JPH08127560A - アミド化合物の製造方法 - Google Patents
アミド化合物の製造方法Info
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- JPH08127560A JPH08127560A JP6288618A JP28861894A JPH08127560A JP H08127560 A JPH08127560 A JP H08127560A JP 6288618 A JP6288618 A JP 6288618A JP 28861894 A JP28861894 A JP 28861894A JP H08127560 A JPH08127560 A JP H08127560A
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/22—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C231/24—Separation; Purification
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C235/02—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C235/04—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to acyclic carbon atoms and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】アシルフロライド基を有する化合物とアミノ化
合物との反応混合物からアミド化合物を単離精製する方
法を提供する。 【構成】分子内にアシルフロライド基を有する化合物と
アミノ化合物とを反応させて得られる、アミド化合物と
フッ化水素及び／又はフッ化水素と前記アミノ化合物と
の塩を含有する反応混合物に、シラザン化合物または分
子内にケイ素原子と窒素原子との結合が少なくとも一つ
以上存在するシラン化合物を加えることにより、前記反
応混合物中に存在するフッ化水素あるいはフッ化水素と
前記アミノ化合物との塩を除去することを特徴とするア
ミド化合物の製造方法。 【効果】本発明の製造方法によれば、反応系内に副生す
るフッ化水素、フッ酸アミン塩を短時間で簡便に処理し
除去することができ、目的とするアミド化合物を高収率
でかつ純度よく得ることができる。
合物との反応混合物からアミド化合物を単離精製する方
法を提供する。 【構成】分子内にアシルフロライド基を有する化合物と
アミノ化合物とを反応させて得られる、アミド化合物と
フッ化水素及び／又はフッ化水素と前記アミノ化合物と
の塩を含有する反応混合物に、シラザン化合物または分
子内にケイ素原子と窒素原子との結合が少なくとも一つ
以上存在するシラン化合物を加えることにより、前記反
応混合物中に存在するフッ化水素あるいはフッ化水素と
前記アミノ化合物との塩を除去することを特徴とするア
ミド化合物の製造方法。 【効果】本発明の製造方法によれば、反応系内に副生す
るフッ化水素、フッ酸アミン塩を短時間で簡便に処理し
除去することができ、目的とするアミド化合物を高収率
でかつ純度よく得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アミド化合物の製造方
法に関し、更に詳細には、アシルフロライド基を有する
化合物とアミノ化合物との反応混合物から簡易な操作
で、目的とするアミド化合物を高収率かつ高純度で得る
ことができるアミド化合物の製造方法に関する。
法に関し、更に詳細には、アシルフロライド基を有する
化合物とアミノ化合物との反応混合物から簡易な操作
で、目的とするアミド化合物を高収率かつ高純度で得る
ことができるアミド化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、分子内にアシルフロライド基を有
する化合物からアミド化合物を合成する方法として、こ
のアシルフロライド基を有する化合物とアミノ化合物と
を直接反応させる方法があり、この反応は定量的に進行
することが知られている。この反応では、反応に際し副
生物としてフッ化水素が生成し、このフッ化水素は反応
系内に前記アミノ化合物が過剰に存在する場合には、こ
のアミノ化合物と塩を形成する。
する化合物からアミド化合物を合成する方法として、こ
のアシルフロライド基を有する化合物とアミノ化合物と
を直接反応させる方法があり、この反応は定量的に進行
することが知られている。この反応では、反応に際し副
生物としてフッ化水素が生成し、このフッ化水素は反応
系内に前記アミノ化合物が過剰に存在する場合には、こ
のアミノ化合物と塩を形成する。
【０００３】また、必要により受酸剤として別途アミノ
化合物を反応系内に添加することがあるが、フッ化水素
は、この場合には添加されたアミノ化合物とも塩を形成
する。そこで、反応系内からこのフッ化水素とアミノ化
合物との塩（以下、フッ酸アミン塩という）を除去し、
目的とするアミド化合物を単離するために、通常、水洗
による後処理が行われる。
化合物を反応系内に添加することがあるが、フッ化水素
は、この場合には添加されたアミノ化合物とも塩を形成
する。そこで、反応系内からこのフッ化水素とアミノ化
合物との塩（以下、フッ酸アミン塩という）を除去し、
目的とするアミド化合物を単離するために、通常、水洗
による後処理が行われる。
【０００４】しかしながら、生成したアミド化合物の中
には水との分離性が悪いものなどがあり、従来の直接反
応法には、目的とするアミド化合物を得るまでに多大な
時間と工数が必要となる、精製が不完全でアミド化合物
中にフッ酸アミン塩が多量に残留する、ひいては収率の
低下を免れない等の問題があった。また、目的とするア
ミド化合物が蒸留により単離可能な場合であっても、前
工程でのフッ酸アミン塩の除去が不完全であると、蒸留
過程においてフッ酸アミン塩が昇華して、蒸留留分に混
入したり、時には、フッ酸アミン塩が蒸留塔冷却部分に
析出して、蒸留塔をふさいでしまうといった障害を起こ
すという問題があった。
には水との分離性が悪いものなどがあり、従来の直接反
応法には、目的とするアミド化合物を得るまでに多大な
時間と工数が必要となる、精製が不完全でアミド化合物
中にフッ酸アミン塩が多量に残留する、ひいては収率の
低下を免れない等の問題があった。また、目的とするア
ミド化合物が蒸留により単離可能な場合であっても、前
工程でのフッ酸アミン塩の除去が不完全であると、蒸留
過程においてフッ酸アミン塩が昇華して、蒸留留分に混
入したり、時には、フッ酸アミン塩が蒸留塔冷却部分に
析出して、蒸留塔をふさいでしまうといった障害を起こ
すという問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、アシル
フロライド基を有する化合物とアミノ化合物との反応混
合物から目的とするアミド化合物を簡易な操作で、高収
率かつ高純度で得ることができるアミド化合物の製造方
法について鋭意検討した結果、前記反応混合物にシラザ
ン化合物または分子内にケイ素原子と窒素原子との結合
が少なくとも一つ存在するシラン化合物を添加すれば、
これがフッ酸アミン塩と反応してフルオロシラン化合物
とアミノ化合物になり、フッ酸アミン塩が消失し、フッ
化水素もフルオロシラン化合物とアミノ化合物になり、
後工程が簡略化されることを見出し本発明に到達した。
従って、本発明の目的は、アシルフロライド基を有する
化合物とアミノ化合物との反応混合物からアミド化合物
を簡易な操作で、高収率かつ高純度で得ることができる
アミド化合物の製造方法を提供することにある。
フロライド基を有する化合物とアミノ化合物との反応混
合物から目的とするアミド化合物を簡易な操作で、高収
率かつ高純度で得ることができるアミド化合物の製造方
法について鋭意検討した結果、前記反応混合物にシラザ
ン化合物または分子内にケイ素原子と窒素原子との結合
が少なくとも一つ存在するシラン化合物を添加すれば、
これがフッ酸アミン塩と反応してフルオロシラン化合物
とアミノ化合物になり、フッ酸アミン塩が消失し、フッ
化水素もフルオロシラン化合物とアミノ化合物になり、
後工程が簡略化されることを見出し本発明に到達した。
従って、本発明の目的は、アシルフロライド基を有する
化合物とアミノ化合物との反応混合物からアミド化合物
を簡易な操作で、高収率かつ高純度で得ることができる
アミド化合物の製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は、
分子内にアシルフロライド基を有する化合物とアミノ化
合物とを反応させて得られる、アミド化合物とフッ化水
素及び／又はフッ化水素と前記アミノ化合物との塩を含
有する反応混合物に、シラザン化合物または分子内にケ
イ素原子と窒素原子との結合が少なくとも一つ存在する
シラン化合物を加えることにより、前記反応混合物中に
存在するフッ化水素またはフッ化水素と前記アミノ化合
物との塩を除去することを特徴とするアミド化合物の製
造方法によって達成された。
分子内にアシルフロライド基を有する化合物とアミノ化
合物とを反応させて得られる、アミド化合物とフッ化水
素及び／又はフッ化水素と前記アミノ化合物との塩を含
有する反応混合物に、シラザン化合物または分子内にケ
イ素原子と窒素原子との結合が少なくとも一つ存在する
シラン化合物を加えることにより、前記反応混合物中に
存在するフッ化水素またはフッ化水素と前記アミノ化合
物との塩を除去することを特徴とするアミド化合物の製
造方法によって達成された。
【０００７】本発明では、まず、自体公知の方法に従っ
て分子内にアシルフロライド基を有する化合物とアミノ
化合物とを溶媒の存在下または不存在下反応させて反応
混合物を製造する。この反応混合物は、例えば次の反応
式（１）、（２）に従って生成した目的とするアミド化
合物、副生したフッ化水素、及び／又はこのフッ化水素
と過剰な前記アミノ化合物とが反応して形成されたフッ
酸アミン塩等を含有する。
て分子内にアシルフロライド基を有する化合物とアミノ
化合物とを溶媒の存在下または不存在下反応させて反応
混合物を製造する。この反応混合物は、例えば次の反応
式（１）、（２）に従って生成した目的とするアミド化
合物、副生したフッ化水素、及び／又はこのフッ化水素
と過剰な前記アミノ化合物とが反応して形成されたフッ
酸アミン塩等を含有する。
【０００８】 -COF + =NH → -CON= + HF （１） =NH + HF → =N+ H2 F- （２） またアシルフロライド基と反応せず、従ってアミド化合
物を生成し得ない３級アミノ化合物を受酸剤として反応
系内に存在させた場合にも、副生したフッ化水素とこの
３級アミノ化合物とが反応してフッ酸アミン塩を形成す
る。
物を生成し得ない３級アミノ化合物を受酸剤として反応
系内に存在させた場合にも、副生したフッ化水素とこの
３級アミノ化合物とが反応してフッ酸アミン塩を形成す
る。
【０００９】本発明に使用される分子内にアシルフロラ
イド基を有する化合物とは、一分子内にアシルフロライ
ド基を１個または複数個有する化合物をいう。このよう
な化合物としては、下記の一般式で表されるものが好適
に使用されるが、これらに限定されるものではない。 Rf1-CO-F、 F-CO-Rf2-CO-F、 R1-CO-F、 F-CO-R2-CO-F 但し、上式中のＲｆ1 は、１価のパーフルオロアルキル
基又は少なくとも１個のエーテル結合酸素原子を有する
パーフルオロアルキルエーテル基、Ｒｆ2 は２価のパー
フルオロアルキレン基又は少なくとも１個のエーテル結
合酸素原子を有するパーフルオロアルキレンエーテル基
である。
イド基を有する化合物とは、一分子内にアシルフロライ
ド基を１個または複数個有する化合物をいう。このよう
な化合物としては、下記の一般式で表されるものが好適
に使用されるが、これらに限定されるものではない。 Rf1-CO-F、 F-CO-Rf2-CO-F、 R1-CO-F、 F-CO-R2-CO-F 但し、上式中のＲｆ1 は、１価のパーフルオロアルキル
基又は少なくとも１個のエーテル結合酸素原子を有する
パーフルオロアルキルエーテル基、Ｒｆ2 は２価のパー
フルオロアルキレン基又は少なくとも１個のエーテル結
合酸素原子を有するパーフルオロアルキレンエーテル基
である。
【００１０】又、Ｒ1 は炭素数１〜２０、好適には１〜
１０の１価炭化水素基であり、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ｔｅｒ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オク
チル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル
基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基等
のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナ
フチル基、ビフェニル基、トリフルオロメチルフェニル
基等のアリール基などが挙げられる。
１０の１価炭化水素基であり、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ｔｅｒ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オク
チル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル
基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基等
のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナ
フチル基、ビフェニル基、トリフルオロメチルフェニル
基等のアリール基などが挙げられる。
【００１１】Ｒ2 は炭素数１〜２０、好適には１〜１０
の２価炭化水素基であり、例えばメチレン基、エチレン
基、プロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン
基、メチルエチレン基、メチルプロピレン基、オクタメ
チレン基等のアルキレン基、フェニレン基、トリレン
基、キシリレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、ト
リフルオロメチルフェニレン基等のアリーレン基、並び
に、これらのアルキレン基とアリーレン基との組合せな
どが例示される。
の２価炭化水素基であり、例えばメチレン基、エチレン
基、プロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン
基、メチルエチレン基、メチルプロピレン基、オクタメ
チレン基等のアルキレン基、フェニレン基、トリレン
基、キシリレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、ト
リフルオロメチルフェニレン基等のアリーレン基、並び
に、これらのアルキレン基とアリーレン基との組合せな
どが例示される。
【００１２】上記Ｒｆ1 ，Ｒｆ2 としてはそれぞれ下記
化１で表されるものが例示される。
化１で表されるものが例示される。
【化１】
【００１３】但し、ｊは０又は１、ｋは１，２，３，
４，５，６，７，８，９又は１０であり、ｌ（エル）は
１〜８０で好適には１〜５０、より好適には１〜２０の
整数であり、特に１，２，３，４，５，６，７，８，９
又は１０が好ましい。ｍは１〜２０の整数、ｎは１〜１
０の整数であり、ｐ及びｑは、それぞれｐ≧１、ｑ≧
１、２≦ｐ＋ｑ≦８０、好適には３≦ｐ＋ｑ≦５０の整
数であり、ｐ，ｑとしてそれぞれ１，２，３，４，５，
６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５
が例示される。
４，５，６，７，８，９又は１０であり、ｌ（エル）は
１〜８０で好適には１〜５０、より好適には１〜２０の
整数であり、特に１，２，３，４，５，６，７，８，９
又は１０が好ましい。ｍは１〜２０の整数、ｎは１〜１
０の整数であり、ｐ及びｑは、それぞれｐ≧１、ｑ≧
１、２≦ｐ＋ｑ≦８０、好適には３≦ｐ＋ｑ≦５０の整
数であり、ｐ，ｑとしてそれぞれ１，２，３，４，５，
６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５
が例示される。
【００１４】又、上記のアシルフルオライド基を有する
化合物のうち、分子内に２個以上のアシルフルオライド
基を持つものの場合には、分子内に少くとも１個の基が
アシルフルオライド基であれば、残余のアシルフルオラ
イド基はメチルエステル基、エチルエステル基等のアル
キルエステル基等に変換されたものであってもよい。こ
のような、分子内にアシルフロライド基を有する化合物
の代表例を下記化２に示す。
化合物のうち、分子内に２個以上のアシルフルオライド
基を持つものの場合には、分子内に少くとも１個の基が
アシルフルオライド基であれば、残余のアシルフルオラ
イド基はメチルエステル基、エチルエステル基等のアル
キルエステル基等に変換されたものであってもよい。こ
のような、分子内にアシルフロライド基を有する化合物
の代表例を下記化２に示す。
【００１５】
【化２】 但し、化２中のｌ（エル）、ｐ及びｑは化１の場合と同
じである。
じである。
【００１６】また、前記アシルフロライド基を有する化
合物と反応してアミド化合物を生成するアミノ化合物
は、アンモニア、および、分子内に１級アミノ基若しく
は２級アミノ基を有する化合物からなる群から選ばれる
ものである。更にまた、上記反応混合物に、反応混合物
中のフッ化水素と反応して塩を形成する、上記原料アミ
ノ化合物と同種または異種のアミノ化合物を受酸剤とし
て添加することもできる。
合物と反応してアミド化合物を生成するアミノ化合物
は、アンモニア、および、分子内に１級アミノ基若しく
は２級アミノ基を有する化合物からなる群から選ばれる
ものである。更にまた、上記反応混合物に、反応混合物
中のフッ化水素と反応して塩を形成する、上記原料アミ
ノ化合物と同種または異種のアミノ化合物を受酸剤とし
て添加することもできる。
【００１７】この種の上記原料アミノ化合物あるいは受
酸剤としてのアミノ化合物は、アンモニア、および、分
子内に１級アミノ基、２級アミノ基、若しくは３級アミ
ノ基を有する化合物からなる群から選ばれるものであ
り、例えば、アンモニア、メチルアミン、エチルアミ
ン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミ
ン、イソブチルアミン、ｔｅｒ−ブチルアミン、ヘキシ
ルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、シクロヘキ
シルアミン等のモノアルキルアミン、アリルアミン、プ
ロペニルアミン、イソプロペニルアミン、ブテニルアミ
ン等のモノアルケニルアミン、アニリン等のモノアリー
ルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、メチルエ
チルアミン、ジブチルアミン等のジアルキルアミン、ピ
ペリジン、ピペラジン、Ｎ−メチルアリルアミン、ジフ
ェニルアミン、２−アミノピリジン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミンなどを挙
げることができる。
酸剤としてのアミノ化合物は、アンモニア、および、分
子内に１級アミノ基、２級アミノ基、若しくは３級アミ
ノ基を有する化合物からなる群から選ばれるものであ
り、例えば、アンモニア、メチルアミン、エチルアミ
ン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミ
ン、イソブチルアミン、ｔｅｒ−ブチルアミン、ヘキシ
ルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、シクロヘキ
シルアミン等のモノアルキルアミン、アリルアミン、プ
ロペニルアミン、イソプロペニルアミン、ブテニルアミ
ン等のモノアルケニルアミン、アニリン等のモノアリー
ルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、メチルエ
チルアミン、ジブチルアミン等のジアルキルアミン、ピ
ペリジン、ピペラジン、Ｎ−メチルアリルアミン、ジフ
ェニルアミン、２−アミノピリジン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミンなどを挙
げることができる。
【００１８】上記原料アミノ化合物をこの種の受酸剤と
しても使用する場合には、原料アミノ化合物を上記アシ
ルフロライド基を有する化合物に対して化学量論的に過
剰に使用すればよい。また、３級アミノ基のみを有する
化合物は、フッ化水素と反応してフッ酸アミン塩を形成
するが、原料である上記アシルフロライド基を有する化
合物とは反応しないため、しばしば受酸剤として利用さ
れる。上記反応においては必ずしも溶媒を必要としない
が、トルエン、ヘキサン、テトラヒドロフラン、グライ
ム類等の非プロトン性極性溶媒、フッ素系溶媒などの本
発明の反応に影響を及ぼさない溶媒を必要に応じて使用
することができる。
しても使用する場合には、原料アミノ化合物を上記アシ
ルフロライド基を有する化合物に対して化学量論的に過
剰に使用すればよい。また、３級アミノ基のみを有する
化合物は、フッ化水素と反応してフッ酸アミン塩を形成
するが、原料である上記アシルフロライド基を有する化
合物とは反応しないため、しばしば受酸剤として利用さ
れる。上記反応においては必ずしも溶媒を必要としない
が、トルエン、ヘキサン、テトラヒドロフラン、グライ
ム類等の非プロトン性極性溶媒、フッ素系溶媒などの本
発明の反応に影響を及ぼさない溶媒を必要に応じて使用
することができる。
【００１９】次に、上記方法により製造された反応混合
物に、シラザン化合物または分子内にケイ素原子と窒素
原子との結合が少なくとも一つ存在するシラン化合物を
加えることにより、反応混合物中に存在するフッ化水素
および／またはフッ酸アミン塩を除去する。新たに生成
するフルオロシラン化合物およびアミノ化合物は、スト
リッピングや蒸留工程で簡単に除去あるいは分離が可能
である。このように、本発明方法では、従来方法で必要
であった水洗による後処理が不要となり、後工程が簡略
化されると共に、得られたアミド化合物中の不純物、特
にフッ化水素成分を低くおさえることが可能となる。
物に、シラザン化合物または分子内にケイ素原子と窒素
原子との結合が少なくとも一つ存在するシラン化合物を
加えることにより、反応混合物中に存在するフッ化水素
および／またはフッ酸アミン塩を除去する。新たに生成
するフルオロシラン化合物およびアミノ化合物は、スト
リッピングや蒸留工程で簡単に除去あるいは分離が可能
である。このように、本発明方法では、従来方法で必要
であった水洗による後処理が不要となり、後工程が簡略
化されると共に、得られたアミド化合物中の不純物、特
にフッ化水素成分を低くおさえることが可能となる。
【００２０】上記反応混合物に、シラザン化合物または
分子内にケイ素原子と窒素原子との結合が少なくとも一
つ以上存在するシラン化合物を加えると、フッ酸アミン
塩からフルオロシラン化合物とアミノ化合物が生成す
る。また、反応混合物中に存在するフッ化水素とも反応
して同様、フルオロシラン化合物とアミノ化合物が生成
する。
分子内にケイ素原子と窒素原子との結合が少なくとも一
つ以上存在するシラン化合物を加えると、フッ酸アミン
塩からフルオロシラン化合物とアミノ化合物が生成す
る。また、反応混合物中に存在するフッ化水素とも反応
して同様、フルオロシラン化合物とアミノ化合物が生成
する。
【００２１】これらの反応を化学反応式にてより具体的
に表すと、例えば、フッ化水素と３級アミノ化合物とか
らなるフッ酸アミン塩と分子内に１つのＳｉ−Ｎ結合を
有するシラン化合物との反応は、 ＨＦ・ＮＲ30 3 ＋Ｒ32 3 ＳｉＮＲ31 2 →Ｒ32 3 ＳｉＦ＋ＮＲ30 3 ＋ＨＮＲ31 2 ・・・（３） のように進行する。
に表すと、例えば、フッ化水素と３級アミノ化合物とか
らなるフッ酸アミン塩と分子内に１つのＳｉ−Ｎ結合を
有するシラン化合物との反応は、 ＨＦ・ＮＲ30 3 ＋Ｒ32 3 ＳｉＮＲ31 2 →Ｒ32 3 ＳｉＦ＋ＮＲ30 3 ＋ＨＮＲ31 2 ・・・（３） のように進行する。
【００２２】また、例えばフッ酸アミン塩とジシラザン
との反応は、 ＨＦ・ＮＲ30 3 ＋Ｒ32 3 ＳｉＮＨＳｉＲ32 3 →Ｒ32 3 ＳｉＦ＋ＮＲ30 3 ＋Ｒ32 3 ＳｉＮＨ2 （４） ＨＦ・ＮＲ30 3 ＋Ｒ32 3 ＳｉＮＨ2 →Ｒ32 3 ＳｉＦ＋ＮＲ30 3 ＋ＮＨ3 ・・・・（５） のように進行する。
との反応は、 ＨＦ・ＮＲ30 3 ＋Ｒ32 3 ＳｉＮＨＳｉＲ32 3 →Ｒ32 3 ＳｉＦ＋ＮＲ30 3 ＋Ｒ32 3 ＳｉＮＨ2 （４） ＨＦ・ＮＲ30 3 ＋Ｒ32 3 ＳｉＮＨ2 →Ｒ32 3 ＳｉＦ＋ＮＲ30 3 ＋ＮＨ3 ・・・・（５） のように進行する。
【００２３】ここで（３）、（４）および（５）式にお
ける複数のＲ30、Ｒ31およびＲ32は、それぞれ独立に水
素原子または一価炭化水素基である。これらの反応は、
速やかにかつほぼ定量的に進行する。この反応過程で生
成するフルオロシラン化合物は、比較的安定な化合物で
あり、例えば、ケイ素原子に結合する３つの置換基Ｒ32
が全てメチル基の場合にはトリメチルフルオロシランに
なるが、この化合物の沸点は大気圧下で約１７℃であ
り、分離及び除去が容易である。このようにして、反応
混合物中に存在するフッ化水素およびフッ酸アミン塩
は、ほぼ完全に除去することが可能である。
ける複数のＲ30、Ｒ31およびＲ32は、それぞれ独立に水
素原子または一価炭化水素基である。これらの反応は、
速やかにかつほぼ定量的に進行する。この反応過程で生
成するフルオロシラン化合物は、比較的安定な化合物で
あり、例えば、ケイ素原子に結合する３つの置換基Ｒ32
が全てメチル基の場合にはトリメチルフルオロシランに
なるが、この化合物の沸点は大気圧下で約１７℃であ
り、分離及び除去が容易である。このようにして、反応
混合物中に存在するフッ化水素およびフッ酸アミン塩
は、ほぼ完全に除去することが可能である。
【００２４】本発明に使用されるシラン化合物は、下記
化３、
化３、
【化３】 で表され、Ｒ1 〜Ｒ4 の少なくとも一つ、通常１〜４
個、好適には１、２、３個は、下記化４、
個、好適には１、２、３個は、下記化４、
【化４】 あるいは、次の化５、
【化５】 で表される基である。
【００２５】Ｒ1 〜Ｒ4 のうち化４、化５で表される基
以外の原子又は基は、水素原子、あるいは、同種または
異種の炭素数１〜８の非置換または置換一価炭化水素基
である。また、Ｒ5 、Ｒ6 は、水素原子、あるいは同種
または異種の炭素数１〜８の非置換または置換一価炭化
水素基であり、結合途中に窒素原子、酸素原子等のヘテ
ロ原子を含んでいてもよい。また、Ｒ7 は置換、または
非置換の炭素数１〜８の二価炭化水素基であり、結合途
中に窒素原子、酸素原子等のヘテロ原子を含んでいても
よい。
以外の原子又は基は、水素原子、あるいは、同種または
異種の炭素数１〜８の非置換または置換一価炭化水素基
である。また、Ｒ5 、Ｒ6 は、水素原子、あるいは同種
または異種の炭素数１〜８の非置換または置換一価炭化
水素基であり、結合途中に窒素原子、酸素原子等のヘテ
ロ原子を含んでいてもよい。また、Ｒ7 は置換、または
非置換の炭素数１〜８の二価炭化水素基であり、結合途
中に窒素原子、酸素原子等のヘテロ原子を含んでいても
よい。
【００２６】Ｒ1 〜Ｒ4 のうち化４、化５以外のもの、
およびＲ5 、Ｒ6 としての同種または異種の炭素数１〜
８、好適には炭素数１〜６、特に炭素数１〜４の非置換
または置換の一価炭化水素基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔｅｒ−ブチル基、ペンチル基、ネ
オペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等
のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロヘプチル基等のシクロアルキル基；
およびＲ5 、Ｒ6 としての同種または異種の炭素数１〜
８、好適には炭素数１〜６、特に炭素数１〜４の非置換
または置換の一価炭化水素基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔｅｒ−ブチル基、ペンチル基、ネ
オペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等
のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロヘプチル基等のシクロアルキル基；
【００２７】ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソ
プロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニ
ル基、シクロヘキセニル基等のアルケニル基；フェニル
基、トリル基、キシリル基等のアリール基、ベンジル
基、フェニルエチル基、フェニルプロプロピル基等のア
ラルキル基；及びこれらの基の水素原子の少なくとも一
部がフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子等で置換され
た基、例えばクロロメチル基、２−ブロモエチル基、
３，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，４，
４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル基、ク
ロロメチル基、３−クロロプロピル基等の基が挙げられ
る。
プロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニ
ル基、シクロヘキセニル基等のアルケニル基；フェニル
基、トリル基、キシリル基等のアリール基、ベンジル
基、フェニルエチル基、フェニルプロプロピル基等のア
ラルキル基；及びこれらの基の水素原子の少なくとも一
部がフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子等で置換され
た基、例えばクロロメチル基、２−ブロモエチル基、
３，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，４，
４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル基、ク
ロロメチル基、３−クロロプロピル基等の基が挙げられ
る。
【００２８】また、Ｒ7 の非置換または置換二価炭素水
素基としては、例えばエチレン基、プロピレン基、テト
ラメチレン基、ペンタメチレン、ヘキサメチレン基、メ
チルエチレン基、メチルプロピレン基などのアルキレン
基；フェニレン基、トリレン基、キシリレン基などのア
リーレン基；−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−などのアルケ
ニレン基を含む基などが挙げられる。
素基としては、例えばエチレン基、プロピレン基、テト
ラメチレン基、ペンタメチレン、ヘキサメチレン基、メ
チルエチレン基、メチルプロピレン基などのアルキレン
基；フェニレン基、トリレン基、キシリレン基などのア
リーレン基；−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−などのアルケ
ニレン基を含む基などが挙げられる。
【００２９】又、Ｒ5 並びにＲ6 の、ヘテロ原子を含ん
だ一価炭化水素基としては、下記化６で表されるものが
例示される。
だ一価炭化水素基としては、下記化６で表されるものが
例示される。
【化６】
【００３０】Ｒ7 の、ヘテロ原子を含んだ二価炭化水素
基としては、下記のものが例示される。 -N=CH-N=CH- 、-NH-CH=CH-NH- 、-CH=CH-N=CH-、 -CH2 CH2 OCH2 CH2-、 -CH2 CH2 NHCH2 CH2-。
基としては、下記のものが例示される。 -N=CH-N=CH- 、-NH-CH=CH-NH- 、-CH=CH-N=CH-、 -CH2 CH2 OCH2 CH2-、 -CH2 CH2 NHCH2 CH2-。
【００３１】以下に前記化３で表されるシラン化合物の
具体例を下記化７及び化８に示すが、これらに限定され
るものではない。なお、式中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔは
エチル基、Ｐｈはフェニル基を示す。
具体例を下記化７及び化８に示すが、これらに限定され
るものではない。なお、式中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔは
エチル基、Ｐｈはフェニル基を示す。
【化７】
【００３２】
【化８】
【００３３】また本発明に使用されるシラザン化合物と
しては、テトラオルガノ−１，３−ジシラザン、ヘプタ
オルガノ−１，３−ジシラザン、ヘキサオルガノ−１，
３−ジシラザン等のジシラザン；ヘキサオルガノシクロ
トリシラザン等のトリシラザン；オクタオルガノシクロ
テトラシラザン等のテトラシラザンなどが挙げられ、こ
れらのシラザン化合物においてケイ素原子に結合した水
素原子以外の置換基としては、前記のＲ1 〜Ｒ4 と同様
の、炭素数１〜８の非置換又は置換一価炭化水素基を例
示することができる。
しては、テトラオルガノ−１，３−ジシラザン、ヘプタ
オルガノ−１，３−ジシラザン、ヘキサオルガノ−１，
３−ジシラザン等のジシラザン；ヘキサオルガノシクロ
トリシラザン等のトリシラザン；オクタオルガノシクロ
テトラシラザン等のテトラシラザンなどが挙げられ、こ
れらのシラザン化合物においてケイ素原子に結合した水
素原子以外の置換基としては、前記のＲ1 〜Ｒ4 と同様
の、炭素数１〜８の非置換又は置換一価炭化水素基を例
示することができる。
【００３４】このシラザン化合物として、例えば１，
１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ビス
（クロロメチル）−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ラザン、１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラ
ザン、ヘプタメチルジシラザン、１，３−ジビニル−
１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ビ
ス（３，３，３−トリフルオロプロピル）テトラメチル
ジシラザン、１，３−ジブチル−１，１，３，３−テト
ラメチルジシラザン、１，３−ジエチル−１，１，３，
３−テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリ
シラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、２，
４，６−トリメチル−２，４，６−トリビニルシクロト
リシラザンなどが挙げられる。
１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ビス
（クロロメチル）−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ラザン、１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラ
ザン、ヘプタメチルジシラザン、１，３−ジビニル−
１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ビ
ス（３，３，３−トリフルオロプロピル）テトラメチル
ジシラザン、１，３−ジブチル−１，１，３，３−テト
ラメチルジシラザン、１，３−ジエチル−１，１，３，
３−テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリ
シラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、２，
４，６−トリメチル−２，４，６−トリビニルシクロト
リシラザンなどが挙げられる。
【００３５】上記シラン化合物またはシラザン化合物
は、上記アシルフロライド基を有する化合物のアシルフ
ロライド基の数 に対するＳｉ−Ｎ結合の数の比で表す
と、１．０〜１０．０倍量、好ましくは、１．０〜５．
０倍量使用される。１．０倍より少ない場合はフッ酸ア
ミン塩の処理が不完全となり、逆に多すぎる場合は反応
系に悪影響はないものの不経済である。また反応温度は
通常０℃〜８０℃の範囲が使用される。
は、上記アシルフロライド基を有する化合物のアシルフ
ロライド基の数 に対するＳｉ−Ｎ結合の数の比で表す
と、１．０〜１０．０倍量、好ましくは、１．０〜５．
０倍量使用される。１．０倍より少ない場合はフッ酸ア
ミン塩の処理が不完全となり、逆に多すぎる場合は反応
系に悪影響はないものの不経済である。また反応温度は
通常０℃〜８０℃の範囲が使用される。
【００３６】
【発明の効果】本発明方法によれば、反応系内に副生す
るフッ化水素、フッ酸アミン塩を短時間で簡便に処理し
除去することができ、目的とするアミド化合物を高収率
でかつ純度よく得ることができる。
るフッ化水素、フッ酸アミン塩を短時間で簡便に処理し
除去することができ、目的とするアミド化合物を高収率
でかつ純度よく得ることができる。
【００３７】
【実施例】次に本発明を実施例によって更に説明する
が、本発明はこれによって限定されるものではない。 実施例１．ジムロート、温度計、滴下ロート、攪拌子を
付した１００ｍｌ三つ口フラスコにｎ−ブチルアミン
８．８ｇ（１２０ミリモル）を仕込み、攪拌しながら、
下記化９で表されるアシルフロライド化合物２４．９ｇ
（５０ミリモル）を、滴下ロートにて約３０分かけて滴
下した。
が、本発明はこれによって限定されるものではない。 実施例１．ジムロート、温度計、滴下ロート、攪拌子を
付した１００ｍｌ三つ口フラスコにｎ−ブチルアミン
８．８ｇ（１２０ミリモル）を仕込み、攪拌しながら、
下記化９で表されるアシルフロライド化合物２４．９ｇ
（５０ミリモル）を、滴下ロートにて約３０分かけて滴
下した。
【化９】
【００３８】このときフラスコ内の温度は２３℃から４
８℃であった。滴下と共にフラスコ内はフッ酸アミン塩
の生成により白く濁った。滴下終了後、一旦、内温２５
℃まで冷却してから、ジエチルアミノトリメチルシラン
１０．９ｇ（７５ミリモル）を滴下ロートにて約５分で
滴下した。滴下と共にフラスコ内の濁りが徐々に薄くな
り、滴下後１０分でフラスコ内は淡黄色透明になった。
８℃であった。滴下と共にフラスコ内はフッ酸アミン塩
の生成により白く濁った。滴下終了後、一旦、内温２５
℃まで冷却してから、ジエチルアミノトリメチルシラン
１０．９ｇ（７５ミリモル）を滴下ロートにて約５分で
滴下した。滴下と共にフラスコ内の濁りが徐々に薄くな
り、滴下後１０分でフラスコ内は淡黄色透明になった。
【００３９】このときの内温は２６℃であったが、ジム
ロート内にてリフラックスする液体があったので、ジム
ロートの出口に−４０℃に冷やしたトラップを付け、ジ
ムロートの冷却をやめてこの液体をトラップした。トラ
ップ内の液体は無色透明であり、四塩化炭素に溶解させ
て分析したところ、 1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ標準）よりδ
＝０．２５ｐｐｍ（ｄ、ＣＨ3 −Ｓｉ）、19Ｆ−ＮＭＲ
（ＣＦ3 ＣＯＯＨ標準）よりδ＝−８０．２０ｐｐｍ
（ｍ、Ｓｉ−Ｆ）であり、トリメチルフルオロシランで
あることを確認した。
ロート内にてリフラックスする液体があったので、ジム
ロートの出口に−４０℃に冷やしたトラップを付け、ジ
ムロートの冷却をやめてこの液体をトラップした。トラ
ップ内の液体は無色透明であり、四塩化炭素に溶解させ
て分析したところ、 1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ標準）よりδ
＝０．２５ｐｐｍ（ｄ、ＣＨ3 −Ｓｉ）、19Ｆ−ＮＭＲ
（ＣＦ3 ＣＯＯＨ標準）よりδ＝−８０．２０ｐｐｍ
（ｍ、Ｓｉ−Ｆ）であり、トリメチルフルオロシランで
あることを確認した。
【００４０】次にフラスコ内の液体を蒸留したところ、
沸点１０７℃／１５ｍｍＨｇの無色透明な液体２６．２
ｇを得た（収率９５％）。この液体を 1Ｈ−ＮＭＲ、19
Ｆ−ＮＭＲ、ＩＲにて分析したところ、次の化１０で示
されるアミド化合物であることを確認した。
沸点１０７℃／１５ｍｍＨｇの無色透明な液体２６．２
ｇを得た（収率９５％）。この液体を 1Ｈ−ＮＭＲ、19
Ｆ−ＮＭＲ、ＩＲにて分析したところ、次の化１０で示
されるアミド化合物であることを確認した。
【化１０】
【００４１】 1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ標準） ｇ：δ＝０．７７〜１．１０（ｍ、３Ｈ） ｈ：δ＝１．１０〜１．８３（ｍ、４Ｈ） ｉ：δ＝３．１０〜３．５７（ｍ、２Ｈ） ｊ：δ＝６．７３〜７．１７（ｂｒ、１Ｈ）
【００４２】 19Ｆ−ＮＭＲ（ＣＦ3 ＣＯＯＨ標準） ａ：δ＝−３．６９ｐｐｍ ｂ：δ＝−５．１２ｐｐｍ ｃ：δ＝−６．１７ｐｐｍ ｄ：δ＝−５２．７６ｐｐｍ ｅ：δ＝−５５．５７ｐｐｍ ｆ：δ＝−６７．８２ｐｐｍ
【００４３】ＩＲ νN-H ：３３３０ｃｍ-1 νC=O ：１７０２ｃｍ-1 δN-H ：１５４５ｃｍ-1 νC-F ：１１００〜１３００ｃｍ-1 更にイオンクロマトにて得られたアミド化合物中のＦ-
イオン量を定量したところ３．７ｐｐｍであった。
イオン量を定量したところ３．７ｐｐｍであった。
【００４４】実施例２．実施例１において、ジエチルア
ミノトリメチルシランの代わりにヘキサメチルジシラザ
ン１２．１ｇ（７５ミリモル）を使用した他は同処方に
て合成操作を行ったところ、トリメチルフルオロシラン
の生成を確認し、また前記化１０で示されるアミド化合
物２６．３ｇを得た（収率９５％）。イオンクロマトに
て得られたアミド化合物中のＦ- イオン量を定量したと
ころ６．０ｐｐｍであった。
ミノトリメチルシランの代わりにヘキサメチルジシラザ
ン１２．１ｇ（７５ミリモル）を使用した他は同処方に
て合成操作を行ったところ、トリメチルフルオロシラン
の生成を確認し、また前記化１０で示されるアミド化合
物２６．３ｇを得た（収率９５％）。イオンクロマトに
て得られたアミド化合物中のＦ- イオン量を定量したと
ころ６．０ｐｐｍであった。
【００４５】実施例３．実施例１においてジエチルアミ
ノトリメチルシランの代わりにヘキサメチルシクロトリ
シラザン７．４ｇ（３４ミリモル）を使用する以外は同
処方にて合成操作を行った。無色透明なトラップ留分を
分析したところ、 1Ｈ−ＮＭＲよりδ＝０．３４ｐｐｍ
（ｔ、ＣＨ3 −Ｓｉ）、19Ｆ−ＮＭＲよりδ＝−５３．
９５ｐｐｍ（ｍ、Ｓｉ−Ｆ）であり、ジメチルジフルオ
ロシランであることを確認した。また前記化１０で示さ
れるアミド化合物２６．８ｇを得た（収率９７％）。イ
オンクロマトにて得られたアミド化合物中のＦ- イオン
量を定量したところ３．４ｐｐｍであった。
ノトリメチルシランの代わりにヘキサメチルシクロトリ
シラザン７．４ｇ（３４ミリモル）を使用する以外は同
処方にて合成操作を行った。無色透明なトラップ留分を
分析したところ、 1Ｈ−ＮＭＲよりδ＝０．３４ｐｐｍ
（ｔ、ＣＨ3 −Ｓｉ）、19Ｆ−ＮＭＲよりδ＝−５３．
９５ｐｐｍ（ｍ、Ｓｉ−Ｆ）であり、ジメチルジフルオ
ロシランであることを確認した。また前記化１０で示さ
れるアミド化合物２６．８ｇを得た（収率９７％）。イ
オンクロマトにて得られたアミド化合物中のＦ- イオン
量を定量したところ３．４ｐｐｍであった。
【００４６】実施例４．実施例１において、ｎ−ブチル
アミンの代わりにジ−ｎ─ブチルアミン１５．５ｇ（１
２０ミリモル）、ジエチルアミノトリメチルシランの代
わりにビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン５．５ｇ
（３８ミリモル）を使用した他は同処方にて合成操作を
行ったところ、ジメチルジフルオロシランの生成を確認
した。次に、フラスコ内の液体を蒸留したところ、沸点
１１８℃／２０ｍｍＨｇの無色透明な液体３０．１ｇを
得た（収率９６％）。この液体を 1Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−
ＮＭＲ、ＩＲにて分析したところ、次の化１１で示され
るアミド化合物であることを確認した。
アミンの代わりにジ−ｎ─ブチルアミン１５．５ｇ（１
２０ミリモル）、ジエチルアミノトリメチルシランの代
わりにビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン５．５ｇ
（３８ミリモル）を使用した他は同処方にて合成操作を
行ったところ、ジメチルジフルオロシランの生成を確認
した。次に、フラスコ内の液体を蒸留したところ、沸点
１１８℃／２０ｍｍＨｇの無色透明な液体３０．１ｇを
得た（収率９６％）。この液体を 1Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−
ＮＭＲ、ＩＲにて分析したところ、次の化１１で示され
るアミド化合物であることを確認した。
【化１１】
【００４７】 1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ標準） ｇ：δ＝０．８３〜１．１７（ｍ、６Ｈ） ｈ：δ＝１．１７〜１．９８（ｍ、８Ｈ） ｉ：δ＝３．０４〜３．７０（ｍ、４Ｈ）
【００４８】 19Ｆ−ＮＭＲ（ＣＦ3 ＣＯＯＨ標準） ａ：δ＝−３．６６ｐｐｍ ｂ：δ＝−５．１０ｐｐｍ ｃ：δ＝−５．２１ｐｐｍ ｄ：δ＝−４６．９７ｐｐｍ ｅ：δ＝−５２．７４ｐｐｍ ｆ：δ＝−６７．３８ｐｐｍ
【００４９】ＩＲ νC=O ：１６９０ｃｍ-1 νC-F ：１１００〜１３００ｃｍ-1 更にイオンクロマトにて得られたアミド化合物中のＦ-
イオン量を定量したところ３．８ｐｐｍであった。
イオン量を定量したところ３．８ｐｐｍであった。
【００５０】実施例５．実施例１において、ｎ−ブチル
アミンの代わりにアニリン５．６ｇ（６０ミリモル）、
およびトリエチルアミン６．０ｇ（５９ミリモル）、ジ
エチルアミノトリメチルシランの代わりにヘキサメチル
ジシラザン１２．１ｇ（７５ミリモル）を使用する以外
は同処方にて合成操作を行ったところ、トリメチルフル
オロシランの生成を確認した。次に、フラスコ内の液体
を蒸留したところ、沸点９１℃／２ｍｍＨｇの無色透明
な液体２６．７ｇを得た（収率９３％）。この液体を 1
Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲ、ＩＲにて分析したところ、
次の化１２で表されるアミド化合物であることを確認し
た。なお、式中、Ｐｈはフェニル基を示す。
アミンの代わりにアニリン５．６ｇ（６０ミリモル）、
およびトリエチルアミン６．０ｇ（５９ミリモル）、ジ
エチルアミノトリメチルシランの代わりにヘキサメチル
ジシラザン１２．１ｇ（７５ミリモル）を使用する以外
は同処方にて合成操作を行ったところ、トリメチルフル
オロシランの生成を確認した。次に、フラスコ内の液体
を蒸留したところ、沸点９１℃／２ｍｍＨｇの無色透明
な液体２６．７ｇを得た（収率９３％）。この液体を 1
Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲ、ＩＲにて分析したところ、
次の化１２で表されるアミド化合物であることを確認し
た。なお、式中、Ｐｈはフェニル基を示す。
【化１２】
【００５１】 1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ標準） ｇ：δ＝７．０２〜７．５３（ｍ、５Ｈ） ｈ：δ＝８．１６〜８．４６（ｂｒ、１Ｈ）
【００５２】 19Ｆ−ＮＭＲ（ＣＦ3 ＣＯＯＨ標準） ａ：δ＝−３．７０ｐｐｍ ｂ：δ＝−５．１１ｐｐｍ ｃ：δ＝−５．８９ｐｐｍ ｄ：δ＝−５２．７８ｐｐｍ ｅ：δ＝−５４．８３ｐｐｍ ｆ：δ＝−６７．８７ｐｐｍ
【００５３】ＩＲ νN-H ：３３２０ｃｍ-1 νC=O ：１７１０ｃｍ-1 δN-H ：１５４０ｃｍ-1 νC-F ：１１００〜１３００ｃｍ-1 更にイオンクロマトにて得られたアミド化合物中のＦ-
イオン量を定量したところ３．８ｐｐｍであった。
イオン量を定量したところ３．８ｐｐｍであった。
【００５４】実施例６．ジムロート、温度計、滴下ロー
ト、攪拌子を付した１００ｍｌ三つ口フラスコに次の化
１３で表されるアシルフロライド化合物５５．０ｇ（２
０ミリモル）を仕込み、攪拌しながら、ジ−ｎ−ブチル
アミン１２．４ｇ（９６ミリモル）を、滴下ロートにて
約１０分かけて滴下した。このときフラスコ内の温度は
２２℃から５０℃であった。但し、化３中のａ＋ｂの平
均値は１６である。
ト、攪拌子を付した１００ｍｌ三つ口フラスコに次の化
１３で表されるアシルフロライド化合物５５．０ｇ（２
０ミリモル）を仕込み、攪拌しながら、ジ−ｎ−ブチル
アミン１２．４ｇ（９６ミリモル）を、滴下ロートにて
約１０分かけて滴下した。このときフラスコ内の温度は
２２℃から５０℃であった。但し、化３中のａ＋ｂの平
均値は１６である。
【化１３】
【００５５】滴下と共にフラスコ内はフッ酸アミン塩の
生成により白く濁った。滴下終了後、一旦、内温を２７
℃まで冷却してから、ジムロートの先に−４０℃のトラ
ップを付し、次いで滴下ロートにてヘキサメチルジシラ
ザン１０．９ｇ（６８ミリモル）を、滴下ロートにて約
５分かけて滴下した。滴下後１５分でフラスコ内は淡黄
色透明になり、このときの内温は２７℃であった。
生成により白く濁った。滴下終了後、一旦、内温を２７
℃まで冷却してから、ジムロートの先に−４０℃のトラ
ップを付し、次いで滴下ロートにてヘキサメチルジシラ
ザン１０．９ｇ（６８ミリモル）を、滴下ロートにて約
５分かけて滴下した。滴下後１５分でフラスコ内は淡黄
色透明になり、このときの内温は２７℃であった。
【００５６】トラップ留分を分析したところ、トリメチ
ルフルオロシランの生成を確認した。フラスコ内の液体
を１５０℃／５ｍｍＨｇの条件で、窒素バブリングしな
がら１時間ストリッピングしたところ、淡黄色透明な期
待５８．２ｇを得た（収率９８％）。この液体を 1Ｈ−
ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲ、ＩＲにて分析したところ、次の
化１４式で表されるアミド化合物であることを確認し
た。なお、化１５にＮＭＲのデータとの対応を示した。
ルフルオロシランの生成を確認した。フラスコ内の液体
を１５０℃／５ｍｍＨｇの条件で、窒素バブリングしな
がら１時間ストリッピングしたところ、淡黄色透明な期
待５８．２ｇを得た（収率９８％）。この液体を 1Ｈ−
ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲ、ＩＲにて分析したところ、次の
化１４式で表されるアミド化合物であることを確認し
た。なお、化１５にＮＭＲのデータとの対応を示した。
【００５７】
【化１４】
【化１５】
【００５８】 1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ標準） ｆ：δ＝０．８３〜１．１７ｐｐｍ（ｍ、１２Ｈ） ｇ：δ＝１．１７〜２．００ｐｐｍ（ｍ、１６Ｈ） ｈ：δ＝３．０３〜３．７１ｐｐｍ（ｍ、８Ｈ）
【００５９】 19Ｆ−ＮＭＲ（ＣＦ3 ＣＯＯＨ標準） ａ：δ＝−３．７１ｐｐｍ ｂ：δ＝−５．２２ｐｐｍ ｃ：δ＝−８．９９ｐｐｍ ｄ：δ＝−４６．９７ｐｐｍ ｅ：δ＝−６７．３５ｐｐｍ
【００６０】ＩＲ νC=O ：１６９０ｃｍ-1 νC-F ：１１００〜１３００ｃｍ-1 更に、イオンクロマトにて得られたアミド化合物中のＦ
- イオン量を定量したところ１５ｐｐｍであった。
- イオン量を定量したところ１５ｐｐｍであった。
【００６１】比較例１．実施例１において、ジエチルア
ミノトリメチルシランを滴下する手前まで同処方にて合
成操作を行った。その後、フラスコ内の混合物を分液ロ
ートに移し、純水２００ｇを加えて振とう後、静置分離
させた。このような純水による水洗を合計３回繰り返し
たが、水との分離性が悪く、１回の水洗工程に約１時間
を費やした。下層を分取後、蒸留したところ、実施例１
と同じ化１０で表されるアミド化合物１８．９ｇを得た
（収率６９％）。更に、イオンクロマトにて、得られた
アミド化合物中のＦ- イオンを定量したところ、２４０
ｐｐｍであった。
ミノトリメチルシランを滴下する手前まで同処方にて合
成操作を行った。その後、フラスコ内の混合物を分液ロ
ートに移し、純水２００ｇを加えて振とう後、静置分離
させた。このような純水による水洗を合計３回繰り返し
たが、水との分離性が悪く、１回の水洗工程に約１時間
を費やした。下層を分取後、蒸留したところ、実施例１
と同じ化１０で表されるアミド化合物１８．９ｇを得た
（収率６９％）。更に、イオンクロマトにて、得られた
アミド化合物中のＦ- イオンを定量したところ、２４０
ｐｐｍであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小池 則之 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】分子内にアシルフロライド基を有する化合
物とアミノ化合物とを反応させて得られる、アミド化合
物とフッ化水素及び／又はフッ化水素と前記アミノ化合
物との塩を含有する反応混合物に、シラザン化合物また
は分子内にケイ素原子と窒素原子との結合が少なくとも
一つ存在するシラン化合物を加えることにより、前記反
応混合物中に存在するフッ化水素あるいはフッ化水素と
前記アミノ化合物との塩を除去することを特徴とするア
ミド化合物の製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP6288618A JP2855081B2 (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | アミド化合物の製造方法 |
| EP95117091A EP0709366B1 (en) | 1994-10-31 | 1995-10-30 | Method of producing amide compound |
| US08/550,234 US5650540A (en) | 1994-10-31 | 1995-10-30 | Method of producing amide compound |
| DE69505332T DE69505332T2 (de) | 1994-10-31 | 1995-10-30 | Verfahren zur Herstellung von Amidverbindungen |
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|---|---|---|---|
| JP6288618A JP2855081B2 (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | アミド化合物の製造方法 |
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|---|---|
| JPH08127560A true JPH08127560A (ja) | 1996-05-21 |
| JP2855081B2 JP2855081B2 (ja) | 1999-02-10 |
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| JP (1) | JP2855081B2 (ja) |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7102032B2 (en) | 2003-04-24 | 2006-09-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Purification of amide compound |
| WO2011102439A1 (ja) * | 2010-02-22 | 2011-08-25 | セントラル硝子株式会社 | ジフルオロ酢酸エステルの製造方法 |
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| JP3943942B2 (ja) * | 2002-01-31 | 2007-07-11 | キヤノン株式会社 | 原稿搬送装置及び画像読取装置及び画像形成装置 |
| US8273919B2 (en) * | 2008-02-01 | 2012-09-25 | Unimatec Co., Ltd. | Compound, synthesis method thereof, and oil additive |
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| US2824884A (en) * | 1955-04-05 | 1958-02-25 | Minnesota Mining & Mfg | Amides of perchlorofluorocarboxylic acids and process for the preparation thereof |
| US3250808A (en) * | 1963-10-31 | 1966-05-10 | Du Pont | Fluorocarbon ethers derived from hexafluoropropylene epoxide |
| US3336376A (en) * | 1964-09-03 | 1967-08-15 | Allied Chem | Perfluorocyclohexane-1, 4-diacyl fluoride and process for preparing perfluorocyclohexane mono-and diacyl fluorides |
| JPS6136101A (ja) * | 1984-07-27 | 1986-02-20 | Asahi Glass Co Ltd | 塩化水素中に含まれる弗化水素の除去方法 |
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1994
- 1994-10-31 JP JP6288618A patent/JP2855081B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-10-30 US US08/550,234 patent/US5650540A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-30 EP EP95117091A patent/EP0709366B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-30 DE DE69505332T patent/DE69505332T2/de not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7102032B2 (en) | 2003-04-24 | 2006-09-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Purification of amide compound |
| WO2011102439A1 (ja) * | 2010-02-22 | 2011-08-25 | セントラル硝子株式会社 | ジフルオロ酢酸エステルの製造方法 |
| JP2015532299A (ja) * | 2012-10-09 | 2015-11-09 | ソルヴェイ（ソシエテ アノニム） | フッ素化有機カーボネートの精製方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69505332T2 (de) | 1999-05-12 |
| EP0709366A1 (en) | 1996-05-01 |
| EP0709366B1 (en) | 1998-10-14 |
| US5650540A (en) | 1997-07-22 |
| JP2855081B2 (ja) | 1999-02-10 |
| DE69505332D1 (de) | 1998-11-19 |
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