JP5050969B2 - 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 - Google Patents
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Description
低圧水銀ランプやエキシマランプに用いられるランプのガス封入管、または前述の短波長光源を用いた光学装置に用いられる光学素子、にも合成石英ガラスを用いる必要がある。
240nmおよび270nm付近を中心とする光吸収帯は、紫外域から真空紫外域までの広い範囲に及ぶため、前記光学系で使用する場合に光透過性が低下する問題があった。
本発明は、また、不純物(特にNiおよびFe)の含有量が低減され、400nm以下の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラス光学部材の製造方法の提供を目的とする。
特に、Niの含有量を0.5ppbとすれば、270nm内部透過率が99.95%/cm以上である合成石英ガラス光学部材が得られる。
各工程において不純物の混入を制御しながら行うことで本発明の合成石英ガラス光学部材を得ることができる。
得られた合成石英ガラス光学部材について、下記に示す評価を行った。なお不純物濃度については、ICP質量分析法(セイコーインスツルメント社製SPQ9000)により分析した。
評価2として、厚さが10mmおよび35mmの2種の異なる厚さの試料について、波長270nmのそれぞれの透過率(T10およびT35)を測定し、式(1)に従って波長270nm内部透過率T270(単位:%/cm)を算出した。その結果を表1に示す。なお、式(1)において、T10は厚さ10mmの試料の波長270nmの透過率(単位:%)を、T35は厚さ35mmの試料の波長270nmの透過率(単位:%)を示し、指数および対数の底はeである。
また、T270の算出方法と同様の算出方法により波長240nm内部透過率T240(単位:%/cm)も算出した。
T270=exp[ln(T10/T35)/2.5]×100 (1)
Claims (3)
- ケイ素化合物を原料とし、火炎加水分解反応により石英ガラス微粒子を堆積、成長させ、多孔質石英ガラス体を合成した後、ガラス化して、400nm以下の紫外線波長域の光に使用される合成石英ガラス光学部材を得る合成石英ガラス光学部材を製造する方法において、
該火炎加水分解反応を石英ガラス製反応容器および石英ガラス製バーナーを用いて、かつガラス化するときの焼成温度を1200〜1500℃とし、
Niの含有量が1ppb以下かつFeの含有量が0.5ppb以下かつNaの含有量が0.5ppb以下であり、270nm内部透過率が99.9%/cm以上である合成石英ガラスを得ることを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。 - Niの含有量が0.5ppb以下である請求項1に記載の合成石英ガラス光学部材の製造方法。
- 前記合成石英ガラス光学部材が、308nm以下の波長域の光に使用される請求項1又は2に記載の合成石英ガラス光学部材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008097281A JP5050969B2 (ja) | 1998-08-24 | 2008-04-03 | 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23768198 | 1998-08-24 | ||
JP1998237681 | 1998-08-24 | ||
JP2008097281A JP5050969B2 (ja) | 1998-08-24 | 2008-04-03 | 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20678899A Division JP2000143259A (ja) | 1998-08-24 | 1999-07-21 | 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008239479A JP2008239479A (ja) | 2008-10-09 |
JP5050969B2 true JP5050969B2 (ja) | 2012-10-17 |
Family
ID=39911250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008097281A Expired - Lifetime JP5050969B2 (ja) | 1998-08-24 | 2008-04-03 | 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5050969B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6312308B2 (ja) * | 2014-03-18 | 2018-04-18 | 信越石英株式会社 | 合成石英ガラスの熱処理方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60215515A (ja) * | 1984-04-10 | 1985-10-28 | Mitsubishi Metal Corp | 合成石英素塊の製造法及びその装置 |
JPS61101428A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-05-20 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光学系多孔質母材の製造方法 |
JPS62187121A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-15 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 合成ガラス製造装置 |
JPH06171965A (ja) * | 1992-12-02 | 1994-06-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 多孔質ガラス体の形成方法 |
JPH0748136A (ja) * | 1993-08-09 | 1995-02-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 火炎検出装置とそれを用いた多孔質ガラス母材製造装置および方法 |
JP3228676B2 (ja) * | 1996-03-07 | 2001-11-12 | 信越石英株式会社 | 遠紫外線用高純度シリカガラス及びその製造方法 |
JP3965734B2 (ja) * | 1997-09-11 | 2007-08-29 | 株式会社ニコン | 石英ガラスおよびその製造方法 |
JP3897188B2 (ja) * | 1997-04-02 | 2007-03-22 | 株式会社ニコン | 合成石英ガラスの製造方法および装置 |
-
2008
- 2008-04-03 JP JP2008097281A patent/JP5050969B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008239479A (ja) | 2008-10-09 |
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A977 | Report on retrieval |
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A521 | Written amendment |
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A521 | Written amendment |
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R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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