JPH08141399A - アンモニア合成触媒およびその調製法 - Google Patents
アンモニア合成触媒およびその調製法Info
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- JPH08141399A JPH08141399A JP6289711A JP28971194A JPH08141399A JP H08141399 A JPH08141399 A JP H08141399A JP 6289711 A JP6289711 A JP 6289711A JP 28971194 A JP28971194 A JP 28971194A JP H08141399 A JPH08141399 A JP H08141399A
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- carrier
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 窒素と水素からのアンモニア合成において、
調製が容易で、かつ活性が高い触媒を提供する。 【構成】 ルテニウム、ニッケルおよびセリウムから成
るアンモニア合成触媒。また、酸化セリウムから成る担
体にニッケル化合物を添加した後水素還元を行い、次い
で該担体にルテニウムカルボニル錯体を反応させてルテ
ニウムを担持し、しかるのちに真空排気および／または
還元することを特徴とするルテニウム、ニッケルおよび
セリウムから成るアンモニア合成触媒の調製法。
調製が容易で、かつ活性が高い触媒を提供する。 【構成】 ルテニウム、ニッケルおよびセリウムから成
るアンモニア合成触媒。また、酸化セリウムから成る担
体にニッケル化合物を添加した後水素還元を行い、次い
で該担体にルテニウムカルボニル錯体を反応させてルテ
ニウムを担持し、しかるのちに真空排気および／または
還元することを特徴とするルテニウム、ニッケルおよび
セリウムから成るアンモニア合成触媒の調製法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は窒素と水素からアンモニ
アを合成するのに適した触媒に関するものである。
アを合成するのに適した触媒に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、アンモニアを合成するには鉄を主
成分とし、アルミナ、酸化カリウム等を助触媒として添
加した鉄系触媒が採用されているが、この触媒のアンモ
ニア合成活性は低温では発揮されず、そのために工業装
置における操業反応温度は平衡論上の不利にもかかわら
ず４００〜５００℃の高温を採用せざるを得ない。その
ため鉄系触媒を用いる現存のアンモニア製造法において
は反応ガスの再循環比を大きくとり、空間速度を高くす
ることが必要であり、これに伴う動力、熱伝達等の運転
経費の増大は著しい。
成分とし、アルミナ、酸化カリウム等を助触媒として添
加した鉄系触媒が採用されているが、この触媒のアンモ
ニア合成活性は低温では発揮されず、そのために工業装
置における操業反応温度は平衡論上の不利にもかかわら
ず４００〜５００℃の高温を採用せざるを得ない。その
ため鉄系触媒を用いる現存のアンモニア製造法において
は反応ガスの再循環比を大きくとり、空間速度を高くす
ることが必要であり、これに伴う動力、熱伝達等の運転
経費の増大は著しい。
【０００３】本発明者らは、さきに鉄、ルテニウム、オ
スミウムおよびコバルトからなる８族遷移金属のいずれ
かと、アルカリ金属とを活性炭、若しくは多孔質炭素に
担持させたアンモニア合成触媒を提供した（特公昭５４
−３７５９２号公報）。このアンモニア合成触媒は、活
性炭に担持した８族金属触媒にアルカリ金属を添加して
調製され、２００℃のような低温でもアンモニアを合成
することができるものである。
スミウムおよびコバルトからなる８族遷移金属のいずれ
かと、アルカリ金属とを活性炭、若しくは多孔質炭素に
担持させたアンモニア合成触媒を提供した（特公昭５４
−３７５９２号公報）。このアンモニア合成触媒は、活
性炭に担持した８族金属触媒にアルカリ金属を添加して
調製され、２００℃のような低温でもアンモニアを合成
することができるものである。
【０００４】その後、この触媒系についてアルカリ金属
に代えてアルカリ金属塩を使用し、触媒担体として特定
の表面積を有するグラファイト含有炭素を使用するアン
モニア製造方法（特公昭５９−１６８１６号公報）が報
告され、また、本発明者らも塩化ルテニウムとアルカリ
金属塩とをアルミナ担体に担持させ、一酸化炭素、水に
よる被毒の少ないアンモニア合成触媒（Journal of Cat
alysis, 92巻, 296-304 (1985), 同 305-311 (1985) ）
を報告した。
に代えてアルカリ金属塩を使用し、触媒担体として特定
の表面積を有するグラファイト含有炭素を使用するアン
モニア製造方法（特公昭５９−１６８１６号公報）が報
告され、また、本発明者らも塩化ルテニウムとアルカリ
金属塩とをアルミナ担体に担持させ、一酸化炭素、水に
よる被毒の少ないアンモニア合成触媒（Journal of Cat
alysis, 92巻, 296-304 (1985), 同 305-311 (1985) ）
を報告した。
【０００５】また、本発明者らはルテニウムカルボニ
ル、ルテニウムアセチルアセトナート等の塩素を含まな
いルテニウム化合物を出発原料とするルテニウム触媒の
調製方法（特開平２−２５８０６６号公報）を提案し
た。
ル、ルテニウムアセチルアセトナート等の塩素を含まな
いルテニウム化合物を出発原料とするルテニウム触媒の
調製方法（特開平２−２５８０６６号公報）を提案し
た。
【０００６】さらに、本発明者らはルテニウムをアルミ
ナ担体に担持し、促進剤として希土類元素を添加した触
媒（Journal of Catalysis, 136巻, 118-125 (1992)
）、およびルテニウムを希土類酸化物上に担持した触
媒（特開平６−７９１７７）を提案した。ルテニウムを
希土類酸化物上に担持した触媒はアンモニア合成反応に
対して極めて高活性であるが、水素還元による触媒活性
化操作に対して８００Ｋ以上の温度ではルテニウム表面
が酸化物で覆われてしまう傾向のあることが判明した。
本発明者らは触媒調製方法の改良を鋭意検討した結果、
本願発明を完成したものである。
ナ担体に担持し、促進剤として希土類元素を添加した触
媒（Journal of Catalysis, 136巻, 118-125 (1992)
）、およびルテニウムを希土類酸化物上に担持した触
媒（特開平６−７９１７７）を提案した。ルテニウムを
希土類酸化物上に担持した触媒はアンモニア合成反応に
対して極めて高活性であるが、水素還元による触媒活性
化操作に対して８００Ｋ以上の温度ではルテニウム表面
が酸化物で覆われてしまう傾向のあることが判明した。
本発明者らは触媒調製方法の改良を鋭意検討した結果、
本願発明を完成したものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明はルテニウム系
触媒を用いてアンモニアを合成する方法において、調製
が容易で、かつ高活性を示す触媒を提供するものであ
る。
触媒を用いてアンモニアを合成する方法において、調製
が容易で、かつ高活性を示す触媒を提供するものであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明はルテニウム、ニ
ッケルおよびセリウムから成るアンモニア合成触媒であ
る。また、本発明は酸化セリウムから成る担体にニッケ
ル化合物を添加した後水素還元を行い、次いで該担体に
ルテニウムカルボニルを反応させてルテニウムを担持
し、しかるのちに真空排気および／または還元すること
を特徴とするルテニウム、ニッケルおよびセリウムから
成るアンモニア合成触媒の調製法である。さらに、本発
明はルテニウム、ニッケルおよびセリウムから成る触媒
を使用することを特徴とする、窒素と水素からのアンモ
ニアの合成方法である。
ッケルおよびセリウムから成るアンモニア合成触媒であ
る。また、本発明は酸化セリウムから成る担体にニッケ
ル化合物を添加した後水素還元を行い、次いで該担体に
ルテニウムカルボニルを反応させてルテニウムを担持
し、しかるのちに真空排気および／または還元すること
を特徴とするルテニウム、ニッケルおよびセリウムから
成るアンモニア合成触媒の調製法である。さらに、本発
明はルテニウム、ニッケルおよびセリウムから成る触媒
を使用することを特徴とする、窒素と水素からのアンモ
ニアの合成方法である。
【０００９】本発明に使用されるセリウムは通常酸化物
であり、これは硝酸セリウム等の水溶性セリウム塩の水
溶液にアルカリ金属水溶液若しくはアンモニア水を添加
して沈澱を生成させ、濾過分離、乾燥、焼成する方法で
調製することができる。沈澱生成の際、アルカリ金属の
残留を防ぐためにアンモニア水を使用することが望まし
い。焼成温度は３００℃〜６００℃、焼成時間は０．５
〜２０時間の範囲が好ましい。
であり、これは硝酸セリウム等の水溶性セリウム塩の水
溶液にアルカリ金属水溶液若しくはアンモニア水を添加
して沈澱を生成させ、濾過分離、乾燥、焼成する方法で
調製することができる。沈澱生成の際、アルカリ金属の
残留を防ぐためにアンモニア水を使用することが望まし
い。焼成温度は３００℃〜６００℃、焼成時間は０．５
〜２０時間の範囲が好ましい。
【００１０】本発明の触媒の原料となるニッケル化合物
は硝酸ニッケル、硫酸ニッケル、酢酸ニッケル等の塩類
であるが、中でも硝酸ニッケルが好ましい。本発明の好
ましい触媒調製方法においては、ルテニウム化合物の担
持に先だってセリウム化合物からなる担体にニッケル塩
の溶液を含浸担持する。次いで得られたニッケル添加セ
リウム担体を焼成し、さらに水素等の還元剤中で還元処
理を行う。水素還元処理温度は１００〜７００℃、好ま
しくは４００〜６００℃である。水素還元処理時間は通
常０．５〜２０時間の範囲で選択される。セリウム担体
に対するニッケル化合物の添加量はNiとして０．０１〜
１０wt％、好ましくは０．０５〜１wt％である。
は硝酸ニッケル、硫酸ニッケル、酢酸ニッケル等の塩類
であるが、中でも硝酸ニッケルが好ましい。本発明の好
ましい触媒調製方法においては、ルテニウム化合物の担
持に先だってセリウム化合物からなる担体にニッケル塩
の溶液を含浸担持する。次いで得られたニッケル添加セ
リウム担体を焼成し、さらに水素等の還元剤中で還元処
理を行う。水素還元処理温度は１００〜７００℃、好ま
しくは４００〜６００℃である。水素還元処理時間は通
常０．５〜２０時間の範囲で選択される。セリウム担体
に対するニッケル化合物の添加量はNiとして０．０１〜
１０wt％、好ましくは０．０５〜１wt％である。
【００１１】セリウム担体へのルテニウムの担持は、含
浸法により行う。原料として使用されるルテニウム化合
物は塩化ルテニウム、ルテニウムカルボニル、ルテニウ
ムアセチルアセトナート、ルテニウムシアン酸カリウ
ム、ルテニウム酸カリウム、酸化ルテニウム、硝酸ルテ
ニウム等であるが、特にルテニウムカルボニルの使用が
好ましい。これらのルテニウム化合物はアセトン、テト
ラヒドロフラン等の極性有機溶媒、または水に溶解させ
てセリウム担体に含浸させる。ルテニウム担持量はルテ
ニウム金属としてセリウム担体に対して０．１〜２０wt
％、好ましくは１〜５wt％である。担持量０．１wt％以
下では触媒活性が低く、担持量２０wt％以上では担持量
を増やしてもアンモニア合成活性の向上が認められず、
高価なルテニウムを多量に使用する意味がない。
浸法により行う。原料として使用されるルテニウム化合
物は塩化ルテニウム、ルテニウムカルボニル、ルテニウ
ムアセチルアセトナート、ルテニウムシアン酸カリウ
ム、ルテニウム酸カリウム、酸化ルテニウム、硝酸ルテ
ニウム等であるが、特にルテニウムカルボニルの使用が
好ましい。これらのルテニウム化合物はアセトン、テト
ラヒドロフラン等の極性有機溶媒、または水に溶解させ
てセリウム担体に含浸させる。ルテニウム担持量はルテ
ニウム金属としてセリウム担体に対して０．１〜２０wt
％、好ましくは１〜５wt％である。担持量０．１wt％以
下では触媒活性が低く、担持量２０wt％以上では担持量
を増やしてもアンモニア合成活性の向上が認められず、
高価なルテニウムを多量に使用する意味がない。
【００１２】ルテニウムを含浸させた後、真空排気およ
び／または水素還元処理を行う。真空排気は５０℃〜６
００℃、好ましくは１５０℃〜５５０℃で行う。真空排
気時間は通常０．５〜２０時間である。水素還元処理を
真空排気に引き続いて行ってもよく、または真空排気処
理のみを行い、水素還元処理を省略しても良い。水素還
元温度は１００℃〜７００℃、好ましくは３００℃〜６
００℃、水素還元時間は通常０．５〜２０時間である。
本発明の触媒においては、水素還元処理を行うことによ
ってそのアンモニア合成活性が飛躍的に向上する。希土
類担体として酸化セリウムを使用した場合は、ニッケル
担持後の水素還元処理、および／またはルテニウム担持
後の水素還元処理に伴って４価のセリウムの一部が３価
に還元される。この３価のセリウムを含有するルテニウ
ム触媒が高い活性を示す。
び／または水素還元処理を行う。真空排気は５０℃〜６
００℃、好ましくは１５０℃〜５５０℃で行う。真空排
気時間は通常０．５〜２０時間である。水素還元処理を
真空排気に引き続いて行ってもよく、または真空排気処
理のみを行い、水素還元処理を省略しても良い。水素還
元温度は１００℃〜７００℃、好ましくは３００℃〜６
００℃、水素還元時間は通常０．５〜２０時間である。
本発明の触媒においては、水素還元処理を行うことによ
ってそのアンモニア合成活性が飛躍的に向上する。希土
類担体として酸化セリウムを使用した場合は、ニッケル
担持後の水素還元処理、および／またはルテニウム担持
後の水素還元処理に伴って４価のセリウムの一部が３価
に還元される。この３価のセリウムを含有するルテニウ
ム触媒が高い活性を示す。
【００１３】本発明の範囲を限定するものではないが、
本発明の触媒が優れた性能を示す理由は次のように考え
られる。ルテニウム金属クラスターをCeO2上に担持さ
せ、水素処理を行うとルテニウム金属上で活性化された
水素によりルテニウムに隣接するCeO2の部分が還元され
Ce2O3 となり、この状態がルテニウムに電子を与えるた
めに、促進剤なしで高活性を得ることができた。しかし
ながら、高温での水素処理中にCe2O3 の一部はルテニウ
ム金属表面にはい上がり活性点の一部をつぶしてしまう
ことも明らかとなった。CeO2にニッケルを加えて還元す
ることであらかじめ還元されたCe2O3 の状態を表面に作
ることができ、この状態にルテニウムクラスターを後か
ら加え、比較的低温で還元および／または真空排気処理
すればルテニウムは焼結もせず、Ce2O3 による表面汚染
も受けずにCe2O3 からの電子供与を有効に受けることが
できる。本発明ではニッケル添加したCeO2担体をあらか
じめ部分還元しておくことにより、表面汚染のない活性
なルテニウムクラスターの状態を高温での水素還元なし
に作ることができ、高活性な触媒を得ることができる。
本発明の触媒が優れた性能を示す理由は次のように考え
られる。ルテニウム金属クラスターをCeO2上に担持さ
せ、水素処理を行うとルテニウム金属上で活性化された
水素によりルテニウムに隣接するCeO2の部分が還元され
Ce2O3 となり、この状態がルテニウムに電子を与えるた
めに、促進剤なしで高活性を得ることができた。しかし
ながら、高温での水素処理中にCe2O3 の一部はルテニウ
ム金属表面にはい上がり活性点の一部をつぶしてしまう
ことも明らかとなった。CeO2にニッケルを加えて還元す
ることであらかじめ還元されたCe2O3 の状態を表面に作
ることができ、この状態にルテニウムクラスターを後か
ら加え、比較的低温で還元および／または真空排気処理
すればルテニウムは焼結もせず、Ce2O3 による表面汚染
も受けずにCe2O3 からの電子供与を有効に受けることが
できる。本発明ではニッケル添加したCeO2担体をあらか
じめ部分還元しておくことにより、表面汚染のない活性
なルテニウムクラスターの状態を高温での水素還元なし
に作ることができ、高活性な触媒を得ることができる。
【００１４】アンモニア合成反応における反応条件は、
平衡論上低温高圧が望ましいが、本発明の触媒は反応温
度１００℃〜５００℃、好ましくは１５０℃〜３５０℃
で使用される。また、反応圧力は０．５〜３００気圧
（約５０〜３００００ｋＰａ）である。 空間速度は、
通常１０００〜１０００００／Ｈｒである。水素と窒素
のモル比は１：１〜５：１の範囲で選択されるが、化学
量論比である３：１またはこれより窒素過剰側の条件が
好ましい。 本発明の触媒は、低温活性であるためにア
ンモニアが高濃度で得られるので、液化分離が容易であ
る。
平衡論上低温高圧が望ましいが、本発明の触媒は反応温
度１００℃〜５００℃、好ましくは１５０℃〜３５０℃
で使用される。また、反応圧力は０．５〜３００気圧
（約５０〜３００００ｋＰａ）である。 空間速度は、
通常１０００〜１０００００／Ｈｒである。水素と窒素
のモル比は１：１〜５：１の範囲で選択されるが、化学
量論比である３：１またはこれより窒素過剰側の条件が
好ましい。 本発明の触媒は、低温活性であるためにア
ンモニアが高濃度で得られるので、液化分離が容易であ
る。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の効果を実施例により説明す
る。 実施例１ ２５ｇの硝酸セリウム六水和物Ce(NO3)3・6H2O を水に溶
解し、濃度０．２Ｎの溶液とした。ここに５％アンモニ
ア水をｐＨ１０になるまで滴下して沈澱を生成させた。
一晩攪拌後濾過吸引し、沈澱を純水で洗浄してから１０
０℃で乾燥し、次いで５００℃、３時間空気中で焼成す
ることによりCeO2担体を調製した。この担体５ｇをNi(N
O3)2・6H2Oを含むメタノール溶液に浸漬してニッケルを
含浸担持し、次いで５００℃において空気中で１時間焼
成し、真空排気後、さらに同温度で水素中で１２時間還
元した。得られたNi/CeO2 担体中のニッケル含有量はCe
O2担体に対して０．２５wt％（Niとして）であった。こ
の担体５ｇをルテニウムカルボニルRu3(CO)12 を含有す
るテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液約１００ｍｌ中に
浸漬し、その後溶媒を除去することによってルテニウム
を担体上に担持した。なお、ＴＨＦはアルゴン下で精製
したものを使用した。これをさらに４００℃に至るまで
昇温しながら真空排気処理し、Ru/Ni/CeO2触媒を調製し
た。得られたRu/Ni/CeO2触媒中のルテニウム担持量はＲ
ｕとして２．５wt％であった。その後、触媒を流通式反
応器に充填し、３１５℃、で１ｈｒ水素還元を行い、引
き続いてアンモニア合成反応を行った。反応温度は３１
５℃、反応圧力は１００、１０００、または４０００ｋ
Ｐａ、空間速度は、７２００／Ｈｒ（ガス流量６０ｍｌ
／ｍｉｎ．、触媒量０．５ｍｌ）、反応原料の窒素／水
素モル比は１／３であった。反応成績は触媒１ｇ、１時
間当たりのアンモニア生成モル数で表現した。
る。 実施例１ ２５ｇの硝酸セリウム六水和物Ce(NO3)3・6H2O を水に溶
解し、濃度０．２Ｎの溶液とした。ここに５％アンモニ
ア水をｐＨ１０になるまで滴下して沈澱を生成させた。
一晩攪拌後濾過吸引し、沈澱を純水で洗浄してから１０
０℃で乾燥し、次いで５００℃、３時間空気中で焼成す
ることによりCeO2担体を調製した。この担体５ｇをNi(N
O3)2・6H2Oを含むメタノール溶液に浸漬してニッケルを
含浸担持し、次いで５００℃において空気中で１時間焼
成し、真空排気後、さらに同温度で水素中で１２時間還
元した。得られたNi/CeO2 担体中のニッケル含有量はCe
O2担体に対して０．２５wt％（Niとして）であった。こ
の担体５ｇをルテニウムカルボニルRu3(CO)12 を含有す
るテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液約１００ｍｌ中に
浸漬し、その後溶媒を除去することによってルテニウム
を担体上に担持した。なお、ＴＨＦはアルゴン下で精製
したものを使用した。これをさらに４００℃に至るまで
昇温しながら真空排気処理し、Ru/Ni/CeO2触媒を調製し
た。得られたRu/Ni/CeO2触媒中のルテニウム担持量はＲ
ｕとして２．５wt％であった。その後、触媒を流通式反
応器に充填し、３１５℃、で１ｈｒ水素還元を行い、引
き続いてアンモニア合成反応を行った。反応温度は３１
５℃、反応圧力は１００、１０００、または４０００ｋ
Ｐａ、空間速度は、７２００／Ｈｒ（ガス流量６０ｍｌ
／ｍｉｎ．、触媒量０．５ｍｌ）、反応原料の窒素／水
素モル比は１／３であった。反応成績は触媒１ｇ、１時
間当たりのアンモニア生成モル数で表現した。
【００１６】反応結果を表１に示す。また、得られたRu
/Ni/CeO2触媒の反応条件下でのルテニウムクラスター構
造を調べるためにＥＸＡＦＳを測定したところ、Ｒｕ原
子のまわりの最近接Ｒｕ原子数は５程度であり、Ｒｕ原
子のまわりの最近接酸素（CeO2の表面酸素）数が約１で
あることと併せて、２次元ルテニウムクラスターが担持
されていると考えられた。
/Ni/CeO2触媒の反応条件下でのルテニウムクラスター構
造を調べるためにＥＸＡＦＳを測定したところ、Ｒｕ原
子のまわりの最近接Ｒｕ原子数は５程度であり、Ｒｕ原
子のまわりの最近接酸素（CeO2の表面酸素）数が約１で
あることと併せて、２次元ルテニウムクラスターが担持
されていると考えられた。
【００１７】比較例１ CeO2担体へのニッケル担持とそれに続く焼成、還元工程
を省略し、ルテニウム担持後の水素前処理温度を３１５
または５００℃とした他は実施例１と同様にしてRu/CeO
2 触媒を調製した。得られた触媒を実施例１と同じ条件
で活性試験を行った。反応結果を表１に示す。
を省略し、ルテニウム担持後の水素前処理温度を３１５
または５００℃とした他は実施例１と同様にしてRu/CeO
2 触媒を調製した。得られた触媒を実施例１と同じ条件
で活性試験を行った。反応結果を表１に示す。
【００１８】
【表１】 表１． ３１５℃におけるアンモニア合成速度［μmol/g・hr］ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 水素前処理 反応圧力［ｋＰａ］ ━━━━━━━━━━━━━━━━ 温度［℃］ １００ １０００ ４０００ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例１ Ru/Ni/CeO2 ３１５ ９３０ １５８０ １７７０ ──────────────────────────────────── 比較例１ Ru/CeO2 ３１５ ２５０ −− −− ５００ ８５０ １４４０ １６２０ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 表１より、本発明の触媒は比較例の触媒に比べてアンモ
ニアの合成速度が大きいことがわかる。
ニアの合成速度が大きいことがわかる。
【００１９】
【発明の効果】本発明の触媒は調製が容易で、かつ従来
の担持ルテニウム触媒に比べてアンモニア合成活性が高
い。
の担持ルテニウム触媒に比べてアンモニア合成活性が高
い。
Claims (4)
- 【請求項１】 ルテニウム、ニッケルおよびセリウムか
ら成るアンモニア合成触媒。 - 【請求項２】 セリウムの少なくとも一部が３価の状態
である請求項１記載のアンモニア合成触媒。 - 【請求項３】 酸化セリウムから成る担体にニッケル化
合物を添加した後水素還元を行い、次いで該担体にルテ
ニウムカルボニルを反応させてルテニウムを担持し、し
かるのちに真空排気および／または還元することを特徴
とするルテニウム、ニッケルおよびセリウムから成るア
ンモニア合成触媒の調製法。 - 【請求項４】 ルテニウム、ニッケルおよびセリウムか
ら成る触媒を使用することを特徴とする、窒素と水素か
らのアンモニアの合成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28971194A JP3552766B2 (ja) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | アンモニア合成触媒およびその調製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28971194A JP3552766B2 (ja) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | アンモニア合成触媒およびその調製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011074524A1 (ja) | 2009-12-14 | 2011-06-23 | 株式会社日本触媒 | アンモニアの合成方法 |
| JP2013111562A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 組成物及び該組成物を用いたアンモニア製造方法 |
| US10131545B2 (en) | 2013-01-22 | 2018-11-20 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Ammonia synthesis method and catalyst for ammonia synthesis |
| US10017395B2 (en) | 2014-03-13 | 2018-07-10 | Japan Science And Technology Agency | Ammonia synthesis catalyst and ammonia synthesis method |
| JP2017148810A (ja) * | 2017-05-26 | 2017-08-31 | 住友化学株式会社 | アンモニア合成触媒及びアンモニアの製造方法 |
| WO2019059190A1 (ja) * | 2017-09-25 | 2019-03-28 | 国立研究開発法人科学技術振興機構 | 複合酸化物、金属担持物及びアンモニア合成触媒 |
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