JP2000143259A - 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 - Google Patents
合成石英ガラス光学部材とその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】２４０ｎｍおよび２７０ｎｍ付近を中心とする
光吸収が抑えられ、４００ｎｍ以下の紫外線波長域で高
い透過率を有する合成石英ガラス光学部材とその製造方
法の提供。 【解決手段】Ｎｉの含有量が１ｐｐｂ以下かつＦｅの含
有量が０．５ｐｐｂ以下である、４００ｎｍ以下の紫外
線波長域の光に使用される合成石英ガラス光学部材とそ
の製造方法。
光吸収が抑えられ、４００ｎｍ以下の紫外線波長域で高
い透過率を有する合成石英ガラス光学部材とその製造方
法の提供。 【解決手段】Ｎｉの含有量が１ｐｐｂ以下かつＦｅの含
有量が０．５ｐｐｂ以下である、４００ｎｍ以下の紫外
線波長域の光に使用される合成石英ガラス光学部材とそ
の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、波長４００ｎｍ以
下の紫外線を光源とする装置に用いられる光学部材に関
し、詳しくはエキシマレーザ（Ｘｅ−Ｃｌ：３０８ｎ
ｍ、Ｋｒ−Ｆ：２４８ｎｍ、Ａｒ−Ｆ：１９３ｎｍ）、
低圧水銀ランプ（１８５ｎｍ）、エキシマランプ（Ｘｅ
−Ｘｅ：１７２ｎｍ）などの真空紫外〜紫外光用のレン
ズ、プリズム、窓材などの光学部品として用いられる合
成石英ガラス光学部材に関する。
下の紫外線を光源とする装置に用いられる光学部材に関
し、詳しくはエキシマレーザ（Ｘｅ−Ｃｌ：３０８ｎ
ｍ、Ｋｒ−Ｆ：２４８ｎｍ、Ａｒ−Ｆ：１９３ｎｍ）、
低圧水銀ランプ（１８５ｎｍ）、エキシマランプ（Ｘｅ
−Ｘｅ：１７２ｎｍ）などの真空紫外〜紫外光用のレン
ズ、プリズム、窓材などの光学部品として用いられる合
成石英ガラス光学部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】合成石英ガラスは、近赤外から真空紫外
域までの広範囲の波長域にわたって透明な材料であるこ
と、熱膨張係数が極めて小さく寸法安定性に優れている
こと、また、金属不純物をほとんど含有せず高純度であ
ることなどの特徴がある。そのため、従来のｇ線、ｉ線
を光源として用いた光学装置の光学部材には合成石英ガ
ラスが主に用いられてきた。
域までの広範囲の波長域にわたって透明な材料であるこ
と、熱膨張係数が極めて小さく寸法安定性に優れている
こと、また、金属不純物をほとんど含有せず高純度であ
ることなどの特徴がある。そのため、従来のｇ線、ｉ線
を光源として用いた光学装置の光学部材には合成石英ガ
ラスが主に用いられてきた。
【０００３】近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、ウエハ上
に集積回路パターンを描画する光リソグラフィ技術にお
いて、より線幅の短い微細な描画技術が要求されてお
り、これに対応するために露光光源の短波長化が進めら
れている。すなわち、例えばリソグラフィ用ステッパの
光源は、従来のｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎ
ｍ）から進んで、Ｋｒ−Ｆエキシマレーザ（２４８ｎ
ｍ）またはＡｒ−Ｆエキシマレーザ（１９３ｎｍ）が用
いられようとしている。
に集積回路パターンを描画する光リソグラフィ技術にお
いて、より線幅の短い微細な描画技術が要求されてお
り、これに対応するために露光光源の短波長化が進めら
れている。すなわち、例えばリソグラフィ用ステッパの
光源は、従来のｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎ
ｍ）から進んで、Ｋｒ−Ｆエキシマレーザ（２４８ｎ
ｍ）またはＡｒ−Ｆエキシマレーザ（１９３ｎｍ）が用
いられようとしている。
【０００４】また、低圧水銀ランプ（１８５ｎｍ）やエ
キシマランプ（Ｘｅ−Ｘｅ：１７２ｎｍ）は、光ＣＶＤ
などの装置、シリコンウェハのアッシングやエッチング
またはオゾン発生装置などに用いられており、また今後
光リソグラフィ技術に適用すべく開発が進められてい
る。低圧水銀ランプやエキシマランプに用いられるラン
プのガス封入管、または前述の短波長光源を用いた光学
装置に用いられる光学素子、にも合成石英ガラスを用い
る必要がある。
キシマランプ（Ｘｅ−Ｘｅ：１７２ｎｍ）は、光ＣＶＤ
などの装置、シリコンウェハのアッシングやエッチング
またはオゾン発生装置などに用いられており、また今後
光リソグラフィ技術に適用すべく開発が進められてい
る。低圧水銀ランプやエキシマランプに用いられるラン
プのガス封入管、または前述の短波長光源を用いた光学
装置に用いられる光学素子、にも合成石英ガラスを用い
る必要がある。
【０００５】これらの光学系に用いられる石英ガラス
は、紫外域から真空紫外域までの広い波長域での光透過
性が要求されるとともに、使用波長での耐光性が高いこ
と（光照射後に透過率が低下しないこと）が要求され
る。特にリソグラフィ用ステッパの場合、光路長が１〜
２ｍに及ぶためきわめて高い光透過性が必要であり、使
用波長での内部透過率は９９．５％／ｃｍ以上、より好
ましくは９９．８％／ｃｍ以上が要求される。
は、紫外域から真空紫外域までの広い波長域での光透過
性が要求されるとともに、使用波長での耐光性が高いこ
と（光照射後に透過率が低下しないこと）が要求され
る。特にリソグラフィ用ステッパの場合、光路長が１〜
２ｍに及ぶためきわめて高い光透過性が必要であり、使
用波長での内部透過率は９９．５％／ｃｍ以上、より好
ましくは９９．８％／ｃｍ以上が要求される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】石英ガラス中に不純物
としてアルカリ金属やアルカリ土類金属、遷移金属が含
まれると、紫外域から真空紫外域までの波長域における
光透過性が悪化することは公知であり、高い光透過性を
確保するためにはこれらの不純物を微量に抑える必要が
ある。その許容しうる不純物含有量については、アルカ
リ金属Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの含有量をそれぞれ５０ｐｐｂ以
下、アルカリ土類金属Ｍｇ、Ｃａの含有量をそれぞれ１
０ｐｐｂ以下、遷移金属Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ
の含有量をそれぞれ１０ｐｐｂ以下に抑える方法が開示
されている（例えば特公平６−５３５９３）。
としてアルカリ金属やアルカリ土類金属、遷移金属が含
まれると、紫外域から真空紫外域までの波長域における
光透過性が悪化することは公知であり、高い光透過性を
確保するためにはこれらの不純物を微量に抑える必要が
ある。その許容しうる不純物含有量については、アルカ
リ金属Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの含有量をそれぞれ５０ｐｐｂ以
下、アルカリ土類金属Ｍｇ、Ｃａの含有量をそれぞれ１
０ｐｐｂ以下、遷移金属Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ
の含有量をそれぞれ１０ｐｐｂ以下に抑える方法が開示
されている（例えば特公平６−５３５９３）。
【０００７】しかし、本発明者は、石英ガラス中の不純
物と光透過特性との関係について検討した結果、不純物
含有量が前記公知例の範囲内に入っている場合でも、十
分な透過特性が得られない場合がある、すなわち、２４
０ｎｍおよび２７０ｎｍ付近を中心とする光吸収がある
という知見を得た。２４０ｎｍおよび２７０ｎｍ付近を
中心とする光吸収帯は、紫外域から真空紫外域までの広
い範囲に及ぶため、前記光学系で使用する場合に光透過
性が低下する問題があった。
物と光透過特性との関係について検討した結果、不純物
含有量が前記公知例の範囲内に入っている場合でも、十
分な透過特性が得られない場合がある、すなわち、２４
０ｎｍおよび２７０ｎｍ付近を中心とする光吸収がある
という知見を得た。２４０ｎｍおよび２７０ｎｍ付近を
中心とする光吸収帯は、紫外域から真空紫外域までの広
い範囲に及ぶため、前記光学系で使用する場合に光透過
性が低下する問題があった。
【０００８】本発明は、２４０ｎｍおよび２７０ｎｍ付
近を中心とする光吸収が抑えられ、４００ｎｍ以下の紫
外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラス光学部
材の提供を目的とする。本発明は、また、不純物（特に
ＮｉおよびＦｅ）の含有量が低減され、４００ｎｍ以下
の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラス光
学部材の製造方法の提供を目的とする。
近を中心とする光吸収が抑えられ、４００ｎｍ以下の紫
外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラス光学部
材の提供を目的とする。本発明は、また、不純物（特に
ＮｉおよびＦｅ）の含有量が低減され、４００ｎｍ以下
の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラス光
学部材の製造方法の提供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、４００ｎｍ以
下の紫外線波長域の光に使用される合成石英ガラス光学
部材において、Ｎｉの含有量が１ｐｐｂ以下かつＦｅの
含有量が０．５ｐｐｂ以下であることを特徴とする合成
石英ガラス光学部材を提供する。
下の紫外線波長域の光に使用される合成石英ガラス光学
部材において、Ｎｉの含有量が１ｐｐｂ以下かつＦｅの
含有量が０．５ｐｐｂ以下であることを特徴とする合成
石英ガラス光学部材を提供する。
【００１０】本発明者は、光透過特性に及ぼす合成石英
ガラス光学部材中のＦｅおよびＮｉの影響についてさら
に詳細な検討を行った。本発明は、４００ｎｍ以下の紫
外線波長域の光を光源とする装置で使用される合成石英
ガラス光学部材において、使用波長での十分な光透過性
を確保するためには、Ｎｉの含有量を１ｐｐｂ以下かつ
Ｆｅの含有量を０．５ｐｐｂ以下にする必要があるとい
う新規知見に基づく。
ガラス光学部材中のＦｅおよびＮｉの影響についてさら
に詳細な検討を行った。本発明は、４００ｎｍ以下の紫
外線波長域の光を光源とする装置で使用される合成石英
ガラス光学部材において、使用波長での十分な光透過性
を確保するためには、Ｎｉの含有量を１ｐｐｂ以下かつ
Ｆｅの含有量を０．５ｐｐｂ以下にする必要があるとい
う新規知見に基づく。
【００１１】合成石英ガラス光学部材中のＮｉの含有量
を１ｐｐｂ以下かつＦｅの含有量を０．５ｐｐｂ以下と
すれば、ＮｉおよびＦｅに起因する２４０ｎｍおよび２
７０ｎｍの吸収を実用上問題ない程度に抑制でき、具体
的には２７０ｎｍ内部透過率が９９．９％／ｃｍ以上で
ある合成石英ガラス光学部材が得られる。特に、Ｎｉの
含有量を０．５ｐｐｂとすれば、２７０ｎｍ内部透過率
が９９．９５％／ｃｍ以上である合成石英ガラス光学部
材が得られる。
を１ｐｐｂ以下かつＦｅの含有量を０．５ｐｐｂ以下と
すれば、ＮｉおよびＦｅに起因する２４０ｎｍおよび２
７０ｎｍの吸収を実用上問題ない程度に抑制でき、具体
的には２７０ｎｍ内部透過率が９９．９％／ｃｍ以上で
ある合成石英ガラス光学部材が得られる。特に、Ｎｉの
含有量を０．５ｐｐｂとすれば、２７０ｎｍ内部透過率
が９９．９５％／ｃｍ以上である合成石英ガラス光学部
材が得られる。
【００１２】合成石英ガラス光学部材の光損失は吸収損
失によるものと散乱損失によるものとの２つに分類でき
る。本発明の合成石英ガラス光学部材の２７０ｎｍにお
ける散乱損失量は約０．０４％／ｃｍである。特にＮｉ
の含有量を０．５ｐｐｂとすれば、２７０ｎｍにおいて
吸収損失がほとんどない合成石英ガラス光学部材が得ら
れる。
失によるものと散乱損失によるものとの２つに分類でき
る。本発明の合成石英ガラス光学部材の２７０ｎｍにお
ける散乱損失量は約０．０４％／ｃｍである。特にＮｉ
の含有量を０．５ｐｐｂとすれば、２７０ｎｍにおいて
吸収損失がほとんどない合成石英ガラス光学部材が得ら
れる。
【００１３】本発明の合成石英ガラス光学部材は、Ｆｅ
およびＮｉ以外の不純物の含有量、すなわち、アルカリ
金属（Ｎａ、Ｋ）、アルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ）、
ＦｅおよびＮｉ以外の遷移金属（Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａ
ｌ）の含有量は、それぞれ１ｐｐｂ以下であることが好
ましい。これらの不純物が合成石英ガラス光学部材中に
含まれると、紫外域〜真空紫外域での光透過性、特に２
５０ｎｍ以下の光透過性が低下する傾向にある。
およびＮｉ以外の不純物の含有量、すなわち、アルカリ
金属（Ｎａ、Ｋ）、アルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ）、
ＦｅおよびＮｉ以外の遷移金属（Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａ
ｌ）の含有量は、それぞれ１ｐｐｂ以下であることが好
ましい。これらの不純物が合成石英ガラス光学部材中に
含まれると、紫外域〜真空紫外域での光透過性、特に２
５０ｎｍ以下の光透過性が低下する傾向にある。
【００１４】本発明はまた、ケイ素化合物を原料とし、
火炎加水分解反応により石英ガラス微粒子を堆積、成長
させ、多孔質石英ガラス体を合成した後、ガラス化し
て、合成石英ガラス光学部材を得る合成石英ガラス光学
部材の製造方法において、該火炎加水分解反応を石英ガ
ラス製反応容器および石英ガラス製バーナーを用いて行
う合成石英ガラス光学部材の製造方法を提供する。
火炎加水分解反応により石英ガラス微粒子を堆積、成長
させ、多孔質石英ガラス体を合成した後、ガラス化し
て、合成石英ガラス光学部材を得る合成石英ガラス光学
部材の製造方法において、該火炎加水分解反応を石英ガ
ラス製反応容器および石英ガラス製バーナーを用いて行
う合成石英ガラス光学部材の製造方法を提供する。
【００１５】石英ガラス製反応容器および石英ガラス製
バーナーを用いた製造方法は、本発明の合成石英ガラス
光学部材を得るうえできわめて好適である。石英ガラス
製反応容器および石英ガラス製バーナーに用いられる石
英ガラスとしては、天然の石英砂を原料とした溶融石英
ガラス（例えば、シリカを主成分としＡｌを８ｐｐｍ、
Ｆｅを０．８ｐｐｍ、Ｎａを１ｐｐｍ、Ｋを０．０２ｐ
ｐｍ、Ｃｕを０．０２ｐｐｍ、Ｂを０．３ｐｐｍ、ＯＨ
を１ｐｐｍ含有する石英ガラス）などが好ましく用いら
れる。
バーナーを用いた製造方法は、本発明の合成石英ガラス
光学部材を得るうえできわめて好適である。石英ガラス
製反応容器および石英ガラス製バーナーに用いられる石
英ガラスとしては、天然の石英砂を原料とした溶融石英
ガラス（例えば、シリカを主成分としＡｌを８ｐｐｍ、
Ｆｅを０．８ｐｐｍ、Ｎａを１ｐｐｍ、Ｋを０．０２ｐ
ｐｍ、Ｃｕを０．０２ｐｐｍ、Ｂを０．３ｐｐｍ、ＯＨ
を１ｐｐｍ含有する石英ガラス）などが好ましく用いら
れる。
【００１６】例えば、ＳｉＣｌ4、ＨＳｉＣｌ3、ＣＨ3
ＳｉＣｌ3、（ＣＨ3）2ＳｉＣｌ2、ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4などのケイ素化合物を原料と
し、酸水素またはプロパンなどの火炎中で加水分解反応
（火炎加水分解反応）させ、石英ガラス微粒子を堆積、
成長させ、多孔質石英ガラス体を製造する。次いでこの
多孔質石英ガラス体を大気中または窒素雰囲気下で、か
つ減圧下（例えば１Ｔｏｒｒ以下）で焼成し、ガラス化
する。ガラス化するときの焼成温度は１２００〜１５０
０℃が好ましく、焼成時間は１０〜１００時間が好まし
い。各工程において不純物の混入を制御しながら行うこ
とで本発明の合成石英ガラス光学部材を得ることができ
る。
ＳｉＣｌ3、（ＣＨ3）2ＳｉＣｌ2、ＣＨ3Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4などのケイ素化合物を原料と
し、酸水素またはプロパンなどの火炎中で加水分解反応
（火炎加水分解反応）させ、石英ガラス微粒子を堆積、
成長させ、多孔質石英ガラス体を製造する。次いでこの
多孔質石英ガラス体を大気中または窒素雰囲気下で、か
つ減圧下（例えば１Ｔｏｒｒ以下）で焼成し、ガラス化
する。ガラス化するときの焼成温度は１２００〜１５０
０℃が好ましく、焼成時間は１０〜１００時間が好まし
い。各工程において不純物の混入を制御しながら行うこ
とで本発明の合成石英ガラス光学部材を得ることができ
る。
【００１７】本発明においては、ステッパレンズその他
の光学部材として用いるために、必要に応じて、均質
化、成形、アニールなどの各種熱処理を行うことができ
る。これらの熱処理は、例えば、多孔質石英ガラス体を
ガラス化した後に８００〜２０００℃の温度に加熱して
行うことができる。
の光学部材として用いるために、必要に応じて、均質
化、成形、アニールなどの各種熱処理を行うことができ
る。これらの熱処理は、例えば、多孔質石英ガラス体を
ガラス化した後に８００〜２０００℃の温度に加熱して
行うことができる。
【００１８】
【実施例】ＳｉＣｌ4を原料とし、酸水素火炎加水分解
させて直径３５ｃｍ、長さ１００ｃｍの多孔質石英ガラ
ス体を合成した。次いで、雰囲気制御可能な電気炉内で
多孔質石英ガラス体をガラス化した。ガラス化は、ヘリ
ウムガス１００％、圧力０．１Ｔｏｒｒの雰囲気下で１
４５０℃まで昇温し、１４５０℃で１０時間保持すると
いう条件で行った。ガラス化した後、カーボン製発熱体
を有する雰囲気炉内で、軟化点以上（１７５０℃）に加
熱して自重変形させ、２５０×２５０×１２０ｍｍのブ
ロック形状に成形した。引き続いて、温度を１２００℃
にまで降温させ、それ以降は３０℃／ｈｒの冷却速度で
徐冷し、炉内温度が１０００℃になったところで給電を
停止して炉内放冷して合成石英ガラス光学部材を合成し
た。
させて直径３５ｃｍ、長さ１００ｃｍの多孔質石英ガラ
ス体を合成した。次いで、雰囲気制御可能な電気炉内で
多孔質石英ガラス体をガラス化した。ガラス化は、ヘリ
ウムガス１００％、圧力０．１Ｔｏｒｒの雰囲気下で１
４５０℃まで昇温し、１４５０℃で１０時間保持すると
いう条件で行った。ガラス化した後、カーボン製発熱体
を有する雰囲気炉内で、軟化点以上（１７５０℃）に加
熱して自重変形させ、２５０×２５０×１２０ｍｍのブ
ロック形状に成形した。引き続いて、温度を１２００℃
にまで降温させ、それ以降は３０℃／ｈｒの冷却速度で
徐冷し、炉内温度が１０００℃になったところで給電を
停止して炉内放冷して合成石英ガラス光学部材を合成し
た。
【００１９】なお、例１〜２においては石英ガラス製反
応容器を用いて酸水素火炎加水分解法を行い、例３〜５
についてはステンレス製反応容器を用いて酸水素火炎加
水分解法を行った。例１〜３においては石英ガラス製バ
ーナーを用いて酸水素火炎加水分解法を行い、例４〜５
においてはステンレス製バーナーを用いて酸水素火炎加
水分解法を行って、表１に示す各種不純物濃度の実施例
（例１〜２）および比較例（例３〜５）の合成石英ガラ
ス光学部材を合成した。得られた合成石英ガラス光学部
材について、下記に示す評価を行った。なお不純物濃度
については、ＩＣＰ質量分析法（セイコーインスツルメ
ント社製ＳＰＱ９０００）により分析した。
応容器を用いて酸水素火炎加水分解法を行い、例３〜５
についてはステンレス製反応容器を用いて酸水素火炎加
水分解法を行った。例１〜３においては石英ガラス製バ
ーナーを用いて酸水素火炎加水分解法を行い、例４〜５
においてはステンレス製バーナーを用いて酸水素火炎加
水分解法を行って、表１に示す各種不純物濃度の実施例
（例１〜２）および比較例（例３〜５）の合成石英ガラ
ス光学部材を合成した。得られた合成石英ガラス光学部
材について、下記に示す評価を行った。なお不純物濃度
については、ＩＣＰ質量分析法（セイコーインスツルメ
ント社製ＳＰＱ９０００）により分析した。
【００２０】評価１として、厚さが３５ｍｍの試料につ
いて、分光光度計を用いて波長１９０〜４００ｎｍの透
過率を測定した。測定結果を図１に示す。評価２とし
て、厚さが１０ｍｍおよび３５ｍｍの２種の異なる厚さ
の試料について、波長２７０ｎｍのそれぞれの透過率
（Ｔ10およびＴ35）を測定し、式（１）に従って波長２
７０ｎｍ内部透過率Ｔ270（単位：％／ｃｍ）を算出し
た。その結果を表１に示す。なお、式（１）において、
Ｔ10は厚さ１０ｍｍの試料の波長２７０ｎｍの透過率
（単位：％）を、Ｔ35は厚さ３５ｍｍの試料の波長２７
０ｎｍの透過率（単位：％）を示し、指数および対数の
底はｅである。また、Ｔ270の算出方法と同様の算出方
法により波長２４０ｎｍ内部透過率Ｔ2 40（単位：％／
ｃｍ）も算出した。
いて、分光光度計を用いて波長１９０〜４００ｎｍの透
過率を測定した。測定結果を図１に示す。評価２とし
て、厚さが１０ｍｍおよび３５ｍｍの２種の異なる厚さ
の試料について、波長２７０ｎｍのそれぞれの透過率
（Ｔ10およびＴ35）を測定し、式（１）に従って波長２
７０ｎｍ内部透過率Ｔ270（単位：％／ｃｍ）を算出し
た。その結果を表１に示す。なお、式（１）において、
Ｔ10は厚さ１０ｍｍの試料の波長２７０ｎｍの透過率
（単位：％）を、Ｔ35は厚さ３５ｍｍの試料の波長２７
０ｎｍの透過率（単位：％）を示し、指数および対数の
底はｅである。また、Ｔ270の算出方法と同様の算出方
法により波長２４０ｎｍ内部透過率Ｔ2 40（単位：％／
ｃｍ）も算出した。
【００２１】
【数１】
【００２２】
【表１】
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、２４０ｎｍおよび２７
０ｎｍ付近を中心とする光吸収が抑えられ、４００ｎｍ
以下の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラ
ス光学部材を得ることができ、４００ｎｍ以下の紫外線
を光源とする光学装置の光学部材として適用できる。
０ｎｍ付近を中心とする光吸収が抑えられ、４００ｎｍ
以下の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガラ
ス光学部材を得ることができ、４００ｎｍ以下の紫外線
を光源とする光学装置の光学部材として適用できる。
【００２４】また本発明の製造方法によれば、不純物
（特にＮｉおよびＦｅ）の含有量が低減され、４００ｎ
ｍ以下の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガ
ラス光学部材を容易に製造できる。したがって、２４０
ｎｍおよび２７０ｎｍ付近を中心とする光吸収が抑えら
れ、４００ｎｍ以下の紫外線波長域で高い透過率を有す
る合成石英ガラス光学部材の製造方法として好適であ
る。
（特にＮｉおよびＦｅ）の含有量が低減され、４００ｎ
ｍ以下の紫外線波長域で高い透過率を有する合成石英ガ
ラス光学部材を容易に製造できる。したがって、２４０
ｎｍおよび２７０ｎｍ付近を中心とする光吸収が抑えら
れ、４００ｎｍ以下の紫外線波長域で高い透過率を有す
る合成石英ガラス光学部材の製造方法として好適であ
る。
【図１】例１〜５で得られた合成石英ガラス光学部材の
波長１９０〜４００ｍｍにおける透過率曲線。
波長１９０〜４００ｍｍにおける透過率曲線。
Claims (3)
- 【請求項１】４００ｎｍ以下の紫外線波長域の光に使用
される合成石英ガラス光学部材において、Ｎｉの含有量
が１ｐｐｂ以下かつＦｅの含有量が０．５ｐｐｂ以下で
あることを特徴とする合成石英ガラス光学部材。 - 【請求項２】Ｎｉの含有量が０．５ｐｐｂ以下である請
求項１に記載の合成石英ガラス光学部材。 - 【請求項３】ケイ素化合物を原料とし、火炎加水分解反
応により石英ガラス微粒子を堆積、成長させ、多孔質石
英ガラス体を合成した後、ガラス化して、合成石英ガラ
ス光学部材を得る合成石英ガラス光学部材の製造方法に
おいて、該火炎加水分解反応を石英ガラス製反応容器お
よび石英ガラス製バーナーを用いて行う合成石英ガラス
光学部材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20678899A JP2000143259A (ja) | 1998-08-24 | 1999-07-21 | 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23768198 | 1998-08-24 | ||
| JP10-237681 | 1998-08-24 | ||
| JP20678899A JP2000143259A (ja) | 1998-08-24 | 1999-07-21 | 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008097281A Division JP5050969B2 (ja) | 1998-08-24 | 2008-04-03 | 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000143259A true JP2000143259A (ja) | 2000-05-23 |
Family
ID=26515869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20678899A Pending JP2000143259A (ja) | 1998-08-24 | 1999-07-21 | 合成石英ガラス光学部材とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000143259A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7534733B2 (en) | 2004-02-23 | 2009-05-19 | Corning Incorporated | Synthetic silica glass optical material having high resistance to laser induced damage |
-
1999
- 1999-07-21 JP JP20678899A patent/JP2000143259A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7534733B2 (en) | 2004-02-23 | 2009-05-19 | Corning Incorporated | Synthetic silica glass optical material having high resistance to laser induced damage |
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