JP3076790B2 - 蛍光x線分析における試料マスク径の判別方法および蛍光x線分析装置 - Google Patents

蛍光x線分析における試料マスク径の判別方法および蛍光x線分析装置

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JP3076790B2 JP10293211A JP29321198A JP3076790B2 JP 3076790 B2 JP3076790 B2 JP 3076790B2 JP 10293211 A JP10293211 A JP 10293211A JP 29321198 A JP29321198 A JP 29321198A JP 3076790 B2 JP3076790 B2 JP 3076790B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料をX線分析す
る際に使用するマスクの孔径(マスク径)を判別する方
法およびこれを実施する蛍光X線分析装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】一般に、試料のX線分析を行うときに
は、孔径の異なる複数種類のマスクを用意しておき、こ
れら各マスクのうち試料サイズに対応するものを選択し
て試料を被覆し、この試料のマスク孔から露出される測
定面に1次X線を照射し、この測定面から発生する蛍光
X線を、マスク孔径に対応する孔径の視野制限用絞り孔
で絞って検出するようにしている。また、以上のX線分
析は、各種の測定条件を蛍光X線分析装置に入力するこ
とにより自動的に行われ、このとき測定条件の1つとし
て、試料サイズに応じて選択されるマスクの孔径(マス
ク径)に対応する絞り孔径が前記蛍光X線分析装置に入
力される。
【0003】そして、試料サイズに応じたマスク径を選
択するとき、従来では、以下に挙げる方法によりマスク
径の判別を行っている。 (1) 目視による判別。 (2) バーコードなどのラベルによる判別。 (3) マスク径に対応させた異なる材質を用いた判
別。 (4) スリットを用いた判別。
【0004】(1)の目視による判別は、マスク径を目
で確認したり、手作業で機械的に測定して、マスク径の
判別を行うものである。また、(2)のバーコードによ
る判別は、たとえば試料ホルダーにマスク径に対応する
バーコードを設け、バーコードを専用の読取装置で読み
取ってマスク径を判別するものである(特平6−34
0443号(特開平8−184573号公報))。ま
た、(3)のマスク径に対応させた異なる材質を用いた
判別は、マスクの少なくとも表面を、マスク径の大きさ
に応じて異なる種類の特異元素(試料中の含量が微量ま
たはゼロの元素)からなる材料により形成し、特異元素
からの蛍光X線の強度を測定することにより、マスク径
を判別するものである(特開平8−184573号公
報)。また、(4)のスリットを用いた判別は、マスク
の少なくとも表面を、前記特異元素からなる材料により
形成し、蛍光X線を通過させる視野制限スリットの孔径
を変化させながら、視野制限スリットを通過する特異元
素からの蛍光X線の強度を測定することにより、マスク
径を判別するものである(特開平8−184573号公
報)。この場合、異なるマスク径を持つ複数のマスクに
対して同一の特異元素を用いることもできる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、マスク径を目
で確認したり手作業で測定する場合には、ミスが発生し
易い。したがって、誤った測定条件を蛍光X線分析装置
に入力してしまうことがあった。
【0006】また、試料ホルダーにバーコードを設け
て、このバーコードでマスク径を判別する場合は、1つ
のホルダーに1つのマスクしか取り付けられない。この
ため、各マスクに対応する多くのホルダーが必要とな
る。しかも、前記バーコードを読み取るための読取装置
のような特別な装置を別途必要とする。なお、前記各マ
スクの表面にバーコードを直接貼付して、マスク径を判
別することも考えられるが、この場合でも、やはりバー
コードの読取装置が別途必要となるうえに、X線分析時
に前記バーコードが破壊するおそれがあるため、採用で
きない。
【0007】また、マスク径に対応させた異なる材質を
マスクに用いる場合は、特異元素の分だけ測定元素の数
が増えるという問題があり、視野制限スリットの孔径を
変化させながら蛍光X線の強度を測定するものでは、マ
スク径の判定に時間がかかるし、マスクの材質が試料と
同じ場合には判別不能になるという問題がある。
【0008】本発明は、以上のような問題に鑑みてなさ
れたもので、特別の装置を必要としたり、測定元素の数
が増えることなく、マスク径の判別を短時間で正確に行
って、X線分析時の測定ミスをなくすことができるマス
ク径の判別方法、およびこれを用いた蛍光X線分析装置
を提供することを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のX線分析における試料マスク径の判別方法
およびこれを実施する蛍光X線分析装置は、試料をマス
クで覆ってマスク孔により試料の測定面を露出させ、こ
の測定面に1次X線を照射し、試料から発生する蛍光X
線を検出して、試料を分析するX線分析の際に、試料を
支持する試料ステージをマスクの径方向に移動させなが
ら、マスク上の一部分から発生する1種もしくは複数の
蛍光X線、またはマスクにより反射された1次X線の散
乱線を視野制限用の絞り孔を通して検出し、検出された
X線の強度変化によりマスク孔の径を判別する。
【0010】本発明によれば、マスクから発生する蛍光
X線や、マスクで反射される1次X線の散乱線を測定す
ることによりマスク径を判別できるので、特別の装置を
必要としたり、測定元素の数が増えることなく、マスク
径の判別を短時間で正確に行って、X線分析時の測定ミ
スをなくすことができる。また、これにより、マスク径
に対応した孔径の絞り孔を正確に選択することができ
る。さらに、1次X線の散乱線を用いた場合、マスクの
材質に無関係にマスク径を判別できるので、マスクを安
価に製作することもできる。
【0011】本発明の好ましい判別方法および装置の実
施形態では、前記絞り孔により制限されるマスク上の測
定対象領域の径を、マスクの内径側の薄肉部の径方向幅
よりも小さく設定している。
【0012】上記判別方法および装置によれば、マスク
の厚肉部からの蛍光X線や1次X線の散乱線と、マスク
の薄肉部からの蛍光X線や1次X線の散乱線とを明確に
区別できるので、マスク径の判別をより正確に行うこと
ができる。
【0013】本発明のさらに好ましい装置の実施形態で
は、前記蛍光X線の視野を制限する絞り孔を有するスリ
ット部材が、複数のマスク径に対応する複数の孔径の絞
り孔を有するものとし、さらに、前記複数のマスク径と
複数の孔径の前記絞り孔とを対応付けて記憶手段に記憶
させ、前記マスク径判別方法により判別されたマスク径
に基づき前記記憶手段から読み出された対応する孔径、
またはこれよりも小さい孔径を持つ絞り孔を、蛍光X線
の取出し通路に配置するようにしている。
【0014】上記装置によれば、判別されたマスク径に
対応する孔径、または判別されたマスク径に対応する孔
径よりも小さい孔径の絞り孔を蛍光X線の取出し通路に
自動的に配置できるので、絞り孔の選択を正しく行うこ
とができる。したがって、たとえば試料の定性分析を行
う場合に、マスクの材質部分からの蛍光X線が絞り孔を
通過して検出されて測定ミスを起こすおそれがなく、正
確な測定を行うことができる。
【0015】本発明のさらに好ましい装置の実施形態で
は、前記蛍光X線の視野を制限する絞り孔を有するスリ
ット部材が、複数のマスク径に対応する複数の孔径の絞
り孔を有するものとし、さらに、外部からの操作で前記
スリット部材の絞り孔の複数の孔径の中から所望の孔径
を設定し、前記スリット部材を駆動して、前記設定され
た孔径の絞り孔を蛍光X線の取出し通路に配置し、前記
マスク径判別方法により判別された実際のマスク径が、
配置された絞り孔の孔径よりも小さいときは、エラー信
号を出力するようにしている。
【0016】上記装置によれば、たとえば試料の定量分
析を行う場合に、測定条件の1つとして外部からの操作
で設定される孔径の絞り孔が、蛍光X線の取出し通路に
自動的に配置されるとともに、判別された実際のマスク
径が、配置された対応する絞り孔の孔径よりも小さいと
きは、そのことをエラー信号の出力により確認できるの
で、マスクの材質部分からの蛍光X線が絞り孔を通過し
て検出されて測定ミスを起こすおそれがなく、正確な測
定を行うことができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施形態
について図面を参照しながら詳述する。図1(A)は蛍
光X線分析装置の概略構成図を示している。同図におい
て、試料1は試料ホルダー2に保持させ、試料1の上部
に、そのサイズに応じた孔径をもつマスク3を選択して
取り付け、このマスク3に設けたマスク孔4により、試
料1の測定面を露出させている。
【0018】また、X線管5から、試料1の測定面に対
し傾斜して1次X線B1を照射し、この1次X線B1で
試料1を励起し、その元素特有の蛍光X線B2を発生さ
せる。この蛍光X線B2は、分光器6に入射され、ブラ
ッグの式を満足する所定波長の蛍光X線B2のみが分光
器6により回折されて、波長分散型の蛍光X線検出器7
で検出される。
【0019】マスク3は、そのマスク孔4の径を判別す
るために、図2(A),(B)に示すように、外径側の
厚肉部3aと、内径側の薄肉部3bと、薄肉部3bから
厚肉部3aに向けて肉厚が漸増する傾斜部3cとを有す
る円板状とし、マスク表面において厚肉部3aと薄肉部
3bとの間に所定の高低差dを設定する。前記マスク3
の傾斜部3cは、厚肉部3aと薄肉部3bとの境界の段
差が、傾斜姿勢とされたX線管5からの1次X線B1の
影にならないように設けたものである。
【0020】マスク3の厚肉部3aの径方向幅をa、薄
肉部3bの径方向幅をb、傾斜部3cの径方向幅をc、
マスク径(マスク孔4の直径)を2eとすると、マスク
3の半径mは、m=a+b+c+eとなる。また、それ
ぞれマスク径2eの異なる複数のマスク3間において、
マスク3の半径m、傾斜部3cの径方向幅cおよび薄肉
部3bの径方向幅bは一定としている。したがって、マ
スク径2eが大きく(小さく)なれば、厚肉部3aの径
方向幅aが小さく(大きく)なる。なお、マスク径2e
は、たとえば10mmφ,15mmφ,20mmφ,25mm
φ,30mmφのように段階的に異なるものが用意されて
いる。
【0021】図1(A)に示す分光器6に至る蛍光X線
B2の経路の途中には、円板状のスリット部材10を設
ける。このスリット部材10は中心に回転軸11を備え
ており、スリット部材周縁に設けた歯車に噛み合うピニ
オン12をモータ13で駆動することにより、スリット
部材10が回転軸11を中心に回転する。このスリット
部材10の外周部には、マスク3上や試料2上の測定対
象領域を選択するために、図3に示すように、孔径の異
なるたとえば6個の円形の視野制限用の絞り孔14,1
4Aを形成している。前記測定対象領域は、検出器7か
ら絞り孔14,14Aを通して見える試料1またはマス
ク3上の領域である。
【0022】図1(A)のモータ13には、これを駆動
してスリット部材10を所定角度ずつ回転させる絞り孔
変更回路15を接続する。この絞り孔変更回路15、前
記ピニオン12およびモータ13などにより、スリット
駆動手段35が構成される。また、前記スリット部材1
0の回転軸11には、前記絞り孔14の孔径番号を示す
マーク、たとえば番号に対応した数の透孔または突起を
円周上に並べたディスク16を取り付ける。このディス
ク16に対向して前記マークを光学的または磁気的に検
知するセンサ17を配置し、センサ17には孔径番号検
知手段18を接続する。この構成により、前記センサ1
7の出力に基づき、蛍光X線B2の経路上に位置する絞
り孔14,14Aに対応する孔径番号を孔径番号検知手
段18が検知し、その検知出力は後述する制御装置26
に入力される。
【0023】前記試料ホルダー2は、試料ステージ19
の上に乗せられ、試料ステージ19の移動で測定位置を
任意に選択できる。試料ステージ19は、円筒状の試料
ホルダー2の軸方向に直交する平面上で回転方向および
径方向に移動するr- θステージからなり、θ駆動を担
うモータ20とr駆動を担う直線移動機21とからなる
移動手段22により、r- θ駆動される。この場合、r
- θは、試料測定時の試料表面中心点を極とする極座標
である。なお、試料ステージ19は、試料ホルダー2の
軸方向に直交する平面上で直交する2方向に移動するX
Yステージであってもよい。
【0024】前記蛍光X線分析装置は、入力されたプロ
グラムに従って装置全体を制御する制御装置26を備え
る。制御装置26は、マスク径判別手段27と、絞り孔
選択手段36と、メモリ28を内蔵する。前記検出器7
の出力は信号処理回路29に入力されて、X線強度を示
す電気信号に変換される。信号処理回路29の出力は前
記マスク径判別手段27に入力される。マスク径判別手
段27は、前記信号処理回路29から得られるX線強度
を基準強度と比較してマスク孔4の径を判別する。
【0025】前記メモリ28には、マスク3上の厚肉部
3aを測定点とするときのX線強度を基準強度として記
憶させる。これとは別に、メモリ28には、各マスク3
の孔径と、後述するマスク径判別時の強度変化検出距離
とを対応付けて記憶させるとともに、各マスク3の孔径
と、これら孔径に対応する複数の孔径の絞り孔14とを
対応付けて記憶させる。
【0026】前記絞り孔選択手段36は、マスク径判別
時や試料測定時に、前記スリット駆動手段35を制御し
て、所望の孔径の絞り孔14,14Aを蛍光X線B2の
取出し通路EPに配置する手段であって、マスク径判別
時には判別用の絞り孔14Aを選択する。また、試料測
定時には、測定条件として設定されるモードに応じて、
2種類の絞り孔選択動作を行う。
【0027】すなわち、測定条件の1つとして絞り孔自
動選択モードが設定される場合には、前記マスク径判別
手段27によって判別されたマスク径に基づき、前記メ
モリ28から読み出された対応する孔径、またはマスク
径に対応する孔径よりも小さい孔径の絞り孔14を選択
する。たとえば、マスク径が30mmの場合、対応する
絞り孔14の孔径は,これよりも若干小さい27mm程
度であるが、便宜上、ここでは27mm程度の孔径を3
0mmのマスク径に対応した絞り孔径と呼ぶ。判定され
たマスク径に対応する孔径、または対応する孔径よりも
小さい孔径の絞り孔14がないとき、絞り孔選択手段3
6からの信号を受けた確認手段38が、その旨を知らせ
る警報信号を出力する。確認手段38は、たとえば制御
装置26に接続された表示器(図示せず)に警報信号を
出力して、その画面に前記警報信号に対応するメッセー
ジまたは画像を表示するとともに、制御装置26を介し
て試料測定動作を中止させる。
【0028】また、測定条件の1つとして孔径確認モー
ドが設定される場合には、絞り孔径入力手段37により
外部からの操作で設定された孔径の絞り孔14を絞り孔
選択手段36が選択する。また、この孔径確認モードが
設定される場合、前記マスク径判別手段27により判別
されたマスク径が、前記絞り孔径入力手段37により設
定された絞り孔14の孔径よりも小さいとき、その旨を
知らせるエラー信号が前記確認手段38から出力され
る。エラー信号はやはり、前記表示器(図示せず)に入
力されて、その画面にエラー信号に対応するメッセージ
または画像が表示されるとともに、制御装置36を介し
て試料測定動作を中止させる。なお、前記絞り孔径入力
手段37による絞り孔径の設定は、たとえば絞り孔径に
対応付けられた番号などを入力することにより行う。
【0029】マスク径の判別時には、上述したように、
マスク3の厚肉部3aと薄肉部3bを区別して測定でき
るように、スリット部材10における視野制限用の絞り
孔14のうち、測定対象領域が小径、例えば1mmφに
制限される最小の絞り孔14Aが選択される。この絞り
孔14Aの孔径は、この絞り孔14Aで制限されたマス
ク3上の測定対象領域が、薄肉部3bの径方向幅bより
も小さくなって、この薄肉部3bのみからのX線を検出
できる大きさとするのが好ましい。
【0030】マスク径判別時には、制御装置26から絞
り孔変更回路15に与えられる指令によりモータ13が
駆動して、スリット部材10がディスク16とともに回
転する。ディスク16におけるマークのうち前記絞り孔
14Aに対応するマークをセンサ17が検知したとき、
このセンサ17の出力に基づき孔径番号を検知する孔径
番号検知手段18の出力に応答して、マスク径判別手段
27が絞り孔変更回路15に停止指令を与える。これに
より、スリット部材10の回転が停止して、蛍光X線B
2の経路上にマスク径判別用の絞り孔14Aが停止す
る。スリット部材10の他の絞り孔14は、試料測定時
に試料表面の測定対象領域を制限するのに使用される。
【0031】前記移動手段22を構成する直線移動機2
1の駆動部は、たとえばステッピングモータからなる。
直線移動機21には、前記ステッピングモータのパルス
数に基づき試料ステージ19のマスク径方向への移動距
離を検知する移動距離検知手段30を接続する。マスク
径判別時に、移動距離検知手段30の検知信号はマスク
径判別手段27に入力される。
【0032】前記X線管5などからなる光学系におい
て、測定点P(図1(A)では試料上面の中央)で発生
または反射して視野制限用の絞り孔14,14Aを通過
するX線の強度は、図1(B)に示すように、試料の測
定面での高さ位置Hで最大となり、その位置Hから測定
面に対して垂直な方向Mに沿ってずれるにしたがって低
下するという特性が見られる。
【0033】このようなX線強度分布の特性に着目し
て、前記蛍光X線分析装置でX線分析を行う際のマスク
径判別を以下のようにして行う。すなわち、先述したよ
うにスリット部材10における視野制限用の絞り孔1
4,14Aのうち、マスク径判別用の絞り孔14Aが選
択された状態で、マスク径判定手段27からの指令によ
り移動手段22が作動を開始し、図2(A)に示すよう
に、マスク3の厚肉部3a上に測定点P1がくるところ
まで試料ステージ19がマスク3の径方向に移動して停
止する。この初期測定点P1は、マスク径の異なるいず
れのマスク3でも、それらの厚肉部3aの上となり、か
つマスク外周から内径側に向けて一定の幅位置(基準位
置)となるように設定される。
【0034】次に、移動手段22が先とは逆方向に駆動
される。これにより、図2(A)に示すように、測定点
がP1からP2,P3…Pnへと一定間隔(たとえば
2.5mm)ごとにマスク3の径方向に移動し、そのとき
マスク3上の一部分で散乱する1次X線B2が、図3の
絞り孔14Aを通して検出される。すなわち、絞り孔1
4Aを通り、図1(A)の分光器6で回折された蛍光X
線B2の強度が検出器7で検出され、信号処理回路29
で電気信号に変換されて、制御装置26のマスク径判別
手段27に入力される。なお、マスク径判別時には、試
料測定時と同じ1次X線B1が照射され、マスク3から
は、その材質と無関係の1次X線B2が散乱する。
【0035】各測定点間の移動距離(2.5mm)は、先
述したようにマスク孔4の孔径が5mm間隔で段階的に変
わるのに対応させたものであり、測定点は3〜8か所程
度で済むから、その測定にさほどの時間はかからない。
【0036】マスク径判別手段27は、マスク3上の厚
肉部3aを測定点とするときの蛍光X線B2の強度を基
準強度として記憶するメモリ28から、その基準強度を
読み出し、入力されてくる前記X線強度を基準強度と比
較する。測定点がマスク3の厚肉部3aの上にあると
き、マスク径判別手段27に入力されるX線強度Iは、
前記基準強度に等しい値となる。これに対して、測定点
がマスク3の厚肉部3aの上から薄肉部3bの上に変わ
ると、図4に示すように、マスク径判別手段27に入力
されるX線強度は、厚肉部3aと薄肉部3bの高低差d
に相当する値ΔIだけ大きくなり、前記基準強度を越え
る値I+ΔIとなる。
【0037】一方、図1(A)のマスク径判別手段27
には、前記強度比較と並行して、移動距離検知手段30
によって検知される試料ステージ19の移動距離、つま
り測定点の移動距離が入力される。そして、マスク径判
別手段27は、図4に示すように、検出されるX線強度
が基準強度より大きい値I+ΔIに変化する時点までの
測定点の移動距離、つまり強度変化検出距離rに基づ
き、この距離rに対応するマスク径をメモリ28から検
索してマスク径を判別する。つまり、図2(A)に示す
ように、マスク径(マスク孔4の直径)2eが異なって
も、薄肉部3bおよび傾斜部3cの径方向幅b,c並び
にマスク3の半径mが同一であることから、前記マスク
径2eに比例して厚肉部3aの径方向幅aが変化する。
前記強度変化検出距離rは、厚肉部3aの径方向幅aに
応じて変化するから、結局、マスク孔2eに対応する。
メモリ28に記憶された前記距離rとマスク径2eとの
対応関係を図5に示す。
【0038】したがって、メモリ28に記憶された前記
距離rとマスク径2eとの対応付けに基づいて、マスク
径2eが判別される。判別したマスク径のデータは、試
料1のX線分析における測定条件の1つとして制御装置
26にセーブされる。
【0039】上記構成によるマスク径判別の場合、マス
ク3の材質に無関係に、マスク3上で散乱する1次X線
B2を測定することにより、マスク径2eを自動的かつ
確実に短時間で判別でき、マスク径2eに応じた測定条
件をX線分析装置に入力して試料1のX線分析を容易に
行うことができる。絞り孔14も、判別されたマスク径
に合ったものを正しく選択できるので、絞り孔14の選
択ミスにより誤った測定結果を得てしまうことがない。
【0040】また、バーコードを用いる従来例の場合の
ように、特別な読取装置が不要である。
【0041】さらに、マスク3の孔径ごとに異なる材質
を用いる必要がないので、同一素材でマスク3を安価に
製作できる。
【0042】図6は、前記蛍光X線分析装置により、マ
スク径の判別および試料の測定を自動的に行う動作の一
例を示すフロー図である。この動作は、たとえば試料1
を定性分析する場合のものであり、後述する定量分析の
場合と異なり、スリット部材10の絞り孔14の孔径
(測定面積に対応)は一定とする必要がない。先ずステ
ップS1において、定性分析時の装置制御に必要な各種
の測定条件を入力設定する。ここでは、測定条件の1つ
として、測定時における前記絞り孔選択手段36の動作
モードの1つである絞り孔自動選択モードを選択設定す
る。次のステップS2で装置の動作が開始され、ステッ
プS3において前述したマスク径の自動判別が行われ
る。
【0043】さらに、次のステップS4では、判別され
たマスク径に対応する孔径の絞り孔14がスリット部材
10に有るか否かが確認される。その確認は、制御装置
26の絞り孔選択手段36が行う。すなわち、絞り孔選
択手段36は、判別されたマスク径に基づき、メモリ2
8の記憶データを検索して、そのマスク径に対応する孔
径の絞り孔14が有るか否かを確認する。対応する絞り
孔14が有る場合、絞り孔選択手段36はスリット駆動
手段35を制御して、前記絞り孔14を蛍光X線B2の
取出し通路EPに配置する(ステップS5)。このよう
に絞り孔14を選択した状態で、先に設定された測定条
件に従って、試料1の分析が開始される(ステップS
6)。この場合、実際のマスク径とこれに対応する絞り
孔14が選択されているので、マスク3の材質部分から
の蛍光X線B2が絞り孔14を透過して検出器7で検出
されることはなく、誤った情報を含んだ測定結果を得る
ことがない。
【0044】ステップS4において、判別されたマスク
径に対応する絞り孔14が無いと確認された場合には、
ステップS7に処理が移行し、ここで絞り孔選択手段3
6は、前記対応する孔径よりも小さい孔径の絞り孔14
をメモリ28の記憶データから検索する。これにより、
小さい孔径の絞り孔14を検索できた場合(ステップS
8)、先のステップS5に移行して、その絞り孔14を
絞り孔選択手段36が選択し、さらにステップS6に移
行して試料1の分析が開始される。このように、実際の
マスク径に対応する孔径の絞り孔14がない場合にも、
その対応する孔径よりも小さい孔径の絞り孔14が選択
されるので、マスク3の材質部分からの蛍光X線B2が
絞り孔14を透過して検出されることがなく、誤った情
報を含んだ測定結果を得ることがない。また、この場
合、試料1の定性分析を行うので、絞り孔14の孔径が
マスク径に対応する孔径より小さくても、測定結果の適
否を左右することはない。
【0045】ステップS8において、判別されたマスク
径に対応する孔径よりも小さい孔径の絞り孔14を検索
できなかった場合、ステップS9に移行し、試料1の分
析を中止する。この場合、適正な絞り孔14がない旨を
知らせる警報信号が、確認手段38から出力される。
【0046】図7は、前記蛍光X線分析装置により、マ
スク径の判別および試料の測定を自動的に行う動作の他
の一例を示すフロー図である。この動作は、たとえば試
料1を定量分析する場合のものであって、先ずステップ
N1において、定量分析時の装置制御に必要な各種の測
定条件を入力設定する。ここでは、測定条件の一部とし
て、測定時における前記絞り孔選択手段36の動作モー
ドの1つである孔径確認モードを選択設定するととも
に、絞り孔径入力手段37を用いた外部からの入力操作
により、この場合の定量分析に望ましい絞り孔14の孔
径を設定する。これにより、絞り孔選択手段36が入力
された孔径の絞り孔14を選択し、スリット駆動手段3
5を制御して、蛍光X線B2の取出し通路EPに配置す
るとともに、他の測定条件に合わせて装置の各部が調整
される。次のステップN2で装置の動作が開始され、さ
らに次のステップN3では、先述したマスク径の自動判
別が図6のフロー図の場合と同様に行われる。
【0047】さらに、次のステップN4では、判別され
たマスク径が先に測定条件の1つとして設定された絞り
孔径に対応するか否かが、確認手段38により確認され
る。マスク径が設定された絞り孔径に対応していれば、
次のステップN5において、設定された測定条件に従っ
て、試料1の定量分析が開始される。この場合、実際の
マスク径が、測定条件として入力設定された絞り孔14
の孔径に対応しているため、マスク3の材質部分からの
蛍光X線B2が絞り孔14を透過して検出されることは
なく、誤った情報を含んだ測定結果を得ることがない。
【0048】ステップN4において、判別されたマスク
径が先に設定された対応する絞り孔径と異なると確認さ
れた場合には、ステップN6に処理が移行し、ここで判
別されたマスク径が設定された対応する絞り孔14の孔
径より大きいか小さいかが確認される。判別されたマス
ク径の方が大きい場合、先のステップN5に移行して、
試料1の定量分析が開始される。この場合、絞り孔14
の孔径よりマスク径が大きいので、マスク3の材質部分
からの蛍光X線B2が絞り孔14を透過して検出される
ことはなく、誤った情報を含んだ測定結果を得ることが
ない。
【0049】ステップN6において、判別されたマスク
径が設定された対応する絞り孔14の孔径より小さい場
合、ステップN7に移行し、試料1の定量分析を中止す
るとともに、確認手段38から、エラー信号を出力す
る。この場合、そのまま定量分析を続行すると、マスク
3の材質部分からの蛍光X線B1が絞り孔14を透過し
て、誤った測定結果が得られることになるが、前記エラ
ー信号の出力により、オペレータはマスク径が適正でな
いことを知ることができ、適正なマスク径のマスク3を
セットし直すことができる。
【0050】なお、図7では、測定条件の1つとして、
孔径確認モードを選択的に入力設定する場合を示した
が、絞り孔14の孔径を入力すると自動的に孔径確認モ
ードが選択されるようにして、判別されたマスク径が設
定された絞り孔径と対応するか否かの確認が自動的に行
われるようにしてもよい。
【0051】また、図7では、定量分析において、測定
条件の一部として、絞り孔14の孔径と孔径選択モード
の確認とを手動で入力する場合を示したが、定性分析の
場合でも同様に、絞り孔14の孔径と孔径選択モードの
確認とを、測定条件の一部として手動で入力して定性分
析を行ってもよい。
【0052】なお、前記実施形態では、マスク3上で散
乱した1次X線B2の強度に基づきマスク径判別を行っ
ているが、マスク3から発生する蛍光X線に基づきマス
ク径判別を行ってもよい。この場合は、マスクの材質に
特有のX線をモニタすることでマスク径を正しく判別で
きる。
【0053】また、マスク3の材質が通常使用するもの
と異なるために、マスクからの蛍光X線の強度変化を充
分検出できず、マスク径判別が困難な場合は、1度のマ
スク径判別で複数の元素の2次X線(たとえばFeKα
線とロジウムの散乱線など)を測定して、両者の少くと
も一方の変化を検出するようにしてもよい。
【0054】また、蛍光X線あるいは1次X線の散乱線
B2の強度を検出する検出器7としては、エネルギ分散
型の半導体検出器(SSD)を用いてもよく、その場
合、分光器は割愛される。
【0055】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
試料を支持する試料ステージをマスクの径方向に移動さ
せながら、マスク上の一部分から発生する1種もしくは
複数の2次X線、またはマスクにより反射された1次X
線の散乱線を、視野制限用の絞り孔を通して検出し、
出されたX線の強度変化によりマスク径を判別するの
で、マスクの材質および試料の材質に無関係に、また特
別の装置を必要としたり、測定元素の数が増えることな
く、マスク径の判別を短時間のうちに正確に行うことが
できる。また、マスク径にあった孔径の絞り孔を正しく
選択できるので、X線分析時の測定ミスをなくすことが
できる。さらに、マスクを安価に製作することもでき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)は本発明の一実施形態に係る試料マスク
径の判別方法を用いるX線分析装置を示す概略構成図、
(B)は同装置の測定面中央位置における垂直方向での
X線強度の分布を示す図である。
【図2】(A)はマスクの平面図、(B)は同マスクの
断面図である。
【図3】同装置におけるスリット部材の正面図である。
【図4】マスク径判別時におけるX線強度の変化と測定
点移動距離との関係を示す図である。
【図5】メモリに記憶された内容の一例を示す図であ
る。
【図6】前記X線分析装置による自動分析動作の一例を
示すフロー図である。
【図7】同装置による自動分析動作の他の例を示すフロ
ー図である。
【符号の説明】
1…試料、3…マスク、3a…厚肉部、3b…薄肉部、
4…マスク孔、7…蛍光X線検出器、10…スリット部
材、14A…絞り孔、19…試料ステージ、22…移動
手段、27…マスク径判別手段、28…メモリ(記憶手
段)、30…移動距離検知手段、35…スリット駆動手
段、36…絞り孔選択手段、37…絞り孔径入力手段、
38…確認手段、EP…取出し通路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 23/22 - 23/227 G01B 15/00 - 15/02

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料をマスクで覆ってマスク孔により試
    料の測定面を露出させ、この測定面に1次X線を照射
    し、試料から発生する蛍光X線を検出して、試料を分析
    する蛍光X線分析の際にマスク径を判別する方法であっ
    て、 試料を支持する試料ステージをマスクの径方向に移動さ
    せながら、マスク上の一部分から発生する1種もしくは
    複数の蛍光X線、またはマスクにより反射された1次X
    線の散乱線を視野制限用の絞り孔を通して検出し、検出
    されたX線の強度変化によりマスク孔の径を判別する蛍
    光X線分析における試料マスク径の判別方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記絞り孔により制
    限されるマスク上の測定対象領域の径を、マスクの内径
    側の薄肉部の径方向幅よりも小さく設定した蛍光X線分
    析における試料マスク径の判別方法。
  3. 【請求項3】 試料をマスクで覆ってマスク孔により試
    料の測定面を露出させた状態で、試料に1次X線を照射
    し、試料から発生する蛍光X線を測定する蛍光X線分析
    装置であって、 前記試料を支持する試料ステージをマスクの径方向に移
    動させる移動手段と、 前記蛍光X線の視野を制限する絞り孔を有するスリット
    部材と、 マスクの一部分から発生する1種もしくは複数の蛍光X
    線、またはマスクにより反射された1次X線の散乱線を
    前記絞り孔を通して検出する検出器と、 検出されたX線の強度変化によりマスク孔の径を判別す
    るマスク径判別手段とを備えた蛍光X線分析装置。
  4. 【請求項4】 請求項3において、前記絞り孔により制
    限されるマスク上の測定対象領域の径が、マスクの内径
    側の薄肉部の径方向幅よりも小さく設定されている蛍光
    X線分析装置。
  5. 【請求項5】 請求項3または4において、 前記スリット部材が複数のマスク径に対応する複数の孔
    径の絞り孔を有しており、 さらに、前記複数のマスク径と複数の孔径の前記絞り孔
    とを対応付けて記憶する記憶手段と、 前記スリット部材を駆動していずれか1つの絞り孔を蛍
    光X線の取出し通路に配置するスリット駆動手段と、 前記マスク径判別手段により判別されたマスク径に基づ
    き、前記記憶手段から読み出された対応する孔径または
    これよりも小さい孔径を持つ絞り孔を蛍光X線の取出し
    通路に配置するように、前記スリット部材を駆動する絞
    り孔選択手段とを備えた蛍光X線分析装置。
  6. 【請求項6】 請求項3または4において、 前記スリット部材が複数のマスク径に対応する複数の孔
    径の絞り孔を有しており、 さらに、外部からの操作で前記スリット部材の絞り孔の
    複数の孔径の中から所望の孔径を設定する絞り孔径入力
    手段と、 前記スリット部材を駆動して前記設定された絞り孔径の
    絞り孔を蛍光X線の取出し通路に配置するスリット駆動
    手段と、 前記マスク径判別手段により判別された実際のマスク径
    が前記取出し通路に配置された絞り孔径に対応するマス
    ク径よりも小さいとき、エラー信号を出力する確認手段
    とを備えた蛍光X線分析装置。
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