Ｘ線強度を測定し、この２次Ｘ
線強度が所定強度以下となったときには、スリット１４
の孔径と前記マスク径とが一致したと前記判定手段８で
判断される。こうしてマスク３の孔径が判定され、判定
手段８からそのマスク径に対応した設定信号が測定条件
の１つとしてＸ線分析装置に入力され、このＸ線分析装
置による試料２のＸ線分析が自動的に行われる。たとえ
ば、マスク３の孔径が２０φの場合、スリット１４の孔
径が３５，３０，２５φのときは、マスク３の孔３１の
周縁の特異元素から発生する大きな２次Ｘ線強度が検出
されるのに対し、２０φのときには２次Ｘ線強度がほと
んど検出されず、このことから前記マスク径が２０φで
あると判別できる。
【００２８】次に、実際の試験結果を図４に示す。この
図４では、縦軸に前記マスク３に設ける特異元素からの
２次Ｘ線強度を、横軸にマスク径をとり、マスク径が
５，１０，２０，２５，３０，３５φの場合に、これを
前記スリット１４を通過する２次Ｘ線で判別するときの
測定グラフを示している。
図４では、縦軸に前記マスク３に設ける特異元素からの
２次Ｘ線強度を、横軸にマスク径をとり、マスク径が
５，１０，２０，２５，３０，３５φの場合に、これを
前記スリット１４を通過する２次Ｘ線で判別するときの
測定グラフを示している。
【００２９】図４から明らかなように、前記スリット１
４の孔径がマスク径に一致したとき、Ｘ線強度がほぼゼ
ロになっている。たとえばマスク径が２５φの場合、Ｘ
線強度（ｐｃｓ）は、スリット１４の孔径が３５φのと
き９５，３０φのとき２０であるが、２５φのときゼロ
となり、２０φ，１５φ，１０φ，５φのときもゼロで
ある。
４の孔径がマスク径に一致したとき、Ｘ線強度がほぼゼ
ロになっている。たとえばマスク径が２５φの場合、Ｘ
線強度（ｐｃｓ）は、スリット１４の孔径が３５φのと
き９５，３０φのとき２０であるが、２５φのときゼロ
となり、２０φ，１５φ，１０φ，５φのときもゼロで
ある。
【００３０】なお、孔径が固定された複数のスリット１
０に変えて、たとえば自動絞りを備えた単一のスリット
を使用することもできる。その場合、スリットの孔径の
検知手段を絞り機構と連動させて、孔径を検知する。
０に変えて、たとえば自動絞りを備えた単一のスリット
を使用することもできる。その場合、スリットの孔径の
検知手段を絞り機構と連動させて、孔径を検知する。
【図１】第１発明にかかるマスク径の判別方法を用いた
Ｘ線分析装置を示す概略構成図である。
Ｘ線分析装置を示す概略構成図である。
【図２】第２発明にかかる判別方法を用いたＸ線分析装
置を示す概略構成図である。
置を示す概略構成図である。
【図３】同装置の視野制限スリットを拡大した正面図で
ある。
ある。
【図４】同視野制限スリットの孔径を変化させたときの
マスク径とＸ線強度の関係を示す特性図である。
マスク径とＸ線強度の関係を示す特性図である。
２…試料、３…マスク、３１…マスク孔、１４…視野制
限スリット。
限スリット。
Claims (2)
- 【請求項１】 試料をマスクで覆ってマスク孔により試
料の測定面を露出させ、この測定面に１次Ｘ線を照射
し、試料から発生する２次Ｘ線を検出して、試料を分析
するＸ線分析の際にマスク径を判別する方法であって、 前記マスクの少なくとも表面を、試料中の含量が微量ま
たはゼロであり、かつ、マスク径の大きさに応じて異な
る種類の特異元素からなる材料により形成し、前記特異
元素からの２次Ｘ線の強度を測定することにより、マス
ク径を判別するＸ線分析におけるマスク径の判別方法。 - 【請求項２】 試料をマスクで覆ってマスク孔により試
料の測定面を露出させ、この測定面に１次Ｘ線を照射
し、試料から発生する２次Ｘ線を検出して、試料を分析
するＸ線分析の際にマスク径を判別する方法であって、 前記マスクの少なくとも表面を、試料中の含量が微量ま
たはゼロである特異元素からなる材料により形成し、 前記２次Ｘ線を通過させる視野制限スリットを備え、 この視野制限スリットの孔径を変化させながら、視野制
限スリットを通過する特異元素からの２次Ｘ線の強度を
測定することにより、マスク径を判別するＸ線分析にお
けるマスク径の判別方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34044394A JP3234731B2 (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | Ｘ線分析におけるマスク径の判別方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34044394A JP3234731B2 (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | Ｘ線分析におけるマスク径の判別方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08184573A true JPH08184573A (ja) | 1996-07-16 |
| JP3234731B2 JP3234731B2 (ja) | 2001-12-04 |
Family
ID=18337016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34044394A Expired - Fee Related JP3234731B2 (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | Ｘ線分析におけるマスク径の判別方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3234731B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008111836A (ja) * | 2006-10-06 | 2008-05-15 | Rigaku Corp | Ｘ線回折測定方法及びｘ線回折装置 |
| US8475044B2 (en) | 2010-10-14 | 2013-07-02 | Rigaku Corporation | Analyzing apparatus |
| JP2016017823A (ja) * | 2014-07-08 | 2016-02-01 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | Ｘ線分析用試料板及び蛍光ｘ線分析装置 |
| WO2021256054A1 (ja) * | 2020-06-19 | 2021-12-23 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置、判定方法及び判定プログラム |
-
1994
- 1994-12-27 JP JP34044394A patent/JP3234731B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008111836A (ja) * | 2006-10-06 | 2008-05-15 | Rigaku Corp | Ｘ線回折測定方法及びｘ線回折装置 |
| US8475044B2 (en) | 2010-10-14 | 2013-07-02 | Rigaku Corporation | Analyzing apparatus |
| JP2016017823A (ja) * | 2014-07-08 | 2016-02-01 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | Ｘ線分析用試料板及び蛍光ｘ線分析装置 |
| WO2021256054A1 (ja) * | 2020-06-19 | 2021-12-23 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置、判定方法及び判定プログラム |
| JP2022000616A (ja) * | 2020-06-19 | 2022-01-04 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置、判定方法及び判定プログラム |
| CN115038959A (zh) * | 2020-06-19 | 2022-09-09 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析装置、判断方法和判断程序 |
| CN115038959B (zh) * | 2020-06-19 | 2023-09-26 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析装置、判断方法和判断程序 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3234731B2 (ja) | 2001-12-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4849176A (en) | Automatic sample delivery apparatus for use in automatic chemical analyzer | |
| JP4525427B2 (ja) | 分析ディスク、並びに分析ディスクおよび分析装置の検査方法 | |
| JPH0810189B2 (ja) | 検出器組立体 | |
| JP3524419B2 (ja) | 吸光度測定装置 | |
| EP1650558B1 (en) | Energy dispersion type x-ray diffraction/spectral device | |
| US4795613A (en) | Biochemical analyzer | |
| US4696024A (en) | Method and apparatus for detecting flaws in single crystal test samples | |
| CA2565172C (en) | A portable device and method for on-site detection and quantification of drugs | |
| JPH04130248A (ja) | 自動分析装置 | |
| JP3234731B2 (ja) | Ｘ線分析におけるマスク径の判別方法 | |
| JPS59206744A (ja) | 遠心分析装置 | |
| JP3076790B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析における試料マスク径の判別方法および蛍光ｘ線分析装置 | |
| JPH10170339A (ja) | 分光光度計 | |
| JP3420791B2 (ja) | 分析装置 | |
| JPH06123717A (ja) | 複数条件螢光ｘ線定性分析方法 | |
| US4838691A (en) | Method and apparatus for determining calibration accuracy of a scientific instrument | |
| JPH0228819B2 (ja) | Metsukiekibunsekisochi | |
| EP1063514B1 (en) | Method and apparatus for rapid measurement of cell layers | |
| JP2007248338A (ja) | 検査装置、該検査装置を用いた検査方法 | |
| JPH08271519A (ja) | 自動化学分析装置における測光系の精度確認方法 | |
| JP2001343283A (ja) | 紫外・可視光検出装置 | |
| JPH0547782B2 (ja) | ||
| WO1986000406A1 (en) | Automatic monochromator-testing system | |
| JP3312001B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| JP3949850B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |