JPH08162535A - ユーザ構成可能な回路アレーアーキテクチャ - Google Patents

ユーザ構成可能な回路アレーアーキテクチャ

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JPH08162535A
JPH08162535A JP3214573A JP21457391A JPH08162535A JP H08162535 A JPH08162535 A JP H08162535A JP 3214573 A JP3214573 A JP 3214573A JP 21457391 A JP21457391 A JP 21457391A JP H08162535 A JPH08162535 A JP H08162535A
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】機能回路モジュールの二次元アレーを含むユー
ザ構成可能な回路アーキテクャの動作速度と密度を改善
する。 【構成】第1の相互接続層の上に配置されこの層から絶
縁された第2の相互接続層は第1の方向に延びる複数の
セグメント化導体トラックを含み、機能回路モジュール
入力及び出力を相互接続する。第2の相互接続層の上に
配置されこの層から絶縁された第3の相互接続層は第2
の方向に延びる複数のセグメント化導体トラックを含
み、その一部は第2の相互接続層の導体のセグメントと
の交点を形成し、機能回路モジュール入力及び出力を相
互接続する。複数のユーザ構成可能な相互接続エレメン
トは、第2及び第3の相互接続層の間でセグメント化導
体の選択された交点又はセグメント化導体の隣接セグメ
ント間に配置されている。機能回路モジュール間に配置
されたパストランジスタは第2及び第3の相互接続層の
選択された交差セグメント間に接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はユーザ構成可能な集積回
路に係る。より詳細には、本発明は複数のユーザプログ
ラマブル相互接続エレメントを相互間に配置した複数の
相互接続層により覆われた機能回路モジュールのアレー
を含むユーザ構成可能な集積回路のためのアーキテクチ
ャに係る。
【0002】
【従来の技術】現在知られているユーザ構成可能な回路
アーキテクチャは半導体基板上に配置された複数の機能
回路モジュールを含む。機能モジュールは相互接続エレ
メントとして機能する1以上の導体チャネルと、同様に
機能回路エレメント間で基板に配置された複数のユーザ
プログラマブル相互接続エレメントの試験及びプログラ
ミング中に使用するために選択された導体を一時的に相
互に接続するように機能する複数のパストランジスタと
を含むスペースにより相互に分離される。これらの特徴
の1以上を利用する従来技術のユーザ構成可能な回路ア
ーキテクチャの例は、米国特許第4758745号及び
米国特許第4642487号に開示されているアーキテ
クチャを含む。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この従来技術に開示さ
れている型のアーキテクチャは有用であることが立証さ
れているが、ユーザ構成可能な回路アレーの速度及び密
度を更に改良する余地がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の好適態様による
と、本発明のアーキテクチャは半導体基板の内側に配置
された機能回路モジュールの二次元アレーを含む。半導
体基板の上に配置され且つ半導体基板から絶縁された第
1の相互接続層は複数の導体を含み、機能回路モジュー
ルの内側で内部接続のために使用される。第1の相互接
続層の上に配置され且つ該第1の相互接続層から絶縁さ
れた第2の相互接続層は、第1の方向に延びる複数のセ
グメント化導体トラックを含み、機能回路モジュール入
力及び出力を相互接続するために使用される。第2の相
互接続層の上に配置され且つ該第2の相互接続層から絶
縁された第3の相互接続層は、第2の方向に延びる複数
のセグメント化導体トラックを含み、該導体セグメント
のいくつかは、第2の相互接続層の導体セグメントとの
交点を形成し、この第3の相互接続層は所望のアプリケ
ーションを実行するべく機能回路モジュール入力及び出
力を相互接続するために使用される。
【0005】第2及び第3の相互接続層の間で第2及び
第3の相互接続層のセグメント化導体の選択されたセグ
メントの交点には複数のユーザ構成可能な相互接続エレ
メントが直接配置されている。第2及び第3の相互接続
層のセグメント化導体の隣接セグメント間には、別のユ
ーザ構成可能な相互接続エレメントが配置されている。
機能回路モジュール間で半導体基板に配置されたパスト
ランジスタは、第2及び第3の相互接続層の隣接セグメ
ント間で且つ第2及び第3の相互接続層の選択された交
差セグメントの間に接続されている。
【0006】本発明は、機能回路モジュールのアレーの
頂部にセグメント化されたルーチングトラックを直接配
置することにより、従来開示されているプログラマブル
相互接続アーキテクチャの機能密度を強化するものであ
る。アレーにおける機能回路モジュールの隣接モジュー
ル間の間隔は、従来技術のように専用ルーチングチャネ
ルの間隔を含む必要がない。アレーにおける機能回路モ
ジュールはより狭い間隔で配置されるので、より短い相
互接続長を使用することができ、こうしてマップトアプ
リケーションの全体の性能を改良することができる。
【0007】本発明はユーザ構成可能な相互接続アーキ
テクチャを改良し、基板の上の層に相互接続エレメント
を配置する結果として相互接続導体の長さを短くし、相
互接続エレメントの容量を減らすため、アレー寸法面積
を著しく減らすと共に速度を増加することができる。
【0008】
【実施例】まず図1について説明すると、本発明の好適
実施例に従うアレーアーキテクチャは半導体基板10の
上に製造され得、複数の機能回路モジュール12を含
む。図1のアレーは3×4マトリックスとして配置され
ているが、当業者に自明のように、この実施例は単なる
例示に過ぎず、アレー寸法は任意で、純粋に設計上の要
件により決定される。
【0009】機能回路モジュールの隣接モジュールの間
の間隔は、参照符号14で示すような複数の直列パスト
ランジスタの場所を確保するに十分であればよい。直列
パストランジスタは回路の試験及びプログラミング中に
一時的接続のために使用される。
【0010】当業者に自明のように、機能回路モジュー
ル12について示した矩形境界線は多少任意であり、機
能回路モジュールにより占められる実際の面積は機能回
路モジュールのエレメントの拡散面積要件により決定さ
れる。この点で、隣接機能回路モジュール間の領域にお
ける直列パストランジスタの配置は、可能であれば機能
回路モジュールのコンポーネント間の利用可能な基板ス
ペースにこれらのトランジスタを配置することを除外し
ないものと当業者により理解されるべきである。実際に
本発明の好適実施例によると、相互接続層の1つに関連
する直列パストランジスタは機能回路モジュールの回路
エレメント間に配置され得る。
【0011】図1のアレーの一部を示す図2について説
明すると、第1の相互接続層は機能回路モジュール12
a及び12bを含む基板の表面の上に配置され、複数の
導電部材16を含む。第1の相互接続層が従来の半導体
処理技術により基板10の表面の上に形成され且つ該表
面から絶縁された従来の金属化層又は他の相互接続層で
あり得ることは当業者に理解されよう。本発明の好適実
施例によると、第1の相互接続層の導体16の個々の導
体は従来のデポジション、エッチング及びコンタクト形
成技術を使用することにより機能回路モジュールの1つ
の内側で回路エレメントを相互に結合するために固定又
は専用相互接続エレメントとして使用される。第1の相
互接続層の具体的なパターンは、併用される特定の回路
に完全に依存する。図2に示す実施例では、導体16は
モジュールの2つの内部ノードを相互に結合するため、
即ちANDゲート18の出力をフリップフロップ20の
トグル入力に、フリップフロップ20の出力を出力バッ
ファ22の入力に結合するために機能回路モジュール1
2aで使用される。
【0012】特定の設計で使用される機能回路モジュー
ルの種類に依存して、第1の相互接続層は機能回路モジ
ュール間の所定の相互接続にも使用され得る。図2に示
す実施例では、機能回路モジュールは論理機能を実施す
るための回路を含み、第1の機能回路モジュール12a
と第2の機能回路モジュール12bとの間に相互接続が
形成され得る。こうして機能回路モジュール12aから
の選択された内部ノードを機能回路モジュール12bの
入力マルチプレクサ26の1つの入力に接続するために
導体24が使用される。マルチプレクサ26の他の入力
は機能回路モジュール12bへの正規入力ライン28の
1つである。マルチプレクサ26の制御入力は下記に詳
述する相互接続導体の上部層に配置された導体30に接
続されている。ユーザ構成可能なエレメント32及び3
4は導体30と、導体30を含む層とは異なる相互接続
導体の上部層に配置された導体36及び38との間に接
続される。ユーザ構成可能なエレメント32又は34の
プログラミングは、マルチプレクサ26が入力28を選
択するのか又は導体24からくる機能回路モジュール1
2aのフリップフロップ20の出力の内部ノードを選択
するのかを選択する。このように機能回路モジュール1
2a及び12bを相互に直接接続するように選択するこ
とにより、機能回路モジュール12aの出力バッファ2
2に固有の遅延を除去することができ、導体24を通っ
てより短い通路を使用して接続を形成し、こうして機能
回路モジュール12a及び12bから構成される回路は
より高速で機能することができる。
【0013】図1に戻ると、既知の多層相互接続技術に
より相互に絶縁された第2及び第3の相互接続層は第1
の相互接続層(図示せず)の上に配置され該第1の相互
接続層から絶縁されている。これらの層は複数の導体を
含み得る。第2及び第3の相互接続層は従来の半導体処
理技術により第1の相互接続層の上に形成され、該第1
の相互接続層から絶縁され且つ相互に絶縁された従来の
金属化又は他の相互接続層であり得る。
【0014】第2の相互接続層は第1の方向(図3の横
方向)に延びる複数の導体トラック40,42,44,4
6,48,50,52,54,56,58,60及び62を含
む。図1に示すように、これらのトラックはセグメント
に区分されている。使用されるセグメントの数、長さ及
び分布は好ましくは、参考資料として本願の一部に加え
る本願出願人名義の1990年6月22日付け米国特許
出願”Segmented Routing Arch
itecture”の開示に従う。図1は導体間に分配
されたセグメントの組み合わせの例を略示するが、当業
者に自明のようにこれは単なる例示に過ぎず、他のセグ
メント長の分布を使用することもできる。こうしてトラ
ック40はセグメント64及び66を含み、トラック4
2はセグメント68,70及び72を含み、トラック4
4はセグメント74及び76を含み、トラック46はセ
グメント78,80及び82を含み、トラック48はセ
グメント84及び86を含み、トラック50はセグメン
ト88及び90を含み、トラック52はセグメント92
及び94を含み、トラック54はセグメント96及び9
8を含み、トラック56はセグメント100及び102
を含み、トラック58はセグメント104及び106を
含み、トラック60はセグメント108及び110を含
み、トラック62はセグメント112,114及び11
6を含む。
【0015】第3の相互接続層は更に、第2の方向(図
3の縦方向)に延び且つ同様にセグメントに区分された
複数の導体トラック120,124,126,128,13
0,132,136,138及び140を含む。第3の相
互接続層で使用されるセグメントの数、長さ及び分布は
好ましくは、1990年6月22日付け米国特許出願”
Segmented Routing Archite
cture”の開示に従う。図1に示す実施例による
と、トラック120はセグメント142及び144を含
み、トラック124はセグメント146,148,150
及び152を含み、トラック126はセグメント15
4,156及び158を含み、トラック128はセグメ
ント160及び162を含み、トラック130はセグメ
ント164,166及び168を含み、トラック132
はセグメント170及び172を含み、トラック136
はセグメント174,176,178及び180を含み、
トラック138はセグメント182,184及び186
を含み、トラック140はセグメント188及び190
を含む。
【0016】第2及び第3の相互接続層のトラックを構
成する個々のセグメントは、基板に配置された直列パス
トランジスタによりその端部において相互に結合され
る。セグメント142及び144は直列パストランジス
タ200により結合されている。セグメント146及び
148は直列パストランジスタ202により結合されて
いる。セグメント148及び150は直列パストランジ
スタ204により結合されている。セグメント150及
び152は直列パストランジスタ206により結合され
ている。セグメント1564及び156は直列パストラ
ンジスタ208により結合されている。セグメント15
6及び158は直列パストランジスタ210により結合
されている。セグメント160及び162は直列パスト
ランジスタ212により結合されている。セグメント1
64及び166は直列パストランジスタ214により結
合されている。セグメント166及び168は直列パス
トランジスタ216により結合されている。セグメント
170及び172は直列パストランジスタ218により
結合されている。セグメント174及び176は直列パ
ストランジスタ220により結合されている。セグメン
ト176及び178は直列パストランジスタ222によ
り結合されている。セグメント178及び180は直列
パストランジスタ224により結合されている。セグメ
ント182及び184は直列パストランジスタ226に
より結合されている。セグメント184及び186は直
列パストランジスタ228により結合されている。セグ
メント188及び190は直列パストランジスタ230
により結合されている。セグメント64及び66は直列
パストランジスタ232により結合されている。セグメ
ント68及び70は直列パストランジスタ234により
結合されている。セグメント70及び72は直列パスト
ランジスタ236により結合されている。セグメント7
4及び76は直列パストランジスタ238により結合さ
れている。セグメント78及び80は直列パストランジ
スタ240により結合されている。セグメント80及び
82は直列パストランジスタ242により結合されてい
る。セグメント84及び86は直列パストランジスタ2
44により結合されている。セグメント88及び90は
直列パストランジスタ246により結合されている。セ
グメント92及び94は直列パストランジスタ248に
より結合されている。セグメント96及び98は直列パ
ストランジスタ250により結合されている。セグメン
ト100及び102は直列パストランジスタ252によ
り結合されている。セグメント104及び106は直列
パストランジスタ254により結合されている。セグメ
ント108及び110は直列パストランジスタ256に
より結合されている。セグメント112及び114は直
列パストランジスタ258により結合されている。セグ
メント114及び116は直列パストランジスタ260
により結合されている。
【0017】第2及び第3の相互接続層の横及び縦トラ
ックを構成するセグメントはユーザ構成可能な相互接続
エレメントにより相互に結合される。本発明の好適実施
例によると、これらのユーザ構成可能な相互接続エレメ
ントは、参考資料として本願に加える本願出願人名義の
1990年4月12日付け米国特許出願第508306
号”Improved Electrically p
rogrammable Antifuse Elem
ent”に開示及び請求されているようなアンチヒュー
ズであり得る。第2及び第3の相互接続層の間の絶縁層
に配置され得る他のユーザ構成可能なエレメントも本発
明で使用するのに適切であり得ることは当業者に理解さ
れよう。単一トラックの全隣接セグメント間にこのよう
なエレメントを配置すべきか否かの決定は設計の選択の
問題であり、具体的用途に強く依存する。図1に示す実
施例によると、ユーザ構成可能な相互接続エレメント2
62,264,266,268,270,272,274,2
76,278,280,282,284及び286は夫々直
列パストランジスタ234,236,238,208,24
0,244,200,222,248,250,210,21
8及び254の分路である。
【0018】本発明の好適実施例によると、ユーザ構成
可能なエレメントは同様に第2及び第3の相互接続層の
セグメント間の交差点に形成された交点に配置される。
図例のユーザ構成可能な相互接続エレメント290,2
92,294,296,298,300,302,304,3
06及び308は夫々交差セグメント対64−146,
64−154,68−146,68−154,74−14
2,74−154,78−148,84−156,84−1
32及び90−166を接続している。これらのユーザ
構成可能なエレメントを備える交差セグメントの数は同
様に設計の選択の問題であり、アーキテクチャの具体的
用途に強く依存する。
【0019】当業者に既知の従来のコンタクト技術によ
り直列パストランジスタを介して種々の相互接続層の間
で接続が形成される。種々の金属層はユーザ構成可能な
相互接続エレメントの電極として機能する。図3aは、
第2の相互接続層の隣接導体セグメントを相互に接続す
るための、ユーザ構成可能な相互接続エレメントと関連
する直列パストランジスタとの配置を示す。半導体基板
310において、拡散領域314及び316は夫々ゲー
トエレメント318を有する直列パストランジスタのソ
ース及びドレーンを形成する。コンタクト320及び3
22はソース及びドレーン領域314及び316を第1
の層金属導体324及び326に接続する。コンタクト
328は第1の層金属セグメント324を第2の層金属
セグメント332に接続する。コンタクト330は第1
の層金属セグメント326を第2の層金属セグメント3
34に接続する。ユーザ構成可能な相互接続エレメント
336は第3の金属層のコンタクト338及び導体34
0を介して第2の層金属セグメント332及び334を
相互に接続するために使用される。種々の相互接続層で
コンタクト及び導体を含むこの方法を使用することによ
り、ユーザ構成可能な相互接続エレメント及び直列パス
トランジスタは相互接続層の導体で相互接続され得る。
【0020】図3bは第2及び第3の相互接続層の交差
導体間のユーザ構成可能な相互接続エレメントの接続を
示す。2つの直列パストランジスタ350及び352は
基板362の夫々拡散ソース及びドレーン領域354,
356,358及び360から形成される。拡散領域3
54及び356の上でそれらの間にはトランジスタ35
0のゲート364が配置されている。拡散領域358及
び360の上でそれらの間にはトランジスタ352のゲ
ート366が配置されている。コンタクト368は拡散
領域356を第1の相互接続層の第1の部分370に接
続する。コンタクト372は拡散領域358を第1の相
互接続層の第2の部分374に接続する。コンタクト3
76は第1の相互接続層の部分370を第2の相互接続
層の第1の部分378に接続する。同様に、コンタクト
380は第1の相互接続層の第2の部分374を第2の
相互接続層の第2の部分382に接続する。ユーザ構成
可能なエレメント384は、第2の相互接続層の第2の
部分382と、第2の相互接続層の第2の部分382に
交差する第3の相互接続層の第1の部分386との間に
配置される。コンタクト388はコンタクト368及び
376、並びに第1及び第2の相互接続層導体368の
上記部分370及び378を介して、第3の相互接続層
の第1の部分386を直列パストランジスタ350に接
続する。図3bに非限定的示す拡散領域354及び36
0が相互接続エレメント384をプログラムするために
使用すべきプログラミング電圧を供給する回路ノードに
接続されることは当業者に理解されよう。
【0021】図1に戻ると、行又は列により並ぶ全直列
パストランジスタのゲートは共通してゲート駆動ライン
に接続されている。従って、ゲートライン380は直列
パストランジスタ232,234,240,246,24
8,252,256及び258のゲートを制御し、ゲート
ライン382は直列パストランジスタ236,238,2
42,244,250,254及び260のゲートを制御
し、ゲートライン384は直列パストランジスタ20
2,208,214,220及び226のゲートを制御
し、ゲートライン386は直列パストランジスタ20
0,204,212,222及び230のゲートを制御
し、ゲートライン388は直列パストランジスタ20
6,210,216,218,224及び228のゲートを
制御する。直列パストランジスタの動作を制御するため
の回路は好ましくは機能回路のアレーの周囲の外側に配
置され、参考資料として本願の一部に加える本願出願人
名義の米国特許第4758745号に開示されている。
この特許は更に、本発明のユーザ構成可能な回路エレメ
ントをプログラミングするために使用される方法も開示
している。
【0022】以上、本発明の好適実施例について説明し
たが、当業者は以上の開示及び図面から本発明の変形例
を想到できよう。これらの変形例は特許請求の範囲のみ
に限定される本発明の範囲に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の好適実施例に従う機能的回路モジュー
ルの構成と、本発明の好適実施例に従う2つのユーザ構
成可能な相互接続層の特徴とを示す、本発明の好適実施
例に従うアーキテクチャの概略図である。
【図2】本発明の好適実施例に従う専用相互接続層の一
部を更に含む図1の機能回路モジュールの構成の一部を
示す本発明の好適実施例に従うアーキテクチャの概略図
である。
【図3】第1の相互接続層、第2の相互接続層、第3の
相互接続層、直列パストランジスタ及びユーザ構成可能
な相互接続エレメントの間の相互接続を示す説明図であ
る。
【符号の説明】
10 半導体基板 12 機能回路モジュール 14 直列パストランジスタ 16,24 導体 20 フリップフロップ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成3年11月1日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図3a】
【図3b】 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年11月17日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
フロントページの続き (72)発明者 アバス・エイ・エル・ガマル アメリカ合衆国、カリフオルニア・94301、 パロ・アルト、リンカーン・アベニユー・ 852 (72)発明者 ジヨナサン・ダブリユ・グリーン アメリカ合衆国、カリフオルニア・94301、 パロ・アルト、ピツトマン・アベニユー・ 1481

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板の内側に配置された機能回路
    モジュールの二次元アレーと、半導体基板の上に配置さ
    れ且つ該基板から絶縁され、複数の導体を含む第1の相
    互接続層と、該第1の相互接続層の上に配置され且つ該
    第1の相互接続層から絶縁され、第1の方向に延びる複
    数のセグメント化導体トラックを含む第2の相互接続層
    と、第2の相互接続層の上に配置され且つ該相互接続層
    から絶縁されており、第2の方向に延びる複数のセグメ
    ント化導体トラックを含み、該導体セグメントのいくつ
    かが該第2の相互接続層の導体セグメントとの交点を形
    成する第3の相互接続層と、第2及び第3の相互接続層
    の間で第2及び第3の相互接続層のセグメント化導体の
    うちの選択されたセグメントの交点に直接配置された複
    数のユーザ構成可能な相互接続エレメントと、該第2及
    び第3の相互接続層のセグメント化導体の隣接セグメン
    トの間に配置された複数のユーザ構成可能な相互接続エ
    レメントと、機能回路モジュール間で該半導体基板に配
    置され、該第2及び第3の相互接続層の隣接セグメント
    間に接続された直列パストランジスタとを含むユーザ構
    成可能な回路アレーアーキテクチャ。
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Families Citing this family (101)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5477165A (en) * 1986-09-19 1995-12-19 Actel Corporation Programmable logic module and architecture for field programmable gate array device
US5367208A (en) 1986-09-19 1994-11-22 Actel Corporation Reconfigurable programmable interconnect architecture
US5451887A (en) * 1986-09-19 1995-09-19 Actel Corporation Programmable logic module and architecture for field programmable gate array device
US5198705A (en) * 1990-05-11 1993-03-30 Actel Corporation Logic module with configurable combinational and sequential blocks
JP3027990B2 (ja) * 1991-03-18 2000-04-04 富士通株式会社 半導体装置の製造方法
US5322812A (en) 1991-03-20 1994-06-21 Crosspoint Solutions, Inc. Improved method of fabricating antifuses in an integrated circuit device and resulting structure
US5208491A (en) * 1992-01-07 1993-05-04 Washington Research Foundation Field programmable gate array
US5412261A (en) * 1992-04-14 1995-05-02 Aptix Corporation Two-stage programmable interconnect architecture
US5304871A (en) * 1992-07-24 1994-04-19 Actel Corporation Programmable interconnect architecture employing leaky programmable elements
IL106513A (en) * 1992-07-31 1997-03-18 Hughes Aircraft Co Integrated circuit security system and method with implanted interconnections
US5317698A (en) * 1992-08-18 1994-05-31 Actel Corporation FPGA architecture including direct logic function circuit to I/O interconnections
US5341043A (en) * 1992-09-30 1994-08-23 Actel Corporation Series linear antifuse array
US5400376A (en) * 1993-04-02 1995-03-21 Simmonds Precision Products, Inc. Ultrasonic fuel gauging system using state machine control
JP3144967B2 (ja) * 1993-11-08 2001-03-12 株式会社日立製作所 半導体集積回路およびその製造方法
EP0667679B1 (en) * 1994-01-06 1997-06-25 Texas Instruments Incorporated Improvements in or relating to routing architectures
IL109491A (en) * 1994-05-01 1999-11-30 Quick Tech Ltd Customizable logic array device
US5689195A (en) * 1995-05-17 1997-11-18 Altera Corporation Programmable logic array integrated circuit devices
US5424655A (en) * 1994-05-20 1995-06-13 Quicklogic Corporation Programmable application specific integrated circuit employing antifuses and methods therefor
US5590069A (en) * 1994-10-17 1996-12-31 Qualcomm Incorporated Method and apparatus for providing ROM in an integrated circuit having update through single substance layer modification capability
US5495181A (en) * 1994-12-01 1996-02-27 Quicklogic Corporation Integrated circuit facilitating simultaneous programming of multiple antifuses
US5552720A (en) * 1994-12-01 1996-09-03 Quicklogic Corporation Method for simultaneous programming of multiple antifuses
US5963049A (en) 1995-05-17 1999-10-05 Altera Corporation Programmable logic array integrated circuit architectures
US5909126A (en) * 1995-05-17 1999-06-01 Altera Corporation Programmable logic array integrated circuit devices with interleaved logic array blocks
US5625301A (en) * 1995-05-18 1997-04-29 Actel Corporation Flexible FPGA input/output architecture
US5783846A (en) * 1995-09-22 1998-07-21 Hughes Electronics Corporation Digital circuit with transistor geometry and channel stops providing camouflage against reverse engineering
US5744980A (en) * 1996-02-16 1998-04-28 Actel Corporation Flexible, high-performance static RAM architecture for field-programmable gate arrays
US5835998A (en) * 1996-04-04 1998-11-10 Altera Corporation Logic cell for programmable logic devices
US5625631A (en) * 1996-04-26 1997-04-29 International Business Machines Corporation Pass through mode for multi-chip-module die
US5952847A (en) * 1996-06-25 1999-09-14 Actel Corporation Multiple logic family compatible output driver
US5880597A (en) * 1996-09-18 1999-03-09 Altera Corporation Interleaved interconnect for programmable logic array devices
US5858817A (en) * 1996-10-10 1999-01-12 Lockheed Martin Corporation Process to personalize master slice wafers and fabricate high density VLSI components with a single masking step
US5999016A (en) * 1996-10-10 1999-12-07 Altera Corporation Architectures for programmable logic devices
US6300794B1 (en) * 1996-10-10 2001-10-09 Altera Corporation Programmable logic device with hierarchical interconnection resources
US5977793A (en) * 1996-10-10 1999-11-02 Altera Corporation Programmable logic device with hierarchical interconnection resources
US6127844A (en) 1997-02-20 2000-10-03 Altera Corporation PCI-compatible programmable logic devices
US7148722B1 (en) 1997-02-20 2006-12-12 Altera Corporation PCI-compatible programmable logic devices
US5999015A (en) * 1997-02-20 1999-12-07 Altera Corporation Logic region resources for programmable logic devices
US5982195A (en) * 1997-02-20 1999-11-09 Altera Corporation Programmable logic device architectures
US6184710B1 (en) 1997-03-20 2001-02-06 Altera Corporation Programmable logic array devices with enhanced interconnectivity between adjacent logic regions
US5973375A (en) * 1997-06-06 1999-10-26 Hughes Electronics Corporation Camouflaged circuit structure with step implants
DE19726881A1 (de) 1997-06-24 1999-01-07 Siemens Ag Halbleiterschaltungsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung
US6091090A (en) * 1997-09-19 2000-07-18 In-Chip Systems, Inc. Power and signal routing technique for gate array design
US6084427A (en) * 1998-05-19 2000-07-04 Altera Corporation Programmable logic devices with enhanced multiplexing capabilities
US6121790A (en) 1997-10-16 2000-09-19 Altera Corporation Programmable logic device with enhanced multiplexing capabilities in interconnect resources
US6107824A (en) 1997-10-16 2000-08-22 Altera Corporation Circuitry and methods for internal interconnection of programmable logic devices
US6107825A (en) * 1997-10-16 2000-08-22 Altera Corporation Input/output circuitry for programmable logic devices
US5981987A (en) 1997-12-02 1999-11-09 Nurlogic Design, Inc. Power ground metallization routing in a semiconductor device
US6169416B1 (en) 1998-09-01 2001-01-02 Quicklogic Corporation Programming architecture for field programmable gate array
US6215326B1 (en) 1998-11-18 2001-04-10 Altera Corporation Programmable logic device architecture with super-regions having logic regions and a memory region
US6507216B1 (en) 1998-11-18 2003-01-14 Altera Corporation Efficient arrangement of interconnection resources on programmable logic devices
US6407576B1 (en) * 1999-03-04 2002-06-18 Altera Corporation Interconnection and input/output resources for programmable logic integrated circuit devices
US6245634B1 (en) 1999-10-28 2001-06-12 Easic Corporation Method for design and manufacture of semiconductors
US6236229B1 (en) 1999-05-13 2001-05-22 Easic Corporation Integrated circuits which employ look up tables to provide highly efficient logic cells and logic functionalities
DE60016902D1 (de) * 1999-03-11 2005-01-27 Easic Corp San Jose Technologie fuer integrierte schaltungen
US6331733B1 (en) 1999-08-10 2001-12-18 Easic Corporation Semiconductor device
US6194912B1 (en) 1999-03-11 2001-02-27 Easic Corporation Integrated circuit device
US6236232B1 (en) * 1999-10-15 2001-05-22 Agilent Technologies, Inc. Multi-purpose transistor array
US6774671B2 (en) 1999-10-15 2004-08-10 Agilent Technologies, Inc. Multi-purpose transistor array
US6396368B1 (en) 1999-11-10 2002-05-28 Hrl Laboratories, Llc CMOS-compatible MEM switches and method of making
US6756811B2 (en) * 2000-03-10 2004-06-29 Easic Corporation Customizable and programmable cell array
US6331790B1 (en) 2000-03-10 2001-12-18 Easic Corporation Customizable and programmable cell array
US6462977B2 (en) 2000-08-17 2002-10-08 David Earl Butz Data storage device having virtual columns and addressing layers
US7283381B2 (en) 2000-08-17 2007-10-16 David Earl Butz System and methods for addressing a matrix incorporating virtual columns and addressing layers
US7217977B2 (en) * 2004-04-19 2007-05-15 Hrl Laboratories, Llc Covert transformation of transistor properties as a circuit protection method
US6815816B1 (en) 2000-10-25 2004-11-09 Hrl Laboratories, Llc Implanted hidden interconnections in a semiconductor device for preventing reverse engineering
US6791191B2 (en) 2001-01-24 2004-09-14 Hrl Laboratories, Llc Integrated circuits protected against reverse engineering and method for fabricating the same using vias without metal terminations
US7294935B2 (en) * 2001-01-24 2007-11-13 Hrl Laboratories, Llc Integrated circuits protected against reverse engineering and method for fabricating the same using an apparent metal contact line terminating on field oxide
US6774413B2 (en) * 2001-06-15 2004-08-10 Hrl Laboratories, Llc Integrated circuit structure with programmable connector/isolator
US6740942B2 (en) 2001-06-15 2004-05-25 Hrl Laboratories, Llc. Permanently on transistor implemented using a double polysilicon layer CMOS process with buried contact
US6777977B1 (en) 2002-05-01 2004-08-17 Actel Corporation Three input field programmable gate array logic circuit configurable as a three input look up table, a D-latch or a D flip-flop
US6774667B1 (en) 2002-05-09 2004-08-10 Actel Corporation Method and apparatus for a flexible chargepump scheme for field-programmable gate arrays
US6897535B2 (en) * 2002-05-14 2005-05-24 Hrl Laboratories, Llc Integrated circuit with reverse engineering protection
US6891394B1 (en) 2002-06-04 2005-05-10 Actel Corporation Field-programmable gate array low voltage differential signaling driver utilizing two complimentary output buffers
US7378867B1 (en) 2002-06-04 2008-05-27 Actel Corporation Field-programmable gate array low voltage differential signaling driver utilizing two complimentary output buffers
US7434080B1 (en) * 2002-09-03 2008-10-07 Actel Corporation Apparatus for interfacing and testing a phase locked loop in a field programmable gate array
US7049667B2 (en) 2002-09-27 2006-05-23 Hrl Laboratories, Llc Conductive channel pseudo block process and circuit to inhibit reverse engineering
US6750674B1 (en) 2002-10-02 2004-06-15 Actel Corporation Carry chain for use between logic modules in a field programmable gate array
US6885218B1 (en) 2002-10-08 2005-04-26 Actel Corporation Parallel programmable antifuse field programmable gate array device (FPGA) and a method for programming and testing an antifuse FPGA
US7269814B1 (en) 2002-10-08 2007-09-11 Actel Corporation Parallel programmable antifuse field programmable gate array device (FPGA) and a method for programming and testing an antifuse FPGA
US6727726B1 (en) 2002-11-12 2004-04-27 Actel Corporation Field programmable gate array architecture including a buffer module and a method of distributing buffer modules in a field programmable gate array
US6979606B2 (en) * 2002-11-22 2005-12-27 Hrl Laboratories, Llc Use of silicon block process step to camouflage a false transistor
AU2003293540A1 (en) * 2002-12-13 2004-07-09 Raytheon Company Integrated circuit modification using well implants
US6946871B1 (en) 2002-12-18 2005-09-20 Actel Corporation Multi-level routing architecture in a field programmable gate array having transmitters and receivers
US7385420B1 (en) 2002-12-27 2008-06-10 Actel Corporation Repeatable block producing a non-uniform routing architecture in a field programmable gate array having segmented tracks
US6891396B1 (en) 2002-12-27 2005-05-10 Actel Corporation Repeatable block producing a non-uniform routing architecture in a field programmable gate array having segmented tracks
US7375553B1 (en) 2003-05-28 2008-05-20 Actel Corporation Clock tree network in a field programmable gate array
US6838902B1 (en) * 2003-05-28 2005-01-04 Actel Corporation Synchronous first-in/first-out block memory for a field programmable gate array
US6825690B1 (en) 2003-05-28 2004-11-30 Actel Corporation Clock tree network in a field programmable gate array
US7385419B1 (en) 2003-05-30 2008-06-10 Actel Corporation Dedicated input/output first in/first out module for a field programmable gate array
US6867615B1 (en) 2003-05-30 2005-03-15 Actel Corporation Dedicated input/output first in/first out module for a field programmable gate array
US7170315B2 (en) * 2003-07-31 2007-01-30 Actel Corporation Programmable system on a chip
US7521960B2 (en) * 2003-07-31 2009-04-21 Actel Corporation Integrated circuit including programmable logic and external-device chip-enable override control
US7138824B1 (en) 2004-05-10 2006-11-21 Actel Corporation Integrated multi-function analog circuit including voltage, current, and temperature monitor and gate-driver circuit blocks
US7242063B1 (en) 2004-06-29 2007-07-10 Hrl Laboratories, Llc Symmetric non-intrusive and covert technique to render a transistor permanently non-operable
JP2006114668A (ja) * 2004-10-14 2006-04-27 Sony Corp 半導体集積回路およびその製造方法
US7116181B2 (en) * 2004-12-21 2006-10-03 Actel Corporation Voltage- and temperature-compensated RC oscillator circuit
US7119398B1 (en) * 2004-12-22 2006-10-10 Actel Corporation Power-up and power-down circuit for system-on-a-chip integrated circuit
US7446378B2 (en) * 2004-12-29 2008-11-04 Actel Corporation ESD protection structure for I/O pad subject to both positive and negative voltages
US7919979B1 (en) * 2005-01-21 2011-04-05 Actel Corporation Field programmable gate array including a non-volatile user memory and method for programming
US8168487B2 (en) 2006-09-28 2012-05-01 Hrl Laboratories, Llc Programmable connection and isolation of active regions in an integrated circuit using ambiguous features to confuse a reverse engineer
US11671099B2 (en) 2021-05-21 2023-06-06 Microchip Technology Inc. Logic cell for programmable gate array

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52104882A (en) * 1976-02-28 1977-09-02 Fujitsu Ltd Manufacture of semiconductor device
JPS61112347A (ja) * 1984-11-07 1986-05-30 Toshiba Corp 自己増殖型半導体装置
JPS63278250A (ja) * 1987-05-11 1988-11-15 Toshiba Corp 半導体装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60144956A (ja) * 1984-01-06 1985-07-31 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法
US4642487A (en) * 1984-09-26 1987-02-10 Xilinx, Inc. Special interconnect for configurable logic array
US4963768A (en) * 1985-03-29 1990-10-16 Advanced Micro Devices, Inc. Flexible, programmable cell array interconnected by a programmable switch matrix
KR880700464A (ko) * 1985-07-29 1988-03-15 마이클 와이.엡스타인 집적 회로에 대한 세 레벨 상호 연결 기법
DE3611557A1 (de) * 1986-04-07 1987-10-29 Nixdorf Computer Ag In integrierter technik hergestellter logik-array-baustein zur erstellung integrierter schaltungen
US4758745B1 (en) * 1986-09-19 1994-11-15 Actel Corp User programmable integrated circuit interconnect architecture and test method
US4786904A (en) * 1986-12-15 1988-11-22 Zoran Corporation Electronically programmable gate array having programmable interconnect lines
JP2692099B2 (ja) * 1988-01-14 1997-12-17 日本電気株式会社 マスタースライス方式の集積回路
US4933576A (en) * 1988-05-13 1990-06-12 Fujitsu Limited Gate array device having macro cells for forming master and slave cells of master-slave flip-flop circuit

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52104882A (en) * 1976-02-28 1977-09-02 Fujitsu Ltd Manufacture of semiconductor device
JPS61112347A (ja) * 1984-11-07 1986-05-30 Toshiba Corp 自己増殖型半導体装置
JPS63278250A (ja) * 1987-05-11 1988-11-15 Toshiba Corp 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0469728B1 (en) 2002-04-10
ATE216131T1 (de) 2002-04-15
DE69132984T2 (de) 2003-01-23
ES2174821T3 (es) 2002-11-16
US5132571A (en) 1992-07-21
JP2761310B2 (ja) 1998-06-04
EP0469728A1 (en) 1992-02-05
DE69132984D1 (de) 2002-05-16

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