JPH08129190A - 液晶表示素子 - Google Patents

液晶表示素子

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JPH08129190A
JPH08129190A JP26744594A JP26744594A JPH08129190A JP H08129190 A JPH08129190 A JP H08129190A JP 26744594 A JP26744594 A JP 26744594A JP 26744594 A JP26744594 A JP 26744594A JP H08129190 A JPH08129190 A JP H08129190A
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JP
Japan
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substrate
electrode
layer
light
liquid crystal
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Withdrawn
Application number
JP26744594A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriko Ogoshi
のり子 大越
Hitoshi Tomii
等 富井
Yasuharu Tanaka
康晴 田中
Yukito Saito
之人 斉藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Development and Engineering Corp
International Business Machines Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Engineering Co Ltd
International Business Machines Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Electronic Engineering Co Ltd, International Business Machines Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 液晶層厚が面内均一でむらがなく、かつ不要
な外乱光に対して画面が低反射で高品位な表示を実現で
きる信頼性の高い液晶表示素子を提供する。 【構成】 接着層3は、遮光層1と重なるあるいは接す
ることが無く、圧着時に基板面の水平方向に十分に拡が
っている。このときセルギャップ(液晶層厚)6は面内
均一で、しかも 2枚の基板9、10は容易に剥がれるこ
とがなくなる。またその製造時の歩留りは、接着層の材
料の流れに起因した不良も生じること無く、極めて良好
である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示素子に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示素子は、薄型軽量、低消費電力
という大きな特長を有しており、これを生かして近年、
日本語ワードプロセッサやディスクトップ・パ−ソナル
コンピュ−タなどのOA機器、投影型テレビ、小型テレ
ビの表示装置に多用されている。そのような用途への展
開につれて、表示性能の向上が強く望まれている。
【0003】このような液晶表示素子のうち、カラーフ
ィルタを用いてカラー表示を行なう液晶表示素子や、特
に基板上にTFT(Thin Film Transistor)のようなス
イッチング素子アレイが配列された、いわゆるアクティ
ブマトリクス型の液晶表示素子においては、TFTのよ
うなスイッチング素子に対する外光の入射に起因した光
励起電流等による誤動作や、一般に耐光性の点で弱いT
FT自体の耐久性を確保するため、そしてまた非画素部
の遮光を行なって表示品質を向上するために、そのTF
Tや非画素部を覆うように遮光層が設けられている。
【0004】従来、この遮光層は金属膜(例えばクロム
膜)や黒色有機膜を用いて、カラーフィルタ付き基板側
に(つまり一般に対向基板側に)カラーフィルタ層の下
あるいは上、もしくはカラーフィルタパターン間(カラ
ーフィルタの各色セルどうしの間隙部)に設けられてい
た。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の構造の液晶表示素子では、カラーフィルタ基
板(対向基板)とそれに対向配置されるスイッチング素
子アレイ基板との位置合わせ精度の問題や、逆スタガ構
造のTFTを用いた液晶表示素子において遮光層で反射
した光が半導体層に入射することにより発生する光励起
電流に起因した誤動作の問題が生じる。
【0006】このため、遮光層をスイッチング素子アレ
イ基板側に設けることが望ましい。このように遮光層を
スイッチング素子アレイ基板側に設ける場合には、遮光
層に金属膜を用いると、この金属膜とTFTあるいは金
属膜と信号配線のような各種配線との間などに寄生容量
が発生し、表示に悪影響を及ぼし表示品質が低下すると
いう問題がある。
【0007】従って、遮光層として用いる材料に要求さ
れる特質としては、遮光性が十分高く、しかも絶縁性が
高い材料が望まれる。よって、一般的には黒色有機膜を
用いることが望ましい。
【0008】このように遮光層の材料として黒色有機膜
を用いる場合には、遮光層の観点から十分な光学濃度を
得るためにはその膜厚を約 2μm以上に形成することが
必要となる。
【0009】ところが、このような黒色有機膜からなる
厚い遮光層を用いた場合には、 2枚の基板をその周囲に
配設された接着層を介して対向配置して作製された液晶
表示素子のセルギャップは、接着層が配設された周辺部
では厚く、画像表示を行なう表示領域では薄くなり、対
向配置される 2枚の基板を所定の間隔に面内均一に保つ
ことができないという問題や、そのセルギャップの制御
が困難であるという問題がある。
【0010】しかも、TFTアレイ基板上もしくはカラ
ーフィルタ付き対向基板上に遮光層を膜厚の厚い有機膜
によって設けた場合には、貼り合せた 2枚の基板が剥が
れやすいという問題がある。
【0011】また、液晶セルの圧着形成時に、TFTア
レイが形成され遮光層までパターン形成されたTFTア
レイ基板上の画面周囲部分に接着層の形成材料である有
機樹脂系接着剤が付着した際に、接着層の有機樹脂系接
着剤が遮光層や信号配線等のパターンに沿って毛細管現
象で伝わり広がって行き、致命的な製造不良となるとい
う問題がある。つまり、一般的に多用さている接着層の
形成材料であるエポキシ樹脂のような有機樹脂系接着剤
と遮光層の形成材料である黒色有機膜との間のぬれ性が
高いためと考えられるが、形成材料の特質に起因して致
命的な製造不良が多発するために、有機樹脂系接着剤と
有機遮光層との組み合わせ使用が困難であるという問題
があった。
【0012】本発明は、このような問題を解決するため
に成されたもので、その目的は、液晶層厚が面内均一で
むらがなく、かつ不要な外乱光に対して画面が低反射で
高品位な表示を実現できる信頼性の高い液晶表示素子を
提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】第1の電極が形成された
第1の電極基板と、第2の電極が形成され前記第1の電
極基板と間隙を有して対向配置された第2の電極基板
と、前記第1の基板および前記第2の基板の周囲に介挿
されて前記間隙を保持する接着層と、前記第1の基板と
前記第2の基板との間隙に周囲を前記接着層で封止され
て挟持され、前記第1の電極と前記第2の電極とが対向
する部分ごとに各画素を形成する液晶層とを備え、前記
各画素が配列されて画面が形成されている液晶表示素子
において、前記第1の基板および前記第2の基板のうち
少なくとも一方の基板上に形成された遮光層であって、
前記画面の各画素部および前記接着層は露出させるとと
もにその他の部位は被覆する遮光層と、前記遮光層に平
面的に重ならずかつ接することが無く前記基板の周囲に
配設された接着層と、を具備することを特徴としてい
る。
【0014】また、第1の電極が形成された第1の電極
基板と、第2の電極が形成され前記第1の電極基板と間
隙を有して対向配置された第2の電極基板と、前記第1
の基板および前記第2の基板の周囲に介挿されて前記間
隙を保持する接着層と、前記第1の基板と前記第2の基
板との間隙に周囲を前記接着層で封止されて挟持され、
前記第1の電極と前記第2の電極とが対向する部分ごと
に各画素を形成する液晶層とを備え、前記各画素が配列
されて画面が形成されている液晶表示素子において、前
記第1の電極基板および前記第2の電極基板のうち少な
くとも一方の基板上に、有機膜を材料として用いて形成
された有機遮光層であって、前記画面の各画素部および
前記接着層は露出させるとともにその他の部位は被覆す
る有機遮光層と、前記有機遮光層に平面的に重ならずか
つ接することが無く前記両電極基板の周囲に挟持され
た、有機材料を用いて形成された有機接着層とを具備す
ることを特徴としている。
【0015】なお、上記の有機接着層としては、例えば
熱硬化型エポキシ樹脂や、紫外線硬化型エポキシ樹脂を
好適に用いることができる。あるいはその他にも、例え
ば紫外線硬化型アクリル変性エポキシ樹脂を好適に用い
ることができる。
【0016】また、上記の有機遮光層の材料としては、
例えば黒色フォトレジストや、黒色ポリイミド(着色フ
ィラーとして黒色系顔料や黒色系染料を混入してなるポ
リイミド樹脂材料)などを好適に用いることができる。
【0017】
【作用】2枚の基板、すなわち対向基板とスイッチング
素子アレイ基板あるいは走査電極基板と信号電極基板と
を、接着層を介して接着する場合、その接着層は有効画
素領域の外側周辺、つまり外周部の遮光層に少なくとも
一部重なるように設けることが一般に行なわれていた。
【0018】しかし、このように接着層を遮光層と重な
るように設けた場合、特に有機膜からなる遮光層を用い
る場合には、膜厚がCrのような金属膜と比べて上記の
如く約 2μm以上と厚いので、この段差によって、 2枚
の基板の圧着時に接着層の潰れの進行が停止されてしま
い、かつこの段差の厚さの分、基板周辺部分の基板間間
隙(セルギャップ)が大きくなってしまうことを、我々
は種々の実験により確認した。
【0019】また、有機膜からなる遮光層と有機樹脂か
らなる接着層とは互いにぬれ性が高いので、そのような
遮光層に接着層(材料)が重なるとその部分から接着層
(材料)が毛細管現象によって遮光層のパターンに沿っ
て伝わり広がってしまい致命的な製造欠陥が多発するこ
とを、我々は種々の実験により確認した。
【0020】また、有機膜からなる遮光層と有機樹脂か
らなる接着層とが接合している部分は、両者の材料の特
質上、剥がれやすくなることを、我々は種々の実験によ
り確認した。
【0021】そこで、本発明においては、有機膜からな
る遮光層と有機樹脂からなる接着層とを重なること無く
かつ接触すること無く配置して、上記のような問題を解
決した。このとき、 2枚の基板の圧着後に潰れて広がる
接着層の幅の増加分を考慮して、あらかじめ接着層の形
成材料を基板外周部に塗布する際に、塗布装置を制御す
るなどして、遮光層パターンの外周部との間に上記のよ
うな接着層の幅の増加分以上のクリアランス(余裕)を
見込んだ位置に塗布すればよい。
【0022】さらには、本発明によれば、特に光硬化型
有機樹脂を接着層の材料として用いる場合、その光硬化
型有機樹脂に光を照射して硬化させる際に、遮光層は接
着層を覆っていないので、遮光層に光照射を妨げられる
こと無く上下両面から効果的に接着層の材料である光硬
化型有機樹脂に照射することができるので、効果的かつ
確実に接着層を硬化させることができ、信頼性および耐
久性の高い液晶表示素子を得ることができるという利点
もある。
【0023】
【実施例】以下、本発明の液晶表示素子の実施例を、図
面に基づいて詳細に説明する。
【0024】(実施例1)図1は、本発明の液晶表示素
子における、接着層が形成された基板の周辺部の平面的
構造の概要を、その基板左上部分を抜き出して部分的に
示す図、図2はその断面構造の概要を示すA−B断面
図、図3は、本発明のTFTアレイ基板の画面中央部寄
りの構造の概要を部分的に示す図である。
【0025】この液晶表示素子は、遮光層1と、ガラス
基板2、2´と、接着層3とを備えているが、特に、そ
のガラス基板2、2´の周辺部に遮光層1と接したり重
なったりすることを避けて接着層3が配設されている。
【0026】遮光層1は、画素開口部4が開口されてお
りそれ以外の部分は遮光部5として遮光を行なうように
パターニングされている。さらに、 2枚の基板がセルギ
ャップ6を保持しつつ対向配置されており、接着層3は
そのセルギャップ6を基板周辺部で保持している。
【0027】ガラス基板2上には図3に示すように信号
線7と画素電極8とが形成されてTFTアレイ基板9の
主要部が形成されている。
【0028】一方、対向基板10は、前記の如く接着層
3により保持されてTFTアレイ基板9に対して間隙を
保ちつつ対向配置されているが、この対向基板10は図
2に示すようにガラス基板2´上に画素電極8と対向す
る位置ごとにカラーフィルタ着色層12の各色セルが配
設されている。なお、図1、2、3においては図示の簡
潔化のために配向膜11は省略してある。
【0029】図1、2からも明らかなように、遮光層1
と接着層3とは、互いに接すること無く、むしろ数μm
のクリアランス(間隔)を隔てて配設されている。本発
明においては、遮光層1と接着層3との位置関係を重な
ることおよび接することを避けて配設している。そのた
めには、液晶表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしな
い程度で適切なクリアランスになるように、あらかじめ
接着層3の圧着時の潰れを考慮に入れた位置に接着層3
を塗布装置等で塗布しておくことが望ましい。そのクリ
アランスの数値としては塗布装置の誤差等種々の条件に
左右されるので定量的には記述し難いが、本実施例では
最終的に(両基板の圧着後に) 1μm〜300μmとなる
ようにした。
【0030】なお、図2の断面図においては各画素開口
部4にカラーフィルタ着色層12の各色セルが配置され
ている構造を示しているが、この色セルの配置はマトリ
ックス状に配置したものでも良く、あるいはストライプ
状に配置したものであっても良い。
【0031】このように、本発明の液晶表示素子は、接
着層3を遮光層1から離れた外側に設けることにより、
セル製造工程中の封着工程において所定の基板間距離つ
まり所定のセルギャップ6になるまで接着層3の形成材
料は遮光層1の段差に妨げられることなく充分に潰され
て拡がり、しかも遮光層1の段差の厚さによるセルギャ
ップの増加も無く、表示領域周辺部分のセルギャップ6
(さらにこれは換言すれば液晶層厚)も中央部のそれも
ほぼ同じになり、面内均一なセルギャップ6を得ること
ができる。
【0032】一方、本発明との比較のために図5に示し
た従来の液晶表示素子では、接着層503を遮光層50
1と一部は重なって接するように設けた場合では、約 2
μmの遮光層501の段差のために、接着層503が充
分に潰れて拡がることができなくなり、基板周辺部のセ
ルギャップ506が大きくなって、その周辺部分の液晶
層厚が厚くなる。その結果、 2枚の基板を所定の間隔に
面内均一に保つことができない。
【0033】このように、本発明によれば、セルギャッ
プ(液晶層厚)が均一で、表示むらがなく、高品位な表
示画像を実現する液晶表示素子を提供することができる
のである。
【0034】次に、本発明に係る液晶表示装置の製造プ
ロセスの概要を図4に基づいて述べる。
【0035】TFTアレイ基板9の上に、黒色ポリイミ
ドをスピンコータで回転塗布した後、乾燥および85℃・
5分間のプリベークを行なって 2μmの膜厚に成膜す
る。
【0036】この後、ポジ型フォトレジスト膜を塗布
し、信号線7の両脇の非画素部つまり信号線7とそれに
隣り合った画素電極8との間隙部分を遮蔽するような格
子状のパターンのマスクを用いて露光および現像し、 2
30℃・15分間のポストベークを施して、これをマスクと
して黒色ポリイミドをエッチングすることにより、TF
Tアレイ基板9上に、非画素部やTFT上の領域等であ
る遮光部5を遮蔽する遮光層1を形成した。
【0037】遮光層1が形成されたTFTアレイ基板9
と、カラーフィルタ着色層12および共通対向電極(図
示省略)が形成された対向基板10の対向面側に、図4
(a)に示すようにポリイミドからなる配向膜11を印
刷法によって形成し、約 180℃で 1時間にわたり焼成し
た後、図に示すようなラビング方向401にラビング配
向処理を行なった。
【0038】ここで、共通対向電極は一枚連続の電極で
あって例えばITOを材料としてカラーフィルタ着色層
12の上層または下層に形成される。
【0039】また、接着層3には例えば微細棒状のスペ
ーサ材料15を混入してもよいことは言うまでもない。
【0040】続いて、両基板9、10の電気的接続のた
めのトランスファ13を塗布し、そのTFTアレイ基板
9と対向基板10とを約 5μmのスペーサービーズ14
を介して配向膜(図1、図3、図4(b)、図4
(c)、図5においては図示の簡潔化のために図示省
略)が対向した状態で一体となるように、液晶組成物の
注入口16となる部分を除いて例えば熱硬化型エポキシ
系の接着剤にスペーサ材料15を混入してなる接着層3
の形成材料を、遮光層1の外周の外側に、遮光層1に接
すること無くかつ重なること無く塗布し、 170℃に加熱
しながら平行に貼り合わせた。(図4(b)) 次に、前述の注入口16から液晶組成物を注入した後、
例えばエポキシ系の接着剤からなる封止剤でその注入口
16の部分をも封止して液晶層17とし、液晶表示素子
の概要部分を完成する(図4(c))。
【0041】接着層3は、遮光層1と重なること無くか
つ接すること無く、圧着時に基板面の水平方向に十分に
拡がっている。このとき、セルギャップ(液晶層厚)6
は面内均一で、しかも 2枚の基板9、10は容易に剥が
れることがなかった。またその製造時の歩留りは、接着
層3の材料の流れに起因した不良も生じること無く、極
めて良好であった。
【0042】このような構造の本発明に係る液晶表示素
子においては、セルギャップの面内均一性は顕著に向上
されており、その表示画像の画質を確認したところ、表
示むらのない視認性の高い画質が得られることが確認で
きた。またその液晶表示素子の信頼性・耐久性も高いこ
とが確認できた。
【0043】(実施例2)この第2の実施例において
は、上記の第1の実施例で遮光層1の形成材料として用
いた黒色ポリイミドの代りに黒色フォトレジストを用い
るとともに、上記の第1の実施例で接着層3の材料とし
て用いた熱硬化型エポキシ系接着剤の代りに光(UV)
硬化型エポキシ接着剤を用いたことが特徴である。そし
てその他の構造は上記第1の実施例とほぼ同様である。
【0044】TFTアレイ基板9の上に、ポジ型の黒色
フォトレジストをスピンコータで回転塗布した後、乾燥
および85℃・ 5分間のプリベークを行なって 2μmの膜
厚に成膜する。
【0045】そして、信号線7の両脇の非画素部つまり
信号線7とそれに隣り合った画素電極8との間隙部分お
よびTFTを遮蔽するような格子状のパターンのマスク
を用いて露光および現像し、 230℃・15分間のポストベ
ークを施して、TFTアレイ基板9上に非画素部やTF
T上の領域等からなる遮光部5を遮蔽する遮光層1を形
成した。
【0046】このように、本実施例ではポジ型の黒色フ
ォトレジストを用いて遮光層1を形成しているので、遮
光層の形成を上記第1の実施例よりもさらに簡易化する
ことができるという利点もある。
【0047】次に、遮光層1が形成されたTFTアレイ
基板9と、カラーフィルタ着色層12および共通対向電
極(図示省略)が形成された対向基板10の対向面側
に、ポリイミドからなる配向膜11を印刷法によって形
成し、約 180℃で 1時間にわたり焼成した後、ラビング
配向処理を行なった。
【0048】続いて、両基板9、10の電気的接続のた
めのトランスファ13を塗布し、そのTFTアレイ基板
9と対向基板10とを約 5μmのスペーサービーズ14
を介して配向膜(図示省略)が対向した状態で一体とな
るように、液晶組成物の注入口16となる部分を除いて
光硬化型エポキシ系接着剤(長瀬チバ(株)製・XNR
5612)にスペーサ材料15を混入してなる接着層3の材
料を、遮光層1の外周の外側に、遮光層1に接すること
無くかつ重なること無く塗布し、 160℃に加熱しながら
平行に貼り合わせ、基板の上下両面からUV光を照射し
て光硬化型エポキシ系接着剤を硬化させて接着層3を形
成した。
【0049】このとき、本発明によれば光硬化型エポキ
シ系接着剤を塗布してなる接着層3は遮光性の高い遮光
層1では覆れておらず露出しているので、遮光層1に妨
げられることが全く無く基板の上下両面から硬化に十分
な光を直接に効果的に照射することができるという利点
がある。
【0050】続いて、前述の注入口16から液晶組成物
を注入した後、例えばエポキシ系の接着剤からなる封止
剤でその注入口16の部分をも封止して液晶層17を気
密保持し、液晶表示素子の概要構造を完成する。
【0051】接着層3は、遮光層1と重なる事なくかつ
接すること無く、圧着時に基板面の水平方向に十分に拡
がっている。このときセルギャップ(液晶層厚)6は面
内均一で、しかも 2枚の基板9、10は容易に剥がれる
ことがなかった。またその製造時の歩留りは、接着層3
の材料の流れに起因した不良も生じること無く、極めて
良好であった。
【0052】このような構造の本発明に係る第2の実施
例の液晶表示素子においても、セルギャップの面内均一
性は顕著に向上されており、その表示画像の画質を確認
したところ、表示むらのない視認性の高い画質が得られ
ることが確認できた。またその液晶表示素子の信頼性・
耐久性も高いことが確認できた。
【0053】また、光硬化型エポキシ系接着剤からなる
接着層3の硬化のための光照射を極めて簡易に効果的に
行なうことができた。
【0054】また、遮光層1の形成を、第1の実施例に
増してさらに簡易化することができた。
【0055】なお、本発明の効果は、上記の実施例のよ
うなTFTアクティブマトリックス型液晶表示素子や、
MIMアクティブマトリクス型液晶表示素子のみなら
ず、ST型、STN型の液晶を用いた単純マトリックス
型の液晶表示素子や、ILC型や、その他の表示モード
の液晶表示素子にも適用可能である。
【0056】また、直視型表示装置や、投射型表示装置
など、各種形態の表示装置用の液晶表示素子に適用可能
であることは言うまでもない。
【0057】
【発明の効果】以上、詳細な説明で明示したように、本
発明によれば、液晶層厚が面内均一でむらがなく、かつ
不要な外乱光に対して画面が低反射で高品位な表示を実
現できる信頼性の高い液晶表示素子を提供することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の液晶表示素子における、接着層が形成
された基板周辺部の平面的構造の概要を示す図である。
【図2】本発明の液晶表示素子における、接着層が形成
された基板周辺部の断面構造の概要を示す図である。
【図3】本発明のTFTアレイ基板9の画面中央部寄り
の構造の概要を部分的に示す図である。
【図4】本発明の液晶表示素子のセルの製造プロセスの
概要を示す図である。
【図5】従来の液晶表示素子における、接着層が形成さ
れた基板周辺部の断面構造の概要を示す図である。
【符号の説明】
1………遮光層 2、2´…ガラス基板 3………接着層 4………画素開口部 5………遮光部 6………セルギャップ 7………信号線 8………画素電極 9………TFTアレイ基板 10………対向基板 11………配向膜 12………カラーフィルタ着色層 13………トランスファ 14………スペーサービーズ 15………スペーサ材料 16………注入口 17………液晶層
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年2月28日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0048
【補正方法】変更
【補正内容】
【0048】続いて、両基板9、10の電気的接続のた
めのトランスファ13を塗布し、そのTFTアレイ基板
9と対向基板10とを約5μmのスペーサービーズ14
を介して配向膜(図示省略)が対向した状態で一体とな
るように、液晶組成物の注入口16となる部分を除いて
光硬化型エポキシ系接着剤(長瀬チバ(株)製・XNR
5612)にスペーサ材料15を混入してなる接着層3
の材料を、遮光層1の外周の外側に、遮光層1に接する
こと無くかつ重なること無く塗布し、基板の上下両面か
らUV光を照射して光硬化型エポキシ系接着剤を硬化さ
せて接着層3を形成した。
フロントページの続き (71)出願人 390009531 インターナショナル・ビジネス・マシーン ズ・コーポレイション INTERNATIONAL BUSIN ESS MASCHINES CORPO RATION アメリカ合衆国10504、ニューヨーク州 アーモンク (番地なし) (72)発明者 大越 のり子 神奈川県川崎市川崎区日進町7番地1 東 芝電子エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 富井 等 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 田中 康晴 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 斉藤 之人 神奈川県大和市下鶴間1623番地14 日本ア イ・ビー・エム株式会社大和事業所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の電極が形成された第1の電極基板
    と、第2の電極が形成され前記第1の電極基板と間隙を
    有して対向配置された第2の電極基板と、前記第1の基
    板および前記第2の基板の周囲に介挿されて前記間隙を
    保持する接着層と、前記第1の基板と前記第2の基板と
    の間隙に周囲を前記接着層で封止されて挟持され、前記
    第1の電極と前記第2の電極とが対向する部分ごとに各
    画素を形成する液晶層とを備え、前記各画素が配列され
    て画面が形成されている液晶表示素子において、 前記第1の基板および前記第2の基板上のうち少なくと
    も一方の基板上に形成された遮光層であって、前記画面
    の各画素部および前記接着層は露出させるとともにその
    他の部位は被覆する遮光層と、 前記遮光層に平面的に重ならずかつ接することが無く前
    記基板の周囲に配設された接着層と、を具備することを
    特徴とする液晶表示素子。
  2. 【請求項2】 第1の電極が形成された第1の電極基板
    と、第2の電極が形成され前記第1の電極基板と間隙を
    有して対向配置された第2の電極基板と、前記第1の基
    板および前記第2の基板の周囲に介挿されて前記間隙を
    保持する接着層と、前記第1の基板と前記第2の基板と
    の間隙に周囲を前記接着層で封止されて挟持され、前記
    第1の電極と前記第2の電極とが対向する部分ごとに各
    画素を形成する液晶層とを備え、前記各画素が配列され
    て画面が形成されている液晶表示素子において、 前記第1の電極基板および前記第2の電極基板のうち少
    なくとも一方の基板上に、有機膜を材料として用いて形
    成された有機遮光層であって、前記画面の各画素部およ
    び前記接着層は露出させるとともにその他の部位は被覆
    する有機遮光層と、 前記有機遮光層に平面的に重ならずかつ接することが無
    く前記両電極基板の周囲に挟持された、有機材料を用い
    て形成された有機接着層と、を具備することを特徴とす
    る液晶表示素子。
JP26744594A 1994-10-31 1994-10-31 液晶表示素子 Withdrawn JPH08129190A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100617025B1 (ko) * 2000-11-08 2006-08-29 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법
KR100720411B1 (ko) * 2000-10-25 2007-05-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100720411B1 (ko) * 2000-10-25 2007-05-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법
US7339647B2 (en) 2000-10-25 2008-03-04 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same
KR100617025B1 (ko) * 2000-11-08 2006-08-29 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법

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