JP5050969B2 - 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、波長400nm以下の紫外線を光源とする装置に用いられる光学部材に関し、詳しくはエキシマレーザ(Xe−Cl:308nm、Kr−F:248nm、Ar−F:193nm)、低圧水銀ランプ(185nm)、エキシマランプ(Xe−Xe:172nm)などの真空紫外〜紫外光用のレンズ、プリズム、窓材などの光学部品として用いられる合成石英ガラス光学部材に関する。
合成石英ガラスは、近赤外から真空紫外域までの広範囲の波長域にわたって透明な材料であること、熱膨張係数が極めて小さく寸法安定性に優れていること、また、金属不純物をほとんど含有せず高純度であることなどの特徴がある。そのため、従来のg線、i線を光源として用いた光学装置の光学部材には合成石英ガラスが主に用いられてきた。
近年、LSIの高集積化に伴い、ウエハ上に集積回路パターンを描画する光リソグラフィ技術において、より線幅の短い微細な描画技術が要求されており、これに対応するために露光光源の短波長化が進められている。すなわち、例えばリソグラフィ用ステッパの光源は、従来のg線(436nm)、i線(365nm)から進んで、Kr−Fエキシマレーザ(248nm)またはAr−Fエキシマレーザ(193nm)が用いられようとしている。
また、低圧水銀ランプ(185nm)やエキシマランプ(Xe−Xe:172nm)は、光CVDなどの装置、シリコンウェハのアッシングやエッチングまたはオゾン発生装置などに用いられており、また今後光リソグラフィ技術に適用すべく開発が進められている。
低圧水銀ランプやエキシマランプに用いられるランプのガス封入管、または前述の短波長光源を用いた光学装置に用いられる光学素子、にも合成石英ガラスを用いる必要がある。
これらの光学系に用いられる石英ガラスは、紫外域から真空紫外域までの広い波長域での光透過性が要求されるとともに、使用波長での耐光性が高いこと(光照射後に透過率が低下しないこと)が要求される。特にリソグラフィ用ステッパの場合、光路長が1〜2mに及ぶためきわめて高い光透過性が必要であり、使用波長での内部透過率は99.5%/cm以上、より好ましくは99.8%/cm以上が要求される。
石英ガラス中に不純物としてアルカリ金属やアルカリ土類金属、遷移金属が含まれると、紫外域から真空紫外域までの波長域における光透過性が悪化することは公知であり、高い光透過性を確保するためにはこれらの不純物を微量に抑える必要がある。その許容しうる不純物含有量については、アルカリ金属Li、Na、Kの含有量をそれぞれ50ppb以下、アルカリ土類金属Mg、Caの含有量をそれぞれ10ppb以下、遷移金属Ti、Cr、Fe、Ni、Cuの含有量をそれぞれ10ppb以下に抑える方法が開示されている(例えば特公平6−53593)。
しかし、本発明者は、石英ガラス中の不純物と光透過特性との関係について検討した結果、不純物含有量が前記公知例の範囲内に入っている場合でも、十分な透過特性が得られない場合がある、すなわち、240nmおよび270nm付近を中心とする光吸収があるという知見を得た。
240nmおよび270nm付近を中心とする光吸収帯は、紫外域から真空紫外域までの広い範囲に及ぶため、前記光学系で使用する場合に光透過性が低下する問題があった。
本発明は、240nmおよび270nm付近を中心とする光吸収が抑えられ、400nm以下の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラス光学部材の提供を目的とする。
本発明は、また、不純物(特にNiおよびFe)の含有量が低減され、400nm以下の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラス光学部材の製造方法の提供を目的とする。
本発明は、ケイ素化合物を原料とし、火炎加水分解反応により石英ガラス微粒子を堆積、成長させ、多孔質石英ガラス体を合成した後、ガラス化して、400nm以下の紫外線波長域の光に使用される合成石英ガラス光学部材を得る合成石英ガラス光学部材を製造する方法において、該火炎加水分解反応を石英ガラス製反応容器および石英ガラス製バーナーを用いて、かつガラス化するときの焼成温度を1200〜1500℃とし、Niの含有量が1ppb以下かつFeの含有量が0.5ppb以下かつNaの含有量が0.5ppb以下であり、270nm内部透過率が99.9%/cm以上である合成石英ガラスを得ることを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法を提供する。
本発明の合成石英ガラス光学部材は、Niの含有量が0.5ppb以下であることが好ましい。
本発明の合成石英ガラス光学部材は、さらにNaの含有量が0.5ppb以下であることが好ましい。
本発明者は、光透過特性に及ぼす合成石英ガラス光学部材中のFeおよびNiの影響についてさらに詳細な検討を行った。本発明は、400nm以下の紫外線波長域の光を光源とする装置で使用される合成石英ガラス光学部材において、使用波長での十分な光透過性を確保するためには、Niの含有量を1ppb以下かつFeの含有量を0.5ppb以下にする必要があるという新規知見に基づく。
合成石英ガラス光学部材中のNiの含有量を1ppb以下かつFeの含有量を0.5ppb以下とすれば、NiおよびFeに起因する240nmおよび270nmの吸収を実用上問題ない程度に抑制でき、具体的には270nm内部透過率が99.9%/cm以上である合成石英ガラス光学部材が得られる。
特に、Niの含有量を0.5ppbとすれば、270nm内部透過率が99.95%/cm以上である合成石英ガラス光学部材が得られる。
合成石英ガラス光学部材の光損失は吸収損失によるものと散乱損失によるものとの2つに分類できる。本発明の合成石英ガラス光学部材の270nmにおける散乱損失量は約0.04%/cmである。特にNiの含有量を0.5ppbとすれば、270nmにおいて吸収損失がほとんどない合成石英ガラス光学部材が得られる。
本発明によれば、240nmおよび270nm付近を中心とする光吸収が抑えられ、400nm以下の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラス光学部材を得ることができ、400nm以下の紫外線を光源とする光学装置の光学部材として適用できる。
また本発明の製造方法によれば、不純物(特にNiおよびFe)の含有量が低減され、400nm以下の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラス光学部材を容易に製造できる。したがって、240nmおよび270nm付近を中心とする光吸収が抑えられ、400nm以下の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラス光学部材の製造方法として好適である。
本発明の合成石英ガラス光学部材は、FeおよびNi以外の不純物の含有量、すなわち、アルカリ金属(Na、K)、アルカリ土類金属(Mg、Ca)、FeおよびNi以外の遷移金属(Ti、Cr、Cu、Al)の含有量は、それぞれ1ppb以下であることが好ましい。これらの不純物が合成石英ガラス光学部材中に含まれると、紫外域〜真空紫外域での光透過性、特に250nm以下の光透過性が低下する傾向にある。
本発明はまた、ケイ素化合物を原料とし、火炎加水分解反応により石英ガラス微粒子を堆積、成長させ、多孔質石英ガラス体を合成した後、ガラス化して、合成石英ガラス光学部材を得る合成石英ガラス光学部材の製造方法において、該火炎加水分解反応を石英ガラス製反応容器および石英ガラス製バーナーを用いて行う合成石英ガラス光学部材の製造方法を提供する。
石英ガラス製反応容器および石英ガラス製バーナーを用いた製造方法は、本発明の合成石英ガラス光学部材を得るうえできわめて好適である。石英ガラス製反応容器および石英ガラス製バーナーに用いられる石英ガラスとしては、天然の石英砂を原料とした溶融石英ガラス(例えば、シリカを主成分としAlを8ppm、Feを0.8ppm、Naを1ppm、Kを0.02ppm、Cuを0.02ppm、Bを0.3ppm、OHを1ppm含有する石英ガラス)などが好ましく用いられる。
例えば、SiCl4、HSiCl3、CH3SiCl3、(CH32SiCl2、CH3Si(OCH33、Si(OCH34などのケイ素化合物を原料とし、酸水素またはプロパンなどの火炎中で加水分解反応(火炎加水分解反応)させ、石英ガラス微粒子を堆積、成長させ、多孔質石英ガラス体を製造する。次いでこの多孔質石英ガラス体を大気中または窒素雰囲気下で、かつ減圧下(例えば1Torr以下)で焼成し、ガラス化する。ガラス化するときの焼成温度は1200〜1500℃が好ましく、焼成時間は10〜100時間が好ましい。
各工程において不純物の混入を制御しながら行うことで本発明の合成石英ガラス光学部材を得ることができる。
本発明においては、ステッパレンズその他の光学部材として用いるために、必要に応じて、均質化、成形、アニールなどの各種熱処理を行うことができる。これらの熱処理は、例えば、多孔質石英ガラス体をガラス化した後に800〜2000℃の温度に加熱して行うことができる。
SiCl4を原料とし、酸水素火炎加水分解させて直径35cm、長さ100cmの多孔質石英ガラス体を合成した。次いで、雰囲気制御可能な電気炉内で多孔質石英ガラス体をガラス化した。ガラス化は、ヘリウムガス100%、圧力0.1Torrの雰囲気下で1450℃まで昇温し、1450℃で10時間保持するという条件で行った。ガラス化した後、カーボン製発熱体を有する雰囲気炉内で、軟化点以上(1750℃)に加熱して自重変形させ、250×250×120mmのブロック形状に成形した。引き続いて、温度を1200℃にまで降温させ、それ以降は30℃/hrの冷却速度で徐冷し、炉内温度が1000℃になったところで給電を停止して炉内放冷して合成石英ガラス光学部材を合成した。
なお、例1〜2においては石英ガラス製反応容器を用いて酸水素火炎加水分解法を行い、例3〜5についてはステンレス製反応容器を用いて酸水素火炎加水分解法を行った。例1〜3においては石英ガラス製バーナーを用いて酸水素火炎加水分解法を行い、例4〜5においてはステンレス製バーナーを用いて酸水素火炎加水分解法を行って、表1に示す各種不純物濃度の実施例(例1〜2)および比較例(例3〜5)の合成石英ガラス光学部材を合成した。
得られた合成石英ガラス光学部材について、下記に示す評価を行った。なお不純物濃度については、ICP質量分析法(セイコーインスツルメント社製SPQ9000)により分析した。
評価1として、厚さが35mmの試料について、分光光度計を用いて波長190〜400nmの透過率を測定した。測定結果を図1に示す。
評価2として、厚さが10mmおよび35mmの2種の異なる厚さの試料について、波長270nmのそれぞれの透過率(T10およびT35)を測定し、式(1)に従って波長270nm内部透過率T270(単位:%/cm)を算出した。その結果を表1に示す。なお、式(1)において、T10は厚さ10mmの試料の波長270nmの透過率(単位:%)を、T35は厚さ35mmの試料の波長270nmの透過率(単位:%)を示し、指数および対数の底はeである。
また、T270の算出方法と同様の算出方法により波長240nm内部透過率T240(単位:%/cm)も算出した。
270=exp[ln(T10/T35)/2.5]×100 (1)
Figure 0005050969
本発明によれば、240nmおよび270nm付近を中心とする光吸収が抑えられ、400nm以下の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラス光学部材を得ることができ、400nm以下の紫外線を光源とする光学装置の光学部材として適用できる。
例1〜5で得られた合成石英ガラス光学部材の波長190〜400mmにおける透過率曲線。

Claims (3)

  1. ケイ素化合物を原料とし、火炎加水分解反応により石英ガラス微粒子を堆積、成長させ、多孔質石英ガラス体を合成した後、ガラス化して、400nm以下の紫外線波長域の光に使用される合成石英ガラス光学部材を得る合成石英ガラス光学部材を製造する方法において、
    該火炎加水分解反応を石英ガラス製反応容器および石英ガラス製バーナーを用いて、かつガラス化するときの焼成温度を1200〜1500℃とし、
    Niの含有量が1ppb以下かつFeの含有量が0.5ppb以下かつNaの含有量が0.5ppb以下であり、270nm内部透過率が99.9%/cm以上である合成石英ガラスを得ることを特徴とする合成石英ガラス光学部材の製造方法。
  2. Niの含有量が0.5ppb以下である請求項1に記載の合成石英ガラス光学部材の製造方法。
  3. 前記合成石英ガラス光学部材が、308nm以下の波長域の光に使用される請求項1又は2に記載の合成石英ガラス光学部材の製造方法。
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