JP3449006B2 - 水無しオフセット印刷方法 - Google Patents
水無しオフセット印刷方法Info
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、水無しオフセット印刷
の方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術とその課題】従来、版面に水分を与えない
ようにした水無しオフセット印刷は、高濃度、ハイコン
トラスト、高生産性、易作業性などにより普及している
が、人物の肌などの再現（特に明るい部分の再現）にお
いて濁り、がさ付きが現れて、印刷物の品質を低下させ
ているという問題がある。即ち、水無しオフセット印刷
の平凹版ではインキが乳化せずに高濃度であり、また、
インキの凝集力が高くなっており、インキ膜厚が厚い
（よく盛れる）印刷再現となっている（図３（ロ）参
照）。この結果、水有りオフセット印刷（図３（イ）参
照）に比べて濁り、がさ付きが多く、人肌などの明るい
部分の再現では紺色（Ｃ）、赤色（Ｍ）、黄色（Ｙ）の
網点重なり部の濁り（グレー）が強調され、全体的に見
ると墨濁りの点在となってがさ付いた再現となる問題が
ある。図３の（イ）は水有りオフセット印刷での紙ａに
対してインキｂ，ｃが転移した状態を示し、（ロ）は水
無しオフセット印刷での紙ａに対してインキｂ，ｃが転
移した状態を示している。 【０００３】そこで本発明は上記事情に鑑み、水無しオ
フセット印刷の利便性を利かしつつ、人肌などの明るい
部分を再現するときの濁りやがさ付きの発生を抑えるよ
うにすることを課題し、良好な印刷再現を得ることを目
的とする。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を考慮
してなされたもので、水無し平凹版を用いてオフセット
印刷するにあたり、前記水無し平凹版は、原板上でパタ
ーンで硬化しているシリコン層に対する一次現像を経て
未硬化部分を除去した部分に親油性物質を面一に充填し
てから二次現像を行なって設けられて、前記二次現像に
より前記親油性物質の上に画線部開口幅に対応した深さ
に調整された画線部を形成し、低濃度にしてかつ高透明
化された水無しインキを、前記親油性物質上の画線部に
よりゴム胴側に転移させることを特徴とする水無しオフ
セット印刷方法を提供して、上記課題を解消するもので
ある。 【０００５】 【作用】本発明において、低濃度にしてかつ高透明化さ
れた水無しインキを用いることにより、インキの網点重
なり部での濁りが発生しにくくなる。そして、水無し平
凹版を、原板上でパターンで硬化しているシリコン層に
対する一次現像を経て未硬化部分を除去した部分に親油
性物質を面一に充填してから二次現像を行なって設け
て、二次現像により前記親油性物質の上に画線部開口幅
に対応した深さに調整された画線部を形成していて、こ
の画線部深さが画線部開口幅に対応して調整されている
ことから、即ち、画線部の開口幅が大きい場合には画線
部深さが深くなっており、グラビア印刷のようにライト
からシャドウにかけて広範囲濃度で、かつ高諧調にてオ
フセット印刷により印刷再現ができるようになる。 【０００６】 【実施例】つぎに本発明を図１と図２に示す実施例に基
づいて詳細に説明する。本発明においては通常のオフセ
ット印刷機が用いられる。そして、版として水無し平凹
版が使用されるものであり、図１に示すようにその水無
し平凹版の画線部１を画線部開口幅に対応した深さに調
整している。即ち、画線部１の開口幅が大きい場合には
画線部１の深さが深くなり、開口幅１が小さい場合には
浅くされている。さらに使用される水無しインキは低濃
度にして、かつ高透明化されたものであり、この水無し
インキを画線部深さが調整されている水無し平凹版に供
給してから、通常のオフセット印刷の工程を経て、例え
ば巻取紙などの被印刷体に印刷再現する。 【０００７】上記画線部深さが調整される水無し凹版を
製作するには、つぎの一例のようにして行う。まず、ア
ルミニウム基板２にシリコン層３（例えば厚さ３μｍ程
度）が積層されている原板４を用意する（図２
（イ））。その原板４の上にポジフィルム５を重ねてパ
ターンの露光を行い、シリコン層３をパターンで硬化さ
せる（図２（ロ））。パターンで硬化しているシリコン
層３に対して一次現像を行い、未硬化部分を除去する
（図２（ハ））。一次現像後に親油性物質６を塗布し、
未硬化のシリコンが除去された部分にその親油性物質６
を面一に充填する（図２（ニ））。そして二次現像を行
うことにより親油性物質６の上に画線部１を得る。二次
現像による親油性物質６の表面に対する削れ角は一定で
あり、開口幅が大きい程深い画線部が形成されるように
なる。 【０００８】 【発明の効果】以上説明したように、本発明は、水無し
平凹版を用いてオフセット印刷するにあたり、前記水無
し平凹版は、原板上でパターンで硬化しているシリコン
層に対する一次現像を経て未硬化部分を除去した部分に
親油性物質を面一に充填してから二次現像を行なって設
けられて、前記二次現像により前記親油性物質の上に画
線部開口幅に対応した深さに調整された画線部を形成
し、低濃度にしてかつ高透明化された水無しインキを、
前記親油性物質上の画線部によりゴム胴側に転移させる
ことを特徴とする水無しオフセット印刷方法であり、こ
のように、従来の水無しインキに対して低濃度、高透明
化されたインキを用いるため、インキが重なる部分でも
濁りが発生し難くなり、明るい部分でも濁り、がさ付き
のない印刷再現となる。また、画線部の深さ調整が行わ
れているため、ライトからシャドーに亘り広範囲濃度で
高諧調を再現できるようになり、低コストのオフセット
印刷によりコスト的に割高となるグラビア印刷並の品質
を実現できるようになる。さらに、水無しオフセット印
刷機本体に対しては何ら変更を要するところがなく、従
来から挙げられているオフセット印刷の利点である高濃
度、ハイコントラスト、高生産性、ロースキル化、印刷
安定性を損なうことなないなど、実用性に優れた効果を
奏するものである。
の方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術とその課題】従来、版面に水分を与えない
ようにした水無しオフセット印刷は、高濃度、ハイコン
トラスト、高生産性、易作業性などにより普及している
が、人物の肌などの再現（特に明るい部分の再現）にお
いて濁り、がさ付きが現れて、印刷物の品質を低下させ
ているという問題がある。即ち、水無しオフセット印刷
の平凹版ではインキが乳化せずに高濃度であり、また、
インキの凝集力が高くなっており、インキ膜厚が厚い
（よく盛れる）印刷再現となっている（図３（ロ）参
照）。この結果、水有りオフセット印刷（図３（イ）参
照）に比べて濁り、がさ付きが多く、人肌などの明るい
部分の再現では紺色（Ｃ）、赤色（Ｍ）、黄色（Ｙ）の
網点重なり部の濁り（グレー）が強調され、全体的に見
ると墨濁りの点在となってがさ付いた再現となる問題が
ある。図３の（イ）は水有りオフセット印刷での紙ａに
対してインキｂ，ｃが転移した状態を示し、（ロ）は水
無しオフセット印刷での紙ａに対してインキｂ，ｃが転
移した状態を示している。 【０００３】そこで本発明は上記事情に鑑み、水無しオ
フセット印刷の利便性を利かしつつ、人肌などの明るい
部分を再現するときの濁りやがさ付きの発生を抑えるよ
うにすることを課題し、良好な印刷再現を得ることを目
的とする。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を考慮
してなされたもので、水無し平凹版を用いてオフセット
印刷するにあたり、前記水無し平凹版は、原板上でパタ
ーンで硬化しているシリコン層に対する一次現像を経て
未硬化部分を除去した部分に親油性物質を面一に充填し
てから二次現像を行なって設けられて、前記二次現像に
より前記親油性物質の上に画線部開口幅に対応した深さ
に調整された画線部を形成し、低濃度にしてかつ高透明
化された水無しインキを、前記親油性物質上の画線部に
よりゴム胴側に転移させることを特徴とする水無しオフ
セット印刷方法を提供して、上記課題を解消するもので
ある。 【０００５】 【作用】本発明において、低濃度にしてかつ高透明化さ
れた水無しインキを用いることにより、インキの網点重
なり部での濁りが発生しにくくなる。そして、水無し平
凹版を、原板上でパターンで硬化しているシリコン層に
対する一次現像を経て未硬化部分を除去した部分に親油
性物質を面一に充填してから二次現像を行なって設け
て、二次現像により前記親油性物質の上に画線部開口幅
に対応した深さに調整された画線部を形成していて、こ
の画線部深さが画線部開口幅に対応して調整されている
ことから、即ち、画線部の開口幅が大きい場合には画線
部深さが深くなっており、グラビア印刷のようにライト
からシャドウにかけて広範囲濃度で、かつ高諧調にてオ
フセット印刷により印刷再現ができるようになる。 【０００６】 【実施例】つぎに本発明を図１と図２に示す実施例に基
づいて詳細に説明する。本発明においては通常のオフセ
ット印刷機が用いられる。そして、版として水無し平凹
版が使用されるものであり、図１に示すようにその水無
し平凹版の画線部１を画線部開口幅に対応した深さに調
整している。即ち、画線部１の開口幅が大きい場合には
画線部１の深さが深くなり、開口幅１が小さい場合には
浅くされている。さらに使用される水無しインキは低濃
度にして、かつ高透明化されたものであり、この水無し
インキを画線部深さが調整されている水無し平凹版に供
給してから、通常のオフセット印刷の工程を経て、例え
ば巻取紙などの被印刷体に印刷再現する。 【０００７】上記画線部深さが調整される水無し凹版を
製作するには、つぎの一例のようにして行う。まず、ア
ルミニウム基板２にシリコン層３（例えば厚さ３μｍ程
度）が積層されている原板４を用意する（図２
（イ））。その原板４の上にポジフィルム５を重ねてパ
ターンの露光を行い、シリコン層３をパターンで硬化さ
せる（図２（ロ））。パターンで硬化しているシリコン
層３に対して一次現像を行い、未硬化部分を除去する
（図２（ハ））。一次現像後に親油性物質６を塗布し、
未硬化のシリコンが除去された部分にその親油性物質６
を面一に充填する（図２（ニ））。そして二次現像を行
うことにより親油性物質６の上に画線部１を得る。二次
現像による親油性物質６の表面に対する削れ角は一定で
あり、開口幅が大きい程深い画線部が形成されるように
なる。 【０００８】 【発明の効果】以上説明したように、本発明は、水無し
平凹版を用いてオフセット印刷するにあたり、前記水無
し平凹版は、原板上でパターンで硬化しているシリコン
層に対する一次現像を経て未硬化部分を除去した部分に
親油性物質を面一に充填してから二次現像を行なって設
けられて、前記二次現像により前記親油性物質の上に画
線部開口幅に対応した深さに調整された画線部を形成
し、低濃度にしてかつ高透明化された水無しインキを、
前記親油性物質上の画線部によりゴム胴側に転移させる
ことを特徴とする水無しオフセット印刷方法であり、こ
のように、従来の水無しインキに対して低濃度、高透明
化されたインキを用いるため、インキが重なる部分でも
濁りが発生し難くなり、明るい部分でも濁り、がさ付き
のない印刷再現となる。また、画線部の深さ調整が行わ
れているため、ライトからシャドーに亘り広範囲濃度で
高諧調を再現できるようになり、低コストのオフセット
印刷によりコスト的に割高となるグラビア印刷並の品質
を実現できるようになる。さらに、水無しオフセット印
刷機本体に対しては何ら変更を要するところがなく、従
来から挙げられているオフセット印刷の利点である高濃
度、ハイコントラスト、高生産性、ロースキル化、印刷
安定性を損なうことなないなど、実用性に優れた効果を
奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る水無しオフセット印刷方法におい
て用いる水無し平凹版の画線部を示すもので、（イ）は
断面で示す説明図、（ロ）は平面で示す説明図である。 【図２】水無し平凹版の製作手順を示すもので、（イ）
は原板を示す説明図、（ロ）は露光時を示す説明図、
（ハ）は一次現像を示す説明図、（ニ）は親油性物質の
充填を示す説明図、（ホ）は二次現像を示す説明図であ
る。 【図３】被印刷体に対するインキの重なりを示すもの
で、（イ）は水有り平凹版を用いた場合の状態を示す説
明図、（ロ）は水無し平凹版を用いた場合の状態を示す
説明図である。 【符号の説明】 １…画線部 ２…アルミニウム基板 ３…シリコン層 ６…親油性物質
て用いる水無し平凹版の画線部を示すもので、（イ）は
断面で示す説明図、（ロ）は平面で示す説明図である。 【図２】水無し平凹版の製作手順を示すもので、（イ）
は原板を示す説明図、（ロ）は露光時を示す説明図、
（ハ）は一次現像を示す説明図、（ニ）は親油性物質の
充填を示す説明図、（ホ）は二次現像を示す説明図であ
る。 【図３】被印刷体に対するインキの重なりを示すもの
で、（イ）は水有り平凹版を用いた場合の状態を示す説
明図、（ロ）は水無し平凹版を用いた場合の状態を示す
説明図である。 【符号の説明】 １…画線部 ２…アルミニウム基板 ３…シリコン層 ６…親油性物質
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フロントページの続き
(56)参考文献 特開 昭56−58566（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−256854（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−34551（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−72950（ＪＰ，Ａ)
特開 昭54−106302（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−187335（ＪＰ，Ａ)
特公 昭53−40124（ＪＰ，Ｂ２)
特公 昭61−25151（ＪＰ，Ｂ２)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B41M 1/10
B41C 1/00
B41N 1/06
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】水無し平凹版を用いてオフセット印刷する
にあたり、前記水無し平凹版は、原板上でパターンで硬
化しているシリコン層に対する一次現像を経て未硬化部
分を除去した部分に親油性物質を面一に充填してから二
次現像を行なって設けられて、前記二次現像により前記
親油性物質の上に画線部開口幅に対応した深さに調整さ
れた画線部を形成し、低濃度にしてかつ高透明化された
水無しインキを、前記親油性物質上の画線部によりゴム
胴側に転移させることを特徴とする水無しオフセット印
刷方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33657394A JP3449006B2 (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 水無しオフセット印刷方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33657394A JP3449006B2 (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 水無しオフセット印刷方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08174985A JPH08174985A (ja) | 1996-07-09 |
| JP3449006B2 true JP3449006B2 (ja) | 2003-09-22 |
Family
ID=18300546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33657394A Expired - Fee Related JP3449006B2 (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 水無しオフセット印刷方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3449006B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013194348A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-09-30 | Japan Vilene Co Ltd | 装飾繊維シート及びその製造方法 |
-
1994
- 1994-12-26 JP JP33657394A patent/JP3449006B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08174985A (ja) | 1996-07-09 |
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Legal Events
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