JPH08157887A - 水系洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】窒素原子数が１〜５であって、分子量が５０〜
３００の範囲であるアミン系化合物の炭酸塩を含有して
なる水系洗浄剤組成物。 【効果】本発明の水系洗浄剤組成物を用いることによ
り、精密部品又はその組立加工工程に使用される治工具
類に含まれる、腐食され易い材質の金属類、合金類及び
メッキ部品等を腐食することなく、それらの固体表面に
存在する油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロジ
ン系フラックス等の汚れを除去することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は水系洗浄剤組成物に関す
る。更に詳しくは、アルミニウム、ニッケル、銅、亜
鉛、錫等の金属類、真鍮、黄銅、半田等の合金類、及び
メッキ部品等の腐食され易い材質を含む精密部品又はそ
の組立加工工程に使用される治工具類の固体表面に存在
する油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系
フラックス等の汚れの除去性に優れ、かつ上記金属類、
合金類及びメッキ部品等を腐食しない水系洗浄剤組成物
に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
精密部品、治工具類の固体表面に存在する油脂等の有機
物を主体とする汚れの除去には、エチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール等のアルコール系溶剤；ケロシ
ン、ベンゼン、キシレン等の炭化水素系溶剤；トリクロ
ロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤；ト
リクロロトリフルオロエタン等のフロン系溶剤等の溶剤
系洗浄剤が使用されている。特に電子、電気、機械等の
部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生かして塩
素系溶剤又はフロン系溶剤が使用されている。

【０００３】しかしながら、アルコール系溶剤は安全性
に問題があり、また、炭化水素系溶剤、特にベンゼン、
キシレン等は毒性が強く、労働安全衛生上の有害物に指
定されている化合物であって、これを取り扱う作業の危
険性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用いること
は好ましくない。一方、塩素系及びフロン系の溶剤を用
いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問
題を有していることが明らかにされ、国際レベルでその
廃止が進められている。

【０００４】近年、精密部品、治工具類の固体表面に存
在する油脂等の有機物を主体とする汚れの除去にも改良
された水系の洗浄剤あるいは水でリンス可能な洗浄剤の
使用が検討されている。これらの洗浄剤は、洗浄剤に使
用する界面活性剤やビルダー等を適宜選択配合すること
により溶剤系洗浄剤と同等以上の洗浄性を有すること、
あるいは火災や爆発の危険性が低い等、種々の利点を有
する。最近では、洗浄剤残存時の精密部品、治工具類の
発錆性や電気特性等を考慮して、ナトリウムやカリウム
等のアルカリ金属やカルシウム等のアルカリ土類金属等
の無機系のアルカリを使用せず、有機系のアルカリ、す
なわちアミン系化合物を配合し、特に、動植物油やエス
テル系油及びワックス、ロジン系フラックス及びワック
ス、並びに極性の強い非水溶性高分子物質等の難洗浄性
汚染物質の洗浄性が改良された洗浄剤が提案されてい
る。

【０００５】例えば、特開昭５９−１３４８９１号公報
にはアルコールエーテル系溶剤と水溶性アミン又は／及
びアミドを用いることが、特公平５−１８４０号公報に
は特定のアルキルアミンと高沸点溶剤類、界面活性剤を
用いることが、特開平５−１２５３９５号公報にはグリ
コール系溶剤、アミン類及び／又は界面活性剤、必要に
応じて水を用いることが、特開平５−２９５３９２号公
報にはグリコール類又はグリコール類と一級又は二級ア
ミン類を用いることが示されている。

【０００６】しかし、これらの技術において用いられる
アミン系化合物の洗浄剤中の添加量は非常に多いため、
洗浄剤自体のｐＨが高くなって、アルミニウム、ニッケ
ル、銅、亜鉛、錫等の金属類、真鍮、黄銅、半田等の合
金類、及びメッキ部品等を腐食してしまう。

【０００７】又、特開平４−５７８９７号公報には、ア
ルコール、脂肪酸及びアルキルアミンのポリオキシアル
キレン付加物と窒素原子数が１〜５、分子量が５０〜３
００のアミン化合物と界面活性剤を使用することが、特
開平４−５７８９８号公報には、アルコール、脂肪酸及
びアルキルアミンのポリオキシアルキレン付加物と水と
界面活性剤と窒素原子数が１〜５、分子量が５０〜３０
０のアミン化合物とを使用し、洗浄剤のｐＨを６．５〜
１１に調整して用いることが、特開平４−８８０９８号
公報には炭素数１〜３の飽和１価アルコールとＨＬＢ５
〜８のポリオキシエチレンアルキルエーテル型非イオン
界面活性剤と特定のアミンを使用することが、特開平６
−７３５７６号公報には、高級アルコール系のポリオキ
シフェニルエーテルと有機アミン系のモノエタノールア
ミン又はトリエタノールアミンから成り、洗浄剤のｐＨ
を６〜９に調整した混合液を使用することが示されてい
る。

【０００８】しかし、これらの技術において用いられる
アミン系化合物は、部材への影響を低減するために、洗
浄剤中の添加量を制限したり、洗浄剤のｐＨを制限して
使用されているため、特に上記難洗浄性汚染物質の洗浄
性が不足する。

【０００９】一方、特開平４−１１０３９９号公報に
は、テトラヒドロフルフリルアルコール又はそのアルキ
レンオキシド付加物と非イオン系界面活性剤とアミン系
化合物を用いることが、特開平４−１２２８００号公報
には、グリコール類又はグリコールエーテル類と非イオ
ン系界面活性剤と特定のアミン系化合物を用いること
が、又、特開平４−１４２３９９号公報には、アルコー
ル類と非イオン系界面活性剤と特定のアミン系化合物を
用いることが、特開平５−２５４９４号公報には、シク
ロヘキシルアミンのエチレンオキシド１〜６モル付加物
を必須成分として用いることが、特開平５−４３８９５
号公報には、炭素数６〜２２の脂肪族アルコールのアル
キレンオキシド付加物とシクロヘキサン環を有するアミ
ン化合物を使用することが示されている。

【００１０】しかし、これらの技術において用いられる
アミン系化合物は、末端の活性水素がエチレンオキシド
で付加されており、アルカリとしての活性が低下してい
る。そのため、特に上記難洗浄性汚染物質の洗浄性が不
足する。

【００１１】このように、これまでのアミン系化合物を
含む洗浄剤を用いて、精密部品、治工具類等を洗浄する
場合、特に、アルミニウム、ニッケル、銅、亜鉛、錫等
の金属類、真鍮、黄銅、半田等の合金類、及びイオン化
傾向の異なる金属でメッキされた部品等が腐食された
り、又、上記難洗浄性汚染物質の洗浄性が不足するとい
う不都合があった。

【００１２】尚、アルカリ金属を含有するアルカリ洗浄
剤においても、銅、亜鉛、錫等の腐食を防止する洗浄剤
として、例えば、特開平５−４３８９７号公報には、非
イオン性界面活性剤又は陰イオン性界面活性剤とアルカ
リ金属のケイ酸塩、水酸化物、炭酸塩又は炭酸水素塩と
アクリル酸、メタクリル酸又はそれらの塩とメタクリル
スルホン酸、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸を構
成単位とし、かつ重量平均が１，０００〜１０，０００
である共重合体を用いることが示されている。しかし、
洗浄剤残存時の電子部品の電気特性劣化や精密部品、治
工具類の発錆性、高分子物質含有によるリンス性不良な
どの問題がある。

【００１３】本発明の目的は、このようにこれまでに解
決されたことのない課題を解決することにある。即ち、
従来の通常の水系洗浄剤の持つ欠点を改良し、アルミニ
ウム、ニッケル、銅、亜鉛、錫等の金属類、真鍮、黄
銅、半田等の合金類、及びメッキ部品等の腐食され易い
材質を含む精密部品又はその組立加工工程に使用される
治工具類の固体表面に存在する油脂、機械油、切削油、
グリース、液晶、ロジン系フラックス等の汚れの除去性
に優れ、かつアルミニウム、ニッケル、銅、亜鉛、錫等
の金属類、真鍮、黄銅、半田等の合金類、及びメッキ部
品等を腐食しない水系洗浄剤組成物を提供することにあ
る。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決すべく鋭意研究を行った結果、アルミニウム、
ニッケル、銅、亜鉛、錫等の金属類、真鍮、黄銅、半田
等の合金類、及びメッキ部品等の腐食され易い材質を含
む精密部品又はその組立加工工程に使用される治工具類
等を水系洗浄材で洗浄する際に、特定のアミン系化合物
の炭酸塩を含有する組成物を洗浄剤として使用すること
により、精密部品又はその組立加工工程に使用される治
工具類の固体表面に存在する油脂、機械油、切削油、グ
リース、液晶、ロジン系フラックス等の汚れの除去性に
優れ、かつアルミニウム、ニッケル、銅、亜鉛、錫等の
金属類、真鍮、黄銅、半田等の合金類、及びメッキ部品
等の腐食を防止できることを見いだし、本発明を完成す
るに至った。

【００１５】即ち、本発明の要旨は、（１） 窒素原子
数が１〜５であって、分子量が５０〜３００の範囲であ
るアミン系化合物の炭酸塩を含有してなる水系洗浄剤組
成物、（２） 次の一般式（１）、（２）及び（３）

【００１６】

【化２】

【００１７】（式中、Ｒ¹ は炭素数１〜８の炭化水素基
を、Ｒ² 及びＲ³ はそれぞれ炭素数２〜４のアルキレン
基を示す。Ｘは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基
又はアシル基を示す。ｍは１〜７、ｎは０〜７、ｐは０
〜５、ｑは０〜５の整数を示す。）で表される化合物か
らなる群より選ばれる１種以上のアルキレンオキサイド
化合物をさらに含有してなる前記（１）記載の水系洗浄
剤組成物、（３） １種類以上の界面活性剤をさらに含
有してなる前記（１）又は（２）記載の水系洗浄剤組成
物、（４） 炭素数１０〜１８の炭化水素をさらに含有
してなる前記（１）〜（３）いずれか記載の水系洗浄剤
組成物、（５） 精密部品、又は治工具類用の洗浄に使
用される前記（１）〜（４）いずれか記載の水系洗浄剤
組成物、に関する。以下、本発明について説明する。

【００１８】本発明の水系洗浄剤組成物で用いられる成
分のうち、アミン系化合物の炭酸塩としては、窒素原子
数が１〜５であって、分子量が５０〜３００の範囲のア
ミン系化合物の炭酸塩が用いられる。ここで、得られる
洗浄剤組成物の臭気の点、及びすすぎ性の点から、窒素
原子数が１又は２であって分子量が１００〜２５０の範
囲のアミン系化合物の炭酸塩がより好ましい。

【００１９】かかるアミン系化合物の具体例としては、
次のような物質が挙げられる。 （ａ）モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、メチ
ルモノエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミ
ン、メチルジエタノールアミン、ブチルモノエタノール
アミン、ジブチルモノエタノールアミン、トリメチルア
ミノプロピルエタノールアミン、トリメチルヒドロキシ
エチルジエチレントリアミン等のアルカノールアミン
類。 （ｂ）モルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−エチル
モルホリン、２，６−ジメチルモルホリン、４−（２−
ヒドロキシエチル）モルホリン、４−アミノモルホリ
ン、４−（２−アミノエチル）モルホリン、４−（３−
アミノプロピル）モルホリン等のモルホリン類。

【００２０】（ｃ）４−アミノメチルピリジン、アミノ
メチルピペラジン、ビスアミノプロピルピペラジン、ト
リメチルアミノエチルピペラジン、２−アミノメチルピ
ペリジン、４−アミノメチルピペリジン、２−メチルピ
ラジン、キノキサリン、メチルイミダゾール等の複素環
式アミン類。 （ｄ）ジアミノプロパン、ジアミノヘキサン、ジアミノ
オクタン、ジアミノドデカン、ジアミノジフェニルメタ
ン、ジアミノジフェニルエタン、４，４−メチレンビス
シクロヘキシルアミン、１，３−ジアミノキシレン、
１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、トリエ
チレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、テト
ラメチルプロピレンジアミン、テトラメチルヘキサメチ
レンジアミン、メチルジアミノプロパン、ジメチルジア
ミノプロパン、ジブチルジアミノプロパン、ステアリル
プロピレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−１，３−ジ
アミノプロパン、１，２−ジアミノアントラキノン、ペ
ンタメチルジエチレントリアミン等のジアミン類。

【００２１】（ｅ）ジエチレントリアミン、トリエチレ
ンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等のポリアミ
ン類。 （ｆ）シクロヘキシルアミン、アニリン、ベンジルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、ジベンジルアミン、トリ
ベンジルアミン等の環式アミン類。

【００２２】（ｇ）プロピルアミン、ブチルアミン、ア
ミルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチ
ルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルア
ミン、ラウリルアミン、トリデシルアミン、ミリスチル
アミン、ペンタデシルアミン、セチルアミン、ヘプタデ
シルアミン、ステアリルアミン、ノナデシルアミン、エ
イコシルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジ
オクチルアミン、メチルヘキシルアミン、トリブチルア
ミン、トリオクチルアミン、ジメチルオクチルアミン、
ジメチルラウリルアミン、ジメチルステアリルアミン等
の炭素数１〜２２の直鎖アルキル基を有する直鎖アルキ
ルアミン類。

【００２３】（ｈ）ｓ−ブチルアミン、イソブチルアミ
ン、ｔ−ブチルアミン、１−メチルブチルアミン、１−
エチルプロピルアミン、２−メチルブチルアミン、イソ
アミルアミン、ジメチルプロピルアミン、ｔ−アミルア
ミン、１，３−ジメチルブチルアミン、３，３−ジメチ
ルブチルアミン、２−アミノヘプタン、３−アミノヘプ
タン、１−メチルヘプチルアミン、２−エチルヘキシル
アミン、１，５−ジメチルヘキシルアミン、ｔ−オクチ
ルアミン、ｔ−トリデシルアミン、ｔ−ナノデシルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン
等の炭素数１〜２２の分岐鎖アルキル基を有する分岐鎖
アルキルアミン類等が挙げられる。

【００２４】上記の化合物のうち、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチ
ルモノエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミ
ン、メチルジエタノールアミン、ブチルモノエタノール
アミン、トリメチルアミノプロピルエタノールアミン、
トリメチルヒドロキシエチルジエチレントリアミン；

【００２５】モルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−
エチルモルホリン、２，６−ジメチルモルホリン、４−
（２−ヒドロキシエチル）モルホリン、４−アミノモル
ホリン、４−（２−アミノエチル）モルホリン、４−
（３−アミノプロピル）モルホリン、４−アミノメチル
ピリジン、ビスアミノプロピルピペラジン、２−アミノ
メチルピペリジン、４−アミノメチルピペリジン；

【００２６】ジアミノプロパン、ジアミノヘキサン、ジ
アミノオクタン、ジアミノドデカン、１，３−ジアミノ
キシレン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサ
ン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチルプロ
ピレンジアミン、メチルジアミノプロパン、ジメチルジ
アミノプロパン、ジブチルジアミノプロパン、ステアリ
ルプロピレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−１，３−
ジアミノプロパン、ペンタメチルジエチレントリアミ
ン；ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、
テトラエチレンペンタミン；

【００２７】シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、
ジシクロヘキシルアミン；プロピルアミン、ブチルアミ
ン、アミルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、
オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデ
シルアミン、ラウリルアミン、トリデシルアミン、ミリ
スチルアミン、ペンタデシルアミン、セチルアミン、ヘ
プタデシルアミン、ステアリルアミン、ノナデシルアミ
ン、エイコシルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミ
ン、ジオクチルアミン、メチルヘキシルアミン；

【００２８】ｓ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔ
−ブチルアミン、１−メチルブチルアミン、１−エチル
プロピルアミン、２−メチルブチルアミン、イソアミル
アミン、ジメチルプロピルアミン、ｔ−アミルアミン、
１，３−ジメチルブチルアミン、３，３−ジメチルブチ
ルアミン、２−アミノヘプタン、３−アミノヘプタン、
１−メチルヘプチルアミン、２−エチルヘキシルアミ
ン、１，５−ジメチルヘキシルアミン、ｔ−オクチルア
ミン、ｔ−トリデシルアミン、ｔ−ナノデシルアミン、
ジイソブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンが性
能と入手のし易さの観点から好ましく用いることができ
る。

【００２９】本発明の水系洗浄剤組成物で用いられるア
ミン系化合物の炭酸塩は、上記のアミン系化合物を炭酸
で中和されることによって、洗浄剤中に多く配合した時
の洗浄剤のｐＨの上昇を抑え、アルミニウム、ニッケ
ル、銅、亜鉛、錫等の金属類、真鍮、黄銅、半田等の合
金類、及びメッキ部品等の腐食を防止することができ
る。

【００３０】このアミン系化合物の炭酸塩は、通常用い
られる公知の方法により得ることができるが、例えば、
上記のアミン系化合物の水、及び／又は溶剤等の溶液中
に炭酸ガスを吹き込むことによって得られる。この際の
中和の程度は、経時的に溶液のｐＨを測定し、値が一定
になった時点をもって終点とする。但し、このアミン系
化合物の炭酸塩が配合された洗浄剤自体のｐＨを１０以
下に抑えることが、金属類の腐食防止の点からは好まし
い。

【００３１】これらのアミン系化合物の炭酸塩の配合量
は特に限定されるものではないが、洗浄性の効果の点及
びその持続性の点から、洗浄剤組成物中に０．０５〜７
０重量％、特に０．１〜５０重量％配合するのが好まし
い。

【００３２】本発明の水系洗浄剤組成物には、更に前記
一般式（１）、（２）及び（３）で表されるアルキレン
オキサイド化合物を併用することにより、洗浄性を向上
させることができる。

【００３３】一般式（１）、（２）及び（３）中、Ｒ¹
は炭素数１〜８の炭化水素基であることが必要である
が、水に対する溶解性の点から炭素数２〜６の炭化水素
基であることが好ましい。Ｒ¹ が炭化水素基でなかった
場合、フラックスや鉱油等の有機系汚れとの親和性が低
下する。又、ｍは１〜７、ｎは０〜７、ｐは０〜５、ｑ
は０〜５の整数であることが必要である。又、ｍ＋ｎは
１〜１４の範囲であり、ｐ＋ｑは０〜１０の範囲となる
が、水に対する溶解性の点、有機系の汚れに対する洗浄
性の点からｍ＋ｎが２〜４の範囲であり、ｐ＋ｑが０〜
４の範囲のものが好ましい。

【００３４】かかるアルキレンオキサイド化合物の具体
例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、
ブタノール、イソブタノール、ヘキサノール、オクタノ
ール等の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有するアルコー
ル類；フェノール、クレゾール等のフェノール類；シク
ロヘキサノール等の脂環族のアルコール類；酢酸、プロ
ピオン酸、ヘキサン酸、イソオクチル酸等の直鎖又は分
岐鎖のアルキル基を有する脂肪酸；メタクリル酸、安息
香酸等の有機カルボン酸；エチルアミン、ジエチルアミ
ン、ヘキシルアミン、ジブチルアミン、オクチルアミ
ン、ベンジルアミン、シクロヘキシルアミン等の直鎖、
分岐鎖、芳香族又は脂環族の炭化水素基を有するアミン
系化合物などにアルキレン（エチレン、プロピレン、ブ
チレン）オキサイドを単独又は配合付加させたものが挙
げられ、更に、これらのアルキレンオキサイド付加物の
末端水酸基をアルキルクロライド等によりメチル化、エ
チル化又はブチル化したり、酢酸やプロピオン酸等でエ
ステル化した化合物が挙げられる。上記アルキレンオキ
サイド化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上
を併用してもよい。

【００３５】具体的には、以下に示す化合物が挙げられ
る。エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ペンタエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、ヘキサエチレングリコールモノメチルエー
テル、ヘプタエチレングリコールモノメチルエーテル
（上記の化合物をそれぞれ（ＰＯＥ）₁ モノメチルエー
テル、（ＰＯＥ）₂ モノメチルエーテル、（ＰＯＥ）₃
モノメチルエーテル、（ＰＯＥ）₄ モノメチルエーテ
ル、（ＰＯＥ）₅ モノメチルエーテル、（ＰＯＥ）₆ モ
ノメチルエーテル、（ＰＯＥ）₇ モノメチルエーテル、
と略記する場合がある。また、これらの化合物をまとめ
て（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノメチルエーテルと略記する場合
がある。なお、同様の化合物等はそれに対応した表現で
上記と同様に略記する場合がある。）、

【００３６】（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノエチルエーテル、
（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノプロピルエーテル、（ＰＯＥ）₁
〜₇ モノブチルエーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノイソブ
チルエーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノアリルエーテル、
（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノヘキシルエーテル、（ＰＯＥ）₁
〜₇ モノ２−エチルヘキシルエーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜
₇モノオクチルエーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノフェニ
ルエーテル、（ＰＯＥ）₁〜₇ モノベンジルエーテル等
のエチレングリコールモノエーテル類。

【００３７】（ＰＯＥ）₁ 〜₄ ジメチルエーテル、（Ｐ
ＯＥ）₁ 〜₄ ジエチルエーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜₄ ジプ
ロピルエーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜₄ ジブチルエーテル、
（ＰＯＥ）₁ 〜₄ ジアリルエーテル、（ＰＯＥ）₆ 〜₇
ジメチルエーテル、（ＰＯＥ）₆ 〜₇ ジエチルエーテ
ル、（ＰＯＥ）₆ 〜₇ ジプロピルエーテル、（ＰＯＥ）
₆ 〜₇ ジブチルエーテル、（ＰＯＥ）₆ 〜₇ ジアリルエ
ーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、
ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレ
ングリコール２−エチルヘキシルメチルエーテル等のエ
チレングリコールジエーテル類。

【００３８】（ＰＯＰ）₁ 〜₇ モノメチルエーテル、
（（ＰＯＰ）₁ 〜₇ モノエチルエーテル、（ＰＯＰ）₁
〜₇ モノプロピルエーテル、（ＰＯＰ）₁ 〜₇ モノブチ
ルエーテル、（ＰＯＰ）₁ 〜₇ モノアリルエーテル、
（ＰＯＰ）₁ 〜₇ モノヘキシルエーテル、（ＰＯＰ）₁
〜₇ モノ２−エチルヘキシルエーテル、（ＰＯＰ）₁ 〜
₇モノオクチルエーテル、（ＰＯＰ）₁ 〜₇ モノフェニ
ルエーテル、（ＰＯＰ）₁〜₇ モノベンジルエーテル等
のプロピレングリコールモノエーテル類。なお、（ＰＯ
Ｐ）とは、エチレンをプロピレンとする以外は、（ＰＯ
Ｅ）と同様の略号である。

【００３９】（ＰＯＰ）₁ 〜₇ ジメチルエーテル、（Ｐ
ＯＰ）₁ 〜₇ ジエチルエーテル、（ＰＯＰ）₁ 〜₇ ジプ
ロピルエーテル、（ＰＯＰ）₁ 〜₇ ジブチルエーテル、
（ＰＯＰ）₁ 〜₇ ジアリルエーテル、ジプロピレングリ
コールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリ
コールイソプロピルエチルエーテル等のプロピレングリ
コールジエーテル類。

【００４０】（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノメチルエーテルアセ
テート、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノエチルエーテルアセテー
ト、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノプロピルエーテルアセテー
ト、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノブチルエーテルアセテート、
（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノアリルエーテルアセテート、（Ｐ
ＯＥ）₁ 〜₇ モノヘキシルエーテルアセテート、（ＰＯ
Ｅ）₁ 〜₇ モノオクチルエーテルアセテート、（ＰＯ
Ｅ）₁ 〜₇ モノフェニルエーテルアセテート、（ＰＯ
Ｅ）₁ 〜₇ モノベンジルエーテルアセテート等のエチレ
ングリコールモノエーテルアセテート類。

【００４１】（ＰＯＰ）₁ 〜₇ モノメチルエーテルアセ
テート、（ＰＯＰ）₁ 〜₇ モノエチルエーテルアセテー
ト、（ＰＯＰ）₁ 〜₇ モノプロピルエーテルアセテー
ト、（ＰＯＰ）₁ 〜₇ モノブチルエーテルアセテート、
（ＰＯＰ）₁ 〜₇ モノアリルエーテルアセテート、（Ｐ
ＯＰ）₁ 〜₇ モノヘキシルエーテルアセテート、（ＰＯ
Ｐ）₁ 〜₇ モノオクチルエーテルアセテート、（ＰＯ
Ｐ）₁ 〜₇ モノフェニルエーテルアセテート、（ＰＯ
Ｐ）₁ 〜₇ モノベンジルエーテルアセテート等のプロピ
レングリコールモノエーテルアセテート類。

【００４２】プロピレングリコールジアセテート等のモ
ノプロピレングリコールジアセテート類。上記の炭化水
素基の原料である直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有する
アルコール類、脂環式のアルコール類にエチレンオキサ
イドとプロピレンオキサイドをブロック及びランダムに
付加させた化合物、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ （ＰＯＰ）₁ 〜₇
モノエーテル類；（ＰＯＥ）₁ 〜₇ （ＰＯＰ）₁ 〜₇ ジ
エーテル類。

【００４３】上記の炭化水素基の原料である直鎖又は分
岐鎖のアルキル基を有するアルコール類、脂環式のアル
コール類の代わりに酢酸、プロピオン酸、ヘキサン酸、
イソオクチル酸等の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有す
る脂肪酸、メタクリル酸、安息香酸等の有機カルボン酸
を用いた化合物。例えば、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノメチル
エステル、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ モノエチルエステル、メタ
クリル酸の（ＰＯＥ） ₁ 〜₇ 付加物、安息香酸の（ＰＯ
Ｅ）₁ 〜₇ 付加物等のグリコールモノエステル類；（Ｐ
ＯＥ）₁ 〜₇ ジメチルエステル、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ ジエ
チルエステル等のグリコールジエステル類。

【００４４】上記の炭化水素基の原料である直鎖又は分
岐鎖のアルキル基を有するアルコール類、脂環式のアル
コール類の代わりにエチルアミン、ジエチルアミン、ヘ
キシルアミン、ジブチルアミン、オクチルアミン、ベン
ジルアミン、シクロヘキシルアミン等の直鎖、分岐鎖、
芳香族又は脂環式の炭化水素基を有するアミン類等を用
いた化合物。例えば、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ エチルアミン、
（ＰＯＥ）₁ 〜₇ ジエチルアミン、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ ヘ
キシルアミン、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ ジブチルアミン、（Ｐ
ＯＥ）₁ 〜₇ オクチルアミン、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ ベンジ
ルアミン、（ＰＯＥ）₁ 〜₇ シクロヘキシルアミン等の
グリコールモノアミン類等が挙げられる。

【００４５】上記の化合物のうち、以下に列挙するもの
が性能と入手のし易さの点から好ましく用いられる。
（ＰＯＥ）₁ 〜₅ モノメチルエーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜
₅ モノエチルエーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜₅ モノプロピル
エーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜₅ モノブチルエーテル、（Ｐ
ＯＥ）₁ 〜₂ モノイソブチルエーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜
₂ モノアリルエーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜₂ モノヘキシル
エーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜₂ モノ２−エチルヘキシルエ
ーテル、（ＰＯＥ）₁ 〜₅ モノフェニルエーテル、（Ｐ
ＯＥ）₁〜₅ モノベンジルエーテル；

【００４６】エチレングリコールジメチルエーテル、エ
チレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコー
ルジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエ
ーテル；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプ
ロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエ
チレングリコール２−エチルヘキシルメチルエーテル；
トリエチレングリコールジメチルエーテル；テトラエチ
レングリコールジメチルエーテル；

【００４７】（ＰＯＰ）₁ 〜₃ モノメチルエーテル、
（ＰＯＰ）₁ 〜₃ モノエチルエーテル、（ＰＯＰ）₁ 〜
₃ モノプロピルエーテル、（ＰＯＰ）₁ 〜₃ モノブチル
エーテル、（ＰＯＰ）₁ 〜₃ モノフェニルエーテル、
（ＰＯＰ）₁ 〜₃ モノベンジルエーテル；プロピレング
リコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエ
チルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールジブチルエーテル；ジプロピ
レングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジプロ
ピルエーテル、ジプロピレングリコールイソプロピルメ
チルエーテル、ジプロピレングリコールイソプロピルエ
チルエーテル；トリプロピレングリコールジメチルエー
テル；

【００４８】エチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート；ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールジアセテート。

【００４９】これらのアルキレンオキサイド化合物は、
例えば炭素数１〜８の炭化水素基を有するアルコール、
フェノール、脂肪酸、有機カルボン酸、アミン系化合物
に苛性ソーダ等の触媒の存在下、加熱しながら炭素数２
〜４のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイド、プ
ロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等）を液状又
は気体状で加えて反応させることにより得られる。ま
た、更にこれらのアルキレンオキサイド付加物の末端水
酸基を、アルキルクロライド等を用いてアルキル化した
ものや、有機酸等を用いてエステル化したものを用いる
ことができる。

【００５０】アルキレンオキサイドを付加させる場合に
は、２種以上のアルキレンオキサイドを混合して反応さ
せるランダム付加重合又はアルキレンオキサイドを順次
付加させるブロック付加重合を行ってもよい。

【００５１】これらのアルキレンオキサイド化合物は、
洗浄剤組成物中に５〜９５重量％、特に１０〜７０重量
％配合するのが好ましい。配合量がこの範囲未満ではア
ルキレンオキサイド化合物を加えたことによる洗浄性及
びその持続性の効果を充分に発揮できない傾向がある。
また、この範囲を超えて配合すると引火性の危険が出て
くる。

【００５２】本発明の水系洗浄剤組成物は更に界面活性
剤を配合することにより、更に洗浄力が増大する。この
界面活性剤としては、アニオン性活性剤、カチオン性活
性剤、非イオン性活性剤、両イオン性活性剤のいずれも
使用することができる。

【００５３】より具体的には、脂肪酸塩類、高級アルコ
ール硫酸エステル塩類、液体脂肪油硫酸エステル塩類、
脂肪族アミン及び脂肪族アマイドの硫酸塩類、脂肪アル
コールリン酸エステル塩類、二塩基性脂肪酸エステルの
スルホン酸塩類、脂肪酸アミドスルホン酸塩類、アルキ
ルアリルスルホン酸塩類、ホルマリン縮合のナフタリン
スルホン酸塩類等のアニオン性活性剤；脂肪族アミン塩
類、第４級アンモニウム塩類、アルキルピリジニウム塩
類等のカチオン性活性剤；ポリオキシアルキレンアルキ
ルエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキルフェノー
ルエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキルアミン
類、ポリオキシアルキレンアルキルエステル類、ソルビ
タンアルキルエステル類、ポリオキシソルビタンアルキ
ルエステル類等の非イオン性活性剤；又はアルキルベタ
イン、アルキルジメチルアミンオキサイド、アルキルア
ラニン等の両イオン性活性剤等が主だった物として挙げ
られる。なお、ここでポリオキシアルキレンとはエチレ
ンオキサイド、プロピレンオキサイド又はブチレンオキ
サイドの重合体を示す。これらの界面活性剤の中でも、
特に平均ＨＬＢ４〜１８の非イオン性活性剤が優れた効
果を発現する。

【００５４】具体的には、（ＰＯＥ）₁ 〜₄₀オクチルエ
ーテル、１量体〜４０量体のエチレンオキサイドと炭素
数が１２〜１４の合成アルコールのエーテル（（ＰＯ
Ｅ）₁〜₄₀Ｃ₁₂〜₁₄合成アルコールエーテルと略記す
る。）、（ＰＯＥ）₁ 〜₄₇ラウリルエーテル、（ＰＯ
Ｅ）₂ 〜₂₀セチルエーテル、（ＰＯＥ）₂ 〜₃₀ステアリ
ルエーテル、（ＰＯＥ）₂ 〜₃₅オレイルエーテル、（Ｐ
ＯＥ）₂ 〜₄₀オクチルフェニルエーテル、（ＰＯＥ）₂
〜₄₅ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンア
ルキルエーテル類；

【００５５】ソルビタンモノラウリルエステル、ソルビ
タンモノパルミチルエステル、ソルビタンモノステアリ
ルエステル、ソルビタンモノオレイルエステル等のソル
ビタンモノアルキルエステル類；（ＰＯＥ）₁ 〜₂₅ソル
ビタンモノラウリルエステル、（ＰＯＥ）₁ 〜₂₅ソルビ
タンモノパルミチルエステル、（ＰＯＥ）₁ 〜₃₀ソルビ
タンモノステアリルエステル、（ＰＯＥ）₁ 〜₃₀ソルビ
タンモノオレイルエステル等のポリオキシエチレンソル
ビタンモノアルキルエステル類；（ＰＯＥ）₁₀〜₄₀ソル
ビタントリステアリルエステル、（ＰＯＥ）₁₀〜₄₀ソル
ビタントリオレイルエステル等のポリオキシエチレンソ
ルビタントリアルキルエステル類等が挙げられる。

【００５６】上記の化合物のうち、（ＰＯＥ）₅ 〜₉ Ｃ
₁₂〜₁₄合成アルコールエーテル、（ＰＯＥ）₄ 〜₁₀ラウ
リルエーテル、（ＰＯＥ）₅ 〜₈ セチルエーテル、（Ｐ
ＯＥ）₁₀〜₁₅ステアリルエーテル、（ＰＯＥ）₅ 〜₁₅オ
レイルエーテル、（ＰＯＥ）₆ 〜₁₀オクチルフェニルエ
ーテル、（ＰＯＥ）₅ 〜₁₃ノニルフェニルエーテル、ソ
ルビタンモノラウリルエステル、ソルビタンモノパルミ
チルエステル、ソルビタンモノステアリルエステル、ソ
ルビタンモノオレイルエステル、（ＰＯＥ）₅〜₂₀ソル
ビタンモノラウリルエステル、（ＰＯＥ）₅ 〜₂₀ソルビ
タンモノパルミチルエステル、（ＰＯＥ）₅ 〜₂₀ソルビ
タンモノステアリルエステル、（ＰＯＥ）₅ 〜₂₀ソルビ
タンモノオレイルエステル、（ＰＯＥ）₁₅〜₃₀ソルビタ
ントリステアリルエステル、（ＰＯＥ）₁₅〜₃₀ソルビタ
ントリオレイルエステルが有機系の汚れに対する洗浄
性、及びリンス性の点から好ましく用いられる。

【００５７】これらの界面活性剤の配合量は特に限定さ
れるものではないが、界面活性剤添加の効果を得る点か
ら本発明の水系洗浄剤組成物中に０．５〜３５重量％、
特に３〜３０重量％配合するのが好ましい。

【００５８】本発明の水系洗浄剤組成物は更に炭化水素
を配合することにより、特に極性の小さい汚れに対する
洗浄力が増大する。

【００５９】かかる炭化水素としては、炭素数１０〜１
８のものであればいずれでもよく、例えばデカン、ドデ
カン、テトラデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、デ
セン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オクタ
デセン等の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水
素；ノニルベンゼン、ドデシルベンゼン等のアルキルベ
ンゼン；メチルナフタレン、ジメチルナフタレン等のナ
フタレン化合物；シクロデカン、シクロドデセン等のシ
クロ系化合物などが挙げられる。これらのうち、炭素数
１２〜１８の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水
素が好ましく、特に洗浄性、ハンドリング等を考慮する
と、オレフィン系炭化水素が好ましい。

【００６０】これらの炭化水素は、低（非）極性汚れに
対する洗浄性の点から本発明の水系洗浄剤組成物中に５
〜８０重量％、特に２０〜７０重量％配合するのが好ま
しい。

【００６１】また、本発明の洗浄剤組成物には、安全性
及び作業性等の観点から、適宜水を含有させることがで
きる。水は、洗浄剤組成物中に５〜３０％配合するのが
好ましい。

【００６２】本発明の洗浄剤組成物には、その効果を損
なわない範囲で、必要に応じて、通常洗浄剤に用いられ
る他のヒドロキシエチルアミノ酢酸、ヒドロキシエチル
イミノ２酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸等のアミノ
カルボン酸塩等の有機系又は無機系のキレート力を持つ
化合物、防腐剤、防錆剤、シリコン等の消泡剤、アミン
系やフェノール系の酸化防止剤、ヤシ脂肪酸メチルや酢
酸ベンジル等のエステル、アミン系添加剤あるいはアル
コール類等を適宜併用することができる。

【００６３】本発明の洗浄剤組成物は、前記成分及び任
意成分等を常法により混合することにより製造すること
ができる。

【００６４】本発明の洗浄剤組成物を用いて金属イオン
からなる修飾酸化物を含むガラスとこれを使用した電
機、電子、光学、精密工業用向けの電子部品及び精密部
品を洗浄するには、例えば、本発明の洗浄剤組成物を用
いて浸漬法、超音波洗浄法、浸漬揺動法、スプレー法、
手拭き法等の各種の洗浄方法が採用でき、最後に溶剤又
は温水でリンスする等の方法を連続的に行う方法等が、
効率の良い洗浄方法として挙げられ、かつ好ましい結果
を得ることができる。

【００６５】

【実施例】以下に本発明を製造例、製造比較例、実施例
及び比較例をもって詳細に説明するが、本発明はこれら
の実施例等に制限されるものではない。 製造例１ ５００ｍｌのガラス製の四口フラスコに、ジエタノール
アミン（試薬、東京化成工業（株）製）５０．０ｇ
（０．４８モル）と水５０．０ｇを入れ、３０℃にて攪
拌しながら、ボンベより２００ｍｌ／分の流量で二酸化
炭素（ガス）を吹き込んだ。３．５時間後、溶液のｐＨ
が８．３で一定になったところで、中和終了とした。こ
のものから、ロータリーエバポレーターにて溶媒を減圧
留去し、６１．１ｇのジエタノールアミンの炭酸塩を得
た。

【００６６】製造例２ ５００ｍｌのガラス製の四口フラスコに、トリエタノー
ルアミン（試薬、東京化成工業（株）製）５０．０ｇ
（０．３４モル）と水２５．０ｇ、エタノール２５．０
ｇを入れ、３０℃にて攪拌しながら、ボンベより２００
ｍｌ／分の流量で二酸化炭素（ガス）を吹き込んだ。
４．５時間後、溶液のｐＨが８．３で一定になったとこ
ろで、中和終了とした。このものから、ロータリーエバ
ポレーターにて溶媒を減圧留去し、５４．１ｇのトリエ
タノールアミンの炭酸塩を得た。

【００６７】製造例３ ５００ｍｌのガラス製の四口フラスコに、Ｎ−メチルジ
エタノールアミン（試薬、東京化成工業（株）製）５
０．０ｇ（０．４２モル）と水５０．０ｇを入れ、３０
℃にて攪拌しながら、ボンベより２００ｍｌ／分の流量
で二酸化炭素（ガス）を吹き込んだ。４．５時間後、溶
液のｐＨが８．９で一定になったところで、中和終了と
した。このものから、ロータリーエバポレーターにて溶
媒を減圧留去し、６２．６ｇのＮ−メチルジエタノール
アミンの炭酸塩を得た。

【００６８】製造例４ ５００ｍｌのガラス製の四口フラスコに、Ｎ−メチルモ
ルホリン（試薬、東京化成工業（株）製）５０．０ｇ
（０．４９モル）と水５０．０ｇを入れ、３０℃にて攪
拌しながら、ボンベより２００ｍｌ／分の流量で二酸化
炭素（ガス）を吹き込んだ。４．０時間後、溶液のｐＨ
が８．５で一定になったところで、中和終了とした。こ
のものから、ロータリーエバポレーターにて溶媒を減圧
留去し、５６．７ｇのＮ−メチルモルホリンの炭酸塩を
得た。

【００６９】製造例５ ５００ｍｌのガラス製の四口フラスコに、Ｎ−シクロヘ
キシル−１，３−ジアミノプロパン（試薬、東京化成工
業（株）製）５０．０ｇ（０．３２モル）と水２５．０
ｇ、エタノール２５．０ｇを入れ、３０℃にて攪拌しな
がら、ボンベより２００ｍｌ／分の流量で二酸化炭素
（ガス）を吹き込んだ。４．５時間後、溶液のｐＨが
８．９で一定になったところで、中和終了とした。この
ものから、ロータリーエバポレーターにて溶媒を減圧留
去し、５８．８ｇのＮ−シクロヘキシル−１，３−ジア
ミノプロパンの炭酸塩を得た。

【００７０】製造例６ ５００ｍｌのガラス製の四口フラスコに、ｎ−オクチル
アミン（試薬、東京化成工業（株）製）５０．０ｇ
（０．３９モル）と水５０．０ｇを入れ、３０℃にて攪
拌しながら、ボンベより２００ｍｌ／分の流量で二酸化
炭素（ガス）を吹き込んだ。３．５時間後、溶液のｐＨ
が８．８で一定になったところで、中和終了とした。こ
のものから、ロータリーエバポレーターにて溶媒を減圧
留去し、４９．３ｇのｎ−オクチルアミンの炭酸塩を得
た。

【００７１】製造比較例１ ５００ｍｌのガラス製の三口フラスコに、Ｎ−メチルジ
エタノールアミン（試薬、東京化成工業（株）製）５
０．０ｇ（０．４２モル）と水５０．０ｇを入れ、３０
℃にて攪拌しながら、３６％塩酸（試薬、片山化学工業
（株）製）を水で１０％（ｗ／ｗ）に希釈したものを１
５３．１ｇ（０．４２モル）滴下した。このものから、
ロータリーエバポレーターにて溶媒を減圧留去し、５
１．８ｇのＮ−メチルジエタノールアミンの塩酸塩を得
た。

【００７２】製造比較例２ ５００ｍｌのガラス製の三口フラスコに、Ｎ−メチルモ
ルホリン（試薬、東京化成工業（株）製）５０．０ｇ
（０．４３モル）と水５０．０ｇを入れ、３０℃にて攪
拌しながら、硫酸（試薬、片山化学工業（株）製）を水
で１０％（ｗ／ｗ）に希釈したものを２１３．０ｇ
（０．２２モル）滴下した。このものから、ロータリー
エバポレーターにて溶媒を減圧留去し、５７．０ｇのＮ
−メチルモルホリンの硫酸塩を得た。

【００７３】製造比較例３ ５００ｍｌのガラス製の三口フラスコに、Ｎ−シクロヘ
キシル−１，３−ジアミノプロパン（試薬、東京化成工
業（株）製）５０．０ｇ（０．３２モル）と水５０．０
ｇを入れ、３０℃にて攪拌しながら、酢酸（試薬、片山
化学工業（株）製）を水で１０％（ｗ／ｗ）に希釈した
ものを３８４．３ｇ（０．６４モル）滴下した。このも
のから、ロータリーエバポレーターにて溶媒を減圧留去
し、５３．７ｇのＮ−シクロヘキシル−１，３−ジアミ
ノプロパンの酢酸塩を得た。

【００７４】製造比較例４ ５００ｍｌのガラス製の三口フラスコに、ｎ−オクチル
アミン（試薬、東京化成工業（株）製）５０．０ｇ
（０．３９モル）と水５０．０ｇを入れ、３０℃にて攪
拌しながら、グルコン酸５０％（ｗ／ｗ）水溶液（試
薬、片山化学工業（株）製）を１５３．０ｇ（０．３９
モル）滴下した。このものから、ロータリーエバポレー
ターにて溶媒を減圧留去し、７５．６ｇのｎ−オクチル
アミンのグルコン酸塩を得た。

【００７５】実施例１〜１０及び比較例１〜８ 表１、２に示すような成分からなる水系洗浄剤組成物を
用いて洗浄することにより洗浄試験を行った。その結果
を表３に示す。なお、表４は表１、２に示す化合物の由
来を示すものである。尚、試験条件等は以下のとおりで
ある。

【００７６】

【表１】

【００７７】

【表２】

【００７８】

【表３】

【００７９】

【表４】

【００８０】（１）洗浄性試験 （テストピースの作成）２０ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍｍの
アルミニウム（ＪＩＳ Ｈ４０００）、及びはんだ（Ｊ
ＩＳ Ｚ３２８２（３０ＳＮＡ））製テストピース（太
佑機材（株）製）に、フラックス（SOLDERITE Ｙ−２
０、タムラ製作所（株）製）を２．５ｇ／ｍ² の割合で
塗布する。２７０℃、２分間リフローした後、室温まで
冷却したものをフラックス用のテストピースとした。更
に、２０ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍｍの銅（ＪＩＳ Ｈ３１
００）製テストピース（太佑機材（株）製）に、鉱物油
系プレス加工用潤滑油（ユニプレスＰＡ５、日本石油
（株）製）を０．５ｇ／ｍ² の割合で塗布し、鉱物油系
プレス油用のテストピースとした。

【００８１】（洗浄試験）上記のテストピースを６０℃
に保った表１、２記載の水系洗浄剤組成物に浸漬し、３
９ｋＨｚ、２００Ｗの超音波洗浄装置（SILENTSONIC UT
-204、シャープ（株）製) で５分間洗浄した。次いで、
３０℃のイオン交換水に浸漬し、洗浄と同様の超音波洗
浄機で１分間リンスした。更に、イオン交換水の流水で
１分間仕上げリンスを行った。そして、１分間エアーブ
ローした後、送風定温乾燥機（ＦＶ−６３０、（株）東
洋製作所製）にて８０℃、１０分間乾燥した。

【００８２】（評価方法及び評価基準）フラックス及び
プレス油の洗浄性の評価は、光学顕微鏡の倍率５０倍に
て、目視により次の基準で行った。 ◎：表面にフラックス及びプレス油の残着が無く極めて
清浄、非常に良好 ○：表面にフラックス及びプレス油の残着が殆ど無く、
良好 △：表面にフラックス及びプレス油の残着が僅かに有
り、やや悪い ×：表面にフラックス及びプレス油の残着が有り、悪い

【００８３】（２）部材への影響試験 ２０ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍｍのアルミニウム（ＪＩＳ
Ｈ４０００）、はんだ（ＪＩＳ Ｚ３２８２（３０ＳＮ
Ａ））及び銅（ＪＩＳ Ｈ３１００）製テストピース
（太佑機材（株）製）を、表１、２記載の水系洗浄剤組
成物の原液と５％（ｗ／ｗ）水溶液に浸漬し、６０℃に
保持した。２時間後及び２４時間後のテストピース表面
状態を目視にて観察した。

【００８４】（評価基準） ◎：浸漬前と変化無く、非常に良好 ○：光沢が少し低下しているものの、表面は平坦で、良
好 △：光沢が無く、変色しており、やや悪い ×：ひどく変色したり、錆が発生及び表面が腐食し荒れ
てしまっており、悪い

【００８５】表３より、本発明の水系洗浄剤組成物は、
アルミニウム、はんだ、銅のいずれにおいても良好な洗
浄性を示し、かつ部材に影響を与えない優れた洗浄剤組
成物であることが分かった（実施例１〜１０）。一方、
炭酸塩ではなくアミン化合物を配合したもの（比較例１
〜４）、塩であっても炭酸塩ではないもの（比較例５〜
８）は、洗浄性については良好な例もあるものの、いず
れも部材に悪影響を与えることが分かった。

【００８６】

【発明の効果】本発明の水系洗浄剤組成物を用いること
により、精密部品又はその組立加工工程に使用される治
工具類に含まれる、腐食され易い材質の金属類、合金類
及びメッキ部品等を腐食することなく、それらの固体表
面に存在する油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、
ロジン系フラックス等の汚れを除去することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 3:30 3:20） (Ｃ１１Ｄ 3/60 3:30 3:20 3:18）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 窒素原子数が１〜５であって、分子量が
   ５０〜３００の範囲であるアミン系化合物の炭酸塩を含
   有してなる水系洗浄剤組成物。
2. 【請求項２】 次の一般式（１）、（２）及び（３） 【化１】 （式中、Ｒ¹ は炭素数１〜８の炭化水素基を、Ｒ² 及び
   Ｒ³ はそれぞれ炭素数２〜４のアルキレン基を示す。Ｘ
   は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基又はアシル基
   を示す。ｍは１〜７、ｎは０〜７、ｐは０〜５、ｑは０
   〜５の整数を示す。）で表される化合物からなる群より
   選ばれる１種以上のアルキレンオキサイド化合物をさら
   に含有してなる請求項１記載の水系洗浄剤組成物。
3. 【請求項３】 １種類以上の界面活性剤をさらに含有し
   てなる請求項１又は２記載の水系洗浄剤組成物。
4. 【請求項４】 炭素数１０〜１８の炭化水素をさらに含
   有してなる請求項１〜３いずれか記載の水系洗浄剤組成
   物。
5. 【請求項５】 精密部品又は治工具類用の洗浄に使用さ
   れる請求項１〜４いずれか記載の水系洗浄剤組成物。