JP2884458B2 - 液晶表示パネルの製造方法 - Google Patents

液晶表示パネルの製造方法

Info

Publication number
JP2884458B2
JP2884458B2 JP4143716A JP14371692A JP2884458B2 JP 2884458 B2 JP2884458 B2 JP 2884458B2 JP 4143716 A JP4143716 A JP 4143716A JP 14371692 A JP14371692 A JP 14371692A JP 2884458 B2 JP2884458 B2 JP 2884458B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
display panel
crystal display
light
microlens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP4143716A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05313153A (ja
Inventor
榑松　　克巳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP4143716A priority Critical patent/JP2884458B2/ja
Priority to EP93303586A priority patent/EP0570176B1/en
Priority to DE69320099T priority patent/DE69320099T2/de
Priority to US08/059,290 priority patent/US5473453A/en
Publication of JPH05313153A publication Critical patent/JPH05313153A/ja
Priority to US08/528,650 priority patent/US5666176A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2884458B2 publication Critical patent/JP2884458B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133526—Lenses, e.g. microlenses or Fresnel lenses
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00—Optical: systems and elements
    • Y10S359/90—Methods

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ、液晶
プロジェクター等に用いられる液晶表示パネル、特にマ
イクロレンズを利用することにより実用開口率の向上を
図った液晶表示パネルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来マイクロレンズを利用した液晶表示
パネルについては、既に特開昭５７−１５７２１５、特
開昭６０−２６２１３、特開平２−１８１６、等に開示
されている。これらはいずれもマイクロレンズを形成し
たガラス基板を液晶表示パネルに貼付するか又は液晶表
示パネル上に直接マイクロレンズを構成していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
例では、その製法上、有効画素部以外を遮蔽する遮光マ
スクとマイクロレンズとのアライメントが必須となり、
そのためアライメント誤差に対応した遮光マスク開口の
冗長設計が必要になり、これにより不要光遮蔽の不完全
性が避けられなくなるという問題が有った。
【０００４】本発明の目的は、上記従来技術の問題に鑑
み、無駄の無い不要光の遮蔽を行うことにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び作用】上記目的は以下
の構成により達成される。
【０００６】即ち本発明は、対向する第１の基板と第２
の基板との間に液晶を挟持し、該第１の基板はアレイ状
に配列した複数のマイクロレンズを有し、該マイクロレ
ンズのそれぞれは１つ又は複数の液晶画素に対応してい
るマトリックス表示型の液晶表示パネルの製造方法にお
いて、前記第１の基板にポジ型感光性樹脂を設ける工程
と、前記マイクロレンズを介して該ポジ型感光性樹脂を
露光する工程と、該ポジ型感光性樹脂を現像してパター
ン化することにより遮光マスクを形成する工程とを少な
くとも有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方
法にある。
【０００７】本発明によれば、遮光マスクを形成する際
のフォトリソグラフィー露光プロセスをマイクロレンズ
を透して行なうことにより、遮光マスクとマイクロレン
ズがセルフアライメント化されるため、マイクロレンズ
による集光光束と、遮光マスクの開口とが完全に一致
し、迷光等の不要光の遮蔽を、無駄が無く非常に良好に
行うことができる。
【０００８】本発明において、遮光マスクの材料として
は、ポジ型感光性被染色樹脂や、顔料を分散したポジ型
感光性樹脂等が適用でき、上記ポジ型感光性被染色樹
脂、例えばノボラック樹脂系レジストを遮光マスクとし
て用いる場合には、フォトリソグラフィ露光を行い現像
した後、例えばアントラキノン系黒色染料等により染色
する。
【０００９】また、本発明に用いられるマイクロレンズ
としては、特に限定されるものではなく、ＧＩ型のもの
や、樹脂による凸形状タイプのもの等が適用できる。
【００１０】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明を詳述する。
【００１１】実施例１ 図１は本実施例の液晶表示パネルの断面構成図であり、
図２は遮光マスクの製造プロセスを説明するための図で
ある。ここで２はマイクロレンズガラス基板、４は対向
ガラス基板、１３はＴＦＴガラス基板である。マイクロ
レンズガラス基板２が接着された対向ガラス基板４とＴ
ＦＴガラス基板１３との間に液晶９を挟み、これらの外
側両面に偏光板１と１４が貼付された構成になってい
る。
【００１２】以下にその製造プロセスを示す。
【００１３】１）ＧＩ型マイクロレンズ３が形成された
ガラス基板２とガラス基板４をホットプレス、耐熱性接
着剤等にて接着する。
【００１４】２）図２（ａ）に示されるようにガラス基
板４上にポジ型感光性被染色樹脂層１５を塗布形成し、
マイクロレンズガラス基板２側から露光することにより
マイクロレンズの集光に応じた露光を樹脂層１５に行
う。
【００１５】３）樹脂層１５を現像して図２（ｂ）のご
ときマイクロレンズの集光エリアが抜けた形状のパター
ンを得る。
【００１６】４）この樹脂パターンを染色して遮光マス
ク５を得る。
【００１７】５）シリカ系、エポキシ系、アクリル系、
ポリイミド系等の無機酸化物又は樹脂からなるトップコ
ート層６を形成する。
【００１８】６）ＩＴＯ等から成る対向電極７をスパッ
タリング等にて成膜する。
【００１９】７）配向膜８を形成する。（ラビング処理
含む） ８）以上のようにして構成した第１の基板と、ＴＦＴ１
１、画素電極１２、信号電極、走査電極、配向膜１０等
が形成されたＴＦＴガラス基板１３（第２の基板）との
間でセル化する。（遮光マスク５にてＴＦＴ１１を遮光
するようにアライメントする） ９）液晶９を注入し、封口後、偏光板１，１４を外側両
面に貼付する。
【００２０】このようにして製造された液晶表示パネル
はマイクロレンズと遮光マスクがセルフアライメント化
されるため、図１に示したように、マイクロレンズ３に
よる集光光束（光線は図中矢印で示す）と遮光マスク６
の開口とが完全に一致し、迷光等の不要光の遮蔽を無駄
が無く非常に良好に行うことができる。
【００２１】本実施例ではマイクロレンズガラス基板２
と対向ガラス基板４とを接着して用いているが、この様
なタイプに限定される訳では無く、対向ガラス基板に直
接マイクロレンズを形成したようなモノリシックタイプ
のものについても同様に本実施例の製法を適用すること
ができる。
【００２２】またマイクロレンズの形態もドット型の２
次元アレイ又はシリンドリカルなもののアレイのどちら
も適用可能である。
【００２３】実施例２ 図３は本実施例の遮光マスクの製造プロセスを説明する
ための図である。液晶表示パネル全体の構成は実施例１
と全く同じである。以下に全体の製造プロセスを示す。
【００２４】１）ＧＩ型マイクロレンズ３が形成された
ガラス基板２とガラス基板４をホットプレス、耐熱性接
着剤等にて接着する。
【００２５】２）図３（ａ）に示されるようにガラス基
板４上に顔料を分散したポジ型感光性樹脂層１６を塗布
形成し、マイクロレンズガラス基板２側から露光するこ
とによりマイクロレンズの集光に応じた露光を樹脂層１
６に行う。
【００２６】３）樹脂層１６を現像して図３（ｂ）のご
ときマイクロレンズの集光エリアが抜けた形状のパター
ン（遮光マスク５’）を得る。
【００２７】４）シリカ系、エポキシ系、アクリル系、
ポリイミド系等の無機酸化物又は樹脂からなるトップコ
ート層６を形成する。
【００２８】５）ＩＴＯ等から成る対向電極７をスパッ
タリング等にて成膜する。
【００２９】６）配向膜８を形成する。（ラビング処理
含む） ７）以上のようにして構成した第１の基板と、ＴＦＴ１
１、画素電極１２、信号電極、走査電極、配向膜１０等
が形成されたＴＦＴガラス基板１３（第２の基板）との
間でセル化する。（遮光マスク５’にてＴＦＴ１１を遮
光するようにアライメントする） ８）液晶９を注入し、封口後、偏光板１，１４を外側両
面に貼付する。
【００３０】このようにして製造された液晶表示パネル
は実施例１と比較して製造工程が一工程短縮されるとと
もに、実施例１と全く同じ効果を有する。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、液晶表示パネルの
遮光マスクを形成する際のフォトリソグラフィー露光プ
ロセスをマイクロレンズを透して行なうことにより、遮
光マスクとマイクロレンズとのアライメントがセルフア
ライメント化され、マイクロレンズによる集光光束と遮
光マスクの開口とが完全に一致するため、不要光の遮蔽
を無駄が無く非常に良好に行うことができる。
【００３２】また、このようにして作製された液晶表示
パネルは、実用開口率が向上し、より鮮明な画像表示が
可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液晶表示パネルの断面構成図の一例で
ある。
【図２】本発明に係る遮光マスクの製造プロセスの一例
を説明するための図である。
【図３】本発明に係る遮光マスクの製造プロセスの一例
を説明するための図である。
【符号の説明】
１，１４ 偏光板 ２ マイクロレンズガラス基板 ３ マイクロレンズ ４ 対向ガラス基板 ５，５’ 遮光マスク ６ トップコート層 ７ 対向電極 ８，１０ 配向膜 ９ 液晶層 １１ ＴＦＴ １２ 画素電極 １３ ＴＦＴガラス基板 １５ 被染色樹脂層 １６ 顔料分散樹脂層

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 対向する第１の基板と第２の基板との間
    に液晶を挟持し、該第１の基板はアレイ状に配列した複
    数のマイクロレンズを有し、該マイクロレンズのそれぞ
    れは１つ又は複数の液晶画素に対応しているマトリック
    ス表示型の液晶表示パネルの製造方法において、前記第
    １の基板にポジ型感光性樹脂を設ける工程と、前記マイ
    クロレンズを介して該ポジ型感光性樹脂を露光する工程
    と、該ポジ型感光性樹脂を現像してパターン化すること
    により遮光マスクを形成する工程とを少なくとも有する
    ことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
  2. 【請求項２】 前記第２の基板にＴＦＴを形成する工程
    を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パ
    ネルの製造方法。
  3. 【請求項３】 前記パターン化後に前記ポジ型感光性樹
    脂を染色する工程を有することを特徴とする請求項１又
    は２に記載の液晶表示パネルの製造方法。
  4. 【請求項４】 前記ポジ型感光性樹脂が顔料を分散した
    ポジ型感光性樹脂であることを特徴とする請求項１又は
    ２に記載の液晶表示パネルの製造方法。
JP4143716A 1992-05-11 1992-05-11 液晶表示パネルの製造方法 Expired - Fee Related JP2884458B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4143716A JP2884458B2 (ja) 1992-05-11 1992-05-11 液晶表示パネルの製造方法
EP93303586A EP0570176B1 (en) 1992-05-11 1993-05-10 Liquid crystal display panel and process for production thereof
DE69320099T DE69320099T2 (de) 1992-05-11 1993-05-10 Flüssigkristallanzeigetafel und Verfahren zu ihrer Herstellung
US08/059,290 US5473453A (en) 1992-05-11 1993-05-11 Liquid crystal display with opaque film formed by exposure through microlens
US08/528,650 US5666176A (en) 1992-05-11 1995-09-07 Process for producing liquid crystal display panel by photolithography using microlenses

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4143716A JP2884458B2 (ja) 1992-05-11 1992-05-11 液晶表示パネルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05313153A JPH05313153A (ja) 1993-11-26
JP2884458B2 true JP2884458B2 (ja) 1999-04-19

Family

ID=15345329

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4143716A Expired - Fee Related JP2884458B2 (ja) 1992-05-11 1992-05-11 液晶表示パネルの製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (2) US5473453A (ja)
EP (1) EP0570176B1 (ja)
JP (1) JP2884458B2 (ja)
DE (1) DE69320099T2 (ja)

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5541751A (en) * 1992-12-11 1996-07-30 Sharp Kabushiki Kaisha Light scan type display device having light waveguides and photo conductive switching elements
US6788460B2 (en) * 1998-04-15 2004-09-07 Duke University Projection screen apparatus
US20030206342A1 (en) * 1993-05-12 2003-11-06 Bright View Technologies, Inc. Micro-lens array based light transmission screen
DE69429209T2 (de) * 1993-06-01 2002-06-27 Sharp Kk Bildanzeigevorrichtung mit rückseitiger Beleuchtung
JP3040667B2 (ja) * 1994-08-29 2000-05-15 シャープ株式会社 透過型表示装置の輝点欠陥修正方法
US5606436A (en) * 1994-11-21 1997-02-25 Proxima Corporation Liquid crystal projection panel construction and method of making same
JPH08340545A (ja) * 1995-06-13 1996-12-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 投写型画像表示装置
US5847795A (en) * 1995-07-27 1998-12-08 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal display apparatus and anti-reflection film applicable thereto
WO1997016765A1 (en) * 1995-11-02 1997-05-09 Philips Electronics N.V. Picture display device
WO1997022896A1 (en) * 1995-12-18 1997-06-26 Alliedsignal Inc. A viewing screen and maskless methods for manufacturing
KR100213968B1 (ko) * 1996-07-15 1999-08-02 구자홍 액정표시장치
KR100229618B1 (ko) * 1996-10-09 1999-11-15 구자홍 마이크로렌즈를 가지는 액정표시장치
JP3249077B2 (ja) * 1996-10-18 2002-01-21 キヤノン株式会社 マトリクス基板と液晶装置
JP3318859B2 (ja) * 1996-11-28 2002-08-26 ソニー株式会社 液晶表示装置
US6137555A (en) * 1997-03-26 2000-10-24 Matsushita Electronics Corporation Liquid crystal panel with uniform adhesive layer and method of manufacturing
JPH11142844A (ja) 1997-11-07 1999-05-28 Canon Inc 液晶表示装置
US5929962A (en) * 1998-02-03 1999-07-27 International Business Machines Corporation Method and apparatus for integrating microlens array into a liquid crystal display device using a sacrificial substrate
US6967779B2 (en) * 1998-04-15 2005-11-22 Bright View Technologies, Inc. Micro-lens array with precisely aligned aperture mask and methods of producing same
JP2000075259A (ja) * 1998-06-16 2000-03-14 Seiko Epson Corp 液晶装置及びこれを用いた投写型表示装置
US6469830B1 (en) * 1999-04-01 2002-10-22 Honeywell Inc. Display screen and method of manufacture therefor
US6171732B1 (en) * 1999-05-04 2001-01-09 United Microelectronics Corp. Method of manufacturing and application of dual alignment photomask
KR100798315B1 (ko) * 2001-12-29 2008-01-28 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시장치의 기판 구조 및 그 제조방법
WO2004019120A1 (en) * 2002-08-21 2004-03-04 Nokia Corporation Switchable lens display
JP4097508B2 (ja) * 2002-11-19 2008-06-11 シャープ株式会社 マイクロレンズ基板の作製方法およびマイクロレンズ露光光学系
HRP20030885A2 (en) * 2003-11-03 2005-08-31 Pliva-Istra�iva�ki institut d.o.o. USE OF 2-THIA-DIBENZO[e,h]AZULENES FOR THE MANUFACTURE OF PHARMACEUTICAL FORMULATIONS FOR THE TREATMENT AND PREVENTION OF CENTRAL NERVOUS SYYTEM DISEASES AND DISORDERS
US7394594B2 (en) 2006-05-08 2008-07-01 Bright View Technologies, Inc. Methods for processing a pulsed laser beam to create apertures through microlens arrays
TW200745661A (en) * 2006-06-09 2007-12-16 Innolux Display Corp Liquid crystal display device
KR100941053B1 (ko) * 2008-01-17 2010-02-05 한양대학교 산학협력단 디스플레이 장치
JP5553707B2 (ja) 2009-08-21 2014-07-16 株式会社半導体エネルギー研究所 光検出装置
TWI523240B (zh) 2009-08-24 2016-02-21 半導體能源研究所股份有限公司 光檢測器和顯示裝置
DE102015010077A1 (de) 2015-08-07 2017-02-09 Karlsruher Institut für Technologie Verfahren zum Herstellen optoelektronisch aktiver Bauteile
US10270947B2 (en) * 2016-09-15 2019-04-23 Microsoft Technology Licensing, Llc Flat digital image sensor

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2047651C3 (de) * 1970-09-28 1974-11-21 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Anordnung zur zweidimensional räumlichen und zeitlichen Modulation von kohärenten Lichtbündeln
JPS57157215A (en) * 1981-03-24 1982-09-28 Citizen Watch Co Ltd Matrix display device
JPS59172627A (ja) * 1983-03-23 1984-09-29 Canon Inc 表示パネル
JPS6026213A (ja) * 1983-07-22 1985-02-09 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ス−ツブロアの最適制御システム
JPH07120143B2 (ja) * 1986-06-04 1995-12-20 キヤノン株式会社 表示パネルの情報読出し法及び表示パネルの情報読出し装置
JPS6344624A (ja) * 1986-08-12 1988-02-25 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶デバイス
KR890005567A (ko) * 1987-09-28 1989-05-15 클라이드 씨. 블린 렌즈 레트상에 개구를 형성하기 위한 장치 및 방법
JPH0769532B2 (ja) * 1988-06-11 1995-07-31 シャープ株式会社 投影型表示装置
US4952026A (en) * 1988-10-14 1990-08-28 Corning Incorporated Integral optical element and method
US5227900A (en) * 1990-03-20 1993-07-13 Canon Kabushiki Kaisha Method of driving ferroelectric liquid crystal element
JPH04129268A (ja) * 1990-09-20 1992-04-30 Toshiba Corp 固体撮像素子

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05313153A (ja) 1993-11-26
EP0570176A1 (en) 1993-11-18
DE69320099T2 (de) 1999-01-07
US5666176A (en) 1997-09-09
US5473453A (en) 1995-12-05
EP0570176B1 (en) 1998-08-05
DE69320099D1 (de) 1998-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2884458B2 (ja) 液晶表示パネルの製造方法
US7423710B2 (en) Color filter panel and its fabrication method using back exposure
US7133108B2 (en) Liquid crystal display device
US5419991A (en) Method of manufacturing a liquid crystal display
TW426806B (en) Fabricating method of liquid crystal display apparatus
JP4048085B2 (ja) 液晶用カラーフィルター及びその製造方法
US20050095514A1 (en) Method of fabricating color filter panel using back exposure and structure of color filter panel
JPH11109373A (ja) 液晶表示素子
JP2002350860A (ja) 液晶表示装置の製造方法
JPH09325206A (ja) カラーフィルター
JPH0430140A (ja) 投影型カラー液晶表示装置
JP3481510B2 (ja) アクティブマトリクス型液晶表示装置
JPH0836173A (ja) 液晶表示装置の製造方法
JP2518207B2 (ja) カラ−フイルタの形成方法
JPH08201793A (ja) 液晶画像表示装置
JPH08129190A (ja) 液晶表示素子
JP2000347021A (ja) カラーフィルタおよびその製造方法
JP2860001B2 (ja) 単板式液晶プロジェクション用液晶表示素子
JPH11160521A (ja) カラ−フィルタの製造法
JPH08248409A (ja) 液晶表示装置用カラーフィルターおよびその製造方法
JPH0990339A (ja) 液晶表示装置
JPH05107527A (ja) 散乱モード液晶表示デバイス
JPH06148636A (ja) 液晶表示パネル
JP2007047280A (ja) 液晶表示装置
JPH06289388A (ja) カラー表示装置及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19981222

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees