JPH08143148A - 処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び装置 - Google Patents
処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び装置Info
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- JPH08143148A JPH08143148A JP23865394A JP23865394A JPH08143148A JP H08143148 A JPH08143148 A JP H08143148A JP 23865394 A JP23865394 A JP 23865394A JP 23865394 A JP23865394 A JP 23865394A JP H08143148 A JPH08143148 A JP H08143148A
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- plate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明の目的は、銅張りセラミック基板を組立
て、処理部に投入する投入方法及び装置を得るにある。 【構成】銅張りセラミック基板を形成するセラミック基
板と下側及び上側銅板を夫々個別に収納した３個のカセ
ットを用い、カセット内の下側銅板を上動し、吸着ユニ
ットによって吸着せしめ、この吸着ユニットを位置決め
プレート上に搬送し、Ｘ方向及びＹ方向に互いに離間し
た対の可動板を夫々位置決めプレートの中心方向に移動
して下側銅板を位置決めし、下側銅板の下面を上記位置
決めプレートによって真空吸着せしめながら上面を吸着
ユニットによって真空吸着し、基板受取台上に運び釈放
し、吸着ユニットを再び上記位置決めプレート上に下降
し、２枚取りの結果、上記位置決めプレートに吸着され
残存している下側銅板を吸着除去し、上記各工程をセラ
ミック基板及び上側銅板に対し繰り返し、上記基板受取
台上に銅張りセラミック基板を組立て、処理装置に対す
る投入コンベアー上に基板保護材を介して供給載置せし
めた処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び
装置。
て、処理部に投入する投入方法及び装置を得るにある。 【構成】銅張りセラミック基板を形成するセラミック基
板と下側及び上側銅板を夫々個別に収納した３個のカセ
ットを用い、カセット内の下側銅板を上動し、吸着ユニ
ットによって吸着せしめ、この吸着ユニットを位置決め
プレート上に搬送し、Ｘ方向及びＹ方向に互いに離間し
た対の可動板を夫々位置決めプレートの中心方向に移動
して下側銅板を位置決めし、下側銅板の下面を上記位置
決めプレートによって真空吸着せしめながら上面を吸着
ユニットによって真空吸着し、基板受取台上に運び釈放
し、吸着ユニットを再び上記位置決めプレート上に下降
し、２枚取りの結果、上記位置決めプレートに吸着され
残存している下側銅板を吸着除去し、上記各工程をセラ
ミック基板及び上側銅板に対し繰り返し、上記基板受取
台上に銅張りセラミック基板を組立て、処理装置に対す
る投入コンベアー上に基板保護材を介して供給載置せし
めた処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び
装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は処理部に対する銅張りセ
ラミック基板投入方法及び装置、特に、接合炉等の処理
装置に対し銅張りセラミック基板を投入するための方法
及び装置に関するものである。
ラミック基板投入方法及び装置、特に、接合炉等の処理
装置に対し銅張りセラミック基板を投入するための方法
及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体基板の接合炉に送られる
銅張りセラミック基板１は、図７に示すようにセラミッ
ク基板２の下面及び上面に夫々下側及び上側銅板３，４
を重ね合わせた未接合のものである。
銅張りセラミック基板１は、図７に示すようにセラミッ
ク基板２の下面及び上面に夫々下側及び上側銅板３，４
を重ね合わせた未接合のものである。
【０００３】従来の処理部に対する銅張りセラミック基
板投入方法及び装置においては、個々のカセット内に上
記セラミック基板２、下側及び上側銅板３，４を夫々積
層収納し、セラミック基板２等を夫々昇降手段によって
上昇し、その最上部のものをカセットの上部に位置する
対応する個々の真空吸着ユニットにより吸着し、シリン
ダー駆動の基板搬送装置により夫々並列的に位置決めロ
ーラーコンベアー上に搬送載置し、このローラーコンベ
アー上に載置されたセラミック基板２等を夫々ローラー
コンベアーにより前進し、前進面を前面ストッパーによ
り位置決めし、この位置で左からの寄せプレートにより
右側ストッパーに向かって押動し、右側面を位置決めす
る。
板投入方法及び装置においては、個々のカセット内に上
記セラミック基板２、下側及び上側銅板３，４を夫々積
層収納し、セラミック基板２等を夫々昇降手段によって
上昇し、その最上部のものをカセットの上部に位置する
対応する個々の真空吸着ユニットにより吸着し、シリン
ダー駆動の基板搬送装置により夫々並列的に位置決めロ
ーラーコンベアー上に搬送載置し、このローラーコンベ
アー上に載置されたセラミック基板２等を夫々ローラー
コンベアーにより前進し、前進面を前面ストッパーによ
り位置決めし、この位置で左からの寄せプレートにより
右側ストッパーに向かって押動し、右側面を位置決めす
る。
【０００４】上記のように角面位置決めしたものを夫々
個々の他の吸着ユニットにより吸着し、上記搬送装置と
は別の搬送装置によりウオーキングテーブル上に搬送載
置し、先ず下側銅板３をテーブル上で所定位置に移動
し、次いでセラミック基板２を上記下側銅板３上に載置
し、次いで上側銅板４をセラミック基板２上に載置して
銅張りセラミック基板１を形成し、この３枚重ねの銅張
りセラミック基板１を、３枚重ね投入装置により接合炉
に対する投入コンベアー上にセラミック材の基板保護材
を介して載置している。
個々の他の吸着ユニットにより吸着し、上記搬送装置と
は別の搬送装置によりウオーキングテーブル上に搬送載
置し、先ず下側銅板３をテーブル上で所定位置に移動
し、次いでセラミック基板２を上記下側銅板３上に載置
し、次いで上側銅板４をセラミック基板２上に載置して
銅張りセラミック基板１を形成し、この３枚重ねの銅張
りセラミック基板１を、３枚重ね投入装置により接合炉
に対する投入コンベアー上にセラミック材の基板保護材
を介して載置している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】然しながら、上記従来
の処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び装
置においては、上記セラミック基板等がローラーコンベ
アー上で夫々角面位置決めされるものであるから、セラ
ミック基板等の種類が変わる毎に銅板３，４がセラミッ
ク基板２のセンターに位置されるようその都度位置決め
手段を調整する必要がある。
の処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び装
置においては、上記セラミック基板等がローラーコンベ
アー上で夫々角面位置決めされるものであるから、セラ
ミック基板等の種類が変わる毎に銅板３，４がセラミッ
ク基板２のセンターに位置されるようその都度位置決め
手段を調整する必要がある。
【０００６】また、２個の基板搬送装置が銅張りセラミ
ック基板１上に位置されることになるためセラミック基
板等の種類が変わった場合の段取りが困難であり、メン
テナンス性が悪い。
ック基板１上に位置されることになるためセラミック基
板等の種類が変わった場合の段取りが困難であり、メン
テナンス性が悪い。
【０００７】また、ウオーキングテーブル上でのセラミ
ック基板等の移動装置は複雑でコストが高く、その移動
回数も多いため振動等によりセラミック基板等にずれを
発生し易い。
ック基板等の移動装置は複雑でコストが高く、その移動
回数も多いため振動等によりセラミック基板等にずれを
発生し易い。
【０００８】また、３枚重ね投入装置はセラミック基板
等の幅寸法により幅方向の調整が必要であり現物合わせ
のための時間を必要とする。
等の幅寸法により幅方向の調整が必要であり現物合わせ
のための時間を必要とする。
【０００９】本発明は上記の欠点を除くようにしたもの
である。
である。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の処理部に対する
銅張りセラミック基板投入装置は、銅張りセラミック基
板を形成するセラミック基板と下側及び上側銅板を夫々
個別に収納した３個のカセットと、この各カセット内の
セラミック基板等を上昇せしめるための昇降手段と、上
記３個のカセットの上方に配置した１個の吸着ユニット
と、この吸着ユニットからセラミック基板等を受取り、
位置決めする位置決め手段と、この位置決め手段によっ
て位置決めされたセラミック基板等を互いに重ね合わせ
て銅張りセラミック基板を形成するための基板受取台
と、この基板受取台と上記位置決め手段に対し上記吸着
ユニットを搬送するための搬送手段と、銅張りセラミッ
ク基板を処理装置に投入するための投入コンベアーと、
この投入コンベアー上に基板保護材を供給載置せしめる
ための基板保護材供給手段と、投入コンベアー上に載置
された基板保護材上に、上記基板受取台上から銅張りセ
ラミック基板を供給載置せしめるための銅張りセラミッ
ク基板搬送手段とより成る。
銅張りセラミック基板投入装置は、銅張りセラミック基
板を形成するセラミック基板と下側及び上側銅板を夫々
個別に収納した３個のカセットと、この各カセット内の
セラミック基板等を上昇せしめるための昇降手段と、上
記３個のカセットの上方に配置した１個の吸着ユニット
と、この吸着ユニットからセラミック基板等を受取り、
位置決めする位置決め手段と、この位置決め手段によっ
て位置決めされたセラミック基板等を互いに重ね合わせ
て銅張りセラミック基板を形成するための基板受取台
と、この基板受取台と上記位置決め手段に対し上記吸着
ユニットを搬送するための搬送手段と、銅張りセラミッ
ク基板を処理装置に投入するための投入コンベアーと、
この投入コンベアー上に基板保護材を供給載置せしめる
ための基板保護材供給手段と、投入コンベアー上に載置
された基板保護材上に、上記基板受取台上から銅張りセ
ラミック基板を供給載置せしめるための銅張りセラミッ
ク基板搬送手段とより成る。
【００１１】上記位置決め手段は、吸着ユニットから釈
放されたセラミック基板等を受け取る位置決めプレート
と、この位置決めプレート上に突出する、Ｘ方向及びＹ
方向に互いに離間した２対の可動板と、これら可動板を
上記位置決めプレートのセンターを中心として夫々Ｘ方
向及びＹ方向に互いに離，接するように制御する駆動手
段と、上記位置決めプレートの中心部に形成した透孔
と、同じく中心部近傍に開孔した真空吸着ポートとより
成る。
放されたセラミック基板等を受け取る位置決めプレート
と、この位置決めプレート上に突出する、Ｘ方向及びＹ
方向に互いに離間した２対の可動板と、これら可動板を
上記位置決めプレートのセンターを中心として夫々Ｘ方
向及びＹ方向に互いに離，接するように制御する駆動手
段と、上記位置決めプレートの中心部に形成した透孔
と、同じく中心部近傍に開孔した真空吸着ポートとより
成る。
【００１２】上記銅張りセラミック基板搬送手段は、上
記基板受取台上の銅張りセラミック基板の両側下面を支
持するための一対の支持杆と、この支持杆を互いに接近
する方向に移動し及び復帰せしめるための駆動手段と、
上記支持杆と共に銅張りセラミック基板を上下に挾持す
るため上下動可能なピンシリンダーと、上記支持杆とそ
の駆動手段及びピンシリンダーをあらかじめ銅張りセラ
ミック基板の幅寸法に応じて位置決めするための手段
と、上記支持杆等を一体に上記投入コンベアー上に搬送
せしめる搬送手段とより成る。
記基板受取台上の銅張りセラミック基板の両側下面を支
持するための一対の支持杆と、この支持杆を互いに接近
する方向に移動し及び復帰せしめるための駆動手段と、
上記支持杆と共に銅張りセラミック基板を上下に挾持す
るため上下動可能なピンシリンダーと、上記支持杆とそ
の駆動手段及びピンシリンダーをあらかじめ銅張りセラ
ミック基板の幅寸法に応じて位置決めするための手段
と、上記支持杆等を一体に上記投入コンベアー上に搬送
せしめる搬送手段とより成る。
【００１３】本発明の処理部に対する銅張りセラミック
基板投入方法は、下側銅板を収納したカセット内の銅板
を上動し、吸着ユニットによって吸着せしめ、この吸着
ユニットを位置決めプレート上に搬送し、載置せしめる
工程と、Ｘ方向及びＹ方向に互いに離間した対の可動板
を夫々位置決めプレートの中心方向に移動して銅板を位
置決めする工程と、位置決めされた銅板の下面を上記位
置決めプレートによって真空吸着せしめながら上記銅板
の上面を吸着ユニットによって真空吸着し、基板受取台
上に運び銅板を釈放する工程と、吸着ユニットを再び上
記位置決めプレート上に下降し、２枚取りの結果、上記
位置決めプレートに吸着され残存している銅板を吸着除
去する工程と、上記各工程をセラミック基板及び上側銅
板に対し繰り返し、上記基板受取台上に銅張りセラミッ
ク基板を組立てる工程と、処理装置に対する投入コンベ
アー上に上記銅張りセラミック基板を基板保護材を介し
て載置せしめる工程とより成る。
基板投入方法は、下側銅板を収納したカセット内の銅板
を上動し、吸着ユニットによって吸着せしめ、この吸着
ユニットを位置決めプレート上に搬送し、載置せしめる
工程と、Ｘ方向及びＹ方向に互いに離間した対の可動板
を夫々位置決めプレートの中心方向に移動して銅板を位
置決めする工程と、位置決めされた銅板の下面を上記位
置決めプレートによって真空吸着せしめながら上記銅板
の上面を吸着ユニットによって真空吸着し、基板受取台
上に運び銅板を釈放する工程と、吸着ユニットを再び上
記位置決めプレート上に下降し、２枚取りの結果、上記
位置決めプレートに吸着され残存している銅板を吸着除
去する工程と、上記各工程をセラミック基板及び上側銅
板に対し繰り返し、上記基板受取台上に銅張りセラミッ
ク基板を組立てる工程と、処理装置に対する投入コンベ
アー上に上記銅張りセラミック基板を基板保護材を介し
て載置せしめる工程とより成る。
【００１４】
【実施例】以下図面によって本発明の実施例を説明す
る。
る。
【００１５】本発明の処理部に対する銅張りセラミック
基板投入装置は、図１及び図２に示すようにセラミック
基板２と下側及び上側銅板３，４を夫々個別に積層収納
した３個のカセット５と、この各カセット５内のセラミ
ック基板等をその下側から上昇せしめるための昇降手段
６と、上記カセット５の上方に配置した１個の吸着ユニ
ット７と、この吸着ユニット７からセラミック基板等を
受け取り、位置決めする位置決め手段８と、この位置決
め手段８によって位置決めされたセラミック基板等を互
いに重ね合わせて銅張りセラミック基板１を形成するた
めの基板受取台９と、この基板受取台９と上記位置決め
手段８に対し上記吸着ユニット７を搬送するための直交
ロボット等の搬送手段１０と、銅張りセラミック基板１
を接合炉等の処理装置（図示せず）に投入するための投
入コンベアー１１と、この投入コンベアー１１上に基板
保護材１２を互いに間隔を置いて供給載置せしめるため
の基板保護材供給手段１３と、投入コンベアー１１上に
載置された基板保護材１２上に、上記基板受取台９上か
ら銅張りセラミック基板１を供給載置せしめるための銅
張りセラミック基板搬送手段１４とにより構成する。
基板投入装置は、図１及び図２に示すようにセラミック
基板２と下側及び上側銅板３，４を夫々個別に積層収納
した３個のカセット５と、この各カセット５内のセラミ
ック基板等をその下側から上昇せしめるための昇降手段
６と、上記カセット５の上方に配置した１個の吸着ユニ
ット７と、この吸着ユニット７からセラミック基板等を
受け取り、位置決めする位置決め手段８と、この位置決
め手段８によって位置決めされたセラミック基板等を互
いに重ね合わせて銅張りセラミック基板１を形成するた
めの基板受取台９と、この基板受取台９と上記位置決め
手段８に対し上記吸着ユニット７を搬送するための直交
ロボット等の搬送手段１０と、銅張りセラミック基板１
を接合炉等の処理装置（図示せず）に投入するための投
入コンベアー１１と、この投入コンベアー１１上に基板
保護材１２を互いに間隔を置いて供給載置せしめるため
の基板保護材供給手段１３と、投入コンベアー１１上に
載置された基板保護材１２上に、上記基板受取台９上か
ら銅張りセラミック基板１を供給載置せしめるための銅
張りセラミック基板搬送手段１４とにより構成する。
【００１６】上記位置決め手段８は、図３及び図４に示
すように吸着ユニット７から釈放されたセラミック基板
等を受け取る位置決めプレート１５と、この位置決めプ
レート１５上に突出する、Ｘ方向及びＹ方向に互いに離
間した２対の可動板１６ａ，１６ａ及び１６ｂ，１６ｂ
と、これら可動板１６ａ，１６ａ及び１６ｂ，１６ｂを
上記位置決めプレート１５のセンターを中心として夫々
Ｘ方向及びＹ方向に互いに離，接するように制御する、
ラック１７，ピニオン１８，ラック駆動シリンダー１
９，ニリアガイド２０及びロータリーアクチュエーター
２１と、上記位置決めプレート１５の中心部に形成した
透孔２２と、同じく中心部近傍に開孔した真空吸着ポー
ト２３とより成る。
すように吸着ユニット７から釈放されたセラミック基板
等を受け取る位置決めプレート１５と、この位置決めプ
レート１５上に突出する、Ｘ方向及びＹ方向に互いに離
間した２対の可動板１６ａ，１６ａ及び１６ｂ，１６ｂ
と、これら可動板１６ａ，１６ａ及び１６ｂ，１６ｂを
上記位置決めプレート１５のセンターを中心として夫々
Ｘ方向及びＹ方向に互いに離，接するように制御する、
ラック１７，ピニオン１８，ラック駆動シリンダー１
９，ニリアガイド２０及びロータリーアクチュエーター
２１と、上記位置決めプレート１５の中心部に形成した
透孔２２と、同じく中心部近傍に開孔した真空吸着ポー
ト２３とより成る。
【００１７】また、上記基板保護材供給装置１３は、図
１及び図２に示すように基板保護材１２を積層収納した
カセット２４と、このカセット２４の底部開口から基板
保護材１２を１個づつ押し出し供給する供給手段２５
と、基板保護材１２を吸着するエアチャックを有する保
持上昇シリンダー２６と、保持上昇した基板保護材１２
を上記投入コンベアー１１上に搬送し釈放するための搬
送手段２７とより成る。
１及び図２に示すように基板保護材１２を積層収納した
カセット２４と、このカセット２４の底部開口から基板
保護材１２を１個づつ押し出し供給する供給手段２５
と、基板保護材１２を吸着するエアチャックを有する保
持上昇シリンダー２６と、保持上昇した基板保護材１２
を上記投入コンベアー１１上に搬送し釈放するための搬
送手段２７とより成る。
【００１８】更に、上記銅張りセラミック基板搬送手段
１４は、図２，図５及び図６に示すように上記基板受取
台９上の銅張りセラミック基板１の両側下面を支持する
ための一対の支持杆２８と、この一対の支持杆２８を図
５に示す状態から互いに接近する方向に図６に示すよう
に移動し及び復帰せしめるためのシリンダー２９と、上
記支持杆２８と共に銅張りセラミック基板１を上下に挾
持するため上下動可能なピンシリンダー３０と、上記支
持杆２８とシリンダー２９及びピンシリンダー３０をあ
らかじめ銅張りセラミック基板１の幅寸法に応じて位置
決めするための台形ねじ３１と、この台形ねじ３１を回
動するための目盛り付きハンドル３２と、上記支持杆２
８等を一体に保持するフレーム３３と、このフレーム３
３をスライドテーブル３４に沿って上下動するための上
下動シリンダー３５と、この上下動シリンダー３５をガ
イドロット３６に沿って上記投入コンベアー１１上に搬
送せしめるシリンダー３７とより成る。
１４は、図２，図５及び図６に示すように上記基板受取
台９上の銅張りセラミック基板１の両側下面を支持する
ための一対の支持杆２８と、この一対の支持杆２８を図
５に示す状態から互いに接近する方向に図６に示すよう
に移動し及び復帰せしめるためのシリンダー２９と、上
記支持杆２８と共に銅張りセラミック基板１を上下に挾
持するため上下動可能なピンシリンダー３０と、上記支
持杆２８とシリンダー２９及びピンシリンダー３０をあ
らかじめ銅張りセラミック基板１の幅寸法に応じて位置
決めするための台形ねじ３１と、この台形ねじ３１を回
動するための目盛り付きハンドル３２と、上記支持杆２
８等を一体に保持するフレーム３３と、このフレーム３
３をスライドテーブル３４に沿って上下動するための上
下動シリンダー３５と、この上下動シリンダー３５をガ
イドロット３６に沿って上記投入コンベアー１１上に搬
送せしめるシリンダー３７とより成る。
【００１９】本発明の処理部に対する銅張りセラミック
基板投入方法においては、下側銅板３を積層収納したカ
セット５内の銅板３を昇降手段６によってカセット５内
を上動せしめ、最上部の銅板３を吸着ユニット７によっ
て吸着せしめ、この吸着ユニット７を搬送手段１０によ
って位置決め手段８上に搬送し、吸着ユニット７によっ
て吸着している銅板３を位置決めプレート１５上に載置
せしめる。
基板投入方法においては、下側銅板３を積層収納したカ
セット５内の銅板３を昇降手段６によってカセット５内
を上動せしめ、最上部の銅板３を吸着ユニット７によっ
て吸着せしめ、この吸着ユニット７を搬送手段１０によ
って位置決め手段８上に搬送し、吸着ユニット７によっ
て吸着している銅板３を位置決めプレート１５上に載置
せしめる。
【００２０】次いで駆動シリンダー１９を駆動してＸ方
向及びＹ方向の可動板１６ａ，１６ｂを夫々位置決めプ
レート１５の中心方向に移動して銅板３の中心が位置決
めプレート１５の中心に位置されるようにする。銅板３
が位置決めされた状態で上記位置決めプレート１５の中
心部近傍に設けた真空吸着ポート２３に、上記吸着ユニ
ット７よりも弱く真空を作用せしめ、銅板３を保持す
る。
向及びＹ方向の可動板１６ａ，１６ｂを夫々位置決めプ
レート１５の中心方向に移動して銅板３の中心が位置決
めプレート１５の中心に位置されるようにする。銅板３
が位置決めされた状態で上記位置決めプレート１５の中
心部近傍に設けた真空吸着ポート２３に、上記吸着ユニ
ット７よりも弱く真空を作用せしめ、銅板３を保持す
る。
【００２１】次いで上記吸着ユニット７を銅板３上に下
降し、上記位置決めされた銅板３を上記吸着ユニット７
によって再び吸着し、上記可動板１６ａ，１６ｂを銅板
３から離し、上記吸着ユニット７を銅板３と共に上記搬
送手段１０によって基板受取台９上に運び銅板３を釈放
する。
降し、上記位置決めされた銅板３を上記吸着ユニット７
によって再び吸着し、上記可動板１６ａ，１６ｂを銅板
３から離し、上記吸着ユニット７を銅板３と共に上記搬
送手段１０によって基板受取台９上に運び銅板３を釈放
する。
【００２２】次いで上記搬送手段１０により吸着ユニッ
ト７を再び上記位置決めプレート１５上に移動し、吸着
ユニット７を下降する。
ト７を再び上記位置決めプレート１５上に移動し、吸着
ユニット７を下降する。
【００２３】なお、吸着ユニット７によって銅板３が２
枚取りされている場合には、上記位置決めプレート１５
上から上記位置決めされた銅板３を吸着上昇した際、真
空吸着ポート２３の作用により下側の銅板３が引き離さ
れ位置決めプレート１５上に残存しているから、上記の
ように吸着ユニット７が位置決めプレート１５上に下降
した際上記残存銅板３を吸着するようになる。
枚取りされている場合には、上記位置決めプレート１５
上から上記位置決めされた銅板３を吸着上昇した際、真
空吸着ポート２３の作用により下側の銅板３が引き離さ
れ位置決めプレート１５上に残存しているから、上記の
ように吸着ユニット７が位置決めプレート１５上に下降
した際上記残存銅板３を吸着するようになる。
【００２４】この場合には、これを検知してこの残存銅
板３を図２に示すケース３８内に運び投入する。
板３を図２に示すケース３８内に運び投入する。
【００２５】銅板３が位置決めプレート１５上に残存し
ていない場合には、下降した吸着ユニット７の中心の真
空吸着孔（図示せず）が位置決めプレート１５の中心に
位置する透孔２２に連通し、真空吸着状態を発生しない
からこれによって上記位置決めプレート１５上には銅板
３が残存していないことが確認でき、この場合には吸着
ユニット７を搬送手段１０によってセラミック基板２を
積層収納しているカセット５上に戻し、セラミック基板
２に対し上記と同様の吸着搬送動作を行ない、位置決め
されたセラミック基板２を基板受取台９上の下側銅板３
上に載置する。
ていない場合には、下降した吸着ユニット７の中心の真
空吸着孔（図示せず）が位置決めプレート１５の中心に
位置する透孔２２に連通し、真空吸着状態を発生しない
からこれによって上記位置決めプレート１５上には銅板
３が残存していないことが確認でき、この場合には吸着
ユニット７を搬送手段１０によってセラミック基板２を
積層収納しているカセット５上に戻し、セラミック基板
２に対し上記と同様の吸着搬送動作を行ない、位置決め
されたセラミック基板２を基板受取台９上の下側銅板３
上に載置する。
【００２６】次いで、上側銅板４に対しても同様の吸着
搬送動作を行ない、位置決めされた上側銅板４をセラミ
ック基板２上に載置し、接着前の銅張りセラミック基板
１を形成せしめる。
搬送動作を行ない、位置決めされた上側銅板４をセラミ
ック基板２上に載置し、接着前の銅張りセラミック基板
１を形成せしめる。
【００２７】基板受取台９上に銅張りセラミック基板１
が形成された場合には、基板保護材供給手段１３により
投入コンベアー１１上に基板保護材１２を進行方向に間
隔を置いて配置し、この基板保護材１２上に上記銅張り
セラミック基板１を搬送手段１４によって搬送し載置せ
しめる。
が形成された場合には、基板保護材供給手段１３により
投入コンベアー１１上に基板保護材１２を進行方向に間
隔を置いて配置し、この基板保護材１２上に上記銅張り
セラミック基板１を搬送手段１４によって搬送し載置せ
しめる。
【００２８】
【発明の効果】本発明の処理部に対する銅張りセラミッ
ク基板投入方法及び装置は上記のとおりであるから、下
記のような種々の利点を有する。
ク基板投入方法及び装置は上記のとおりであるから、下
記のような種々の利点を有する。
【００２９】１）センター位置決め方式による位置決め
手段を用いたので、基板等のサイズ違いでも段取り（調
整）を必要としない。
手段を用いたので、基板等のサイズ違いでも段取り（調
整）を必要としない。
【００３０】２）位置決め手段における位置決めプレー
トに真空吸着ポートを形成し基板等の上下を同時に吸着
するようにしたので、２枚取りによるトラブルを確実に
防止できる。
トに真空吸着ポートを形成し基板等の上下を同時に吸着
するようにしたので、２枚取りによるトラブルを確実に
防止できる。
【００３１】３）銅張りセラミック基板搬送手段の幅調
整が簡単にでき段取り作業性が良い。
整が簡単にでき段取り作業性が良い。
【００３２】４）装置全体の構成がシンプルであり、メ
ンテナンス性の向上及び低コスト化が可能となる。
ンテナンス性の向上及び低コスト化が可能となる。
【図１】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板
投入装置の正面図である。
投入装置の正面図である。
【図２】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板
投入装置の平面図である。
投入装置の平面図である。
【図３】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板
投入装置における位置決め手段の縦断正面図である。
投入装置における位置決め手段の縦断正面図である。
【図４】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板
投入装置における位置決め手段の平面図である。
投入装置における位置決め手段の平面図である。
【図５】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板
投入装置における銅張りセラミック基板搬送手段の正面
図である。
投入装置における銅張りセラミック基板搬送手段の正面
図である。
【図６】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板
投入装置における銅張りセラミック基板搬送手段の正面
図である。
投入装置における銅張りセラミック基板搬送手段の正面
図である。
【図７】銅張りセラミック基板の正面図である。
１ 銅張りセラミック基板 ２ セラミック基板 ３ 下側銅板 ４ 上側銅板 ５ カセット ６ 昇降手段 ７ 吸着ユニット ８ 位置決め手段 ９ 基板受取台 １０ 搬送手段 １１ 投入コンベアー １２ 基板保護材 １３ 基板保護材供給手段 １４ 銅張りセラミック基板搬送手段 １５ 位置決めプレート １６ａ 可動板 １６ｂ 可動板 １７ ラック １８ ピニオン １９ ラック駆動シリンダー ２０ ニリアガイド ２１ ロータリーアクチュエーター ２２ 透孔 ２３ 真空吸着ポート ２４ カセット ２５ 供給手段 ２６ 保持上昇シリンダー ２７ 搬送手段 ２８ 支持杆 ２９ シリンダー ３０ ピンシリンダー ３１ 台形ねじ ３２ 目盛り付きハンドル ３３ フレーム ３４ スライドテーブル ３５ 上下動シリンダー ３６ ガイドロット ３７ シリンダー ３８ ケース
フロントページの続き (72)発明者 田中 敏和 東京都千代田区丸の内一丁目８番２号 同 和鉱業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 銅張りセラミック基板を形成するセラミ
ック基板と下側及び上側銅板を夫々個別に収納した３個
のカセットと、この各カセット内のセラミック基板等を
上昇せしめるための昇降手段と、上記３個のカセットの
上方に配置した１個の吸着ユニットと、この吸着ユニッ
トからセラミック基板等を受取り、位置決めする位置決
め手段と、この位置決め手段によって位置決めされたセ
ラミック基板等を互いに重ね合わせて銅張りセラミック
基板を形成するための基板受取台と、この基板受取台と
上記位置決め手段に対し上記吸着ユニットを搬送するた
めの搬送手段と、銅張りセラミック基板を処理装置に投
入するための投入コンベアーと、この投入コンベアー上
に基板保護材を供給載置せしめるための基板保護材供給
手段と、投入コンベアー上に載置された基板保護材上
に、上記基板受取台上から銅張りセラミック基板を供給
載置せしめるための銅張りセラミック基板搬送手段とよ
り成ることを特徴とする処理部に対する銅張りセラミッ
ク基板投入装置。 - 【請求項２】 上記位置決め手段が、吸着ユニットから
釈放されたセラミック基板等を受け取る位置決めプレー
トと、この位置決めプレート上に突出する、Ｘ方向及び
Ｙ方向に互いに離間した２対の可動板と、これら可動板
を上記位置決めプレートのセンターを中心として夫々Ｘ
方向及びＹ方向に互いに離，接するように制御する駆動
手段と、上記位置決めプレートの中心部に形成した透孔
と、同じく中心部近傍に開孔した真空吸着ポートとより
成ることを特徴とする請求項１記載の処理部に対する銅
張りセラミック基板投入装置。 - 【請求項３】 上記銅張りセラミック基板搬送手段が、
上記基板受取台上の銅張りセラミック基板の両側下面を
支持するための一対の支持杆と、この支持杆を互いに接
近する方向に移動し及び復帰せしめるための駆動手段
と、上記支持杆と共に銅張りセラミック基板を上下に挾
持するため上下動可能なピンシリンダーと、上記支持杆
とその駆動手段及びピンシリンダーをあらかじめ銅張り
セラミック基板の幅寸法に応じて位置決めするための手
段と、上記支持杆等を一体に上記投入コンベアー上に搬
送せしめる搬送手段とより成ることを特徴とする請求項
１または２記載の処理部に対する銅張りセラミック基板
投入装置。 - 【請求項４】 下側銅板を収納したカセット内の銅板を
上動し、吸着ユニットによって吸着せしめ、この吸着ユ
ニットを位置決めプレート上に搬送し、載置せしめる工
程と、 Ｘ方向及びＹ方向に互いに離間した対の可動板を夫々位
置決めプレートの中心方向に移動して銅板を位置決めす
る工程と、 位置決めされた銅板の下面を上記位置決めプレートによ
って真空吸着せしめながら上記銅板の上面を吸着ユニッ
トによって真空吸着し、基板受取台上に運び銅板を釈放
する工程と、 吸着ユニットを再び上記位置決めプレート上に下降し、
２枚取りの結果、上記位置決めプレートに吸着され残存
している銅板を吸着除去する工程と、 上記各工程をセラミック基板及び上側銅板に対し繰り返
し、上記基板受取台上に銅張りセラミック基板を組立て
る工程と、 処理装置に対する投入コンベアー上に上記銅張りセラミ
ック基板を基板保護材を介して載置せしめる工程とより
成ることを特徴とする処理部に対する銅張りセラミック
基板投入方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23865394A JP3574977B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23865394A JP3574977B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08143148A true JPH08143148A (ja) | 1996-06-04 |
| JP3574977B2 JP3574977B2 (ja) | 2004-10-06 |
Family
ID=17033335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23865394A Expired - Fee Related JP3574977B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3574977B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002234615A (ja) * | 2001-02-07 | 2002-08-23 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 物品重ね合わせ装置 |
| CN116923975A (zh) * | 2023-09-14 | 2023-10-24 | 遂宁利和科技有限公司 | 一种覆铜板生产用输送上料装置 |
-
1994
- 1994-09-07 JP JP23865394A patent/JP3574977B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002234615A (ja) * | 2001-02-07 | 2002-08-23 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 物品重ね合わせ装置 |
| CN116923975A (zh) * | 2023-09-14 | 2023-10-24 | 遂宁利和科技有限公司 | 一种覆铜板生产用输送上料装置 |
| CN116923975B (zh) * | 2023-09-14 | 2023-11-24 | 遂宁利和科技有限公司 | 一种覆铜板生产用输送上料装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3574977B2 (ja) | 2004-10-06 |
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