JPH0817725A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH0817725A JPH0817725A JP6174773A JP17477394A JPH0817725A JP H0817725 A JPH0817725 A JP H0817725A JP 6174773 A JP6174773 A JP 6174773A JP 17477394 A JP17477394 A JP 17477394A JP H0817725 A JPH0817725 A JP H0817725A
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- alignment
- optical system
- photosensitive substrate
- projection
- optical systems
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- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、露光装置において、ステージの移動
距離が短く、感光基板上のアライメントマークの配置を
自由に決定できるようにする。 【構成】４つのアライメント光学系（２〜４及び１９）
を投影光学系（１）の周囲に配し、かつこのアライメン
ト光学系（２〜４及び１９）の光軸を第１の方向（Ｘ）
と平行な２つの辺と、第２の方向（Ｙ）と平行な２つの
辺とでなる矩形の４つの頂点の位置にそれぞれ配する。
距離が短く、感光基板上のアライメントマークの配置を
自由に決定できるようにする。 【構成】４つのアライメント光学系（２〜４及び１９）
を投影光学系（１）の周囲に配し、かつこのアライメン
ト光学系（２〜４及び１９）の光軸を第１の方向（Ｘ）
と平行な２つの辺と、第２の方向（Ｙ）と平行な２つの
辺とでなる矩形の４つの頂点の位置にそれぞれ配する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は露光装置に関し、例えば
液晶表示板製造用の投影露光装置において基板の位置を
合わせるものに適用し得る。
液晶表示板製造用の投影露光装置において基板の位置を
合わせるものに適用し得る。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の投影露光装置は、感光基
板上に複数層の回路パターンを順に重ねて露光すること
により大型の液晶表示板を製造している。このとき投影
露光装置のセンサ等を有するアライメント光学系で感光
基板上のアライメントマークを測定してアライメントす
る。
板上に複数層の回路パターンを順に重ねて露光すること
により大型の液晶表示板を製造している。このとき投影
露光装置のセンサ等を有するアライメント光学系で感光
基板上のアライメントマークを測定してアライメントす
る。
【０００３】すなわち図４に示すように、投影露光装置
の投影光学系１の周囲には、３つのアライメント光学系
２〜４が配されている。アライメント光学系２〜４の光
軸は投影光学系１の光軸から等距離で、光軸を原点とし
た座標系の位置（Ｘ1 ，Ｙ1）、（Ｘ1 ，Ｙ2 ）及び
（Ｘ2 ，Ｙ2 ）にそれぞれ配されている。従つてアライ
メント光学系２の光軸とアライメント光学系３の光軸と
を結ぶ方向はＹ方向に平行となり、アライメント光学系
３の光軸とアライメント光学系４の光軸とを結ぶ方向は
Ｘ方向に平行となる。
の投影光学系１の周囲には、３つのアライメント光学系
２〜４が配されている。アライメント光学系２〜４の光
軸は投影光学系１の光軸から等距離で、光軸を原点とし
た座標系の位置（Ｘ1 ，Ｙ1）、（Ｘ1 ，Ｙ2 ）及び
（Ｘ2 ，Ｙ2 ）にそれぞれ配されている。従つてアライ
メント光学系２の光軸とアライメント光学系３の光軸と
を結ぶ方向はＹ方向に平行となり、アライメント光学系
３の光軸とアライメント光学系４の光軸とを結ぶ方向は
Ｘ方向に平行となる。
【０００４】図５に示すように、感光基板５には、１つ
の辺（ここでは紙面の手前側の辺）６と平行な２つのア
ライメントマーク６Ａ及び６Ｂが所定の間隔で設けられ
ている。またこの手前側の辺６と直交する１つの辺（こ
こでは紙面に向かって右側の辺）７には、この辺７と平
行な１つのアライメントマーク７Ａがアライメントマー
ク６Ｂに対して所定の間隔で設けられている。
の辺（ここでは紙面の手前側の辺）６と平行な２つのア
ライメントマーク６Ａ及び６Ｂが所定の間隔で設けられ
ている。またこの手前側の辺６と直交する１つの辺（こ
こでは紙面に向かって右側の辺）７には、この辺７と平
行な１つのアライメントマーク７Ａがアライメントマー
ク６Ｂに対して所定の間隔で設けられている。
【０００５】感光基板５の投影光学系１の光軸（Ｚ軸）
方向の回りの回転角度の誤差を取り除く際には、アライ
メント光学系３及び４を用いて、それぞれアライメント
マーク６Ｂ及び６Ａの位置を検出する。続いて、検出し
たアライメントマーク６Ａ及び６Ｂの位置に基づいて、
回転角度の誤差の量を求め、感光基板５を載置したステ
ージを回転させる。これにより感光基板５の回転角度の
誤差が取り除かれて、感光基板５の基準とする辺６の回
転角度が固定される。
方向の回りの回転角度の誤差を取り除く際には、アライ
メント光学系３及び４を用いて、それぞれアライメント
マーク６Ｂ及び６Ａの位置を検出する。続いて、検出し
たアライメントマーク６Ａ及び６Ｂの位置に基づいて、
回転角度の誤差の量を求め、感光基板５を載置したステ
ージを回転させる。これにより感光基板５の回転角度の
誤差が取り除かれて、感光基板５の基準とする辺６の回
転角度が固定される。
【０００６】感光基板５のＺ方向に直交するＸ方向と、
Ｚ及びＸ方向に直交するＹ方向との位置の誤差を取り除
く際には、アライメント光学系２及び３を用いて、回転
後のアライメントマーク７Ａ及び６Ｂの位置を検出す
る。続いて、検出したアライメントマーク７Ａ及び６Ｂ
の位置に基づいて、Ｘ及びＹ方向の位置の誤差の量を求
め、感光基板５を載置したステージをＸ及びＹ方向に駆
動する。これにより感光基板５は、Ｘ及びＹ方向の位置
の誤差が取り除かれ、アライメントが終了する。
Ｚ及びＸ方向に直交するＹ方向との位置の誤差を取り除
く際には、アライメント光学系２及び３を用いて、回転
後のアライメントマーク７Ａ及び６Ｂの位置を検出す
る。続いて、検出したアライメントマーク７Ａ及び６Ｂ
の位置に基づいて、Ｘ及びＹ方向の位置の誤差の量を求
め、感光基板５を載置したステージをＸ及びＹ方向に駆
動する。これにより感光基板５は、Ｘ及びＹ方向の位置
の誤差が取り除かれ、アライメントが終了する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところでアライメント
マークの配置は感光基板の大きさや設計等によつて適宜
決定できるものである。
マークの配置は感光基板の大きさや設計等によつて適宜
決定できるものである。
【０００８】ところが上述のアライメント光学系２〜４
の配置においては、必要に応じてアライメントマークの
配置の自由度を大きくすると、複数のアライメント光学
系で同時にアライメントマークを検出できない場合が発
生するという問題があつた。
の配置においては、必要に応じてアライメントマークの
配置の自由度を大きくすると、複数のアライメント光学
系で同時にアライメントマークを検出できない場合が発
生するという問題があつた。
【０００９】例えば寸法が大きく、かつ辺６と対向する
辺の側に２つのアライメントマークを配置する必要があ
る場合、このアライメントマークをアライメント光学系
２又は４で検出するためには、ステージの移動距離を長
大にする必要があり、装置の大型化を招くことになる。
またアライメント光学系２又は４で検出できたとして
も、ステージを測定位置及び元の位置に移動するときの
ストロークが長くなりアライメントに時間がかかるとい
う欠点があつた。
辺の側に２つのアライメントマークを配置する必要があ
る場合、このアライメントマークをアライメント光学系
２又は４で検出するためには、ステージの移動距離を長
大にする必要があり、装置の大型化を招くことになる。
またアライメント光学系２又は４で検出できたとして
も、ステージを測定位置及び元の位置に移動するときの
ストロークが長くなりアライメントに時間がかかるとい
う欠点があつた。
【００１０】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、ステージの移動距離が短く、感光基板上のアライメ
ントマークの配置を自由に決定できる露光装置を提案し
ようとするものである。
で、ステージの移動距離が短く、感光基板上のアライメ
ントマークの配置を自由に決定できる露光装置を提案し
ようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、一実施例を表す図１〜図３とに対
応付けて説明すると、請求項１に記載の露光装置では、
光源（９）からの光束を露光パターンが形成されたレチ
クル（Ｒ）上に導く照明光学系（１１）と、レチクルＲ
を通過した光束を感光基板（５）に投影する投影光学系
（１）とを有し、該感光基板（５）を投影光学系（１）
の光軸の方向と直交する第１の方向（Ｘ）と、該投影光
学系（１）の光軸の方向及び第１の方向（Ｘ）と直交す
る第２の方向（Ｙ）と、投影光学系（１）の光軸の方向
の回りとに移動してアライメントし、露光パターンを感
光基板（５）上に形成する露光装置（８）において、投
影光学系（１）の周囲に、感光基板（５）上に設けたア
ライメントマーク（６Ａ、６Ｂ、７Ａ、７Ｂ、２５Ａ、
２５Ｂ、２６Ａ及び２６Ｂ）を検出する４つのアライメ
ント光学系（２〜４及び１９）を設け、４つのアライメ
ント光学系（２〜４及び１９）の光軸が、第１の方向
（Ｘ）と平行な２つの辺と、第２の方向（Ｙ）と平行な
２つの辺とでなる矩形の４つの頂点の位置にそれぞれ配
されているようにする。
め本発明においては、一実施例を表す図１〜図３とに対
応付けて説明すると、請求項１に記載の露光装置では、
光源（９）からの光束を露光パターンが形成されたレチ
クル（Ｒ）上に導く照明光学系（１１）と、レチクルＲ
を通過した光束を感光基板（５）に投影する投影光学系
（１）とを有し、該感光基板（５）を投影光学系（１）
の光軸の方向と直交する第１の方向（Ｘ）と、該投影光
学系（１）の光軸の方向及び第１の方向（Ｘ）と直交す
る第２の方向（Ｙ）と、投影光学系（１）の光軸の方向
の回りとに移動してアライメントし、露光パターンを感
光基板（５）上に形成する露光装置（８）において、投
影光学系（１）の周囲に、感光基板（５）上に設けたア
ライメントマーク（６Ａ、６Ｂ、７Ａ、７Ｂ、２５Ａ、
２５Ｂ、２６Ａ及び２６Ｂ）を検出する４つのアライメ
ント光学系（２〜４及び１９）を設け、４つのアライメ
ント光学系（２〜４及び１９）の光軸が、第１の方向
（Ｘ）と平行な２つの辺と、第２の方向（Ｙ）と平行な
２つの辺とでなる矩形の４つの頂点の位置にそれぞれ配
されているようにする。
【００１２】請求項２に記載の露光装置では、アライメ
ント光学系は、４つのアライメント光学系（２〜４及び
１９）のうち、アライメントマーク（６Ａ、６Ｂ、７
Ａ、７Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ及び２６Ｂ）の検出
の際、アライメントマーク（６Ａ、６Ｂ、７Ａ、７Ｂ、
２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ及び２６Ｂ）に最も近い少なく
とも２つのアライメント光学系を用いる。
ント光学系は、４つのアライメント光学系（２〜４及び
１９）のうち、アライメントマーク（６Ａ、６Ｂ、７
Ａ、７Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ及び２６Ｂ）の検出
の際、アライメントマーク（６Ａ、６Ｂ、７Ａ、７Ｂ、
２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ及び２６Ｂ）に最も近い少なく
とも２つのアライメント光学系を用いる。
【００１３】
【作用】請求項１に記載の露光装置方法では、４つのア
ライメント光学系（２〜４及び１９）を投影光学系
（１）の周囲に配し、かつこのアライメント光学系（２
〜４及び１９）の光軸を第１の方向（Ｘ）と平行な２つ
の辺と、第２の方向（Ｙ）と平行な２つの辺とでなる矩
形の４つの頂点の位置にそれぞれ配したことにより、感
光基板（５）上のアライメントマーク（６Ａ、６Ｂ、７
Ａ、７Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ及び２６Ｂ）の配置
の自由度を大きくし得る。
ライメント光学系（２〜４及び１９）を投影光学系
（１）の周囲に配し、かつこのアライメント光学系（２
〜４及び１９）の光軸を第１の方向（Ｘ）と平行な２つ
の辺と、第２の方向（Ｙ）と平行な２つの辺とでなる矩
形の４つの頂点の位置にそれぞれ配したことにより、感
光基板（５）上のアライメントマーク（６Ａ、６Ｂ、７
Ａ、７Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ及び２６Ｂ）の配置
の自由度を大きくし得る。
【００１４】請求項２に記載の露光装置では、自由に配
置されたアライメントマーク（６Ａ、６Ｂ、７Ａ、７
Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ及び２６Ｂ）を検出する
際、最も近い少なくとも２つのアライメント光学系を用
いることによつて、感光基板（５）を第１及び第２の方
向（Ｘ）及び（Ｙ）に移動させるステージの移動ストロ
ークを一段と短くし得る。
置されたアライメントマーク（６Ａ、６Ｂ、７Ａ、７
Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ及び２６Ｂ）を検出する
際、最も近い少なくとも２つのアライメント光学系を用
いることによつて、感光基板（５）を第１及び第２の方
向（Ｘ）及び（Ｙ）に移動させるステージの移動ストロ
ークを一段と短くし得る。
【００１５】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
する。
【００１６】図１において、８は全体として画像処理で
アライメントする大型液晶表示板製造用の投影露光装置
を示し、超高圧水銀ランプ等の光源９から射出された露
光光を楕円鏡１０によつて集光した後、オプテイカルイ
ンテグレータ等を介してコンデンサレンズ系１１に入射
する。
アライメントする大型液晶表示板製造用の投影露光装置
を示し、超高圧水銀ランプ等の光源９から射出された露
光光を楕円鏡１０によつて集光した後、オプテイカルイ
ンテグレータ等を介してコンデンサレンズ系１１に入射
する。
【００１７】コンデンサレンズ系１１により集光された
露光光はほぼ均一な照度でレチクルＲを照明する。その
露光光によつてレチクルＲのパターンが投影光学系１を
介して感光基板５上の各シヨツト領域に投影される。こ
の後、感光基板５上に複数層の回路パターンを順に重ね
て露光することにより大型の液晶表示素子を製造してい
る。
露光光はほぼ均一な照度でレチクルＲを照明する。その
露光光によつてレチクルＲのパターンが投影光学系１を
介して感光基板５上の各シヨツト領域に投影される。こ
の後、感光基板５上に複数層の回路パターンを順に重ね
て露光することにより大型の液晶表示素子を製造してい
る。
【００１８】感光基板５はＺステージ１３上に保持さ
れ、Ｚステージ１３はＸＹステージ１４上に載置されて
いる。ＸＹステージ１４は感光基板５をＸＹ平面内で位
置決めし、Ｚステージ１３は感光基板５をＺ方向（投影
光学系の光軸方向）に位置決めする。因にＺステージ１
３と感光基板５との間には感光基板５を光軸周りに回転
させるθテーブルが介装されている。またＺステージ１
３上の感光基板５の近傍には種々のアライメント用マー
クが形成された基準マーク集合体１５が固定されてい
る。また基準マーク集合体１５の近傍にはＸ方向および
Ｙ方向の距離測定用の移動鏡１６が固定されている。
れ、Ｚステージ１３はＸＹステージ１４上に載置されて
いる。ＸＹステージ１４は感光基板５をＸＹ平面内で位
置決めし、Ｚステージ１３は感光基板５をＺ方向（投影
光学系の光軸方向）に位置決めする。因にＺステージ１
３と感光基板５との間には感光基板５を光軸周りに回転
させるθテーブルが介装されている。またＺステージ１
３上の感光基板５の近傍には種々のアライメント用マー
クが形成された基準マーク集合体１５が固定されてい
る。また基準マーク集合体１５の近傍にはＸ方向および
Ｙ方向の距離測定用の移動鏡１６が固定されている。
【００１９】移動鏡１６にはレーザ干渉計１７からレー
ザビームが照射され、鏡面で反射された反射光をレーザ
干渉計１７によつて受光することによりＸＹステージ１
４の位置を常時計測する。駆動装置１８はレーザ干渉計
１７で計測された座標値等に基づいてＸＹステージ１４
を駆動する。
ザビームが照射され、鏡面で反射された反射光をレーザ
干渉計１７によつて受光することによりＸＹステージ１
４の位置を常時計測する。駆動装置１８はレーザ干渉計
１７で計測された座標値等に基づいてＸＹステージ１４
を駆動する。
【００２０】投影光学系１の周囲には画像処理用の４つ
のアライメント光学系２〜４及び１９が配置されてい
る。アライメント光学系２は感光基板５上の観察領域か
ら反射された反射光を対物レンズ２０およびミラー２１
を介してリレーレンズ２２に導く。アライメント光学系
２は、この反射光を電荷結像型撮像素子（ＣＣＤ）を用
いたＣＣＤカメラ２３の撮像面に集束し、撮像面に観察
領域のパターンの画像を結像する。アライメント光学系
３、４及び１９もアライメント光学系２と同一の構成で
なる。
のアライメント光学系２〜４及び１９が配置されてい
る。アライメント光学系２は感光基板５上の観察領域か
ら反射された反射光を対物レンズ２０およびミラー２１
を介してリレーレンズ２２に導く。アライメント光学系
２は、この反射光を電荷結像型撮像素子（ＣＣＤ）を用
いたＣＣＤカメラ２３の撮像面に集束し、撮像面に観察
領域のパターンの画像を結像する。アライメント光学系
３、４及び１９もアライメント光学系２と同一の構成で
なる。
【００２１】パターンマツチング装置２４は被処理画像
としてＣＣＤカメラ２３から出力される映像信号（撮像
信号）を取り込む。パターンマツチング装置２４はテン
プレート画像をメモリに記憶しており、パターンマツチ
ングによつてテンプレートに一致するパターンの座標
（ステージの移動座標系での位置）を求める。パターン
マツチング装置２４は、この座標値を用いてつなぎ露光
時や重ね露光時に生じたずれ量を求め、次回以降の露光
の際には駆動装置１８に補正パラメータとして与えるこ
とにより、位置合わせ精度を高める。
としてＣＣＤカメラ２３から出力される映像信号（撮像
信号）を取り込む。パターンマツチング装置２４はテン
プレート画像をメモリに記憶しており、パターンマツチ
ングによつてテンプレートに一致するパターンの座標
（ステージの移動座標系での位置）を求める。パターン
マツチング装置２４は、この座標値を用いてつなぎ露光
時や重ね露光時に生じたずれ量を求め、次回以降の露光
の際には駆動装置１８に補正パラメータとして与えるこ
とにより、位置合わせ精度を高める。
【００２２】図２に示すように、Ｚ方向から見たときの
アライメント光学系２〜４の光軸は投影光学系１の光軸
から等距離で座標（Ｘ1 ，Ｙ1 ）、（Ｘ1 ，Ｙ2 ）及び
（Ｘ2 ，Ｙ2 ）にそれぞれ配されている。アライメント
光学系１９の光軸は、投影光学系１の光軸からそれぞれ
のアライメント光学系２〜４の光軸までと等距離で、座
標（Ｘ2 、Ｙ1 ）に配されている。
アライメント光学系２〜４の光軸は投影光学系１の光軸
から等距離で座標（Ｘ1 ，Ｙ1 ）、（Ｘ1 ，Ｙ2 ）及び
（Ｘ2 ，Ｙ2 ）にそれぞれ配されている。アライメント
光学系１９の光軸は、投影光学系１の光軸からそれぞれ
のアライメント光学系２〜４の光軸までと等距離で、座
標（Ｘ2 、Ｙ1 ）に配されている。
【００２３】従つてアライメント光学系１９の光軸とア
ライメント光学系２の光軸とを結ぶ方向はＸ方向に平行
となる。またアライメント光学系１９の光軸とアライメ
ント光学系４の光軸とを結ぶ方向はＹ方向に平行とな
る。
ライメント光学系２の光軸とを結ぶ方向はＸ方向に平行
となる。またアライメント光学系１９の光軸とアライメ
ント光学系４の光軸とを結ぶ方向はＹ方向に平行とな
る。
【００２４】図３に示すように、感光基板５上には、図
５に示すアライメントマークの位置と反対側、すなわち
辺６と対向する辺２５側に、感光基板５のＹ方向の位置
及び光軸周り位置を示すアライメントマークとして、辺
２５と平行な２つのアライメントマーク２５Ａ及び２５
Ｂが、また感光基板５のＸ方向の位置を示すアライメン
トマークとしてアライメントマーク２６Ａ及び７Ａが設
けられている。
５に示すアライメントマークの位置と反対側、すなわち
辺６と対向する辺２５側に、感光基板５のＹ方向の位置
及び光軸周り位置を示すアライメントマークとして、辺
２５と平行な２つのアライメントマーク２５Ａ及び２５
Ｂが、また感光基板５のＸ方向の位置を示すアライメン
トマークとしてアライメントマーク２６Ａ及び７Ａが設
けられている。
【００２５】因みに、アライメントマーク２５Ｂは、ア
ライメントマーク７Ａと近接して設けられている。アラ
イメントマーク２５Ａは、アライメントマーク２６Ａと
近接して設けられている。
ライメントマーク７Ａと近接して設けられている。アラ
イメントマーク２５Ａは、アライメントマーク２６Ａと
近接して設けられている。
【００２６】以上の構成において、まず投影光学系１の
奥側に配されたアライメント光学系１９及び２でアライ
メントマーク２５Ａ及び２５Ｂの位置を検出する。この
アライメント光学系１９、２はいずれもＸ、Ｙ両方向の
マークを検出することができる。続いて、検出したアラ
イメントマーク２５Ａ及び２５Ｂの位置に基づいて、回
転角度の誤差の量を求め、ＸＹステージ１４上のθテー
ブルを回転させる。これにより感光基板５の回転角度の
誤差が取り除かれて、感光基板５の基準とする辺２５の
回転角度が固定される。
奥側に配されたアライメント光学系１９及び２でアライ
メントマーク２５Ａ及び２５Ｂの位置を検出する。この
アライメント光学系１９、２はいずれもＸ、Ｙ両方向の
マークを検出することができる。続いて、検出したアラ
イメントマーク２５Ａ及び２５Ｂの位置に基づいて、回
転角度の誤差の量を求め、ＸＹステージ１４上のθテー
ブルを回転させる。これにより感光基板５の回転角度の
誤差が取り除かれて、感光基板５の基準とする辺２５の
回転角度が固定される。
【００２７】このようにしてアライメントマーク２５Ａ
及び２５Ｂに最も近い位置に配されたアライメント光学
系１９及び２で検出することにより、アライメントマー
ク２５Ａ及び２５Ｂをアライメント光学系４及び３の位
置に移動する必要がなくなる。従つてＸＹステージ１４
の移動距離は、従来に比して格段的に減少し、移動時間
も短縮できることになる。
及び２５Ｂに最も近い位置に配されたアライメント光学
系１９及び２で検出することにより、アライメントマー
ク２５Ａ及び２５Ｂをアライメント光学系４及び３の位
置に移動する必要がなくなる。従つてＸＹステージ１４
の移動距離は、従来に比して格段的に減少し、移動時間
も短縮できることになる。
【００２８】この後、例えばアライメント光学系１９及
び２でアライメントマーク２５Ａ及び７Ａの位置を検出
する。続いて、検出したアライメントマーク２５Ａ及び
７Ａの位置に基づいて、Ｘ及びＹ方向の位置の誤差の量
を求め、ＸＹステージ１４をＸ及びＹ方向に駆動する。
これにより感光基板５は、Ｘ及びＹ方向の位置の誤差が
取り除かれ、アライメントが終了する。
び２でアライメントマーク２５Ａ及び７Ａの位置を検出
する。続いて、検出したアライメントマーク２５Ａ及び
７Ａの位置に基づいて、Ｘ及びＹ方向の位置の誤差の量
を求め、ＸＹステージ１４をＸ及びＹ方向に駆動する。
これにより感光基板５は、Ｘ及びＹ方向の位置の誤差が
取り除かれ、アライメントが終了する。
【００２９】因みに図６のように、図３に示すアライメ
ントマークと図５に示すアライメントマークとの両方を
備えた感光基板の場合、アライメント光学系２〜４及び
１９のうち、アライメントマークに最も近い２つ以上の
任意のアライメント光学系で、アライメントマーク７Ａ
及び２５Ｂ、６Ｂ及び７Ｂ、６Ａ及び２６Ｂ、２５Ａ及
び２６Ａをそれぞれ測定しても良い。さらに、４つのア
ライメント光学系全てで同時に４つのアライメントマー
クを検出するようにしても良い。この場合、ＸＹステー
ジの位置を変更することなく、４つのアライメントマー
クの位置が計測でき、現出精度が向上する。
ントマークと図５に示すアライメントマークとの両方を
備えた感光基板の場合、アライメント光学系２〜４及び
１９のうち、アライメントマークに最も近い２つ以上の
任意のアライメント光学系で、アライメントマーク７Ａ
及び２５Ｂ、６Ｂ及び７Ｂ、６Ａ及び２６Ｂ、２５Ａ及
び２６Ａをそれぞれ測定しても良い。さらに、４つのア
ライメント光学系全てで同時に４つのアライメントマー
クを検出するようにしても良い。この場合、ＸＹステー
ジの位置を変更することなく、４つのアライメントマー
クの位置が計測でき、現出精度が向上する。
【００３０】以上の構成によれば、アライメント光学系
２〜４及び１９を投影光学系１の周囲に配し、かつこの
アライメント光学系２〜４及び１９の光軸をＸ方向と平
行な２つの辺と、Ｙ方向と平行な２つの辺とでなる矩形
の４つの頂点の位置にそれぞれ配したことにより、感光
基板５上のアライメントマークの配置の自由度を大きく
できる。
２〜４及び１９を投影光学系１の周囲に配し、かつこの
アライメント光学系２〜４及び１９の光軸をＸ方向と平
行な２つの辺と、Ｙ方向と平行な２つの辺とでなる矩形
の４つの頂点の位置にそれぞれ配したことにより、感光
基板５上のアライメントマークの配置の自由度を大きく
できる。
【００３１】また感光基板５上のアライメントマーク６
Ａ、６Ｂ、７Ａ、７Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ及び２
６Ｂを検出するとき、ＸＹステージの移動距離が小さく
て済み、構成が全体として小さくできる。
Ａ、６Ｂ、７Ａ、７Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ及び２
６Ｂを検出するとき、ＸＹステージの移動距離が小さく
て済み、構成が全体として小さくできる。
【００３２】なお上述の実施例においては、露光装置８
で液晶表示装置を製造するための感光基板５に露光する
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば
プラズマデイスプレイを製造するための感光基板や半導
体基板に露光する露光装置等、任意の露光対象に露光す
る露光装置に広く適用できる。この場合にも上述と同様
の効果を得ることができる。
で液晶表示装置を製造するための感光基板５に露光する
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば
プラズマデイスプレイを製造するための感光基板や半導
体基板に露光する露光装置等、任意の露光対象に露光す
る露光装置に広く適用できる。この場合にも上述と同様
の効果を得ることができる。
【００３３】また上述の実施例においては、アライメン
ト光学系２〜４及び１９の光軸を投影光学系１の光軸か
ら等距離に配する場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、アライメント光学系の光軸を投影光学系の光
軸から不等な距離に配し、かつこのアライメント光学系
の光軸をＸ方向と平行な２つの辺と、Ｙ方向と平行な２
つの辺とでなる矩形の４つの頂点の位置にそれぞれ配す
る場合にも適用できる。
ト光学系２〜４及び１９の光軸を投影光学系１の光軸か
ら等距離に配する場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、アライメント光学系の光軸を投影光学系の光
軸から不等な距離に配し、かつこのアライメント光学系
の光軸をＸ方向と平行な２つの辺と、Ｙ方向と平行な２
つの辺とでなる矩形の４つの頂点の位置にそれぞれ配す
る場合にも適用できる。
【００３４】
【発明の効果】上述のように、請求項１に記載の露光装
置では、４つのアライメント光学系を投影光学系の周囲
に配し、かつこのアライメント光学系の光軸を第１の方
向Ｘと平行な２つの辺と、第２の方向Ｙと平行な２つの
辺とでなる矩形の４つの頂点の位置にそれぞれ配したこ
とにより、感光基板上のアライメントマークの配置の自
由度を大きくし得る露光装置を実現できる。
置では、４つのアライメント光学系を投影光学系の周囲
に配し、かつこのアライメント光学系の光軸を第１の方
向Ｘと平行な２つの辺と、第２の方向Ｙと平行な２つの
辺とでなる矩形の４つの頂点の位置にそれぞれ配したこ
とにより、感光基板上のアライメントマークの配置の自
由度を大きくし得る露光装置を実現できる。
【００３５】請求項２に記載の露光装置では、自由に配
置されたアライメントマークを検出する際、再も近い少
なくとも２つのアライメント光学系を用いることによつ
て、感光基板を第１及び第２の方向に移動させるステー
ジの移動ストロークを一段と短くし得る。
置されたアライメントマークを検出する際、再も近い少
なくとも２つのアライメント光学系を用いることによつ
て、感光基板を第１及び第２の方向に移動させるステー
ジの移動ストロークを一段と短くし得る。
【図１】本発明による露光装置の一実施例による投影露
光装置の全体構成を示す略線図である。
光装置の全体構成を示す略線図である。
【図２】その投影露光装置の投影光学系の周囲に配され
た４つのアライメント光学系の配置を示す配置図であ
る。
た４つのアライメント光学系の配置を示す配置図であ
る。
【図３】感光基板上のアライメントマークの配置を示す
配置図である。
配置図である。
【図４】従来の投影露光装置の投影光学系の周囲に配さ
れた３つのアライメント光学系の配置を示す配置図であ
る。
れた３つのアライメント光学系の配置を示す配置図であ
る。
【図５】感光基板上のアライメントマークの配置を示す
配置図である。
配置図である。
【図６】アライメントマーク配置の他の例を示す配置図
である。
である。
１……投影光学系、２〜４、１９……アライメント光学
系、５……感光基板、６、７、２５、２６……辺、６
Ａ、６Ｂ、７Ａ、７Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ、２６
Ｂ……アライメントマーク、８……投影露光装置、９…
…光源、１０……楕円鏡、１１……コンデンサレンズ
系、１３……Ｚステージ、１４……ＸＹステージ、１５
……基準マーク集合体、１６……移動鏡、１７……レー
ザ干渉計、１８……駆動装置、２０……対物レンズ、２
１……ミラー、２２……リレーレンズ、２３……ＣＣＤ
カメラ、２４……パターンマツチング装置。
系、５……感光基板、６、７、２５、２６……辺、６
Ａ、６Ｂ、７Ａ、７Ｂ、２５Ａ、２５Ｂ、２６Ａ、２６
Ｂ……アライメントマーク、８……投影露光装置、９…
…光源、１０……楕円鏡、１１……コンデンサレンズ
系、１３……Ｚステージ、１４……ＸＹステージ、１５
……基準マーク集合体、１６……移動鏡、１７……レー
ザ干渉計、１８……駆動装置、２０……対物レンズ、２
１……ミラー、２２……リレーレンズ、２３……ＣＣＤ
カメラ、２４……パターンマツチング装置。
Claims (2)
- 【請求項１】光源からの光束を露光パターンが形成され
たレチクル上に導く照明光学系と、前記レチクルを通過
した光束を感光基板に投影する投影光学系とを有し、該
感光基板を前記投影光学系の光軸の方向と直交する第１
の方向と、該投影光学系の光軸の方向及び前記第１の方
向と直交する第２の方向と、前記投影光学系の光軸の方
向の回りとに移動してアライメントし、前記露光パター
ンを前記感光基板上に形成する露光装置において、 前記投影光学系の周囲に、前記感光基板上に設けたアラ
イメントマークを検出する４つのアライメント光学系を
具え、前記４つのアライメント光学系の光軸が、前記第
１の方向と平行な２つの辺と、前記第２の方向と平行な
２つの辺とでなる矩形の４つの頂点の位置にそれぞれ配
されていることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】前記アライメント光学系は、４つの該アラ
イメント光学系のうち、前記アライメントマークの検出
の際、前記アライメントマークに最も近い少なくとも２
つのアライメント光学系を用いることを特徴とする請求
項１に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6174773A JPH0817725A (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6174773A JPH0817725A (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0817725A true JPH0817725A (ja) | 1996-01-19 |
Family
ID=15984424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6174773A Pending JPH0817725A (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0817725A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100502802B1 (ko) * | 1996-07-31 | 2005-10-12 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치 |
| WO2018061811A1 (ja) * | 2016-09-27 | 2018-04-05 | 株式会社ニコン | 決定方法及び装置、プログラム、情報記録媒体、露光装置、レイアウト情報提供方法、レイアウト方法、マーク検出方法、露光方法、並びにデバイス製造方法 |
-
1994
- 1994-07-04 JP JP6174773A patent/JPH0817725A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100502802B1 (ko) * | 1996-07-31 | 2005-10-12 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치 |
| WO2018061811A1 (ja) * | 2016-09-27 | 2018-04-05 | 株式会社ニコン | 決定方法及び装置、プログラム、情報記録媒体、露光装置、レイアウト情報提供方法、レイアウト方法、マーク検出方法、露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| JPWO2018061811A1 (ja) * | 2016-09-27 | 2019-07-04 | 株式会社ニコン | 決定方法及び装置、プログラム、情報記録媒体、露光装置、レイアウト情報提供方法、レイアウト方法、マーク検出方法、露光方法、並びにデバイス製造方法 |
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