JPH08134006A - １、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−２−オール誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 １、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）
プロパン−２−オール誘導体を高収率で、しかも容易に
製造する。 【構成】 特定のプロピレンオキサイド誘導体と、特定
のカテコール誘導体を塩基の存在下、特定量の第四級ア
ンモニウム塩または金属酸化物、あるいは第四級アンモ
ニウム塩及び金属酸化物を共存させて、水等の溶媒を加
え、加熱、撹拌し、１、３−ビス（２−ヒドロキシフェ
ノキシ）プロパン−２−オール誘導体を得る。 【効果】 簡単に収率よく目的物を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、クラウンエーテル中間
原料として有用な１、３−ビス（２−ヒドロキシフェノ
キシ）プロパン−２−オール誘導体の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、１、３−ビス（２−ヒドロキシフ
ェノキシ）プロパン−２−オール誘導体、例えば１、３
−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−２−オ
ールの合成法として、１、３−ビス（２−ベンジルオ
キシ）プロパン−２−オールをテトラヒドロフラン又は
ジオキサン溶媒中、Ｐｄ／Ｃで水素雰囲気下、開裂させ
る方法〔J. Med. Chem. 26, 1561 （1983）〕、エピ
クロルヒドリンとカテコールを塩基の存在下、反応させ
る方法（ＤＤ２４８、１１４）などが知られている。

【０００３】

【発明が解決すべき課題】前述の従来の製造法ではの
方法では原料となる１、３−ビス（２−ベンジルオキ
シ）プロパン−２−オールの合成が不均一相反応で行わ
れ、その上精製が困難で、しかも全反応経路が長くなる
ため、収率が低くなるなどの問題点があった。の方法
では不均一相反応となるため、収率は３０％に過ぎなか
ったなどの問題点があった。

【０００４】本発明はこのような問題点を解消するため
になされたものであって、１、３−ビス（２−ヒドロキ
シフェノキシ）プロパン−２−オール誘導体を容易に得
ることができる製造方法を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、原料として特定
のプロピレンオキサイド誘導体と特定のカテコール誘導
体を塩基の存在下、特定量の第四級アンモニウム塩また
は金属酸化物、あるいは第四級アンモニウム塩及び金属
酸化物を共存させて反応させることにより、極めて高収
率で１、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパ
ン−２−オール誘導体を製造し得ることを見出し、本発
明を完成するに至った。

【０００６】即ち、本発明の１、３−ビス（２−ヒドロ
キシフェノキシ）プロパン−２−オール誘導体の製造方
法は、下記一般式（１）で表されるプロピレンオキサイ
ド誘導体と、 （１）

【０００７】

【化５】

【０００８】（式中、Ｒ１はハロゲン原子を示す。） 下記一般式（２）で表されるカテコール誘導体を （２）

【０００９】

【化６】

【００１０】（式中、Ｒ２は水素原子またはベンジル
基、Ｒ３は水素原子、低級アルキル基、アリール基、ハ
ロゲン原子を示す。） 塩基の存在下、下記一般式（３）で表される第四級アン
モニウム塩 （３）

【００１１】

【化７】

【００１２】（式中、Ｒ４は低級アルキル基、ベンジル
基、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は独立に低級アルキル基、Ｒ８は
ハロゲン原子または水酸基を示す。） または金属酸化物、あるいは第四級アンモニウム塩及び
金属酸化物をカテコール誘導体１当量に対してそれぞれ
０．００１〜０．５当量共存させて反応させ、下記一般
式（４）で表される１、３−ビス（２−ヒドロキシフェ
ノキシ）プロパン−２−オール誘導体を得るものであ
る。 （４）

【００１３】

【化８】

【００１４】（式中、Ｒ９、Ｒ１１は独立に水素原子、
低級アルキル基、アリール基、ハロゲン原子を示し、Ｒ
１０、Ｒ１２は水素原子またはベンジル基を示す。） 以下、本発明の詳細について説明する。本発明の製造方
法は、プロピレンオキサイド誘導体、カテコール誘導体
及び第四級アンモニウム塩または金属酸化物、あるいは
第四級アンモニウム塩及び金属酸化物を塩基物質の存在
下で混合、撹拌することにより、１、３−ビス（２−ヒ
ドロキシフェノキシ）プロパン−２−オール誘導体を得
る。

【００１５】出発物質として用いられるプロピレンオキ
サイド誘導体は、一般式（１）で示され、 （１）

【００１６】

【化９】

【００１７】式中Ｒ１はハロゲン原子を示す。ハロゲン
原子としては、塩素、臭素、沃素等が挙げられる。更
に、１、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパ
ン−２−オール誘導体を製造するための出発物質として
用いられるカテコール誘導体は一般式（２）で示され、
（２）

【００１８】

【化１０】

【００１９】式中Ｒ２は水素原子またはベンジル基、Ｒ
３は水素原子、低級アルキル基、アリール基、ハロゲン
原子を示す。低級アルキル基としてはメチル基、エチル
基、ブチル基、プロピル基等が挙げられ、アリール基と
してはフェニル基が挙げられ、ハロゲン原子としては、
塩素、臭素、沃素等が挙げられる。また、１、３−ビス
（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−２−オール誘
導体を製造する際カテコール誘導体と共に用いられる第
四級アンモニウム塩は目的物を収率よく得るために非常
に重要である。第四級アンモニウム塩は一般式（３）で
示され、 （３）

【００２０】

【化１１】

【００２１】式中Ｒ４は低級アルキル基、ベンジル基、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は低級アルキル基、Ｒ８はハロゲン原
子または水酸基を示す。低級アルキル基としてはメチル
基、エチル基、ブチル基、プロピル基等が挙げられ、ハ
ロゲン原子としては塩素、臭素、沃素等が挙げられ、好
適な第四級アンモニウム塩の例としては、ベンジルトリ
メチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウ
ム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、テトラメチ
ルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テト
ラブチルアンモニウム塩等であり、これらは１種を単独
で使用してもよく、または２種以上併用してもよい。

【００２２】更に、１、３−ビス（２−ヒドロキシフェ
ノキシ）プロパン−２−オール誘導体を製造する際カテ
コール誘導体と共に用いられる金属酸化物は第四級アン
モニウム塩と同様の効果を有するものであり、単独で使
用されてもまた第四級アンモニウム塩と共に使用されて
も目的物を収率よく得ることができる。金属酸化物とし
て好適なものは酸化第一銅、酸化第二銅、一酸化ニッケ
ル、三二酸化ニッケル等であり、これらは１種または２
種以上を併用してもよい。

【００２３】このようなプロピレンオキサイド誘導体、
カテコール誘導体は１：０．５〜２．０の割合で添加さ
れる。プロピレンオキサイド誘導体、カテコール誘導体
と共に添加される第四級アンモニウム塩または金属酸化
物の添加量は、目的物を収率よく得るために非常に重要
であって、それぞれ単独で使用される場合も併用される
場合も各々下限はカテコール誘導体１当量に対し、０．
００１当量であり、上限は０．５当量である。特に好ま
しい下限は０．０１当量であり、上限は０．３当量であ
る。０．００１当量以下の場合には、反応が起こりにく
く、また、０．５当量以上になれば、反応生成物と第四
級アンモニウム塩、金属酸化物との分離が困難となる。

【００２４】このようなプロピレンオキサイド誘導体、
カテコール誘導体及び第四級アンモニウム塩及び／また
は金属酸化物を混合する際、存在する塩基としては、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、その他ナトリウムメ
チラート、カリウムｔ−ブチラート、ナトリウムハイド
ライド、アニオン交換樹脂（ＯＨ型）等何れのものも使
用可能であり、好適には水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムである。これらは１種あるいは２種以上併用しても
よい。塩基の添加量はカテコール誘導体１当量に対して
０．１〜２当量である。

【００２５】上述の物質は適宜溶媒を使用して反応させ
ることができる。本発明で使用可能な溶媒の例として
は、水、エタノール及びブタノール等のアルコール、ジ
オキサン及びテトラヒドロフランなどのエーテル、トル
エン及びキシレン等の炭化水素、ジクロロメタン、テト
ラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルホルムアミド、１、３−ジメチル−
２−イミダゾリジノン等が挙げられ、これらは１種また
は２種以上併用することができるが、溶媒を使用せずに
反応を行なうこともできる。

【００２６】反応温度は使用する溶媒によって異なる
が、一般に２５〜２００℃でよく、９０〜１４０℃が好
ましい。反応時間は１〜５０時間程度でよい。反応中は
攪拌を行うのが好ましい。得られる１、３−ビス（２−
ヒドロキシフェノキシ）プロパン−２−オール誘導体を
単離精製する方法は特に限定されず公知の方法が採用で
きる。例えば反応液から反応溶媒を留去した後、残渣を
常圧蒸留または真空蒸留することにより目的物を得る。
また、蒸留により精製する他、生成物が固体の場合には
再結晶により精製することも出来る。

【００２７】このような反応を行なうことにより得られ
る目的生成物は一般式（４）で示される１、３−ビス
（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−２−オール誘
導体である。 （４）

【００２８】

【化１２】

【００２９】出発物質を違えることにより、式中Ｒ９、
Ｒ１１は独立に水素原子、低級アルキル基、アリール
基、ハロゲン原子となり、低級アルキル基としてメチル
基、エチル基、ブチル基、プロピル基等であり、アリー
ル基としてフェニル基、ハロゲン原子として塩素、臭
素、沃素等であり、Ｒ１０、Ｒ１２は水素原子またはベ
ンジル基のものが得られる。

【００３０】

【作用】特定のプロピレオンオキシド誘導体と特定のカ
テコール誘導体を塩基の存在下、特定量の第四級アンモ
ニウム塩または金属酸化物、あるいは第四級アンモニウ
ム塩及び金属酸化物を共存させて反応させることにより
極めて高収率で１、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキ
シ）プロパン−２−オール誘導体を得ることができる。

【００３１】

〔実施例１〕

１、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−
２−オールの合成 カテコール１１ｇ（０．１モル）、エピクロルヒドリン
３．８ｍｌ（０．０５モル）とベンジルトリメチルアン
モニウムクロライド０．９５ｇ（５ミリモル）に窒素雰
囲気下、１００〜１２０℃で水酸化ナトリウム４ｇ
（０．１モル）を溶解した水溶液（５ｍｌ）を１時間で
滴下し、さらに３時間同温で加熱攪拌した。

【００３２】反応終了後、反応混合物を水に投入し、生
成する結晶を濾別し、エタノールより再結晶して１、３
−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−２−オ
ールを単離した。収率は９２％であった。 〔実施例２〕 １、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−
２−オールの合成 カテコール１１ｇ（０．１モル）、エピクロルヒドリン
３．８ｍｌ（０．０５モル）、溶媒としてジメチルホル
ムアミド５ｍｌ、水酸化ナトリウム４ｇ（０．１モル）
を溶解した水溶液（５ｍｌ）を使用し、反応温度９０℃
でカテコール１当量に対して０．１当量及び０．３当量
（実施例２−１、２）のベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライドを加えて反応を行った。薄層クロマトグラ
フィーでカテコールが消失するまで反応を行った。

【００３３】反応後、反応混合物を水に投入し、生成す
る結晶を濾別し、エタノールより再結晶して１、３−ビ
ス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−２−オール
を単離した。収率は単離後その収量より求めた。結果を
表１に示す。比較例として、ベンジルトリエチルアンモ
ニウムクロライドを０．０００８当量及び０．６当量を
加えた他は実施例２と同様にして反応させた。

【００３４】単離後、収量より収率を求めた。結果を表
１に示す。

【００３５】

【表１】

【００３６】〔実施例３〕 １、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−
２−オールの合成 カテコール１１ｇ（０．１モル）、エピクロルヒドリン
３．８ｍｌ（０．０５モル）、溶媒としてジメチルホル
ムアミド５ｍｌ、水酸化ナトリウム４ｇ（０．１モル）
を溶解した水溶液（５ｍｌ）を使用し、反応温度９０℃
でカテコール１当量に対して０．１当量及び０．３当量
（実施例３−１、２）の酸化第二銅を加えて反応を行っ
た。薄層クロマトグラフィーでカテコールが消失するま
で反応を行った。

【００３７】反応後、反応混合物を水に投入し、生成す
る結晶を濾別し、エタノールより再結晶して１、３−ビ
ス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−２−オール
を単離した。収率は単離後その収量より求めた。結果を
表２に示す。比較例として、酸化第二銅を０．０００８
当量及び０．６当量を加えた他は実施例３と同様にして
反応させた。

【００３８】単離後、収量より収率を求めた。結果を表
２に示す。

【００３９】

【表２】

【００４０】〔実施例４〕実施例１におけるベンジルト
リメチルアンモニウムクロライドの代りにベンジルトリ
エチルアンモニウムクロライド、溶媒としてジメチルス
ルホキシド５ｍｌを用いた以外は実施例１と同様な操作
を行って１、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プ
ロパン−２−オールを単離した。

【００４１】収率は９６％であった。 〔実施例５〕 １、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−
２−オールの合成 カテコール１１ｇ（０．１モル）、エピクロルヒドリン
３．８ｍｌ（０．０５モル）、溶媒としてジメチルホル
ムアミド５ｍｌ、水酸化ナトリウム４ｇ（０．１モル）
を溶解した水溶液（５ｍｌ）を使用し、反応温度９０℃
でカテコール１当量に対してそれぞれ０．１当量のベン
ジルトリエチルアンモニウムクロライド及び酸化第二銅
（実施例５−１）、それぞれ０．３当量のベンジルトリ
エチルアンモニウムクロライド及び酸化第二銅（実施例
５−２）を加えて反応を行なった。薄層クロマトグラフ
ィーでカテコールが消失するまで反応を行った。

【００４２】反応後、反応混合物を水に投入し、生成す
る結晶を濾別し、エタノールより再結晶して１、３−ビ
ス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−２−オール
を単離した。収率は単離後その収量より求めた。結果を
表３に示す。比較例として、ベンジルトリエチルアンモ
ニウムクロライド及び酸化第二銅をそれぞれ０．０００
８当量及び０．６当量を加えた他は実施例５と同様にし
て反応させた。

【００４３】単離後、収量より収率を求めた。結果を表
３に示す。

【００４４】

【表３】

【００４５】結果からも、所定量の第四級アンモニウム
塩または金属酸化物、あるいは所定量の第四級アンモニ
ウム塩及び金属酸化物を併用し、これらと塩基の存在下
でプロピレンオキサイド誘導体とカテコール誘導体を反
応させることにより高収率で目的物が得ることができる
ことがわかった。

【００４６】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の１、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパ
ン−２−オール誘導体の製造方法によれば、特定のプロ
ピレンオキサイド誘導体と特定のカテコール誘導体を塩
基存在下、特定量の第四級アンモニウム塩または金属酸
化物、あるいは第四級アンモニウム塩及び金属酸化物を
共存させて反応させることにより、高収率で、しかも容
易に１、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパ
ン−２−オール誘導体を得ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式（１）で表されるプロピレンオ
   キサイド誘導体と、 （１） 【化１】 （式中、Ｒ１はハロゲン原子を示す。） 下記一般式（２）で表されるカテコール誘導体とを （２） 【化２】 （式中、Ｒ２は水素原子またはベンジル基、Ｒ３は水素
   原子、低級アルキル基、アリール基、ハロゲン原子を示
   す。） 塩基の存在下、下記一般式（３）で表される第四級アン
   モニウム塩 （３） 【化３】 （式中、Ｒ４は低級アルキル基、ベンジル基、Ｒ５、Ｒ
   ６、Ｒ７は独立に低級アルキル基、Ｒ８はハロゲン原子
   または水酸基を示す。） 及び／または金属酸化物を前記カテコール誘導体１当量
   に対してそれぞれ０．００１〜０．５当量共存させて反
   応させることを特徴とする下記一般式（４）で表される
   １、３−ビス（２−ヒドロキシフェノキシ）プロパン−
   ２−オール誘導体の製造方法。 （４） 【化４】 （式中、Ｒ９、Ｒ１０は独立に水素原子、低級アルキル
   基、アリール基、ハロゲン原子を示し、Ｒ１０、Ｒ１２
   は水素原子またはベンジル基を示す。）