JPH08133753A - 光学用合成石英ガラス及びその製造方法並びにその用途 - Google Patents
光学用合成石英ガラス及びその製造方法並びにその用途Info
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- JPH08133753A JPH08133753A JP26687894A JP26687894A JPH08133753A JP H08133753 A JPH08133753 A JP H08133753A JP 26687894 A JP26687894 A JP 26687894A JP 26687894 A JP26687894 A JP 26687894A JP H08133753 A JPH08133753 A JP H08133753A
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- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
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Abstract
(57)【要約】
【構成】ＯＨ濃度が１０ｐｐｍ〜６０ｐｐｍ、Ｃｌ濃度
が５ｐｐｍ以下、実質的に金属不純物を含まず、１７０
ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が８０％〜８５％であ
り、かつ、３方向に脈理がないことを特徴とする光学用
合成石英ガラスおよび、シリカ多孔質体を透明ガラス化
温度以下の温度領域で一定時間保持し、加熱処理後の密
度を所定の範囲にする光学用合成石英ガラスの製造方法
並びにその光学用合成石英ガラスの用途。 【効果】本発明の光学用合成石英ガラスは、真空紫外領
域での透過率を高く、真空紫外領域ランプ等に使用でき
るガラスチューブや真空紫外領域で使用される窓板，レ
ンズ，プリズム等の光学部材を製造することが出来る。
また、本発明の製造方法によれば、Ｃｌ元素，金属不純
物，３方向に脈理を含むことなく、ＯＨ濃度を制御する
ことが可能であり、上記の真空紫外領域での透過率を高
い光学用合成石英ガラスを得られる。
が５ｐｐｍ以下、実質的に金属不純物を含まず、１７０
ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が８０％〜８５％であ
り、かつ、３方向に脈理がないことを特徴とする光学用
合成石英ガラスおよび、シリカ多孔質体を透明ガラス化
温度以下の温度領域で一定時間保持し、加熱処理後の密
度を所定の範囲にする光学用合成石英ガラスの製造方法
並びにその光学用合成石英ガラスの用途。 【効果】本発明の光学用合成石英ガラスは、真空紫外領
域での透過率を高く、真空紫外領域ランプ等に使用でき
るガラスチューブや真空紫外領域で使用される窓板，レ
ンズ，プリズム等の光学部材を製造することが出来る。
また、本発明の製造方法によれば、Ｃｌ元素，金属不純
物，３方向に脈理を含むことなく、ＯＨ濃度を制御する
ことが可能であり、上記の真空紫外領域での透過率を高
い光学用合成石英ガラスを得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＯＨ濃度が１０ｐｐｍ
〜６０ｐｐｍ、Ｃｌ濃度が５ｐｐｍ以下、実質的に金属
不純物を含まず、１７０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍ
ｍ）が８０〜８５％、かつ、３方向に脈理がないことを
特徴とする光学用合成石英ガラス及びその製造方法に関
する。又、その光学用合成石英ガラスを利用して作成す
る真空紫外領域ランプ等に使用できるガラスチューブや
真空紫外領域で使用される窓板，レンズ，プリズム等の
光学部材も本発明の範囲に含まれる。
〜６０ｐｐｍ、Ｃｌ濃度が５ｐｐｍ以下、実質的に金属
不純物を含まず、１７０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍ
ｍ）が８０〜８５％、かつ、３方向に脈理がないことを
特徴とする光学用合成石英ガラス及びその製造方法に関
する。又、その光学用合成石英ガラスを利用して作成す
る真空紫外領域ランプ等に使用できるガラスチューブや
真空紫外領域で使用される窓板，レンズ，プリズム等の
光学部材も本発明の範囲に含まれる。
【０００２】
【従来の技術】石英ガラスは、ガラスの中では最も耐熱
性が高く、熱膨張率が極めて小さく、また耐薬品性に優
れているために様々な用途に使用されている。さらに近
赤外から真空紫外領域までの波長にわたって光の透過性
に優れているが、特に、合成石英ガラスは紫外から真空
紫外領域の透過性に優れるために、この領域での光学用
部材として使用されている。
性が高く、熱膨張率が極めて小さく、また耐薬品性に優
れているために様々な用途に使用されている。さらに近
赤外から真空紫外領域までの波長にわたって光の透過性
に優れているが、特に、合成石英ガラスは紫外から真空
紫外領域の透過性に優れるために、この領域での光学用
部材として使用されている。
【０００３】従来の石英ガラスの製造方法には大きく分
けて２種類ある。１つは、天然の水晶を溶融する溶融石
英ガラスであり、もう１つはガラス生成原料を火炎加水
分解し、直接溶融させる合成石英ガラスである。溶融石
英ガラスは、天然の水晶を原料に用いるために金属不純
物がガラス中に残存し、その不純物による吸収帯が紫外
領域に存在するために、紫外領域、さらには真空紫外領
域での透過率が悪くなってしまう。一方、合成石英ガラ
スは、金属不純物が存在しないので紫外領域及び真空紫
外領域の透過率は高い。しかしながら、更に透過率の高
いものが望まれていた。
けて２種類ある。１つは、天然の水晶を溶融する溶融石
英ガラスであり、もう１つはガラス生成原料を火炎加水
分解し、直接溶融させる合成石英ガラスである。溶融石
英ガラスは、天然の水晶を原料に用いるために金属不純
物がガラス中に残存し、その不純物による吸収帯が紫外
領域に存在するために、紫外領域、さらには真空紫外領
域での透過率が悪くなってしまう。一方、合成石英ガラ
スは、金属不純物が存在しないので紫外領域及び真空紫
外領域の透過率は高い。しかしながら、更に透過率の高
いものが望まれていた。
【０００４】真空紫外領域の光学用途の１つとしてラン
プ用チューブがある。紫外領域の光は非常に強いエネル
ギーを持っており、化学的エネルギー源として樹脂や塗
料・インキの硬化・乾燥、光洗浄、光殺菌、光合成・分
解などの幅広くで実用化されている。さらに、よりエネ
ルギーの強い、より波長の短い光が求められており、つ
まり、真空紫外領域の光を発する光源が求められてい
る。この波長域の光源としては、エキシマレーザとエキ
シマランプがある。エキシマレーザは、高いエネルギー
密度の光を発することができるが、装置を構成する部品
が多いことから装置が大型になってしまう点、また、そ
の高いエネルギー密度に耐え得るような光学部品を組合
わせる必要があることから、高価であり、耐久性等に問
題がある。一方、エキシマランプは、エネルギー密度は
低いものの、低価格・コンパクトサイズが可能である。
プ用チューブがある。紫外領域の光は非常に強いエネル
ギーを持っており、化学的エネルギー源として樹脂や塗
料・インキの硬化・乾燥、光洗浄、光殺菌、光合成・分
解などの幅広くで実用化されている。さらに、よりエネ
ルギーの強い、より波長の短い光が求められており、つ
まり、真空紫外領域の光を発する光源が求められてい
る。この波長域の光源としては、エキシマレーザとエキ
シマランプがある。エキシマレーザは、高いエネルギー
密度の光を発することができるが、装置を構成する部品
が多いことから装置が大型になってしまう点、また、そ
の高いエネルギー密度に耐え得るような光学部品を組合
わせる必要があることから、高価であり、耐久性等に問
題がある。一方、エキシマランプは、エネルギー密度は
低いものの、低価格・コンパクトサイズが可能である。
【０００５】エキシマランプを作製するには、真空紫外
領域での光の透過率の高いチューブ及び光学部品が必要
である。
領域での光の透過率の高いチューブ及び光学部品が必要
である。
【０００６】従来の合成石英ガラスでは、真空紫外領域
での透過率を充分満足するものができていなかった。例
えば、直接法で作製したガラスでは、１７０ｎｍでの透
過率（厚さ１０ｍｍ）が５５〜７５％である。またＶＡ
Ｄ法により作製したガラスでは、塩素処理を行った場合
１７０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が５５〜６５％
であり、塩素処理を行わない場合１７０ｎｍでの透過率
（厚さ１０ｍｍ）が７２〜７８％である。
での透過率を充分満足するものができていなかった。例
えば、直接法で作製したガラスでは、１７０ｎｍでの透
過率（厚さ１０ｍｍ）が５５〜７５％である。またＶＡ
Ｄ法により作製したガラスでは、塩素処理を行った場合
１７０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が５５〜６５％
であり、塩素処理を行わない場合１７０ｎｍでの透過率
（厚さ１０ｍｍ）が７２〜７８％である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、真空
紫外領域での光の透過率の高い新規な光学用合成石英ガ
ラス及びその製造方法を提供する。
紫外領域での光の透過率の高い新規な光学用合成石英ガ
ラス及びその製造方法を提供する。
【０００８】また、その光学用合成石英ガラスを利用し
て作成する真空紫外領域ランプ等に使用できるガラスチ
ューブや真空紫外領域で使用される窓板，レンズ，プリ
ズム等の光学部材を提供することも、本発明の目的であ
る。
て作成する真空紫外領域ランプ等に使用できるガラスチ
ューブや真空紫外領域で使用される窓板，レンズ，プリ
ズム等の光学部材を提供することも、本発明の目的であ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために鋭意検討した結果、ガラス生成原料
を用いた合成石英ガラスにおいて、ＯＨ濃度を最適化さ
せると真空紫外領域の透過率が高くなることを見出し
た。
題を解決するために鋭意検討した結果、ガラス生成原料
を用いた合成石英ガラスにおいて、ＯＨ濃度を最適化さ
せると真空紫外領域の透過率が高くなることを見出し
た。
【００１０】本発明は、合成石英ガラスにおいて、ＯＨ
濃度が１０〜６０ｐｐｍ、Ｃｌ濃度が５ｐｐｍ以下、実
質的に金属不純物を含まず、１７０ｎｍでの透過率（厚
さ１０ｍｍ）が８０〜８５％であり、かつ、３方向に脈
理がないことを特徴とする新規な光学用合成石英ガラス
を提供するものである。
濃度が１０〜６０ｐｐｍ、Ｃｌ濃度が５ｐｐｍ以下、実
質的に金属不純物を含まず、１７０ｎｍでの透過率（厚
さ１０ｍｍ）が８０〜８５％であり、かつ、３方向に脈
理がないことを特徴とする新規な光学用合成石英ガラス
を提供するものである。
【００１１】また本発明は、以下の工程から成ることを
特徴とする合成石英ガラスの製造方法も提供する。
特徴とする合成石英ガラスの製造方法も提供する。
【００１２】（１）ガラス生成原料を火炎加水分解して
生成されるシリカ微粒子を出発部材に堆積，成長させて
シリカ多孔質体を形成する工程、（２）前記シリカ多孔
質体を不活性ガス雰囲気下で透明ガラス化温度以下の温
度領域で一定時間保持し、加熱処理後の密度が１．６〜
２．０ｇ／ｃｍ3 の範囲になる様に加熱処理する工程、
（３）前記加熱処理されたシリカ多孔質体を透明ガラス
化して石英ガラス体を得る工程 また本発明は、別の製造方法として、以下の工程から成
ることを特徴とする合成石英ガラスの製造方法も提供す
る。
生成されるシリカ微粒子を出発部材に堆積，成長させて
シリカ多孔質体を形成する工程、（２）前記シリカ多孔
質体を不活性ガス雰囲気下で透明ガラス化温度以下の温
度領域で一定時間保持し、加熱処理後の密度が１．６〜
２．０ｇ／ｃｍ3 の範囲になる様に加熱処理する工程、
（３）前記加熱処理されたシリカ多孔質体を透明ガラス
化して石英ガラス体を得る工程 また本発明は、別の製造方法として、以下の工程から成
ることを特徴とする合成石英ガラスの製造方法も提供す
る。
【００１３】（１）ガラス生成原料を火炎加水分解して
生成されるシリカ微粒子を出発部材に堆積，成長させて
シリカ多孔質体を形成する工程、（２）前記シリカ多孔
質体を一酸化炭素濃度が５〜３０％で、残りが不活性ガ
スである混合ガス雰囲気下で透明ガラス化温度以下の温
度領域で一定時間保持し、加熱処理後の密度が１．０〜
１．５ｇ／ｃｍ3 の範囲になる様に加熱処理する工程、
（３）前記加熱処理されたシリカ多孔質体を透明ガラス
化して石英ガラス体を得る工程から成ることを特徴とす
る合成石英ガラスの製造方法を提供するものである。
生成されるシリカ微粒子を出発部材に堆積，成長させて
シリカ多孔質体を形成する工程、（２）前記シリカ多孔
質体を一酸化炭素濃度が５〜３０％で、残りが不活性ガ
スである混合ガス雰囲気下で透明ガラス化温度以下の温
度領域で一定時間保持し、加熱処理後の密度が１．０〜
１．５ｇ／ｃｍ3 の範囲になる様に加熱処理する工程、
（３）前記加熱処理されたシリカ多孔質体を透明ガラス
化して石英ガラス体を得る工程から成ることを特徴とす
る合成石英ガラスの製造方法を提供するものである。
【００１４】また、その合成石英ガラスを利用して作成
する真空紫外領域ランプ等に使用できる石英ガラスチュ
ーブや真空紫外領域で使用される窓板，レンズ，プリズ
ム等の光学部材も本発明の範囲に含まれる。
する真空紫外領域ランプ等に使用できる石英ガラスチュ
ーブや真空紫外領域で使用される窓板，レンズ，プリズ
ム等の光学部材も本発明の範囲に含まれる。
【００１５】本発明の光学用合成石英ガラスのＯＨ濃度
は１０〜６０ｐｐｍである。
は１０〜６０ｐｐｍである。
【００１６】もし、ＯＨ濃度が６０ｐｐｍを超える場合
には、真空紫外領域での透過率が悪くなり、ＯＨ濃度が
１０ｐｐｍ未満になっても、酸素欠乏欠陥の生成によ
り、真空紫外領域の透過率はかなり悪くなる。
には、真空紫外領域での透過率が悪くなり、ＯＨ濃度が
１０ｐｐｍ未満になっても、酸素欠乏欠陥の生成によ
り、真空紫外領域の透過率はかなり悪くなる。
【００１７】Ｃｌ濃度が５ｐｐｍ以下であることが必須
であり、１ｐｐｍ以下が好ましい。何故ならば、５ｐｐ
ｍを超えるＣｌを含有すると、真空紫外領域での透過率
が低下するために好ましくない。
であり、１ｐｐｍ以下が好ましい。何故ならば、５ｐｐ
ｍを超えるＣｌを含有すると、真空紫外領域での透過率
が低下するために好ましくない。
【００１８】金属不純物は、実質的に含まなければよ
い。実質的に含まないとは、金属不純物を分析する装置
の検出限界以下であるかまたは１０ｐｐｂ以下であるこ
とを意味する。
い。実質的に含まないとは、金属不純物を分析する装置
の検出限界以下であるかまたは１０ｐｐｂ以下であるこ
とを意味する。
【００１９】脈理は３方向にないことが必須である。脈
理が存在すると、光学用途での使用ができなくなる。
理が存在すると、光学用途での使用ができなくなる。
【００２０】また本発明において、光学用合成石英ガラ
スの製造方法は、上記の特性を満足すれば特に制約はな
が、例えば、以下の工程から成る方法が効果的な方法と
して好ましい。
スの製造方法は、上記の特性を満足すれば特に制約はな
が、例えば、以下の工程から成る方法が効果的な方法と
して好ましい。
【００２１】（１）ガラス生成原料を火炎加水分解して
生成されるシリカ微粒子を出発部材に堆積，成長させて
シリカ多孔質体を形成する工程 （２）前記シリカ多孔質体を不活性ガス雰囲気下で透明
ガラス化温度以下の温度領域で一定時間保持し、加熱処
理後の密度が１．６〜２．０ｇ／ｃｍ3 の範囲になる様
に加熱処理する工程 （３）前記加熱処理されたシリカ多孔質体を透明ガラス
化して石英ガラス体を得る工程 用いられるガラス生成原料としては、ガス化可能な珪素
化合物であれば特に制限されるものではないが、ＳｉＣ
ｌ4 ，ＳｉＨＣｌ3 等の塩化物、ＳｉＦ4 等のフッ化
物、ＳｉＢｒ4 等の臭化物、ＳｉＩ4 等のヨウ化物、Ｓ
ｉ（ＯＣＨ3 ）4等のアルキルシランを用いることが望
ましい。
生成されるシリカ微粒子を出発部材に堆積，成長させて
シリカ多孔質体を形成する工程 （２）前記シリカ多孔質体を不活性ガス雰囲気下で透明
ガラス化温度以下の温度領域で一定時間保持し、加熱処
理後の密度が１．６〜２．０ｇ／ｃｍ3 の範囲になる様
に加熱処理する工程 （３）前記加熱処理されたシリカ多孔質体を透明ガラス
化して石英ガラス体を得る工程 用いられるガラス生成原料としては、ガス化可能な珪素
化合物であれば特に制限されるものではないが、ＳｉＣ
ｌ4 ，ＳｉＨＣｌ3 等の塩化物、ＳｉＦ4 等のフッ化
物、ＳｉＢｒ4 等の臭化物、ＳｉＩ4 等のヨウ化物、Ｓ
ｉ（ＯＣＨ3 ）4等のアルキルシランを用いることが望
ましい。
【００２２】これらのガラス生成原料の純度は特に限定
されず、生成したガラス中に実質的に金属不純物が含ま
れなければよい。これらのガラス生成原料を酸水素炎中
で火炎加水分解させ、出発部材に堆積，成長させること
により、シリカ多孔質体を形成させる。
されず、生成したガラス中に実質的に金属不純物が含ま
れなければよい。これらのガラス生成原料を酸水素炎中
で火炎加水分解させ、出発部材に堆積，成長させること
により、シリカ多孔質体を形成させる。
【００２３】このようにして得られたシリカ多孔質体を
不活性ガス雰囲気中で一定時間保持し、加熱処理する。
不活性ガスは特に限定されない。例えば、窒素，ヘリウ
ム，アルゴン等の不活性ガスを単独あるいは混合して使
用すればよい。加熱処理された後のシリカ多孔質体の密
度が１．６〜２．０ｇ／ｃｍ3 の範囲に調整されるよう
に、温度及び時間を設定すればよい。
不活性ガス雰囲気中で一定時間保持し、加熱処理する。
不活性ガスは特に限定されない。例えば、窒素，ヘリウ
ム，アルゴン等の不活性ガスを単独あるいは混合して使
用すればよい。加熱処理された後のシリカ多孔質体の密
度が１．６〜２．０ｇ／ｃｍ3 の範囲に調整されるよう
に、温度及び時間を設定すればよい。
【００２４】実際、最初の工程で得られるシリカ多孔質
体の密度により設定する温度及び時間は異なってくる
が、例えば、シリカ多孔質体の密度が約０．３ｇ／ｃｍ
3 の場合、１２００〜１３５０℃の範囲で加熱処理を行
うことが好ましい。
体の密度により設定する温度及び時間は異なってくる
が、例えば、シリカ多孔質体の密度が約０．３ｇ／ｃｍ
3 の場合、１２００〜１３５０℃の範囲で加熱処理を行
うことが好ましい。
【００２５】また、その場合の加熱時間は、加熱処理さ
れた多孔質体の密度を１．６〜２．０ｇ／ｃｍ3 の範囲
に調整するために、当然のことながら、設定した温度に
よって異なることになる。例えば、１２５０℃の場合、
好ましくは３０〜６０時間であり、１３００℃の場合、
好ましくは１６〜４０時間である。
れた多孔質体の密度を１．６〜２．０ｇ／ｃｍ3 の範囲
に調整するために、当然のことながら、設定した温度に
よって異なることになる。例えば、１２５０℃の場合、
好ましくは３０〜６０時間であり、１３００℃の場合、
好ましくは１６〜４０時間である。
【００２６】加熱処理後のシリカ多孔質体の密度が１．
６ｇ／ｃｍ3 よりも低い場合には、ガラス中のＯＨ濃度
が６０ｐｐｍよりも高くなってしまう。一方、加熱処理
後のシリカ多孔質体の密度が２．０ｇ／ｃｍ3 よりも高
い場合には、シリカ多孔質体の一部、特に外表面部分が
ガラス化してしまい、その後の透明ガラス化工程を行っ
ても脱泡が不完全になり、透明なガラスを得ることがで
きない。
６ｇ／ｃｍ3 よりも低い場合には、ガラス中のＯＨ濃度
が６０ｐｐｍよりも高くなってしまう。一方、加熱処理
後のシリカ多孔質体の密度が２．０ｇ／ｃｍ3 よりも高
い場合には、シリカ多孔質体の一部、特に外表面部分が
ガラス化してしまい、その後の透明ガラス化工程を行っ
ても脱泡が不完全になり、透明なガラスを得ることがで
きない。
【００２７】また、別の製造方法として、一酸化炭素ガ
ス−不活性ガス雰囲気で加熱処理する方法がある。
ス−不活性ガス雰囲気で加熱処理する方法がある。
【００２８】シリカ多孔質体を一酸化炭素と不活性ガス
との混合ガス雰囲気下で一定時間保持し、加熱処理す
る。混合ガス中の一酸化炭素ガス濃度は５〜３０％の範
囲にする。なぜならば、その濃度が５％よりも低い場合
には、ガラス中のＯＨ濃度が６０ｐｐｍよりも高くなる
ことがあり、一酸化炭素濃度が３０％よりも高い場合に
は、ガラス中のＯＨ濃度が１０ｐｐｍよりも低くなるこ
とがあるからである。
との混合ガス雰囲気下で一定時間保持し、加熱処理す
る。混合ガス中の一酸化炭素ガス濃度は５〜３０％の範
囲にする。なぜならば、その濃度が５％よりも低い場合
には、ガラス中のＯＨ濃度が６０ｐｐｍよりも高くなる
ことがあり、一酸化炭素濃度が３０％よりも高い場合に
は、ガラス中のＯＨ濃度が１０ｐｐｍよりも低くなるこ
とがあるからである。
【００２９】加熱処理された後のシリカ多孔質体の密度
が１．０〜１．５ｇ／ｃｍ3 の範囲に調整されるよう
な、温度及び時間を設定すればよい。
が１．０〜１．５ｇ／ｃｍ3 の範囲に調整されるよう
な、温度及び時間を設定すればよい。
【００３０】実際は、最初の工程で得られるシリカ多孔
質体を密度により設定する温度及び時間は異なってくる
が、例えば、シリカ多孔質体の密度が約０．３ｇ／ｃｍ
3 の場合、１２００〜１３５０℃の範囲で加熱処理を行
うことが好ましい。
質体を密度により設定する温度及び時間は異なってくる
が、例えば、シリカ多孔質体の密度が約０．３ｇ／ｃｍ
3 の場合、１２００〜１３５０℃の範囲で加熱処理を行
うことが好ましい。
【００３１】また、その加熱時間は、加熱処理された多
孔質体の密度を１．０〜１．５ｇ／ｃｍ3 の範囲に調整
するために、当然のことながら、設定した温度によって
異なることになる。例えば、１２５０℃の場合、好まし
くは１２〜２４間であり、１３００℃の場合、好ましく
は８〜１５時間である。
孔質体の密度を１．０〜１．５ｇ／ｃｍ3 の範囲に調整
するために、当然のことながら、設定した温度によって
異なることになる。例えば、１２５０℃の場合、好まし
くは１２〜２４間であり、１３００℃の場合、好ましく
は８〜１５時間である。
【００３２】加熱処理後のシリカ多孔質体の密度が１．
０ｇ／ｃｍ3 よりも低い場合には、ガラス中のＯＨ濃度
が６０ｐｐｍよりも高くなってしまう。一方、加熱処理
後のシリカ多孔質体の密度が１．５ｇ／ｃｍ3 よりも高
い場合には、ガラス中のＯＨ濃度が１０ｐｐｍよりも低
くなってしまう。
０ｇ／ｃｍ3 よりも低い場合には、ガラス中のＯＨ濃度
が６０ｐｐｍよりも高くなってしまう。一方、加熱処理
後のシリカ多孔質体の密度が１．５ｇ／ｃｍ3 よりも高
い場合には、ガラス中のＯＨ濃度が１０ｐｐｍよりも低
くなってしまう。
【００３３】透明ガラス化の工程の温度は、特に限定さ
れるものではないが、１４００〜１６００℃であること
が好ましい。また、この工程の雰囲気は、脱泡ができる
ようなものであれば特に制限はないが、例えば、ガス透
過性のよいヘリウム等のガス雰囲気や真空雰囲気である
ことが好ましい。
れるものではないが、１４００〜１６００℃であること
が好ましい。また、この工程の雰囲気は、脱泡ができる
ようなものであれば特に制限はないが、例えば、ガス透
過性のよいヘリウム等のガス雰囲気や真空雰囲気である
ことが好ましい。
【００３４】本発明の製造方法によれば、ガラス生成原
料を火炎加水分解して生成されるシリカ微粒子を出発部
材に堆積，成長させてシリカ多孔質体を不活性ガス雰囲
気下あるいは一酸化炭素と不活性ガスとの混合ガス雰囲
気下で一定時間保持し、加熱処理後の密度を調整するこ
とで、得られるガラスのＯＨ濃度を制御することができ
る。さらには、ガラス中のＯＨ濃度を最適化すること
で、従来の石英ガラスでは達成できなかった真空紫外領
域の透過率を高めることができるようになった。さら
に、この真空紫外領域の透過率が高い本発明の新規な光
学用合成石英ガラスを使用すると、真空紫外領域ランプ
等に使用できるガラスチューブや真空紫外領域で使用さ
れる窓板，レンズ，プリズム等の光学部材を製造するこ
とが出来る。
料を火炎加水分解して生成されるシリカ微粒子を出発部
材に堆積，成長させてシリカ多孔質体を不活性ガス雰囲
気下あるいは一酸化炭素と不活性ガスとの混合ガス雰囲
気下で一定時間保持し、加熱処理後の密度を調整するこ
とで、得られるガラスのＯＨ濃度を制御することができ
る。さらには、ガラス中のＯＨ濃度を最適化すること
で、従来の石英ガラスでは達成できなかった真空紫外領
域の透過率を高めることができるようになった。さら
に、この真空紫外領域の透過率が高い本発明の新規な光
学用合成石英ガラスを使用すると、真空紫外領域ランプ
等に使用できるガラスチューブや真空紫外領域で使用さ
れる窓板，レンズ，プリズム等の光学部材を製造するこ
とが出来る。
【００３５】以下、本発明の詳細について実施例により
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。
【００３６】
【実施例】なお、各物性値の測定方法は次の通りであ
る。
る。
【００３７】ＯＨ濃度は、波長２７３０ｎｍ吸収帯のピ
ーク強度より算出した。Ｃｌ濃度は、硝酸銀、硝酸及び
フッ酸の混合液に、得られたガラスを入れて溶解して生
成する塩化銀を濾別し、アンモニア水を添加して再溶解
した後、溶液中の銀イオンをＩＣＰ発光分析により分析
して得られるＣｌ量から定量した。金属不純物濃度は、
得られたガラスを酸分解により溶解した後、ＩＣＰ質量
分析，ＩＣＰ発光分光分析，フレームレス原子吸光分析
により定量を行った。
ーク強度より算出した。Ｃｌ濃度は、硝酸銀、硝酸及び
フッ酸の混合液に、得られたガラスを入れて溶解して生
成する塩化銀を濾別し、アンモニア水を添加して再溶解
した後、溶液中の銀イオンをＩＣＰ発光分析により分析
して得られるＣｌ量から定量した。金属不純物濃度は、
得られたガラスを酸分解により溶解した後、ＩＣＰ質量
分析，ＩＣＰ発光分光分析，フレームレス原子吸光分析
により定量を行った。
【００３８】１７０ｎｍでの透過率は、真空紫外分光光
度計を用いて測定を行った。脈理の有無については、歪
検査器及び干渉計を用いて行った。
度計を用いて測定を行った。脈理の有無については、歪
検査器及び干渉計を用いて行った。
【００３９】実施例１ 公知の方法により、精製されたＳｉＣｌ4 を酸水素火炎
中で加水分解させて、直径３５０ｍｍ，長さ１０００ｍ
ｍのシリカ多孔質体を作製した。このシリカ多孔質体を
炉芯管を備えた均一加熱式電気炉で窒素ガス雰囲気にて
１３００℃において２４時間加熱処理を行った。加熱処
理されたシリカ多孔質体の密度は１．７ｇ／ｃｍ3 であ
った。
中で加水分解させて、直径３５０ｍｍ，長さ１０００ｍ
ｍのシリカ多孔質体を作製した。このシリカ多孔質体を
炉芯管を備えた均一加熱式電気炉で窒素ガス雰囲気にて
１３００℃において２４時間加熱処理を行った。加熱処
理されたシリカ多孔質体の密度は１．７ｇ／ｃｍ3 であ
った。
【００４０】次いで、加熱処理されたシリカ多孔質体を
炉芯管を備えたゾーン加熱式電気炉でヘリウムガス雰囲
気にて１５００℃において徐々に引下げ透明ガラス化を
行った。
炉芯管を備えたゾーン加熱式電気炉でヘリウムガス雰囲
気にて１５００℃において徐々に引下げ透明ガラス化を
行った。
【００４１】得られたものは、直径１７０ｍｍ，長さ５
７０ｍｍで、ハロゲンライトを照射して泡が観察されな
い透明なガラス体であった。得られたガラス体を切断し
各物性値を測定したところ、以下の様になった。
７０ｍｍで、ハロゲンライトを照射して泡が観察されな
い透明なガラス体であった。得られたガラス体を切断し
各物性値を測定したところ、以下の様になった。
【００４２】ＯＨ濃度が３０〜５５ｐｐｍ、Ｃｌ濃度が
１ｐｐｍ以下、金属不純物は全て１０ｐｐｂ以下、１７
０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が８０．５〜８１．
０％であり、かつ、３方向に脈理が観察されなかった。
１ｐｐｍ以下、金属不純物は全て１０ｐｐｂ以下、１７
０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が８０．５〜８１．
０％であり、かつ、３方向に脈理が観察されなかった。
【００４３】実施例２ 実施例１と同じ方法で、直径３５０ｍｍ，長さ１０００
ｍｍのシリカ多孔質体を作製した。このシリカ多孔質体
を炉芯管を備えた均一加熱式電気炉でヘリウムガス雰囲
気にて１２７５℃において３６時間加熱処理を行った。
ｍｍのシリカ多孔質体を作製した。このシリカ多孔質体
を炉芯管を備えた均一加熱式電気炉でヘリウムガス雰囲
気にて１２７５℃において３６時間加熱処理を行った。
【００４４】加熱処理されたシリカ多孔質体の密度は
１．９ｇ／ｃｍ3 であった。次いで、加熱処理されたシ
リカ多孔質体を炉芯管を備えたゾーン加熱式電気炉でヘ
リウムガス雰囲気にて１５００℃において徐々に引下げ
透明ガラス化を行った。得られたものは、直径１７０ｍ
ｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲンライトを照射して泡が
観察されない透明なガラス体であった。
１．９ｇ／ｃｍ3 であった。次いで、加熱処理されたシ
リカ多孔質体を炉芯管を備えたゾーン加熱式電気炉でヘ
リウムガス雰囲気にて１５００℃において徐々に引下げ
透明ガラス化を行った。得られたものは、直径１７０ｍ
ｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲンライトを照射して泡が
観察されない透明なガラス体であった。
【００４５】得られたガラス体を切断し各物性値を測定
したところ、以下の様になった。
したところ、以下の様になった。
【００４６】ＯＨ濃度が２０〜５０ｐｐｍ、Ｃｌ濃度が
１ｐｐｍ以下、金属不純物は全て１０ｐｐｂ下、１７０
ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が８１．０〜８２．０
％、３方向に脈理が観察されなかった。
１ｐｐｍ以下、金属不純物は全て１０ｐｐｂ下、１７０
ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が８１．０〜８２．０
％、３方向に脈理が観察されなかった。
【００４７】実施例３ 実施例１と同じ方法で、直径３５０ｍｍ，長さ１０００
ｍｍのシリカ多孔質体を作製した。このシリカ多孔質体
を炉芯管を備えた均一加熱式電気炉で一酸化炭素を１０
％含む窒素との混合ガス雰囲気にて１３００℃において
１２時間加熱処理を行った。加熱処理されたシリカ多孔
質体の密度は１．２ｇ／ｃｍ3 であった。次いで、加熱
処理されたシリカ多孔質体を炉芯管を備えたゾーン加熱
式電気炉でヘリウムガス雰囲気にて１５００℃において
徐々に引下げ透明ガラス化を行った。得られたものは、
直径１７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲンライトを
照射して泡が観察されない透明なガラス体であった。
ｍｍのシリカ多孔質体を作製した。このシリカ多孔質体
を炉芯管を備えた均一加熱式電気炉で一酸化炭素を１０
％含む窒素との混合ガス雰囲気にて１３００℃において
１２時間加熱処理を行った。加熱処理されたシリカ多孔
質体の密度は１．２ｇ／ｃｍ3 であった。次いで、加熱
処理されたシリカ多孔質体を炉芯管を備えたゾーン加熱
式電気炉でヘリウムガス雰囲気にて１５００℃において
徐々に引下げ透明ガラス化を行った。得られたものは、
直径１７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲンライトを
照射して泡が観察されない透明なガラス体であった。
【００４８】得られたガラス体を切断し各物性値を測定
したところ、以下の様になった。
したところ、以下の様になった。
【００４９】ＯＨ濃度が２５〜５０ｐｐｍ、Ｃｌ濃度が
１ｐｐｍ以下、金属不純物は全て１０ｐｐｂ以下、１７
０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が８１．０〜８１．
５％、３方向に脈理が観察されなかった。
１ｐｐｍ以下、金属不純物は全て１０ｐｐｂ以下、１７
０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が８１．０〜８１．
５％、３方向に脈理が観察されなかった。
【００５０】実施例４ 実施例１と同じ方法で、直径３５０ｍｍ，長さ１０００
ｍｍのシリカ多孔質体を作製した。このシリカ多孔質体
を炉芯管を備えた均一加熱式電気炉で一酸化炭素を２５
％含む窒素との混合ガス雰囲気にて１３００℃において
１２時間加熱処理を行った。加熱処理されたシリカ多孔
質体の密度は１．２ｇ／ｃｍ3 であった。次いで、加熱
処理されたシリカ多孔質体を炉芯管を備えたゾーン加熱
式電気炉でヘリウムガス雰囲気にて１５００℃において
徐々に引下げ透明ガラス化を行った。得られたものは、
直径１７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲンライトを
照射して泡が観察されない透明なガラス体であった。
ｍｍのシリカ多孔質体を作製した。このシリカ多孔質体
を炉芯管を備えた均一加熱式電気炉で一酸化炭素を２５
％含む窒素との混合ガス雰囲気にて１３００℃において
１２時間加熱処理を行った。加熱処理されたシリカ多孔
質体の密度は１．２ｇ／ｃｍ3 であった。次いで、加熱
処理されたシリカ多孔質体を炉芯管を備えたゾーン加熱
式電気炉でヘリウムガス雰囲気にて１５００℃において
徐々に引下げ透明ガラス化を行った。得られたものは、
直径１７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲンライトを
照射して泡が観察されない透明なガラス体であった。
【００５１】得られたガラス体を切断し各物性値を測定
したところ、以下の様になった。
したところ、以下の様になった。
【００５２】ＯＨ濃度が２５〜４５ｐｐｍ、Ｃｌ濃度が
１ｐｐｍ以下、金属不純物は全て１０ｐｐｂ以下、１７
０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が８１．５〜８２．
０％、３方向に脈理が観察されなかった。
１ｐｐｍ以下、金属不純物は全て１０ｐｐｂ以下、１７
０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が８１．５〜８２．
０％、３方向に脈理が観察されなかった。
【００５３】比較例１ シリカ多孔質体を１６時間加熱処理を行った以外は、実
施例１と同様な方法で行った。加熱処理されたシリカ多
孔質体の密度は１．５ｇ／ｃｍ3 であった。得られたも
のは、直径１７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲンラ
イトを照射して泡が観察されない透明なガラス体であっ
た。
施例１と同様な方法で行った。加熱処理されたシリカ多
孔質体の密度は１．５ｇ／ｃｍ3 であった。得られたも
のは、直径１７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲンラ
イトを照射して泡が観察されない透明なガラス体であっ
た。
【００５４】得られたガラス体を切断し各物性値を測定
したところ、ＯＨ濃度が６０〜１００ｐｐｍとなり、１
７０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が７８．５〜７
９．５％と低くなった。
したところ、ＯＨ濃度が６０〜１００ｐｐｍとなり、１
７０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が７８．５〜７
９．５％と低くなった。
【００５５】比較例２ シリカ多孔質体を１３００℃において加熱処理を行った
以外は、実施例２と同様な方法で行った。加熱処理され
たシリカ多孔質体の密度は２．１ｇ／ｃｍ3 であり、表
面部分がガラス化されていた。得られたものは、直径１
７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、泡が多数存在する不透明
なガラス体であった。
以外は、実施例２と同様な方法で行った。加熱処理され
たシリカ多孔質体の密度は２．１ｇ／ｃｍ3 であり、表
面部分がガラス化されていた。得られたものは、直径１
７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、泡が多数存在する不透明
なガラス体であった。
【００５６】比較例３ シリカ多孔質体を２０時間加熱処理を行った以外は、実
施例３と同様な方法で行った。加熱処理されたシリカ多
孔質体の密度は１．６ｇ／ｃｍ3 であった。得られたガ
ラスは、直径１７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲン
ライトを照射して泡が観察されない透明なガラス体であ
った。
施例３と同様な方法で行った。加熱処理されたシリカ多
孔質体の密度は１．６ｇ／ｃｍ3 であった。得られたガ
ラスは、直径１７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲン
ライトを照射して泡が観察されない透明なガラス体であ
った。
【００５７】得られたガラス体を切断し各物性値を測定
したところ、ＯＨ濃度が５〜３０ｐｐｍとなり、１７０
ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が７５．０〜７９．０
％と低くなった。
したところ、ＯＨ濃度が５〜３０ｐｐｍとなり、１７０
ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が７５．０〜７９．０
％と低くなった。
【００５８】比較例４ シリカ多孔質体を１２００℃で加熱処理を行った以外
は、実施例３と同様な方法で行った。加熱処理されたシ
リカ多孔質体の密度は０．８ｇ／ｃｍ3 であった。得ら
れたものは、直径１７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロ
ゲンライトを照射して泡が観察されない透明なガラス体
であった。得られたガラス体を切断し各物性値を測定し
たところ、ＯＨ濃度が５０〜９０ｐｐｍとなり、１７０
ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が７８．０〜７９．５
％と低くなった。
は、実施例３と同様な方法で行った。加熱処理されたシ
リカ多孔質体の密度は０．８ｇ／ｃｍ3 であった。得ら
れたものは、直径１７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロ
ゲンライトを照射して泡が観察されない透明なガラス体
であった。得られたガラス体を切断し各物性値を測定し
たところ、ＯＨ濃度が５０〜９０ｐｐｍとなり、１７０
ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が７８．０〜７９．５
％と低くなった。
【００５９】比較例５ シリカ多孔質体を一酸化炭素を３％含む窒素との混合ガ
ス雰囲気にて加熱処理を行った以外は、実施例３と同様
な方法で行った。加熱処理されたシリカ多孔質体の密度
は１．２ｇ／ｃｍ3 であった。得られたものは、直径１
７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲンライトを照射し
て泡が観察されない透明なガラス体であった。得られた
ガラス体を切断し各物性値を測定したところ、ＯＨ濃度
が４０〜８０ｐｐｍとなり、１７０ｎｍでの透過率（厚
さ１０ｍｍ）が７８．０〜７９．５％と低くなった。
ス雰囲気にて加熱処理を行った以外は、実施例３と同様
な方法で行った。加熱処理されたシリカ多孔質体の密度
は１．２ｇ／ｃｍ3 であった。得られたものは、直径１
７０ｍｍ，長さ５７０ｍｍで、ハロゲンライトを照射し
て泡が観察されない透明なガラス体であった。得られた
ガラス体を切断し各物性値を測定したところ、ＯＨ濃度
が４０〜８０ｐｐｍとなり、１７０ｎｍでの透過率（厚
さ１０ｍｍ）が７８．０〜７９．５％と低くなった。
【００６０】比較例６ 公知の直接法により、精製されたＳｉＣｌ4 を酸水素火
炎中で加水分解させて、生成したシリカ微粒子を直接溶
融して石英ガラス塊を作製した。得られたものは、直径
２５０ｍｍ，長さ１２００ｍｍで、ハロゲンライトを照
射して泡が観察されない透明なガラス体であった。得ら
れたガラス体を切断し各物性値を測定したところ、以下
の様になった。ＯＨ濃度が１２００〜１４００ｐｐｍ、
Ｃｌ濃度が３０〜６０ｐｐｍとなり、かつ１７０ｎｍで
の透過率（厚さ１０ｍｍ）が５６．０〜７５．０％と低
くなり、成長軸方向に脈理が観察された。
炎中で加水分解させて、生成したシリカ微粒子を直接溶
融して石英ガラス塊を作製した。得られたものは、直径
２５０ｍｍ，長さ１２００ｍｍで、ハロゲンライトを照
射して泡が観察されない透明なガラス体であった。得ら
れたガラス体を切断し各物性値を測定したところ、以下
の様になった。ＯＨ濃度が１２００〜１４００ｐｐｍ、
Ｃｌ濃度が３０〜６０ｐｐｍとなり、かつ１７０ｎｍで
の透過率（厚さ１０ｍｍ）が５６．０〜７５．０％と低
くなり、成長軸方向に脈理が観察された。
【００６１】実施例５ 実施例１〜４及び比較例１〜５で作製した石英ガラスを
使用し、真空紫外ランプ用チュ−ブとして、外径３４ｍ
ｍ，内径２７ｍｍ，長さ１０００ｍｍの石英ガラス管を
作製し、真空紫外用光学部材として、径が１６５ｍｍ，
厚さ５ｍｍで鏡面研磨した窓板を作製した。評価結果は
以下の表１に示す。
使用し、真空紫外ランプ用チュ−ブとして、外径３４ｍ
ｍ，内径２７ｍｍ，長さ１０００ｍｍの石英ガラス管を
作製し、真空紫外用光学部材として、径が１６５ｍｍ，
厚さ５ｍｍで鏡面研磨した窓板を作製した。評価結果は
以下の表１に示す。
【００６２】
【表１】
【００６３】
【発明の効果】本発明の光学用合成石英ガラスは、真空
紫外領域での透過率を高く、真空紫外領域ランプ等に使
用できるガラスチューブや真空紫外領域で使用される窓
板，レンズ，プリズム等の光学部材を製造することが出
来る。また、本発明の製造方法によれば、Ｃｌ元素，金
属不純物，３方向に脈理を含むことなく、ＯＨ濃度を制
御することが可能であり、上記の真空紫外領域での透過
率を高い光学用合成石英ガラスを得られる。
紫外領域での透過率を高く、真空紫外領域ランプ等に使
用できるガラスチューブや真空紫外領域で使用される窓
板，レンズ，プリズム等の光学部材を製造することが出
来る。また、本発明の製造方法によれば、Ｃｌ元素，金
属不純物，３方向に脈理を含むことなく、ＯＨ濃度を制
御することが可能であり、上記の真空紫外領域での透過
率を高い光学用合成石英ガラスを得られる。
Claims (5)
- 【請求項１】ＯＨ濃度が１０ｐｐｍ〜６０ｐｐｍ、Ｃｌ
濃度が５ｐｐｍ以下、実質的に金属不純物を含まず、１
７０ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が８０％〜８５％
であり、かつ、３方向に脈理がないことを特徴とする光
学用合成石英ガラス。 - 【請求項２】請求項１に記載の光学用合成石英ガラスの
製造方法において、以下の工程から成ることを特徴とす
る合成石英ガラスの製造方法。 （１）ガラス生成原料を火炎加水分解して生成されるシ
リカ微粒子を出発部材に堆積，成長させてシリカ多孔質
体を形成する工程、（２）前記シリカ多孔質体を不活性
ガス雰囲気下で透明ガラス化温度以下の温度領域で一定
時間保持し、加熱処理後の密度が１．６〜２．０ｇ／ｃ
ｍ3 の範囲になる様に加熱処理する工程、（３）前記加
熱処理されたシリカ多孔質体を透明ガラス化して石英ガ
ラス体を得る工程 - 【請求項３】請求項１に記載の光学用合成石英ガラスの
製造方法において、以下の工程から成ることを特徴とす
る合成石英ガラスの製造方法。 （１）ガラス生成原料を火炎加水分解して生成されるシ
リカ微粒子を出発部材に堆積，成長させてシリカ多孔質
体を形成する工程、（２）前記シリカ多孔質体を一酸化
炭素濃度が５〜３０％で、残りが不活性ガスである混合
ガス雰囲気下で透明ガラス化温度以下の温度領域で一定
時間保持し、加熱処理後の密度が１．０〜１．５ｇ／ｃ
ｍ3 の範囲になる様に加熱処理する工程、（３）前記加
熱処理されたシリカ多孔質体を透明ガラス化して石英ガ
ラス体を得る工程 - 【請求項４】請求項１記載の光学用合成石英ガラスから
なることを特徴とする石英ガラスチューブ。 - 【請求項５】請求項１記載の光学用合成石英ガラスから
なることを特徴とする光学部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26687894A JPH08133753A (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 光学用合成石英ガラス及びその製造方法並びにその用途 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26687894A JPH08133753A (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 光学用合成石英ガラス及びその製造方法並びにその用途 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08133753A true JPH08133753A (ja) | 1996-05-28 |
Family
ID=17436916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26687894A Pending JPH08133753A (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 光学用合成石英ガラス及びその製造方法並びにその用途 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08133753A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002116181A (ja) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ガラス、光学部材ならびに電気泳動装置用部材およびその製造方法 |
| EP1351897A4 (en) * | 2000-12-22 | 2005-06-15 | Corning Inc | TREATMENT OF SUET PREFORMS USING A REDUCING AGENT |
| JP2006342041A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | General Electric Co <Ge> | 自由成形された石英ガラスインゴット及びその製造方法 |
| WO2009017613A1 (en) * | 2007-07-27 | 2009-02-05 | Corning Incorporated | Fused silica having low oh, od levels and method of making |
| US7534733B2 (en) | 2004-02-23 | 2009-05-19 | Corning Incorporated | Synthetic silica glass optical material having high resistance to laser induced damage |
| JP2009184912A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Corning Inc | 低濃度のｏｈおよびｏｄを有する、ハロゲン化物を含まないガラス |
| EP2158170A2 (en) * | 2007-05-09 | 2010-03-03 | Corning Incorporated | Glasses having low oh, od levels |
| CN110655305A (zh) * | 2018-06-28 | 2020-01-07 | 中天科技集团有限公司 | 石英玻璃的热处理方法 |
-
1994
- 1994-10-31 JP JP26687894A patent/JPH08133753A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002116181A (ja) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ガラス、光学部材ならびに電気泳動装置用部材およびその製造方法 |
| JP4520611B2 (ja) * | 2000-10-05 | 2010-08-11 | 株式会社オハラ | ガラス、光学部材ならびに電気泳動装置用部材およびその製造方法 |
| EP1351897A4 (en) * | 2000-12-22 | 2005-06-15 | Corning Inc | TREATMENT OF SUET PREFORMS USING A REDUCING AGENT |
| US7534733B2 (en) | 2004-02-23 | 2009-05-19 | Corning Incorporated | Synthetic silica glass optical material having high resistance to laser induced damage |
| KR101287275B1 (ko) * | 2005-06-10 | 2013-07-17 | 제너럴 일렉트릭 캄파니 | 자유-형성된 석영 유리 잉곳 및 이의 제조 방법 |
| JP2006342041A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | General Electric Co <Ge> | 自由成形された石英ガラスインゴット及びその製造方法 |
| US9290404B2 (en) | 2005-06-10 | 2016-03-22 | Momentive Performance Materials Inc. | Free-formed quartz glass ingots and method for making same |
| EP2158170A2 (en) * | 2007-05-09 | 2010-03-03 | Corning Incorporated | Glasses having low oh, od levels |
| WO2009017613A1 (en) * | 2007-07-27 | 2009-02-05 | Corning Incorporated | Fused silica having low oh, od levels and method of making |
| JP2010534620A (ja) * | 2007-07-27 | 2010-11-11 | コーニング インコーポレイテッド | 低ｏｈ、ｏｄレベルを有する溶融シリカおよびその製造方法 |
| EP2088129A3 (en) * | 2008-02-07 | 2011-08-03 | Corning Inc. | Halide free fused silica glasses having low OH, OD concentrations and their manufacturing method |
| US8268740B2 (en) | 2008-02-07 | 2012-09-18 | Corning Incorporated | Halide free glasses having low OH, OD concentrations |
| JP2009184912A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Corning Inc | 低濃度のｏｈおよびｏｄを有する、ハロゲン化物を含まないガラス |
| CN110655305A (zh) * | 2018-06-28 | 2020-01-07 | 中天科技集团有限公司 | 石英玻璃的热处理方法 |
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