JPH08174985A - 水無しオフセット印刷方法 - Google Patents

水無しオフセット印刷方法

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JPH08174985A
JPH08174985A JP33657394A JP33657394A JPH08174985A JP H08174985 A JPH08174985 A JP H08174985A JP 33657394 A JP33657394 A JP 33657394A JP 33657394 A JP33657394 A JP 33657394A JP H08174985 A JPH08174985 A JP H08174985A
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ink
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Kazuhiko Mine
一彦 嶺
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Abstract

(57)【要約】 【目的】水無しオフセット印刷の利便性を利かしつつ、
人肌などの明るい部分を再現するときの濁りやがさ付き
の発生を抑え、良好な印刷再現を得る。 【構成】水無し平凹版の画線部1を画線部開口幅に対応
した深さに調整し、低濃度にしてかつ高透明化された水
無しインキを水無し平凹版によりゴム胴側に転移させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、水無しオフセット印刷
の方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術とその課題】従来、版面に水分を与えない
ようにした水無しオフセット印刷は、高濃度、ハイコン
トラスト、高生産性、易作業性などにより普及している
が、人物の肌などの再現(特に明るい部分の再現)にお
いて濁り、がさ付きが現れて、印刷物の品質を低下させ
ているという問題がある。即ち、水無しオフセット印刷
の平凹版ではインキが乳化せずに高濃度であり、また、
インキの凝集力が高くなっており、インキ膜厚が厚い
(よく盛れる)印刷再現となっている(図3(イ)参
照)。この結果、水有りオフセット印刷(図3(ロ)参
照)に比べて濁り、がさ付きが多く、人肌などの明るい
部分の再現では紺色(C)、赤色(M)、黄色(Y)の
網点重なり部の濁り(グレー)が強調され、全体的に見
ると墨濁りの点在となってがさ付いた再現となる問題が
ある。図3の(イ)は水有りオフセット印刷での紙aに
対してインキb,cが転移した状態を示し、(ロ)は水
無しオフセット印刷での紙aに対してインキb,cが転
移した状態を示している。
【0003】そこで本発明は上記事情に鑑み、水無しオ
フセット印刷の利便性を利かしつつ、人肌などの明るい
部分を再現するときの濁りやがさ付きの発生を抑えるよ
うにすることを課題し、良好な印刷再現を得ることを目
的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を考慮
してなされたもので、水無し平凹版を用いてオフセット
印刷するにあたり、前記水無し平凹版の画線部を画線部
開口幅に対応した深さに調整し、低濃度にしてかつ高透
明化された水無しインキを前記水無し平凹版によりゴム
胴側に転移させることを特徴とする水無しオフセット印
刷方法を提供して、上記課題を解消するものである。
【0005】
【作用】本発明において、低濃度にしてかつ高透明化さ
れた水無しインキを用いることにより、インキの網点重
なり部での濁りが発生しにくくなる。そして、水無し平
凹版の画線部深さが画線部開口幅に対応して調整されて
いることから、即ち、画線部の開口幅が大きい場合には
画線部深さが深くなっており、グラビア印刷のようにラ
イトからシャドウにかけて広範囲濃度で、かつ高諧調に
てオフセット印刷により印刷再現ができるようになる。
【0006】
【実施例】つぎに本発明を図1と図2に示す実施例に基
づいて詳細に説明する。本発明においては通常のオフセ
ット印刷機が用いられる。そして、版として水無し平凹
版が使用されるものであり、図1に示すようにその水無
し平凹版の画線部1を画線部開口幅に対応した深さに調
整している。即ち、画線部1の開口幅が大きい場合には
画線部1の深さが深くなり、開口幅1が小さい場合には
浅くされている。さらに使用される水無しインキは低濃
度にして、かつ高透明化されたものであり、この水無し
インキを画線部深さが調整されている水無し平凹版に供
給してから、通常のオフセット印刷の工程を経て、例え
ば巻取紙などの被印刷体に印刷再現する。
【0007】上記画線部深さが調整される水無し凹版を
製作するには、つぎの一例のようにして行う。まず、ア
ルミニウム基板2にシリコン層3(例えば厚さ3μm程
度)が積層されている原板4を用意する(図2
(イ))。その原板4の上にポジフィルム5を重ねてパ
ターンの露光を行い、シリコン層3をパターンで硬化さ
せる(図2(ロ))。パターンで硬化しているシリコン
層3に対して一次現像を行い、未硬化部分を除去する
(図2(ハ))。一次現像後に親油性物質6を塗布し、
未硬化のシリコンが除去された部分にその親油性物質6
を面一に充填する(図2(ニ))。そして二次現像を行
うことにより親油性物質6の上に画線部1を得る。二次
現像による親油性物質6の表面に対する削れ角は一定で
あり、開口幅が大きい程深い画線部が形成されるように
なる。
【0008】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、水無し
平凹版を用いてオフセット印刷するにあたり、前記水無
し平凹版の画線部を画線部開口幅に対応した深さに調整
し、低濃度にしてかつ高透明化された水無しインキを前
記水無し平凹版によりゴム胴側に転移させることを特徴
とする水無しオフセット印刷方法であり、このように、
従来の水無しインキに対して低濃度、高透明化されたイ
ンキを用いるため、インキが重なる部分でも濁りが発生
し難くなり、明るい部分でも濁り、がさ付きのない印刷
再現となる。また、画線部の深さ調整が行われているた
め、ライトからシャドーに亘り広範囲濃度で高諧調を再
現できるようになり、低コストのオフセット印刷により
コスト的に割高となるグラビア印刷並の品質を実現でき
るようになる。さらに、水無しオフセット印刷機本体に
対しては何ら変更を要するところがなく、従来から挙げ
られているオフセット印刷の利点である高濃度、ハイコ
ントラスト、高生産性、ロースキル化、印刷安定性を損
なうことなないなど、実用性に優れた効果を奏するもの
である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る水無しオフセット印刷方法におい
て用いる水無し平凹版の画線部を示すもので、(イ)は
断面で示す説明図、(ロ)は平面で示す説明図である。
【図2】水無し平凹版の製作手順を示すもので、(イ)
は原板を示す説明図、(ロ)は露光時を示す説明図、
(ハ)は一次現像を示す説明図、(ニ)は親油性物質の
充填を示す説明図、(ホ)は二次現像を示す説明図であ
る。
【図3】被印刷体に対するインキの重なりを示すもの
で、(イ)は水有り平凹版を用いた場合の状態を示す説
明図、(ロ)は水無し平凹版を用いた場合の状態を示す
説明図である。
【符号の説明】
1…画線部 2…アルミニウム基板 3…シリコン層 6…親油性物質

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】水無し平凹版を用いてオフセット印刷する
    にあたり、前記水無し平凹版の画線部を画線部開口幅に
    対応した深さに調整し、低濃度にしてかつ高透明化され
    た水無しインキを前記水無し平凹版によりゴム胴側に転
    移させることを特徴とする水無しオフセット印刷方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013194348A (ja) * 2012-03-23 2013-09-30 Japan Vilene Co Ltd 装飾繊維シート及びその製造方法

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