JPH0812654A

JPH0812654A - ４−ハロピラゾール−３−カルボン酸誘導体

Info

Publication number: JPH0812654A
Application number: JP14423594A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Sato; 佐藤　　一雄; Noriaki Kudo; 法明工藤; Toyokuni Honma; 豊邦本間; Takeshi Endo; 猛遠藤; Junji Kadotani; 淳二門谷; Yoshimichi Horibe; 善水知堀部
Original assignee: Sankyo Co Ltd
Current assignee: Sankyo Co Ltd
Priority date: 1994-06-27
Filing date: 1994-06-27
Publication date: 1996-01-16

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】優れた除草活性を有するピラゾール−３−カル
ボン酸誘導体を提供する。【構成】一般式（Ｉ）［式中、Ｒ＝カルボキシル基、シアノ基等、Ｘ＝ハロゲ
ン原子、Ｑ¹ ＝フェニル基、ピリジニル基、Ｑ² ＝フェ
ニル基等を示す］で表わされる４−ハロピラゾール−３
−カルボン酸誘導体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の目的】

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明は、強力な除草作用を示す
新規な４−ハロピラゾール−３−カルボン酸誘導体およ
び該化合物を有効成分とする除草剤に関する。

【０００３】

【従来の技術】これまで、特開昭６３−１１５８６７号
公報に、ある種のピラゾール−３−カルボン酸誘導体が
栽培植物保護を目的とした薬害軽減効果を有することが
記載されているが、それらの誘導体が除草活性を有する
こと等については何ら記載されていない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、ピラゾ
ール−３−カルボン酸構造を有する誘導体の合成とその
薬理活性について永年に亘り鋭意研究を行なった結果、
４位にハロゲン原子を有するピラゾール−３−カルボン
酸誘導体に、優れた除草活性があることを見出した。す
なわち、前記特開昭６３−１１５８６７号公報に記載の
化合物はすべて４位が水素原子であるピラゾール誘導体
であり、当該公報には該化合物が薬害軽減効果を有する
ことが記載されているが、４位にハロゲン原子を導入し
た新規化合物が薬害軽減効果とは全く反対の効果である
除草効果を有することを見出し、本発明を完成した。

【０００５】

【発明の構成】

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
（Ｉ）

【０００７】

【化３】

【０００８】［式中、Ｒは、エステル化またはアミド化
されていてもよいカルボキシル基、シアノ基、ホルミル
基、式Ｃ（Ｒ⁴ ）₂ ＯＨで表される基（Ｒ⁴ は水素原子
またはＣ１〜Ｃ３低級アルキル基を示す）、式ＣＨ＝Ｎ
Ｒ⁵ で表される基（Ｒ⁵ は水酸基、Ｃ１〜Ｃ３低級アル
コキシ基、アラルキルオキシ基、カルボキシＣ１〜Ｃ２
低級アルコキシ基を示す）を示し、Ｘはハロゲン原子を
示し、Ｑ¹ はフェニル基またはピリジニル基（当該フェ
ニル基またはピリジニル基は、下記置換基群Ａから選ば
れる同一または異なった１ないし３個の置換基により置
換されていてもよい）を示し、Ｑ² はフェニル基、ピリ
ジニル基またはピラジニル基（当該フェニル基、ピリジ
ニル基またはピラジニル基は、下記置換基群Ｂから選ば
れる同一または異なった１ないし３個の置換基により置
換されていてもよい）を示す。

【０００９】（置換基群Ａ）ハロゲン原子、ニトロ基、
アミノ基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級
ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基、Ｃ１〜
Ｃ３低級ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキルチ
オ基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルコキシＣ１〜Ｃ２低級ア
ルキル基。

【００１０】（置換基群Ｂ）ハロゲン原子、ニトロ基、
Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルキ
ル基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基。］で表わされる４
−ハロピラゾール−３−カルボン酸誘導体、好ましく
は、下記一般式（Ｉ）

【００１１】

【化４】

【００１２】［式中、Ｒは、式ＣＯＯＲ¹ で表される基
（Ｒ¹ は、水素原子またはＣ１〜Ｃ７低級アルキル基
（当該低級アルキル基は、下記置換基群Ｃから選ばれる
同一または異なった１ないし２個の置換基により置換さ
れていてもよい）を示す）、式ＣＯＮＲ² Ｒ³ で表され
る基（Ｒ² およびＲ³ は、同一または異なって、水素原
子、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基、アリール基（当該アリ
ール基は、下記置換基群Ｂから選ばれる同一または異な
った１ないし２個の置換基により置換されていてもよ
い）、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基、アラルキル基、ア
ラルキルオキシ基を示す）、シアノ基、ホルミル基、式
Ｃ（Ｒ⁴ ）₂ ＯＨで表される基（Ｒ⁴ は水素原子または
Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基を示す）、式ＣＨ＝ＮＲ⁵ で
表される基（Ｒ⁵ は水酸基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ
基、アラルキルオキシ基、カルボキシＣ１〜Ｃ２低級ア
ルコキシ基を示す）を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、
Ｑ¹ はフェニル基またはピリジニル基（当該フェニル基
またはピリジニル基は、下記置換基群Ａから選ばれる同
一または異なった１ないし３個の置換基により置換され
ていてもよい）を示し、Ｑ² はフェニル基、ピリジニル
基またはピラジニル基（当該フェニル基、ピリジニル基
またはピラジニル基は、下記置換基群Ｂから選ばれる同
一または異なった１ないし３個の置換基により置換され
ていてもよい）を示す。

【００１３】（置換基群Ａ）ハロゲン原子、ニトロ基、
アミノ基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級
ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基、Ｃ１〜
Ｃ３低級ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキルチ
オ基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルコキシＣ１〜Ｃ２低級ア
ルキル基。

【００１４】（置換基群Ｂ）ハロゲン原子、ニトロ基、
Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルキ
ル基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基。

【００１５】（置換基群Ｃ）Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ
基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ２低級ア
ルコキシＣ１〜Ｃ２低級アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４低級
アルコキシカルボニル基、アセチレン、酸素原子を含有
する５または６員飽和複素環基。］で表わされる４−ハ
ロピラゾール−３−カルボン酸誘導体、および、当該化
合物を有効成分として含有する除草剤である。

【００１６】上記において、Ｘの定義における「ハロゲ
ン原子」とは、弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原
子であり、好適には塩素原子である。

【００１７】上記において、置換基群Ａ及び置換基群Ｂ
の定義における「ハロゲン原子」とは、弗素原子、塩素
原子、臭素原子、沃素原子であり、好適には弗素原子、
塩素原子であり、さらに好適には弗素原子である。

【００１８】上記において、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、置換基
群Ａ及び置換基Ｂ群の定義のおける「Ｃ１〜Ｃ３低級ア
ルキル基」とは、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピルのような、炭素数１乃至３個の直鎖又
は分枝鎖アルキル基であり、好適にはメチル基である。

【００１９】上記において、Ｒ¹ の定義における「Ｃ１
〜Ｃ７低級アルキル基」とは、例えばメチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ−ブチル、イ
ソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチルのような炭素数１乃至
７個の直鎖、分枝鎖又は環状アルキル基であり、好適に
はメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、シクロペンチルであり、更に好適にはメチル基であ
る。

【００２０】上記において、置換基群Ａ及び置換基群Ｂ
の定義における「Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルキル基」と
は、例えばクロロメチル、ブロモメチル、ヨードメチ
ル、フルオロメチル、ジクロロメチル、ジフルオロメチ
ル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、１−クロ
ロエチル、２−クロロエチル、１−フルオロエチル、２
−フルオロエチル、１，２−ジフルオロエチル、１，
１，２−トリフルオロエチル、１，２，２−トリフルオ
ロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、１−クロ
ロプロピル、２−クロロプロピル、３−クロロプロピ
ル、１−フルオロプロピル、２−フルオロプロピル、３
−フルオロプロピル、３，３，３−トリクロロプロピ
ル、３，３，３−トリフルオロプロピル、２，２，３，
３，３−ペンタフルオロプロピル、１−メチル−２−ク
ロロエチル、１−メチル−２−フルオロエチルのような
前記したハロゲン原子１乃至５個が、炭素数１乃至３個
の直鎖又は分枝鎖アルキル基に結合した基であり、好適
にはトリフルオロメチル基である。

【００２１】上記において、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁵ 、置換基
群Ａ、置換基群Ｂ及び置換基群Ｃの定義のおける「Ｃ１
〜Ｃ３低級アルコキシ基」とは、例えばメトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシのような炭素数１乃
至３個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基であり、好適には
メトキシ基である。

【００２２】上記において、置換基群Ａの定義における
「Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルコキシ基」とは、例えばクロ
ロメトキシ、ブロモメトキシ、ヨードメトキシ、フルオ
ロメトキシ、ジクロロメトキシ、ジフルオロメトキシ、
トリクロロメトキシ、トリフルオロメトキシ、１−クロ
ロエトキシ、２−クロロエトキシ、１−フルオロエトキ
シ、２−フルオロエトキシ、１，２−ジフルオロエトキ
シ、１，１，２−トリフルオロエトキシ、１，２，２−
トリフルオロエトキシ、２，２，２−トリフルオロエト
キシ、１−クロロプロポキシ、２−クロロプロポキシ、
３−クロロプロポキシ、１−フルオロプロポキシ、２−
フルオロプロポキシ、３−フルオロプロポキシ、３，
３，３−トリクロロプロポキシ、３，３，３−トリクフ
ルオロプロポキシ、２，２，３，３，３−ペンタフルオ
ロプロポキシ、１−メチル−２−クロロエトキシ、１−
メチル−２−フルオロエトキシのような前記したハロゲ
ン原子１乃至５個が炭素数１乃至３個の直鎖又は分枝鎖
アルコキシ基に結合した基であり、好適にはトリフルオ
ロメトキシ基である。

【００２３】上記において、置換基群Ａ及び置換基群Ｃ
の定義における「Ｃ１〜Ｃ３低級アルキルチオ基」と
は、例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオのような炭素数１乃至３個の直鎖又は分
枝鎖アルキルチオ基であり、好適にはメチルチオ、エチ
ルチオ基であり、さらに好適にはメチルチオ基である。
上記において、置換基群Ａの定義における「Ｃ１〜Ｃ３
低級ハロアルコキシＣ１〜Ｃ２低級アルキル基」とは、
前記した「Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルコキシ基」がメチル
又はエチル基に結合した基であり、好適には、２，２，
３，３，３−ペンタフルオロプロポキシメチル基であ
る。

【００２４】上記において、置換基群Ｃの定義における
「Ｃ１〜Ｃ２低級アルコキシＣ１〜Ｃ２低級アルコキシ
基とは、例えばメトキシメトキシ、２−メトキシエトキ
シ、メトキシプロポキシ、２−メトキシ−１−メチルエ
トキシ、エトキシメトキシ、プロポキシメトキシ、イソ
プロポキシメトキシ、エトキシエトキシのような炭素数
１乃至２個の低級アルコキシ基が、炭素数１乃至２個の
低級アルコキシ基に結合した基であり、好適にはメトキ
シエトキシ基である。

【００２５】上記において、置換基群Ｃの定義における
Ｃ１〜Ｃ４低級アルコキシカルボニル基」とは、例えば
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、イソブトキシカルボニル、ｓ−ブトキシカルボ
ニル、ｔ−ブトキシカルボニルのような炭素数１乃至４
個の直鎖又は分枝鎖低級アルコキシ基がカルボニル基に
結合した基であり、好適にはメトキシカルボニル又はエ
トキシカルボニル基である。

【００２６】上記において、Ｒ² 及びＲ³ の定義におけ
る「アラルキル基」とは、例えばベンジル、α−メチル
ベンジル、α，α−ジメチルベンジル、フェネチル、フ
ェニルプロピル、ナフチルメチル、ナフチルエチルのよ
うな炭素数６乃至１０個のアリール基が炭素数１乃至２
個のアルキル基に結合した基であり、好適にはベンジル
基である。

【００２７】上記において、Ｒ² 、Ｒ³ 及びＲ⁵ の定義
における「アラルキルオキシ基」とは、前記した「アラ
ルキル基」に酸素原子が結合した基であり、好適にはベ
ンジルオキシ基である。

【００２８】上記において、Ｒ⁵ の定義における「カル
ボキシＣ１〜Ｃ２低級アルコキシ基」とは、例えばカル
ボキシメトキシ、２−カルボキシエトキシ、１−カルボ
キシエトキシのような炭素数１乃至２個の低級アルコキ
シ基にカルボキシ基が結合した基であり、好適にはカル
ボキシメトキシ基である。

【００２９】上記においてＲ² 及びＲ³ の定義における
「アリール基」とは、例えばフェニル、トリル、ナフチ
ルのような炭素数６乃至１０個のアリール基であり、好
適にはフェニル基である。

【００３０】上記において、置換基群Ｃの定義における
「酸素原子を含有する５または６員飽和複素環基」と
は、例えばテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、
１，３−ジオキソラン、２，２−ジメチル−１，３−ジ
オキソラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサン
であり、好適には、テトラヒドロフランである。

【００３１】Ｒ¹ は、好適には、水素原子または無置換
のＣ１〜Ｃ７低級アルキル基である。

【００３２】Ｒ² およびＲ³ は、好適には、同一または
異なって、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基、無置
換のアリール基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基、アラル
キル基、アラルキルオキシ基であり、更に好適には、同
一または異なって、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル
基、無置換のアリール基である。

【００３３】Ｑ¹ は、好適には、フェニル基（当該フェ
ニル基は、前記置換基群Ａから選ばれる同一または異な
った１ないし３個の置換基により置換されていてもよ
い）である。

【００３４】Ｑ² は、好適には、フェニル基（当該フェ
ニル基は、前記置換基群Ｂから選ばれる同一または異な
った１ないし３個の置換基により置換されていてもよ
い）である。

【００３５】Ｒは、好適には、式ＣＯＯＲ¹ で表される
基、式ＣＯＮＲ² Ｒ³ で表される基であり、更に好適に
は、式ＣＯＯＲ¹ で表される基である。

【００３６】置換基群Ａは、好適には、ハロゲン原子、
Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基であり、更に好適には、ハロ
ゲン原子である。

【００３７】置換基群Ｂは、好適には、ハロゲン原子、
Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基であり、更に好適には、ハロ
ゲン原子である。

【００３８】本発明の化合物は、更に好適には、一般式
（Ｉ）において、式中、Ｒは、式ＣＯＯＲ¹ で表される
基（Ｒ¹ は、水素原子またはＣ１〜Ｃ７低級アルキル基
（当該低級アルキル基は、下記置換基群Ｃから選ばれる
同一または異なった１ないし２個の置換基により置換さ
れていてもよい）を示す）、式ＣＯＮＲ² Ｒ³ で表され
る基（Ｒ² およびＲ³ は、同一または異なって、水素原
子、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基、アリール基、Ｃ１〜Ｃ
３低級アルコキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ
基を示す）、シアノ基、ホルミル基、式Ｃ（Ｒ⁴ ）₂ Ｏ
Ｈで表される基（Ｒ⁴ は水素原子またはＣ１〜Ｃ３低級
アルキル基を示す）、式ＣＨ＝ＮＲ⁵ で表される基（Ｒ
⁵ は水酸基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基、アラルキル
オキシ基、カルボキシＣ１〜Ｃ２低級アルコキシ基を示
す）を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｑ¹ はフェニル
基（当該フェニル基は、下記置換基群Ａから選ばれる同
一または異なった１ないし３個の置換基により置換され
ていてもよい）を示し、Ｑ² はフェニル基（当該フェニ
ル基は、下記置換基群Ｂから選ばれる同一または異なっ
た１ないし３個の置換基により置換されていてもよい）
を示す。

【００３９】（置換基群Ａ）ハロゲン原子、ニトロ基、
アミノ基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級
ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基、Ｃ１〜
Ｃ３低級ハロアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキルチ
オ基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルコキシＣ１〜Ｃ２低級ア
ルキル基。

【００４０】（置換基群Ｂ）ハロゲン原子、ニトロ基、
Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルキ
ル基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基。

【００４１】（置換基群Ｃ）Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ
基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ２低級ア
ルコキシＣ１〜Ｃ２低級アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４低級
アルコキシカルボニル基、アセチレン、酸素原子を含有
する５または６員飽和複素環基。

【００４２】本発明の化合物は、より更に好適には、一
般式（Ｉ）において、式中、Ｒは、式ＣＯＯＲ¹ で表さ
れる基（Ｒ¹ は、水素原子またはＣ１〜Ｃ７低級アルキ
ル基（当該低級アルキル基は、下記置換基群Ｃから選ば
れる同一または異なった１ないし２個の置換基により置
換されていてもよい）を示す）、式ＣＯＮＲ² Ｒ³ で表
される基（Ｒ² およびＲ³ は、同一または異なって、水
素原子、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキル基、アリール基を示
し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｑ¹ はフェニル基（当該
フェニル基は、下記置換基群Ａ’から選ばれる同一また
は異なった１ないし３個の置換基により置換されていて
もよい）を示し、Ｑ² はフェニル基（当該フェニル基
は、下記置換基群Ｂ’から選ばれる同一または異なった
１ないし３個の置換基により置換されていてもよい）を
示す。

【００４３】（置換基群Ａ’）ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ
３低級アルキル基。

【００４４】（置換基群Ｂ’）ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ
３低級アルキル基。

【００４５】（置換基群Ｃ）Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ
基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ２低級ア
ルコキシＣ１〜Ｃ２低級アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４低級
アルコキシカルボニル基、アセチレン、酸素原子を含有
する５または６員飽和複素環基。

【００４６】本発明の化合物は、最も好適には、一般式
（Ｉ）において、式中、Ｒは、式ＣＯＯＲ¹ で表される
基（Ｒ¹ は、水素原子またはＣ１〜Ｃ７低級アルキル基
を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｑ¹ はフェニル基
（当該フェニル基は、同一または異なった１ないし３個
のハロゲン原子により置換されていてもよい）を示し、
Ｑ² はフェニル基（当該フェニル基は、同一または異な
った１ないし３個のハロゲン原子により置換されていて
もよい）を示す。

【００４７】以下、表１に、本発明の化合物を、化合物
番号とともに例示するが、本発明はこれらの化合物に限
定されるものではない。

【００４８】なお、表中、「Ｍｅ」はメチル基を、「Ｅ
ｔ」はエチル基を、「Ｐｒ」はプロピル基を、「ｉＰ
ｒ」はイソプロピル基を、「Ｂｕ」はブチル基を、「ｔ
Ｂｕ」はｔ−ブチル基を、「Ｐｈ」はフェニル基を、
「ＴＨＦ」はテトラヒドロフラニル基を、「ＴＨＰ」は
テトラヒドロピラニル基を、「ｃＰｅ」はシクロペンチ
ル基を、「Ｄｏｘ」は１，３−ジオキソラニル基を、
「Ｐｙｒ」はピリジニル基を、「Ｐｒｚ」はピラジニル
基を、それぞれ示す。

【００４９】

【表１】

【００５０】

【化５】

【００５１】 ──────────────────────────────────── 化合物番号ＸＱ¹ Ｑ² Ｒ融点（℃） ──────────────────────────────────── 1 Cl Ph Ph COOMe 153-155 2 Cl 2-ClPh Ph COOMe 104-106 3 Cl 3-ClPh Ph COOMe 83- 85 4 Cl 4-ClPh Ph COOMe 133-135 5 Cl 2,3-Cl₂Ph Ph COOMe 6 Cl 2,4-Cl₂Ph Ph COOMe オイル 7 Cl 2,5-Cl₂Ph Ph COOMe 150-151 8 Cl 2,6-Cl₂Ph Ph COOMe 158-160 9 Cl 3,4-Cl₂Ph Ph COOMe 10 Cl 3,5-Cl₂Ph Ph COOMe 136-138 11 Cl 2,4,6-Cl₃Ph Ph COOMe 157-158 12 Cl 2-FPh Ph COOMe オイル 13 Cl 3-FPh Ph COOMe 128-130 14 Cl 4-FPh Ph COOMe 102-104 15 Cl 2,3-F₂Ph Ph COOMe 16 Cl 2,4-F₂Ph Ph COOMe オイル 17 Cl 2,5-F₂Ph Ph COOMe 140-142 18 Cl 2,6-F₂Ph Ph COOMe 19 Cl 3,4-F₂Ph Ph COOMe 20 Cl 3,5-F₂Ph Ph COOMe 21 Cl 4-Cl-3-(CH₂OCH₂CF₂CF₃)Ph Ph COOMe 120-122 22 Cl 2-CF₃Ph Ph COOMe 23 Cl 3-CF₃Ph Ph COOMe 125-126 24 Cl 4-CF₃Ph Ph COOMe 177-178 25 Cl 2-Cl-5-CF₃Ph Ph COOMe 128-130 26 Cl 2,6-Cl₂-4-CF₃Ph Ph COOMe 27 Cl 2-Cl-6-F-4-CF₃Ph Ph COOMe 28 Cl 2,6-Cl₂-3-F-4-CF₃Ph Ph COOMe 29 Cl 2-MePh Ph COOMe 30 Cl 3-MePh Ph COOMe 71- 73 31 Cl 4-MePh Ph COOMe 131-133 32 Cl 2,3-Me₂Ph Ph COOMe 161-162 33 Cl 2,4-Me₂Ph Ph COOMe 34 Cl 2,5-Me₂Ph Ph COOMe 138-139 35 Cl 2,6-Me₂Ph Ph COOMe 36 Cl 3,4-Me₂Ph Ph COOMe 37 Cl 3,5-Me₂Ph Ph COOMe 38 Cl 2-OMePh Ph COOMe 39 Cl 3-OMePh Ph COOMe 40 Cl 4-OMePh Ph COOMe 81- 83 41 Cl 2-OCF₃Ph Ph COOMe 42 Cl 3-OCF₃Ph Ph COOMe 43 Cl 4-OCF₃Ph Ph COOMe 123-124 44 Cl 2-NO₂Ph Ph COOMe 45 Cl 3-NO₂Ph Ph COOMe 46 Cl 4-NO₂Ph Ph COOMe 172-173 47 Cl 2,4-(NO₂)₂Ph Ph COOMe オイル 48 Cl Ph 2-ClPh COOMe 106-108 49 Cl Ph 3-ClPh COOMe 128-130 50 Cl Ph 4-ClPh COOMe 131-133 51 Cl Ph 2,3-Cl₂Ph COOMe 52 Cl Ph 2,4-Cl₂Ph COOMe オイル 53 Cl Ph 2,5-Cl₂Ph COOMe 54 Cl Ph 2,6-Cl₂Ph COOMe 55 Cl Ph 3,4-Cl₂Ph COOMe 181-183 56 Cl Ph 3,5-Cl₂Ph COOMe 57 Cl Ph 2,4,6-Cl₃Ph COOMe 58 Cl Ph 2-FPh COOMe オイル 59 Cl Ph 3-FPh COOMe 60 Cl Ph 4-FPh COOMe 143-144 61 Cl Ph 2,3-F₂Ph COOMe 62 Cl Ph 2,4-F₂Ph COOMe 63 Cl Ph 2,5-F₂Ph COOMe 86.5 64 Cl Ph 2,6-F₂Ph COOMe 65 Cl Ph 3,4-F₂Ph COOMe 66 Cl Ph 3,5-F₂Ph COOMe 67 Cl Ph 2-CF₃Ph COOMe 135-137 68 Cl Ph 3-CF₃Ph COOMe 113-114 69 Cl Ph 4-CF₃Ph COOMe 155-156 70 Cl Ph 2Cl-5-CF₃Ph COOMe 71 Cl Ph 2,6-Cl₂-CF₃Ph COOMe 72 Cl Ph 2-Cl-6-F-4-CF₃Ph COOMe 73 Cl Ph 2,6-Cl₂-3-F-4-CF₃Ph COOMe 74 Cl Ph 2-MePh COOMe 96-98 75 Cl Ph 3-MePh COOMe 121-122 76 Cl Ph 4-MePh COOMe 119-121 77 Cl Ph 2,3-Me₂Ph COOMe 78 Cl Ph 2,4-Me₂Ph COOMe 79 Cl Ph 2,5-Me₂Ph COOMe 80 Cl Ph 2,6-Me₂Ph COOMe 81 Cl Ph 3,4-Me₂Ph COOMe 82 Cl Ph 3,5-Me₂Ph COOMe 83 Cl Ph 2-OMePh COOMe 84 Cl Ph 3-OMePh COOMe 85 Cl Ph 4-OMePh COOMe 86 Cl Ph 2-OCF₃Ph COOMe 87 Cl Ph 3-OCF₃Ph COOMe 88 Cl Ph 4-OCF₃Ph COOMe 89 Cl Ph 2-NO₂Ph COOMe 90 Cl Ph 3-NO₂Ph COOMe 91 Cl Ph 4-NO₂Ph COOMe 140-141 92 Cl Ph 2,4-(NO₂)₂Ph COOMe 93 Cl Ph 3-Cl-4-OMePh COOMe 181-183 94 Cl 2-ClPh 2-ClPh COOMe 115-117 95 Cl 2-ClPh 3-ClPh COOMe 96 Cl 2-ClPh 4-ClPh COOMe 97 Cl 3-ClPh 2,3-Cl₂Ph COOMe 98 Cl 3-ClPh 2,4-Cl₂Ph COOMe 99 Cl 3-ClPh 2,5-Cl₂Ph COOMe 100 Cl 4-ClPh 2,6-Cl₂Ph COOMe 101 Cl 4-ClPh 3,4-Cl₂Ph COOMe 102 Cl 4-ClPh 3,5-Cl₂Ph COOMe 103 Cl 2,3-Cl₂Ph 2,4,6-Cl₃Ph COOMe 104 Cl 2,3-Cl₂Ph 2-FPh COOMe 105 Cl 2,3-Cl₂Ph 3-FPh COOMe 106 Cl 2,4-Cl₂Ph 4-FPh COOMe 107 Cl 2,4-Cl₂Ph 2,3-F₂Ph COOMe 108 Cl 2,4-Cl₂Ph 2,4-F₂Ph COOMe 109 Cl 2,5-Cl₂Ph 2,5-F₂Ph COOMe 110 Cl 2,5-Cl₂Ph 2,6-F₂Ph COOMe 111 Cl 2,5-Cl₂Ph 3,4-F₂Ph COOMe 112 Cl 2,6-Cl₂Ph 3,5-F₂Ph COOMe 113 Cl 2,6-Cl₂Ph 2-CF₃Ph COOMe 114 Cl 2,6-Cl₂Ph 3-CF₃Ph COOMe 115 Cl 3,4-Cl₂Ph 4-CF₃Ph COOMe 116 Cl 3,4-Cl₂Ph 2-Cl-5-CF₃Ph COOMe 117 Cl 3,4-Cl₂Ph 2,6-Cl₂-4-CF₃Ph COOMe 118 Cl 3,5-Cl₂Ph 2-Cl-6-F-4-CF₃Ph COOMe 119 Cl 3,5-Cl₂Ph 2,6-Cl₂-3-F-4-CF₃Ph COOMe 120 Cl 3,5-Cl₂Ph 2-MePh COOMe 121 Cl 2,4,6-Cl₃Ph 3-MePh COOMe 122 Cl 2,4,6-Cl₃Ph 4-MePh COOMe 123 Cl 2,4,6-Cl₃Ph 2,3-Me₂Ph COOMe 124 Cl 2-FPh 2,4-Me₂Ph COOMe 125 Cl 2-FPh 2,5-Me₂Ph COOMe 126 Cl 2-FPh 2,6-Me₂Ph COOMe 127 Cl 3-FPh 3,4-Me₂Ph COOMe 128 Cl 3-FPh 3,5-Me₂Ph COOMe 129 Cl 3-FPh 2-OMePh COOMe 130 Cl 4-FPh 3-OMePh COOMe 131 Cl 4-FPh 4-OMePh COOMe 132 Cl 4-FPh 2-OCF₃Ph COOMe 133 Cl 2,3-F₂Ph 3-OCF₃Ph COOMe 134 Cl 2,3-F₂Ph 4-OCF₃Ph COOMe 135 Cl 2,3-F₂Ph 2-NO₂Ph COOMe 136 Cl 2,4-F₂Ph 3-NO₂Ph COOMe 137 Cl 2,4-F₂Ph 4-NO₂Ph COOMe 138 Cl 2,4-F₂Ph 2,4-(NO₂)₂Ph COOMe 139 Cl 2,5-F₂Ph 3-Cl-4-OMePh COOMe 140 Cl 2,5-F₂Ph 2-ClPh COOMe 141 Cl 2,5-F₂Ph 3-ClPh COOMe 142 Cl 2,6-F₂Ph 4-ClPh COOMe 143 Cl 2,6-F₂Ph 2,3-Cl₂Ph COOMe 144 Cl 2,6-F₂Ph 2,4-Cl₂Ph COOMe 145 Cl 3,4-F₂Ph 2,5-Cl₂Ph COOMe 146 Cl 3,4-F₂Ph 2,6-Cl₂Ph COOMe 147 Cl 3,4-F₂Ph 3,4-Cl₂Ph COOMe 148 Cl 3,5-F₂Ph 3,5-Cl₂Ph COOMe 149 Cl 3,5-F₂Ph 2,4,6-Cl₃Ph COOMe 150 Cl 3,5-F₂Ph 2-FPh COOMe 151 Cl 4-Cl-3-(CH₂OCH₂CF₂CF₃)Ph 3-FPh COOMe 152 Cl 2-CF₃Ph 4-FPh COOMe 153 Cl 3-CF₃Ph 2,3-F₂Ph COOMe 154 Cl 4-CF₃Ph 2,4-F₂Ph COOMe 155 Cl 2-Cl-5-CF₃Ph 2,5-F₂Ph COOMe 156 Cl 2,6-Cl₂-4-CF₃Ph 2,6-F₂Ph COOMe 157 Cl 2-Cl-6-F-4-CF₃Ph 3,4-F₂Ph COOMe 158 Cl 2,6-Cl₂-3-F-4-CF₃Ph 3,5-F₂Ph COOMe 159 Cl 2-MePh 2-CF₃Ph COOMe 160 Cl 3-MePh 3-CF₃Ph COOMe 161 Cl 4-MePh 4-CF₃Ph COOMe 162 Cl 2,3-Me₂Ph 2-Cl-5-CF₃Ph COOMe 163 Cl 2,4-Me₂Ph 2,6-Cl₂-4-CF₃Ph COOMe 164 Cl 2,5-Me₂Ph 2-Cl-6-F-4-CF₃Ph COOMe 165 Cl 2,6-Me₂Ph 2,6-Cl₂-3-F-4-CF₃Ph COOMe 166 Cl 3,4-Me₂Ph 2-MePh COOMe 167 Cl 3,5-Me₂Ph 3-MePh COOMe 168 Cl 2-OMePh 4-MePh COOMe 169 Cl 3-OMePh 2,3-Me₂Ph COOMe 170 Cl 4-OMePh 2,4-Me₂Ph COOMe 171 Cl 2-OCF₃Ph 2,5-Me₂Ph COOMe 172 Cl 3-OCF₃Ph 2,6-Me₂Ph COOMe 173 Cl 4-OCF₃Ph 3,4-Me₂Ph COOMe 174 Cl 2-NO₂Ph 3,5-Me₂Ph COOMe 175 Cl 3-NO₂Ph 2-OMePh COOMe 176 Cl 4-NO₂Ph 3-OMePh COOMe 177 Cl 2,4-(NO₂)₂Ph 4-OMePh COOMe 178 Cl 2-ClPh 2-OCF₃Ph COOMe 179 Cl 3-ClPh 3-OCF₃Ph COOMe 180 Cl 4-ClPh 4-OCF₃Ph COOMe 181 Cl 2,3-Cl₂Ph 2-NO₂Ph COOMe 182 Cl 2,4-Cl₂Ph 3-NO₂Ph COOMe 183 Cl 2,5-Cl₂Ph 4-NO₂Ph COOMe 184 Cl 2,6-Cl₂Ph 2,4-(NO₂)₂Ph COOMe 185 Cl 3,4-Cl₂Ph 3-Cl-4-OMePh COOMe 186 Cl 3,5-Cl₂Ph 2-ClPh COOMe 187 Cl 2,4,6-Cl₃Ph 3-ClPh COOMe 188 Cl 2-FPh 4-ClPh COOMe 189 Cl 4-ClPh 4-ClPh COOMe 144-146 190 Cl 4-ClPh 2,5-F₂Ph COOMe 191 Cl 4-ClPh 4-FPh COOMe 192 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOMe 98 193 Cl 2,5-F₂Ph 2,5-F₂Ph COOMe 129-131 194 Cl 4-ClPh 3-MePh COOMe 142 195 Cl 4-ClPh 2-ClPh COOMe 159-161 196 Cl 2,3-Cl₂Ph 4-FPh COOMe 175-177 197 Cl 2,6-Cl₂Ph 2-ClPh COOMe オイル 198 Cl 3-MePh 3-MePh COOMe 85 199 Cl 3-MePh 4-FPh COOMe 100-102 200 Cl 3-MePh 2,5-F₂Ph COOMe 201 Cl 3-MePh 4-ClPh COOMe 85 202 Cl 2,3-Me₂Ph 2-ClPh COOMe オイル 203 Cl Ph Ph CONH₂ 235-237 204 Cl 2-ClPh Ph CONH₂ 184-186 205 Cl 3-ClPh Ph CONH₂ 166-168 206 Cl 4-ClPh Ph CONH₂ 187-189 207 Cl 2,4-Cl₂Ph Ph CONH₂ 219-222 208 Cl 2,5-Cl₂Ph Ph CONH₂ 207.5 209 Cl 2,6-Cl₂Ph Ph CONH₂ 188-190 210 Cl 3,5-Cl₂Ph Ph CONH₂ 162-164 211 Cl 2,4,6-Cl₃Ph Ph CONH₂ 208-210 212 Cl 2-FPh Ph CONH₂ 169-172 213 Cl 3-FPh Ph CONH₂ 213-215 214 Cl 4-FPh Ph CONH₂ 262-264 215 Cl 2,3-F₂Ph Ph CONH₂ 216 Cl 2,4-F₂Ph Ph CONH₂ 224-227 217 Cl 2,5-F₂Ph Ph CONH₂ 189 218 Cl 2,6-F₂Ph Ph CONH₂ 219 Cl 3,4-F₂Ph Ph CONH₂ 220 Cl 3,5-F₂Ph Ph CONH₂ 221 Cl 4-Cl-3-(CH₂OCH₂CF₂CF₃)Ph Ph CONH₂ 130-132 222 Cl 3-CF₃ Ph CONH₂ 170-172 223 Cl 4-CF₃ Ph CONH₂ 182-183 224 Cl 2-Cl-5-CF₃Ph Ph CONH₂ 201-203 225 Cl 3-MePh Ph CONH₂ 164-166 226 Cl 4-MePh Ph CONH₂ 171-173 227 Cl 2,3-Me₂Ph Ph CONH₂ 209-211 228 Cl 2,5-Me₂Ph Ph CONH₂ 195-198 229 Cl 4-OMePh Ph CONH₂ 184-186 230 Cl 4-OCF₃Ph Ph CONH₂ 124-126 231 Cl 4-NO₂Ph Ph CONH₂ 189 232 Cl 2,4-(NO₂)₂Ph Ph CONH₂ 184 233 Cl Ph 2-ClPh CONH₂ 134-136 234 Cl Ph 3-ClPh CONH₂ 177-179.5 235 Cl Ph 4-ClPh CONH₂ 204-206 236 Cl Ph 2,4-Cl₂Ph CONH₂ 226-229.5 237 Cl Ph 3,4-Cl₂Ph CONH₂ 180-180.5 238 Cl Ph 2-FPh CONH₂ 119-123 239 Cl Ph 4-FPh CONH₂ 217-220 240 Cl Ph 2,5-F₂Ph CONH₂ 210-212.5 241 Cl Ph 2-CF₃Ph CONH₂ 167 242 Cl Ph 3-CF₃Ph CONH₂ 189-193 243 Cl Ph 4-CF₃Ph CONH₂ 192 244 Cl Ph 2-MePh CONH₂ 116.5 245 Cl Ph 3-MePh CONH₂ 143 246 Cl Ph 4-MePh CONH₂ 186-188 247 Cl Ph 4-NO₂Ph CONH₂ 240 248 Cl Ph 3-Cl-4-OMePh CONH₂ 249 Cl 2-ClPh 2-ClPh CONH₂ 204-207.5 250 Cl 2-ClPh 4-ClPh CONH₂ 251 Cl 2,4-Cl₂Ph 4-FPh CONH₂ 252 Cl 2,5-Cl₂Ph 2,5-F₂Ph CONH₂ 253 Cl 2-FPh 3-MePh CONH₂ 254 Cl 2,5-F₂Ph 2-ClPh CONH₂ 255 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CONH₂ 171.5 256 Cl 4-ClPh 4-ClPh CONH₂ 226-228 257 Cl 2,5-F₂Ph 2,5-F₂Ph CONH₂ 258 Cl 4-ClPh 3-MePh CONH₂ 139 259 Cl 4-ClPh 2-ClPh CONH₂ 191-193 260 Cl 2,3-Cl₂Ph 4-FPh CONH₂ 261 Cl 2,6-Cl₂Ph 2-ClPh CONH₂ 240-244 262 Cl 3-MePh 3-MePh CONH₂ 151 263 Cl 3-MePh 4-FPh CONH₂ 153-154 264 Cl 3-MePh 2,5-F₂Ph CONH₂ 265 Cl 3-MePh 3-ClPh CONH₂ 144-147 266 Cl 2,3-Me₂Ph 2-ClPh CONH₂ 198.5 267 Cl Ph Ph CN 268 Cl 2-ClPh Ph CN 91-95 269 Cl 3-ClPh Ph CN 270 Cl 4-ClPh Ph CN 271 Cl 2,4-Cl₂Ph Ph CN 119-121 272 Cl 2,5-Cl₂Ph Ph CN 130-134 273 Cl 2,6-Cl₂Ph Ph CN 131-134 274 Cl 3,5-Cl₂Ph Ph CN 275 Cl 2,4,6-Cl₃Ph Ph CN 100-104 276 Cl 2-FPh Ph CN 87.5 277 Cl 3-FPh Ph CN 278 Cl 4-FPh Ph CN 99.5-101 279 Cl 2,3-F₂Ph Ph CN 280 Cl 2,4-F₂Ph Ph CN 88-90 281 Cl 2,5-F₂Ph Ph CN 282 Cl 2,6-F₂Ph Ph CN 283 Cl 3,4-F₂Ph Ph CN 284 Cl 3,5-F₂Ph Ph CN 285 Cl 4-Cl-3-(CH₂OCH₂CF₂CF₃)Ph Ph CN 286 Cl 3-CF₃ Ph CN 287 Cl 4-CF₃ Ph CN 288 Cl 2-Cl-5-CF₃Ph Ph CN 80-82 289 Cl 3-MePh Ph CN 290 Cl 4-MePh Ph CN 291 Cl 2,3-Me₂Ph Ph CN 141-143 292 Cl 2,5-Me₂Ph Ph CN 105-107 293 Cl 4-OMePh Ph CN 294 Cl 4-OCF₃Ph Ph CN オイル 295 Cl 4-NO₂Ph Ph CN 136-139.5 296 Cl 2,4-(NO₂)₂Ph Ph CN 182-186 297 Cl Ph 2-ClPh CN オイル 298 Cl Ph 3-ClPh CN 299 Cl Ph 4-ClPh CN 300 Cl Ph 2,4-Cl₂Ph CN オイル 301 Cl Ph 3,4-Cl₂Ph CN 114-117 302 Cl Ph 2-FPh CN 59.5 303 Cl Ph 4-FPh CN 75 304 Cl Ph 2,5-F₂Ph CN オイル 305 Cl Ph 2-CF₃Ph CN 97 306 Cl Ph 3-CF₃Ph CN 107 307 Cl Ph 4-CF₃Ph CN オイル 308 Cl Ph 2-MePh CN 112-113 309 Cl Ph 3-MePh CN 89- 93 310 Cl Ph 4-MePh CN オイル 311 Cl Ph 4-NO₂Ph CN 130.5-132 312 Cl Ph 3-Cl-4-OMePh CN 132-136 313 Cl 2-ClPh 2-ClPh CN オイル 314 Cl 2-ClPh 4-ClPh CN 315 Cl 2,4-Cl₂Ph 4-FPh CN 316 Cl 2,5-Cl₂Ph 2,5-F₂Ph CN 317 Cl 2-FPh 3-MePh CN 318 Cl 2,5-F₂Ph 2-ClPh CN 319 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CN オイル 320 Cl 4-ClPh 4-ClPh CN 321 Cl 2,5-F₂Ph 2,5-F₂Ph CN 322 Cl 4-ClPh 3-MePh CN 323 Cl 4-ClPh 2-ClPh CN 324 Cl 2,3-Cl₂Ph 4-FPh CN 325 Cl 2,6-Cl₂Ph 2-ClPh CN 140-142 326 Cl 3-MePh 3-MePh CN 90-93 327 Cl 3-MePh 4-FPh CN 100.5-102 328 Cl 3-MePh 2,5-F₂Ph CN 329 Cl 3-MePh 4-ClPh CN 330 Cl 2,3-Me₂Ph 2-ClPh CN 73 331 Cl 4-CF₃Ph Ph CMe₂(OH) 90-93 332 Cl 2,5-F₂Ph 2-FPh CMe₂(OH) 333 Cl 2-FPh 2-FPh CMe₂(OH) 334 Cl Ph Ph CMe₂(OH) 335 Cl Ph 2-ClPh CMe₂(OH) オイル 336 Cl Ph 2-FPh CMe₂(OH) 337 Cl Ph 2,5-F₂Ph CMe₂(OH) 338 Cl Ph 3-Cl-4-OMePh CMe₂(OH) 126-129.5 339 Cl 2-ClPh 2ClPh CMe₂(OH) オイル 340 Cl 2,5-Cl₂Ph Ph CMe₂(OH) 118.5 341 Cl 2,4,6-Cl₃Ph Ph CMe₂(OH) 138-141 342 Cl 2,5-F₂Ph Ph CMe₂(OH) 71 343 Cl 2,5-F₂Ph 2,5-F₂Ph CMe₂(OH) 344 Cl 2,4-F₂Ph Ph CMe₂(OH) 67.5 345 Cl 2-Pyr Ph CO0Me 91-93 346 Cl 2-Pyr Ph CONH₂ 124-126 347 Cl 2-Pyr Ph CN 74.5 348 Cl 2-Pyr Ph COOH 349 Br 2-Pyr Ph COOMe 350 Cl Ph 2-Pyr COOMe 97-99 351 Cl Ph 2-Pyr CONH₂ 200-204 352 Cl Ph 2-Pyr CN 97 353 Cl 3-Cl-5-CF₃-2-Pyr Ph COOMe 119-122 354 Cl 3-Cl-5-CF₃-2-Pyr Ph CONH₂ 183 355 Cl 3-Cl-5-CF₃-2-Pyr Ph CN 127-128 356 Br 3-Cl-5-CF₃-2-Pyr Ph COOMe 357 F 3-Cl-5-CF₃-2-Pyr Ph COOMe 358 Cl 3,5-(CF₃)₂-2-Pyr Ph COOMe 131-133 359 Cl 3,5-(CF₃)₂-2-Pyr Ph CONH₂ 157.5-158 360 Cl 3,5-(CF₃)₂-2-Pyr Ph CN 361 Cl Ph 2-Prz COOMe 103-105 362 Cl Ph 2-Prz CONH₂ 226.5 363 Cl Ph 2-Prz CN 135 364 Cl Ph 3-Cl-2-Prz COOMe オイル 365 Cl Ph 3-Cl-2-Prz CONH₂ 366 Cl Ph 3-Cl-2-Prz CN 367 Cl Ph 3-Pyr COOCH₃ オイル 368 Cl Ph 3-Pyr CONH₂ 244-246.5 369 Cl Ph 3-Pyr CN 370 F 2-FPh 2-FPh COOMe 371 F 2,5-F₂Ph 4-FPh COOMe 372 F 2,5-F₂Ph 2,5-F₂Ph COOMe 373 F Ph Ph COOMe 374 Br Ph Ph COOMe 375 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh COOMe 122.5 376 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh CONH₂ 377 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh CN 378 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh COOH 225-227 379 Br 2,5-F₂Ph 2,5-F₂Ph COOMe 380 Br 2,5-F₂Ph Ph COOMe 118-119 381 Br 2,5-F₂Ph Ph CONH₂ 201-202 382 Br 2,5-F₂Ph Ph CN 124-125 383 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh COOEt 125.5-127 384 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh COOPr オイル 385 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH(Me)COOEt 131 386 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂(2-THF) オイル 387 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh COOcPe オイル 388 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh CONHOMe オイル 389 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh CONHOCH₂Ph 148-149.5 390 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh CONHC(Me₂)Ph 391 Br 2,5-F₂Ph 4-FPh CON(iPr)4-FPh オイル 392 Cl Ph Ph COOH 210-213 393 Cl 2,5-F₂Ph Ph COOH 195-199 394 Cl Ph 2,5-F₂Ph COOH オイル 395 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOH 205-209 396 F 2,5-F₂Ph 4-FPh COOH 397 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CH₂OH 139 398 Cl 2,5-F₂Ph Ph COOEt 84 399 Cl 2,5-F₂Ph Ph COOCH₂C≡CH 101.5 400 Cl 2,5-F₂Ph Ph COOCH₂COOMe 169.5-172 401 Cl 2,5-F₂Ph Ph COOBu 74.5 402 Cl 2,5-F₂Ph Ph COOCH(Me)COOEt 117.5 403 Cl 2,5-F₂Ph Ph COOCH₂(2-THF) 89 404 Cl 2,5-F₂Ph Ph COOcPe 112-114 405 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOEt 96.5 406 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOPr オイル 407 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOiPr オイル 408 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH(Me)COOEt 128 409 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂(2-THF) 51 410 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOcPe オイル 411 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH(COOEt)₂ オイル 412 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH(Et)COOEt オイル 413 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂COOtBr 118.5 414 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOC(Me)₂COOEt オイル 415 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂(2-THP) オイル 416 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂(2,2-Me₂-3-Dox) オイル 417 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂CH(OEt)₂ オイル 418 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂OCH₂CH₂OMe オイル 419 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂SMe オイル 420 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂OMe 68 421 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂OEt 71.5 422 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂CH₂OMe 109 423 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂CH₂OEt 86 424 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH(Me)COOMe 144 425 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂CH₂SMe オイル 426 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂CH₂SEt オイル 427 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh COOCH₂CH(OMe)₂ 95-96 428 Cl 2,5-F₂Ph Ph CHO 113.5 429 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CHO 430 Cl 2,5-F₂Ph Ph CH=NOH 191-191.5 431 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CH=NOH 432 Cl 2,5-F₂Ph Ph CH=NOCH₂Ph オイル 433 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CH=NOCH₂Ph 434 Cl 2,5-F₂Ph Ph CH=NOMe オイル 435 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CH=NOMe 436 Cl 2,5-F₂Ph Ph CH=NOCH₂COOMe 132-133 437 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CH=NOCH₂COOMe 438 Cl 2,5-F₂Ph Ph CONHMe 134 439 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CONHMe 440 Cl 2,5-F₂Ph Ph CONH(2,6-Et₂Ph) 180-184 441 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CONH(2,6-Et₂Ph) 442 Cl 2,5-F₂Ph Ph CONHC(Me₂)Ph 131-134.5 443 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CONHC(Me₂)Ph 444 Cl 2,5-F₂Ph Ph CON(Me)4-ClPh 145.5-146 445 Cl 2,5-F₂Ph Ph CON(iPr)4-FPh 93 446 Cl 2,5-F₂Ph Ph CON(iPr)4-ClPh 105 447 Cl 2,5-F₂Ph Ph CON(iPr)2,4-F₂Ph 111 448 Cl 2,5-F₂Ph Ph COON=cPe 103-104 449 Cl 2,5-F₂Ph Ph CONHCH₂(2-THF) 158 450 Cl 2,5-F₂Ph Ph CONHOMe オイル 451 Cl 2,5-F₂Ph Ph CONHOCH₂Ph オイル 452 Cl 2,5-F₂Ph Ph CONHOMe 453 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CONHOMe オイル 454 Cl 2,5-F₂Ph Ph CONHOCH₂Ph 455 Cl 2,5-F₂Ph 4-FPh CONHOCH₂Ph オイル ──────────────────────────────────── 上記表１において、好適には、１３，１７，６０，１９
２，１９３，１９９，２１７，３７５，３７８，３８
０，３８３，３８５，３８６，３８７，３８８，３９
１，３９３，３９５，３９８，３９９，４０２，４０
３，４０４，４０５，４０６，４０８，４０９，４１
０，４１２，４１３，４１４，４１５，４１６，４１
８，４１９，４２０，４２１，４２２，４２３，４２
４，４２５，４２６，４２７，４２８，４３８，４４
４，４４８，４５０，４５１，４５３番の化合物を挙げ
ることができ、更に好適には、１９２，１９３，３８
０，３９５，３９８，３９９，４０３，４０４，４０
５，４０８，４０９，４１０，４１６，４１９，４２
０，４２１，４２２，４２３，４２４，４２５，４５
０，４５１，４５３番の化合物を挙げることができ、最
も好適には、１９２，３９５，３９８，４２３番の化合
物を挙げることができる。

【００５２】表１のうち、物性欄にオイルと記載されて
いる化合物の化合物番号、化合物名及び核磁気共鳴スペ
クトルを以下に示す。なお、［ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ₃ ）δ（ｐｐｍ）］は、それぞれ省略する。

【００５３】化合物番号６メチル４−クロロ−１−（２，４−ジクロロフェニ
ル）−５−フェニル−ピラゾール−３−カルボキシレー
ト 7.23-7.42(m,8H),4.00(s,3H). 化合物番号１２メチル４−クロロ−１−（２−フルオロフェニル）−
５−フェニルピラゾール−３−カルボキシレート 7.16-7.51(m,8H),7.04(dt,1H,Jd=1.2Hz,Jt=9.0Hz),3.99
(s,3H). 化合物番号１６メチル４−クロロ−１−（２，４−ジフルオロフェニ
ル）−５−フェニル−ピラゾール−３−カルボキシレー
ト 7.46(dt,1H,Jd=3.7Hz,Jt=9.8Hz),7.32-7.40(m,3H),7.21
-7.32(m,2H),6.95(m,1H),6.80(m,1H),4.00(s,3H). 化合物番号４７メチル４−クロロ−１−（２，４−ジニトロフェニ
ル）−５−フェニルピラゾール−３−カルボキシレート 8.76(d,1H,J=2.4Hz),8.45(dd,1H,J=2.4,8.7Hz),7.62(d,
1H,J=8.7Hz),7.35-7.43(m,3H),7.21-7.29(m,2H),4.00
(s,3H). 化合物番号５２メチル４−クロロ−５−（２，４−ジクロロフェニ
ル）−１−フェニルピラゾール−３−カルボキシレート 7.42(d,1H,J=2.1Hz),7.24-7.35(m,7H),4.01(s,3H). 化合物番号５８メチル４−クロロ−５−（２−フルオロフェニル）−
１−フェニルピラゾール−３−カルボキシレート 7.18-7.46(m,8H),7.08 (t,1H,J=9.0Hz),4.01(s,3H). 化合物番号１９７メチル４−クロロ−５−（２−クロロフェニル）−１
−（２，６−ジクロロフェニル）ピラゾール−３−カル
ボキシレート 7.14-7.50(m,7H),4.01(s,3H). 化合物番号２０２メチル４−クロロ−５−（２−クロロフェニル）−１
−（２，３−ジメチルフェニル）ピラゾール−３−カル
ボキシレート 6.99-7.43(m,7H),3.99(s,3H),2.23(s,3H),2.04(s,3H). 化合物番号２９４４−クロロ−３−シアノ−５−フェニル−１−（４−ト
リフルオロメトキシフェニル）ピラゾール 7.38-7.48(m,3H),7.18-7.33(m,6H). 化合物番号２９７４−クロロ−５−（２−クロロフェニル）−３−シアノ
−１−フェニルピラゾール 7.43-7.49(m,2H),7.21-7.41(m,7H). 化合物番号３００４−クロロ−３−シアノ−５−（２，４−ジクロロフェ
ニル）−１−フェニルピラゾール 7.48(d,1H,J=2.0Hz),7.32-7.38(m,4H),7.20-7.27(m,3
H). 化合物番号３０４４−クロロ−３−シアノ−５−（２，５−ジフルオロフ
ェニル）−１−フェニルピラゾール 7.00-7.41(m,8H). 化合物番号３０７４−クロロ−３−シアノ−１−フェニル−５−（４−ト
リフルオロフェニル）ピラゾール 7.65(d,2H,J=8.7Hz),7.33-7.45(m,5H),7.18-7.32(m,2
H). 化合物番号３１０４−クロロ−３−シアノ−５−（４−トルイル）−１−
フェニルピラゾール 7.07-7.43(m,9H),2.38(s,3H). 化合物番号３１３１，５−ビス（２−クロロフェニル）−４−クロロ−３
−シアノピラゾール 7.23-7.44(m,8H). 化合物番号３１９４−クロロ−３−シアノ−１−（２，５−ジフルオロフ
ェニル）−５−（４−フルオロフェニル）ピラゾール 7.01-7.29(m,7H). 化合物番号３３５４−クロロ−５−（２−クロロフェニル）−３−（１−
ヒドロキシ−１−メチルエチル）−１−フェニルピラゾ
ール 7.23-7.43(m,9H),3.31(br.s,1H),2.04(s,6H). 化合物番号３３９１，５−ビス（２−クロロフェニル）−４−クロロ−３
−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）ピラゾール 7.16-7.41(m,8H),3.20(br.s,1H),1.75(s,6H). 化合物番号３６４メチル３−クロロ−５−（３−クロロ−２−ピラジニ
ル）−１−フェニルピラゾール−４−カルボキシレート 8.61(d,1H,J=2.3Hz),8.47(d,1H,J=2.3Hz),7.28-7.36(m,
5H),4.02(s,3H). 化合物番号３６７メチル３−クロロ−１−フェニル−５−（３−ピリジ
ル）ピラゾール−３−カルボキシレート８．６３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５，４．８Ｈｚ），
８．５３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．６２（ｄ
ｔ，１Ｈ，Ｊｄ＝８．０Ｈｚ，Ｊｔ＝１．５Ｈｚ），
７．３１−７．４０（ｍ，３Ｈ），７．２１−７．３０
（ｍ，２Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ）．化合物番号３８４Ｎ−プロピル−４−ブロモ−１−（２，５−ジフルオロ
フェニル）−５−（４−フルオロフェニル）ピラゾール
−３−カルボキサミド７．２２−７．３３（ｍ，３Ｈ），６．９３−７．１７
（ｍ，４Ｈ），４．３８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈ
ｚ），１．９５（ｍ，２Ｈ），１．０４（ｔ，３Ｈ，Ｊ
＝７．４Ｈｚ）．化合物番号３８６テトラヒドロフラン−２−イルメチル４−ブロモ−１
−（２，５−ジフルオロフェニル）−５−（４−フルオ
ロフェニル）ピラゾール−３−カルボキシレート 7.22-7.29(m,3H),6.97-7.11(m,4H),4.31-4.41(m,3H),3.
80-3.95(m,2H),1.89-2.03(m,4H). 化合物番号３８７シクロペンチル４−ブロモ−１−（２，５−ジフロオ
ロフェニル）−５−（４−フルオロフェニル）ピラゾー
ル−３−カルボキシレート 7.23-7.30(m,3H),6.98-7.10(m,4H),5.47-5.56(m,1H),1.
57-2.00(m,8H). 化合物番号３８８Ｎ−メトキシ−４−ブロモ−１−（２，５−ジフルオロ
フェニル）−５−（４−フルオロフェニル）ピラゾール
−３−カルボキサミド 9.35(br.s,1H),7.02-7.29(m,7H),3.91(s,3H). 化合物番号３９４４−クロロ−５−（２，５−ジフルオロフェニル）−１
−フェニルピラゾール−３−カルボン酸 7.27-7.39(m,5H),7.00-7.18(m,3H). 化合物番号４０６１−プロピル４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロ
フェニル）−５−（４−フルオロフェニル）ピラゾール
−３−カルボキシレート 7.23-7.30(m,3H),7.00-7.10(m,4H),4.38(t,2H,J=6.8H
z),1.83(hexatet,2H,J=7.1Hz). 化合物番号４０７イソプロピル４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロ
フェニル）−５−（４−フルオロフェニル）ピラゾール
−３−カルボキシレート 7.23-7.32(m,3H),6.98-7.12(m,4H),5.37(heptet,1H,J=
6.3Hz),1.43(d,6H,J=6.3Hz). 化合物番号４１０シクロペンチル４−クロロ−１−（２，５−ジフルオ
ロフェニル）−５−（４−フルオロフェニル）ピラゾー
ル−３−カルボキシレート 7.23-7.32(m,3H),6.98-7.12(m,4H),5.51(m,1H),1.62-2.
04(m,8H). 化合物番号４１１ビス（エトキシカルボニル）メチル４−クロロ−１−
（２，５−ジフルオロフェニル）−５−（４−フルオロ
フェニル）ピラゾール−３−カルボキシレート 7.20-7.38(m,3H),6.92-7.18(m,4H),5.79(s,1H),4.32(q,
4H,J=7.1Hz),1.32(t,10H,J=7.1Hz). 化合物番号４１２１−エトキシカルボニル−１−プロピル４−クロロ−
１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５−（４−フル
オロフェニル）ピラゾール−３−カルボキシレート 7.20-7.35(m,3H),6.92-7.17(m,4H),5.26(t,1H,J=6.2H
z),4.25(q,2H,J=7.1Hz),2.10(m,2H),1.30(t,3H,J=7.1H
z),1.11(t,3H,J=7.4Hz). 化合物番号４１４１−エトキシカルボニル−１−メチル−１−エチル４
−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５−
（４−フルオロフェニル）ピラゾール−３−カルボキシ
レート 7.22-7.29(m,3H),6.93-7.18(m,4H),4.25(q,2H,J=7.1H
z),1.74(s,6H),1.29(t,3H,J=6.6Hz). 化合物番号４１５テトラヒドロピラン−２−イルメチル４−クロロ−１
−（２，５−ジフルオロフェニル）−５−（４−フルオ
ロフェニル）ピラゾール−３−カルボキシレート 7.21-7.34(m,3H),6.94-7.20(m,4H),4.29-4.46(m,2H),3.
96-4.06(m,1H),3.68-3.82(m,1H),3.40-3.53(m,1H),1.32
-1.97(m,5H). 化合物番号４１６２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−２−イルメ
チル４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニ
ル）−５−（４−フルオロフェニル）ピラゾール−３−
カルボキシレート 7.22-7.30(m,3H),6.97-7.20(m,4H),4.40-4.51(m,3H),4.
09-4.20(m,1H),3.87-3.94(m,1H),1.45(s,3H),1.37(s,3
H). 化合物番号４１７２，２−ジエトキシエチル４−クロロ−１−（２，５
−ジフルオロフェニル）−５−（４−フルオロフェニ
ル）ピラゾール−３−カルボキシレート 7.21-7.32(m,3H),6.95-7.18(m,4H),4.29(t,1H,J=5.4H
z),4.44(d,2H,J=5.5Hz),3.59-3.83(m,4H),1.23(t,6H,J=
3.5Hz). 化合物番号４１８２−メトキシエトキシメチル４−クロロ−１−（２，
５−ジフルオロフェニル）−５−（４−フルオロフェニ
ル）ピラゾール−３−カルボキシレート 7.22-7.29(m,3H),6.94-7.09(m,4H),5.63(s,2H),3.89-3.
94(m,2H),3.55-3.60(m,1H),3.36(s,3H). 化合物番号４１９メチルチオメチル４−クロロ−１−（２，５−ジフル
オロフェニル）−５−（４−フルオロフェニル）ピラゾ
ール−３−カルボキシレート 7.24-7.31(m,3H),6.50-7.21(m,4H),5.48(s,2H),2.36(s,
3H). 化合物番号４２５２−（メチルチオ）エチル４−クロロ−１−（２，５
−ジフルオロフェニル）−５−（４−フルオロフェニ
ル）ピラゾール−３−カルボキシレート 7.20-7.31(m,2H),6.94-7.18(m,4H),4.56(t,2H,J=7.2H
z),2.88(t,2H,J=7.2Hz),2.18(s,3H). 化合物番号４２６２−エチルチオエチル４−クロロ−１−（２，５−ジ
フルオロフェニル）− ５−（４−フルオロフェニル）ピ
ラゾール−３−カルボキシレート 7.20-7.32(m,3H),6.96-7.18(m,4H),4.53(t,2H,J=7.4H
z),2.91(t,2H,J=7.4Hz),2.63(q,2H,J=7.4Hz),1.27(t,3
H,J=7.4Hz). 化合物番号４３２４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−フェニルピラゾール−３−カルバルデヒドベンジル
イミン 8.33(s,1H),7.23-7.50(m,11H),6.97-7.10(m,2H),5.32
(s,2H). 化合物番号４３４４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−フェニルピラゾール−３−カルバルデヒドＯ−メチ
ルオキシム 8.24(s,1H),7.26-7.39(m,6H),6.97-7.07(m,2H),4.05(s,
3H). 化合物番号４５０４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−フェニルピラゾール−３−カルボヒドロキサム酸メチ
ルエステル 9.33(br.s,1H),7.02-7.40(m,8H),3.92(s,3H). 化合物番号４５１４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−フェニルピラゾール−３−カルボヒドロキサム酸ベン
ジルエステル 9.23(br.s,1H),7.00-7.52(m,13H),5.09(s,2H). 化合物番号４５３４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−（４−フルオロフェニル）ピラゾール−３−カルボヒ
ドロキサム酸メチルエステル 9.34(br.s,1H),7.02-7.29(m,7H),3.91(s,3H). 化合物番号４５５４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−（４−フルオロフェニル）ピラゾール−３−カルボヒ
ドロキサム酸ベンジルエステル 9.23(br.s,1H),7.01-7.25(m,12H),5.08(s,2H). 本発明の一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、以下に示
す工程により製造される。

【００５４】

【化６】

【００５５】式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、
Ｘ、Ｑ¹ およびＱ² は、それぞれ前記と同意義を示す。

【００５６】本製造法の出発原料である化合物（ＩＩ）
は、特開昭６３−１１５８６７号公報記載の方法に準
じ、製造される。

【００５７】以下、これらの一般的な製造方法につい
て、更に詳しく説明する。

【００５８】（工程Ａ）本工程は、化合物（ＩＩ）と適
当なハロゲン化剤とを、溶媒の存在下又は非存在下、反
応させることにより、一般式（Ｉｃ）で示される４−ハ
ロピラゾールを製造する工程である。

【００５９】使用されるハロゲン化剤としては、例えば
塩化チオニル、塩化スルフリル、Ｎ−クロロこはく酸イ
ミド、Ｎ−ブロモこはく酸イミド、臭素、臭化チオニル
などであり、好適には塩化スルフリル及び臭素である。

【００６０】ハロゲン化剤の使用量は、化合物（ＩＩ）
に対して通常１〜２０倍当量、好適には２〜１０倍当量
である。

【００６１】使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発
物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレ
ンのようなハロゲン化炭化水素類である。

【００６２】反応温度は通常、０乃至１００℃で行なわ
れるが、好適には室温付近である。反応時間は、主に反
応温度、原料化合物、反応試薬、塩素ガスを吹き込む速
度又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常１
分乃至３時間であり、好適には３分乃至３０分である。

【００６３】（工程Ｂ）本工程は、化合物（Ｉｃ）を加
水分解反応に付し、化合物（Ｉｄ）を製造する工程であ
る。

【００６４】加水分解反応は、塩基の存在下に溶媒中で
行なわれる。使用される塩基としては、好適には、酢酸
ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムをあげることができる。

【００６５】溶媒は反応に関与しないものであれば、特
に限定はなく、例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、２−
メトキシエチルエーテルのようなエーテル類、及び水並
びにこれら溶媒の混合物が使用される。

【００６６】反応温度及び反応時間は特に限定はなく、
通常−１０℃乃至１００℃、好適には０℃乃至５０℃
で、３０分乃至１５時間、好適には３０分間乃至８時間
である。

【００６７】使用される塩基の量は、化合物（Ｉｃ）に
対して通常１〜２０倍当量、好適には２〜５倍当量であ
る。

【００６８】（工程Ｃ）本工程は、アルコールＲ¹ ＯＨ
と、カルボン酸（Ｉｄ）もしくはその反応性誘導体とを
反応させることにより、エステル（Ｉａ）を製造する工
程である。

【００６９】式（Ｉｄ）のカルボン酸の反応性誘導体と
しては、例えば酸ハライド（酸クロリド、酸ブロミド
等）、酸無水物、混合酸無水物、活性エステル、活性ア
ミドなど、エステル化に通常用いられるものがあげられ
る。

【００７０】式（Ｉｄ）のカルボン酸を用いる場合は、
例えばジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、よ
う化２−クロロ−１−メチルピリジニウム、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、硫酸等の脱水剤が使用され、好適には、
よう化２−クロロ−１−メチルピリジニウムである。そ
の使用量は、カルボン酸（Ｉｄ）に対して、通常１〜５
当量、好適には１〜２当量である。

【００７１】使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発
物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、ト
ルエンのような炭化水素類、クロロホルム、塩化メチレ
ン、１，２−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水
素類、エチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエ
ーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのようなアミ
ド類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類及
びアセトニトリルのようなニトリル類並びにこれらの溶
媒の混合物等であり、更に好適には、ジクロロメタン、
１，２−ジクロロエタンである。

【００７２】反応温度は、通常、−７０〜９０℃である
が、好適には０〜６０℃である。反応時間は、主に反応
温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類
によって異なるが、通常、１５分〜一昼夜であり、好適
には３０分乃至６時間である。

【００７３】式（Ｉｄ）のカルボン酸の酸ハライドを用
いる場合は、反応は好適には塩基の存在下で行われ、好
適な塩基としては、たとえば、トリエチルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、４−ジメチルアミノ
ピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネ
ン−５（ＤＢＮ）または１，８−ジアザビシクロ［５．
４．０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）のような有機塩基が
あげられる。

【００７４】式（Ｉｄ）のカルボン酸の酸ハライドは、
通常１〜１０当量、そして塩基は、通常２〜８当量使用
される。

【００７５】反応に使用される溶媒、反応温度、反応時
間等は、カルボン酸自体を使用するときと、それぞれ同
様である。

【００７６】（工程Ｄ）本工程は、アミンＨＮＲ² Ｒ³
とカルボン酸（Ｉｄ）もしくはその反応性誘導体とを反
応させることにより、アミド（Ｉｂ）を製造する工程で
ある。

【００７７】本工程に使用されるカルボン酸（Ｉｄ）の
反応性誘導体、反応助剤、溶媒、反応温度、反応時間等
は、それぞれ工程Ｃにおけるものと同様である。

【００７８】（工程Ｅ）本工程は、前記化合物（Ｉｃ）
を原料として、溶媒の存在下、アルキルクロロアルミニ
ウムクロリドと反応することにより、化合物（Ｉｅ），
（Ｉｆ）及び（Ｉｇ）を製造する工程である。

【００７９】本工程に使用されるアルキルクロロアルミ
ニウムクロリドは、反応系内で、トリアルキルアルミニ
ウムと塩化アンモニウムを反応させることにより容易に
得られる。

【００８０】使用されるトリアルキルアルミニウムは、
例えばトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウ
ム、トリイソブチルアルミニウムなどをあげることがで
き、好適にはトリメチルアルミニウムである。

【００８１】使用されるアルキルクロロアルミニウムク
ロリドの量は、化合物（Ｉｃ）に対して１〜２０当量、
好適には３〜５当量である。

【００８２】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、例えばヘキサン、石油エーテル、
ベンゼン、トルエンのような炭化水素類、クロロホル
ム、塩化メチレンのようなハロゲン化炭化水素類、エチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコール、ジメチルエーテルのようなエー
テル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのようなアミド
類、ジメチルスルホキシド及びアセトニトリル並びにこ
れらの溶媒の混合物であり、更に好適にはベンゼン、ト
ルエンのような芳香族炭化水素類である。

【００８３】反応温度は、通常０〜１５０℃で行われる
が、好適には５０〜１００℃である。反応時間は、主に
反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常１５分〜一昼夜であり、好
適には１乃至６時間である。本工程においては、通常、
化合物（Ｉｅ），（Ｉｆ）及び（Ｉｇ）は同時に生成さ
れうる。その比率は、反応条件、特に原料である化合物
（Ｉｃ）の反応性及びアルキルクロロアルミニウムクロ
リドの量と種類により大幅に変わりうる。

【００８４】（工程Ｆ）本工程は、塩基化合物（Ｉｃ）
を、不活性溶剤中、還元剤で処理することにより、化合
物（Ｉｈ）を製造する工程である。

【００８５】使用される還元剤としては、例えばリチウ
ムアルミニウムヒドリド、リチウムジイソプロピルアル
ミニウムヒドリド、リチウムトリエチルボロヒドリド、
水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、ジボ
ランなどであり、好適にはリチウムジイソプロピルアル
ミニウムヒドリドである。

【００８６】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類；またはメタノール、エタノール、プロパノールのよ
うな低級アルコール類または上記溶媒の混合溶媒を挙げ
得、好適には、エーテル、テトラヒドロフランのような
エーテル類又は、エーテル類とアルコール類の混合溶媒
（特に、テトラヒドロフランとエタノールの混合溶媒）
である。

【００８７】反応温度は通常−１０℃乃至１００℃で行
なわれるが、好適には、０℃乃至５０℃である。

【００８８】反応時間は、主に反応温度、原料化合物又
は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常１０分
間乃至２０時間であるが、好適には、１時間乃至１０時
間である。

【００８９】（工程Ｇ）本工程は、アルコール体（Ｉ
ｈ）を酸化剤と反応させて、アルデヒド（Ｉｉ）を製造
する工程である。使用される酸化剤は、通常アルコール
をアルデヒドに酸化するものであれば特に限定はない
が、例えば、二酸化マンガン、オキサリルクロリド−ジ
メチルスルホキシド、無水酢酸−ジメチルスルホキシ
ド、ピリジニウムクロロクロメート、ピリジニウムジク
ロメート等が好適である。

【００９０】酸化剤の使用量は、化合物（Ｉｈ）に対し
て、通常２〜３０当量であるが使用する酸化剤の種類に
より、大巾に変わりうる。

【００９１】本工程は、通常溶媒の存在下に行なわれ、
使用される溶媒は、反応を阻害するものでなければ特に
限定はないが、例えば、ヘキサン、石油エーテル、ベン
ゼン、トルエンのような炭化水素類、クロロホルム、塩
化メチレン、１，２−ジクロロエタンのようなハロゲン
化炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、
１，４−ジオキサンのようなエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミドのようなアミド類、及びアセトニトリ
ルのようなニトリル類並びにこれらの溶媒の混合物等で
ある。好適には、クロロホルム、塩化メチレンのような
ハロゲン化炭化水素類である。

【００９２】反応温度は、通常−２０〜１００℃である
が、好適には０℃〜室温付近である。反応時間は、使用
される酸化剤の種類によって異なるが、通常、１５分〜
一昼夜であり、好適には、１〜６時間である。

【００９３】（工程Ｈ）本工程は、アルデヒド（Ｉｉ）
を、ヒドロキシルアミン又はその誘導体と反応させるこ
とによって、アルデヒドをオキシム化し、化合物（Ｉ
ｊ）を製造する工程である。

【００９４】反応は、通常、不活性溶媒中で行なわれ、
そのような溶媒としては、例えば、メタノール、エタノ
ールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類、酢酸のような脂肪酸
類又は水、並びにこれらの溶媒の混合物等であるが、好
適には、メタノール、エタノールのようなアルコール類
と水との混合物である。

【００９５】反応温度は、好適には３０〜９０℃であ
り、反応時間は通常、１時間〜一昼夜であるが、好適に
は、２〜６時間である。

【００９６】ヒドロキシルアミン又はその誘導体の使用
量は、化合物（Ｉｉ）に対して通常１〜２０倍当量、好
適には２〜１０倍当量である。

【００９７】上記各反応終了後、各反応の目的化合物は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反
応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には
濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和し
ない有機溶媒を加え、水洗後、、目的化合物を含む有機
層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマト
グラフィ−等によって更に精製できる。

【００９８】本発明の化合物（Ｉ）は、畑作の茎葉処理
及び土壌処理において問題となる種々の雑草、例えば、
ソバカズラ、スベリヒユ、ハコベ、シロザ、アオゲイト
ウ、アメリカツノクサネム、エビスグサ、ノハラガラ
シ、ナズナ、イチビ、アメリカキンゴジカ、フィールド
パンジー、ヤエムグラ、セイヨウヒルガオ、ヒメオドリ
コソウ、ホトケノザ、シロバナチョウセンアサガオ、イ
ヌホオズキ、オオイヌノフグリ、イヌカミツレ、コーン
マリーゴールドのような広葉雑草；ヒエ、イヌビエ、エ
ノコログサ、メヒシバ、オヒシバ、スズメノカタビラ、
ブラックグラス、スズメノテッポウ、カラスムギ、セイ
バンモロコシ、シバムギ、ウマノチャヒキ、ギョウギシ
バのようなイネ科雑草及びツユクサのようなツユクサ科
雑草；コゴメガヤツリ、ハマスゲのようなカヤツリグサ
科雑草等の種々の雑草に対して、除草活性を示し、か
つ、トウモロコシ、コムギ、ダイズのような主要作物に
対して問題となるような薬害を示さない。

【００９９】又、本発明の化合物（Ｉ）は、水田におい
て問題となる種々の雑草、例えば、タイヌビエのような
イネ科雑草；コナギ、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ
のような広葉雑草；タマガヤツリ、ホタルイ、マツバ
イ、ミズガヤツリのようなカヤツリグサ科雑草等に対し
て除草活性を示し、かつ、イネに対しては問題となる薬
害を示さない。

【０１００】更に、畑地、水田のみならず、果樹園、桑
園、非農耕地においても使用することができる。

【０１０１】尚、本発明化合物は、植物を枯死させるこ
となく、その生長を抑制する作用も有するので、例えば
水稲の短捍化による倒伏防止、芝生の生育抑制による刈
込回数の低減等の種々の有用性が期待される。

【０１０２】本発明の化合物（Ｉ）から除草剤及び植物
生長調節剤を調製するには、固体担体、液体担体のよう
な担体で希釈し、必要に応じて、界面活性剤のようなそ
の他の製剤用補助剤を加えることにより、粉剤、粗粉
剤、粒剤、微粒剤、乳剤、懸濁剤、水和剤、フロアブル
剤、水溶剤、液剤等に調製することができる。もちろ
ん、精製の任意の段階で精製を中止し、粗製物を有効成
分とすることもできる。

【０１０３】担体とは、有効成分の植物への到達性を助
け、又は有効成分の貯蔵、輸送或いは取扱を容易にする
ために除草剤及び植物生長調節剤に混合される合成又は
天然の無機又は有機物質を意味する。

【０１０４】又、除草剤および植物生長調節剤として使
用する場合においても、他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ
剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改
良剤等と混合し、適用範囲を拡大し、省力化を図ること
もできる。

【０１０５】処理方法としては、通常製剤化して、雑草
の出芽前又は出芽後約１か月以内に土壌処理、茎葉処理
又は湛水処理する。土壌処理には、土壌表面処理、土壌
混和処理等があり、茎葉処理には、植物体の上方からの
処理のほか、作物に付着しないよう雑草に限って処理す
る局部処理等があり、湛水処理には、粒剤の散布や水面
への灌注処理等がある。

【０１０６】本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧
草地、芝生地、森林又は非農耕地の除草剤として使用で
きる。

【０１０７】以下、本発明について製剤例と実施例を示
し更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限られるも
のではない。

【０１０８】

【実施例】

【０１０９】

【製剤例１】（水和剤）３９８番の化合物１０％、エマルゲン８１０
（登録商標）（花王株式会社製界面活性剤）０．５％、
デモールＮ（登録商標）（花王株式会社製界面活性剤）
０．５％、クニライト２０１（クニミネ工業株式会社製
珪藻土）２０％、ジークライトＣＡ（ジークライト鉱業
株式会社製クレー）６９％を均一に混合し粉砕して水和
剤とした。

【０１１０】

【製剤例２】（乳剤）１９２番の化合物３０％、乳化剤ソルポールＳ
Ｍ１００（登録商標）（東邦化学株式会社製界面活性
剤）１０％及びキシレン６０％をよく混合して乳剤とし
た。

【０１１１】

【製剤例３】（粒剤）３９５番の化合物５％、ラウリルアルコール硫
酸エステルのナトリウム塩２％、リグニンスルホン酸ナ
トリウム５％、カルボキシメチルセルロースのナトリウ
ム塩２％及びクレー８６％を均一に混合し粉砕した。こ
の混合物１００重量部に水２０重量部を加えて練合し、
押出式造粒機を用いて、１４〜３２メッシュの粒状に加
工した後、乾燥して粒剤とした。

【０１１２】次に実施例をあげて、本発明をさらに具体
的に説明する。

【０１１３】

【実施例１】［工程Ａ］メチル４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニ
ル）−５−フェニルピラゾール−３−カルボキシレート
（化合物番号１７）メチル１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５−フ
ェニルピラゾール−３−カルボキシレート１．０ｇ
（３．１８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、塩化スル
フリル０．５４４ｍｌ（６．７８ｍｍｏｌ）を加え、室
温で３時間撹拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を、乾燥（ＭｇＳＯ
₄ ）、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、１．０８ｇ（９７．４％）の表記化合物
を得た。

【０１１４】核磁気共鳴スペクトル（200MHz）δ (CDCl
₃)ppm ：7.33-7.42(m,3H),7.20-7.33(m,3H),6.93-7.17
(m,2H),4.00(s,3H). 質量スペクトル(m/z) ：348(M⁺),317,290,270,255,216,
208,187,177,150.

【０１１５】

【実施例２】［工程Ｂ］４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−フェニルピラゾール−３−カルボン酸（化合物番号３
９３）メチル４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニ
ル）−５−フェニルピラゾール−３−カルボキシレート
２．４６ｇ（７．０５ｍｍｏｌ）と水酸化ナトリウム
２．８２ｇの水−メタノール（１：１）混合溶液（５０
ｍｌ）を室温で５時間撹拌した。反応終了後、反応液の
ｐＨを１Ｎ塩酸で、７に調整し、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を、乾燥（ＭｇＳＯ₄ ）、濃縮し、表記化合
物を２．３５ｇ（９９．６％）得た。

【０１１６】核磁気共鳴スペクトル（200MHz）δ (CDCl
₃)ppm ：7.02-7.42(m,8H). 質量スペクトル(m/z) ：334(M⁺),317,225,216,150,113,
77.

【０１１７】

【実施例３】［工程Ｃ］エチル４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニ
ル）−５−フェニルピラゾール−３−カルボキシレート
（化合物番号３９８）４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−フェニルピラゾール−３−カルボン酸５０ｍｇ（０．
１５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、エタノール
（８．６μｌ）、トリエチルアミン（５１．９μｌ）及
びよう化２−クロロ−１−メチルピリジニウム（４６ｍ
ｇ）を順次加え、その後室温で２時間撹拌した。反応終
了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を、乾燥（ＭｇＳＯ₄ ）、濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、表記化合物を１１
３ｍｇ（７２％）得た。

【０１１８】核磁気共鳴スペクトル（200MHz）δ (CDCl
₃)ppm ：7.23-7.38(m,6H),6.97-7.10(m,2H),4.48(q,2H,
J=7.1Hz),1.43(t,3H,J=7.1Hz). 質量スペクトル(m/z) ：362(M⁺),317,290,255,216,150,
77.

【０１１９】

【実施例４】［工程Ｄ］Ｎ−（２，６−ジエチルフェニル）−４−クロロ−１−
（２，５−ジフルオロフェニル）−５−フェニルピラゾ
ール−３−カルボキサミド（化合物番号４４０）４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−フェニルピラゾール−３−カルボン酸１５０ｍｇ
（０．４５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液に、２，６−
ジエチルアニリン（２４．５μｌ）、トリエチルアミン
（５２μｌ）及びよう化２−クロロ−１−メチルピリジ
ニウム（４８ｍｇ）を順次加え、その後室温で５時間撹
拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで
抽出した。抽出液を、乾燥（ＭｇＳＯ₄ ）、濃縮し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、１
０９ｍｇ（５３％）の表記化合物を得た。

【０１２０】核磁気共鳴スペクトル（200MHz）δ (CDCl
₃)ppm ：8.18(br.s,1H),7.04-7.42(m,11H),2.72(q,4H,J
=7.6Hz),1.24(t,6H,J=7.6Hz). 質量スペクトル(m/z) ：465(M⁺),447,402,317,216,148,
77.

【０１２１】

【実施例５】［工程Ｅ］４−クロロ−３−シアノ−１−（２，４−ジフルオロフ
ェニル）−５−フェニルピラゾール（化合物番号２８
０），４−クロロ−１−（２，４−ジフルオロフェニ
ル）−３−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−５
−フェニルピラゾール（化合物番号３４４），４−クロ
ロ−１−（２，４−ジフルオロフェニル）−５−フェニ
ルピラゾール−３−カルボキサミド（化合物番号２１
６）塩化アンモニウム１．２８ｇ（２４．０ｍｍｏｌ）のベ
ンゼン溶液に、０℃で１５％トリメチルアルミニウム１
５．３ｍｌ（２１．８ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分
撹拌した。ついで、メチル４−クロロ−１−（２，４
−ジフルオロフェニル）−５−フェニルピラゾール−３
−カルボキシレート０．７６ｇ（２．２ｍｍｏｌ）のベ
ンゼン溶液を加え、５０℃で３時間撹拌した。反応液
に、５％塩酸をゆっくりと加え、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を、乾燥（ＭｇＳＯ₄ ）、濃縮して、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、４−
クロロ−３−シアノ−１−（２，４−ジフルオロフェニ
ル）−５−フェニルピラゾールを０．３０ｇ（４１
％）、４−クロロ−１−（２，４−ジフルオロフェニ
ル）−３−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−５
−フェニルピラゾールを０．０９８ｇ（１３％）、４−
クロロ−１−（２，４−ジフルオロフェニル）−５−フ
ェニルピラゾール−３−カルボキサミドを０．２６ｇ
（３５％）それぞれ得た。４−クロロ−３−シアノ−１−（２，４−ジフルオロフ
ェニル）−５−フェニルピラゾール：核磁気共鳴スペクトル（200MHz）δ (CDCl₃)ppm ：7.33
-7.51(m,4H),7.22-7.29(m,2H),6.94-7.04(m,1H),6.78-
6.89(m,1H). 質量スペクトル(m/z) ：315(M⁺),295,280,253,216,113,
77.４−クロロ−１−（２，４−ジフルオロフェニル）−３
−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−５−フェニ
ルピラゾール：核磁気共鳴スペクトル（200MHz）δ (CDCl₃)ppm ：7.23
-7.48(m,8H),6.73-6.97(m,2H),3.18(br.s,1H),2.04(s,6
H). 質量スペクトル(m/z) ：348(M⁺),333,315,291,255,216,
77.４−クロロ−１−（２，４−ジフルオロフェニル）−５
−フェニルピラゾール−３−カルボキサミド：核磁気共鳴スペクトル（200MHz）δ (CDCl₃)ppm ：7.23
-7.48(m,6H),6.79-7.01(m,3H),5.78(br.s,1H). 質量スペクトル(m/z) ：３３３（Ｍ^＋）．

【０１２２】

【実施例６】［工程Ｆ］４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−（４−フルオロフェニル）−３−ヒドロキシルメチル
ピラゾール（化合物番号３９７）メチル４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニ
ル）−５−（４−フルオロフェニル）ピラゾール−３−
カルボキシレート２．３１ｇ（６．３ｍｍｏｌ）のテト
ラヒドロフラン溶液に、０℃でリチウムジイソプロピル
アルミニウムヒドリド１２．９ｍｌ（１Ｍトルエン溶
液）を加え、２時間撹拌した。反応終了後、反応液を水
にあけ、酢酸エチルで抽出した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製して、１．９１ｇ（９５
％）の表記化合物を得た。

【０１２３】核磁気共鳴スペクトル（２００ＭＨｚ）δ
(CDCl₃)ppm ：7.22-7.30(m,3H),7.02-7.10(m,4H),4.83
(br.s,2H)2.16(br.s,1H). 質量スペクトル(m/z) ：338(M⁺),309,234,113,95.

【０１２４】

【実施例７】［工程Ｇ］４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−フェニルピラゾール−３−カルバルデヒド（化合物番
号４２８）４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−３
−ヒドロキシルメチル−５−フェニルピラゾール１．７
７ｇ（５．５１ｍｍｏｌ）を、ピリジニウムクロロクロ
メート（２．１３ｇ）と酢酸ナトリウム（０．２３ｇ）
の塩化メチレン溶液に加え、室温で２時間撹拌した。反
応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を、乾燥（ＭｇＳＯ₄ ）、濃縮後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、１．３５ｇ
（７７．１％）の表記化合物を得た。

【０１２５】核磁気共鳴スペクトル（200MHz）δ (CDCl
₃)ppm ：10.10(s,1H),7.02-7.40(m,8H). 質量スペクトル(m/z) ：318(M⁺),255,216,150,133,77.

【０１２６】

【実施例８】［工程Ｈ］４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−フェニルピラゾール−３−カルバルデヒドオキシム
（化合物番号４３０）４−クロロ−１−（２，５−ジフルオロフェニル）−５
−フェニルピラゾール−３−カルバルデヒド１０２ｍｇ
（０．３２ｍｍｏｌ）の水−メタノール（１：１）混合
溶液（２０ｍｌ）に、ヒドロキシルアミン塩酸塩５０ｍ
ｇ（１．４４ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン１００μｌ
（１．４４ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で一晩撹拌し
た。反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出
した。抽出液を、乾燥（ＭｇＳＯ₄ ）、濃縮後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、表記
化合物を４０ｍｇ（３８％）得た。

【０１２７】核磁気共鳴スペクトル（200MHz）δ (CDCl
₃)ppm ：8.14(br.s,1H),6.90-7.27(m,8H). 質量スペクトル(m/z) ：333(M⁺),315,255,216,113,77.

【０１２８】

【発明の効果】次に、試験例を挙げて、具体的にその効
果を示す。

【０１２９】

【試験例１】水田除草湛水土壌処理１００ｃｍ² のポリプロピレン製ポット３ポット（Ａ、
Ｂ、Ｃとする）に水田土壌を充填し、Ａポットに休眠覚
醒したタイヌビエ、ホタルイ及びコナギ、アゼナ、キカ
シグサの広葉雑草の種子を表層１ｃｍに混和し、Ｂポッ
トに催芽したミズガヤツリ、クログワイ、ウリカワの塊
茎及びマツバイの生育株を植え、Ｃポットに２葉期の水
稲の苗を移植した。各ポットを湛水状態とし、温室で生
育させ、３日後に製剤例１で調製した水和剤を用いて１
アールあたり１０ｇ相当の薬量を湛水土壌処理し、２１
日後に次に示す判定基準に従って調査を行なった。その
結果を表２に示す。

【０１３０】判定基準０−−−生育抑制率０− １０％１−−−生育抑制率１１− ３０％２−−−生育抑制率３１− ５０％３−−−生育抑制率５１− ７０％４−−−生育抑制率７１− ９０％５−−−生育抑制率９１−１００％表２及び表３において、ＥＯはタイヌビエを、ＢＬは広
葉雑草を、ＳＪはホタルイを、ＥＡはマツバイを、ＣＳ
はミズガヤツリを、ＥＫはクログワイを、ＳＰはウリカ
ワを、ＯＳは水稲を、ＥＣはイヌビエを、ＳＨはセイバ
ンモロコシを、ＤＳはメヒシバを、ＡＲはヒユを、ＩＰ
はアサガオを、ＳＡは野生カラシナを、ＺＭはトウモロ
コシを、ＧＭはダイズをそれぞれ示す。

【０１３１】

【表２】 ──────────────────────────────────── 化合物番号ＥＯＢＬＳＪＥＡＳＰＣＳＥＫＯＳ ──────────────────────────────────── １５５５３３３３０１２４４４３３３４０１３５３３３３３３０１６４３３３３３４０１７５３４４３３４０３０４３３２３２４０３２４４４２２１１０４９４３３４３３４０６０５３３３３３４０７５５３３１３１３０１９２５５５５５５５１１９３５４４４４１５１１９９５３３３３３３０２１７５３３０００００２５５４３３３３１４０２９４３１１１３１１０３４５４４４３３３３０３５５４４４３１４４０３７５５３３３３３３１３７８５４４３３３３１３８０５５４３３４５０３８３５３３３３３３０３８４５３３３３３３０３８５５５３１１３４０３８６５５５１１４５０３８７５４３１１３４０３８８５３３３３３３０３９３４４４３３４４１３９５５５５１１４５０３９８５４５４３４５０３９９５４４３３３５０４００４３３３３１３０４０１５３３３３３３０４０２５５５５１３５０４０３５５５５３３３１４０４５５５４１３４０４０５５５５４３３５０４０６５５５５３１３０４０８５５４４１３４０４０９５５４４３３５０４１０５５４４１３５０４１２５５３３３３３１４１３５３３３３３３０４１４５５４４１３４０４１５５５５４１３５０４１６５５４３３３４１４１８４３３３３５５０４１９５５５４１４４０４２０４５４４３５５１４２１４５４４３５５０４２２５４５５３５５０４２３５５５４４３５０４２４５５４３４１４１４２５５５４４４３５０４２６５４４４４３４０４２７５５５４１４５０４２８４４４４３３４０４３８５５５１１４４０４４８５５５５２３５０４５０５４４３３３５１４５１５５５３３３５０４５３５４４３３３５０ ────────────────────────────────────

【０１３２】

【試験例２】畑雑草発生前土壌処理面積１５０ｃｍ² のプラスチック製ポットに畑土壌をつ
め、イヌビエ、セイバンモロコシ、メヒシバ、ヒユ、ア
サガオ、野生カラシナの雑草種子及びトウモロコシ、ダ
イズの種子を播種した後、１ｃｍの厚さに覆土し、温室
内に静置した。覆土後直ちに製剤例１で調製した水和剤
を用いて、１アールあたり２０ｇ相当の薬量を土壌表面
に処理した。処理後２１日目に試験例１に示す判定基準
に従って調査を行なった。その結果を表３に示す。

【０１３３】

【表３】 ──────────────────────────────────── 化合物番号ＥＣＳＨＤＳＩＰＳＡＡＲＺＭＧＭ ──────────────────────────────────── １７１１１１４４００４６１１１１４３００６３１１１１４３００７５３１１１４３００１９２５５５３４５００１９３３３３１４３００２１７１１１３４３００２５５１１３１４３００２９４３３４１１１００３４５１１１３４３００３７５５５５３５５００３７８５５５３５５００３８０５５５３３５００３８１１１１１５３００３８３１３４１３３００３８４１３４１３３００３８８５５５３５３００３９３５５５３５５００３９７３３４３３３００３９８３３４１５５００３９９５５５３５５００４００３３４１３３００４０１１３４１３３００４０３３３４３５３００４０５５５５３５５００４０６５５５３５５００４０７３３４１３３００４０９５５５３５５００４１２１３４１３５００４１３１３４１３５００４１６５５５３５５００４１８５５５３５５００４２０５５４３５５００４２１５５４３５３００４２２３３４３３３００４２３５５５４５５００４２４３３４３５５００４２５５５５４５５００４２６５５５４５３００４２８５３４４５５００４３２１１１３３４００４３８５５５３３３００４４０１３４１３１００４４４１３４１３１００４５０５３５３５３００４５１３３５１３１００４５３３３５１３３００ ────────────────────────────────────

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者遠藤猛滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会社内 (72)発明者門谷淳二滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会社内 (72)発明者堀部善水知滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（Ｉ）【化１】［式中、Ｒは、エステル化またはアミド化されていても
よいカルボキシル基、シアノ基、ホルミル基、式Ｃ（Ｒ
⁴ ）₂ ＯＨで表される基（Ｒ⁴ は水素原子またはＣ１〜
Ｃ３低級アルキル基を示す）、式ＣＨ＝ＮＲ⁵ で表され
る基（Ｒ⁵ は水酸基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基、ア
ラルキルオキシ基、カルボキシＣ１〜Ｃ２低級アルコキ
シ基を示す）を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｑ¹ は
フェニル基またはピリジニル基（当該フェニル基または
ピリジニル基は、下記置換基群Ａから選ばれる同一また
は異なった１ないし３個の置換基により置換されていて
もよい）を示し、Ｑ² はフェニル基、ピリジニル基また
はピラジニル基（当該フェニル基、ピリジニル基または
ピラジニル基は、下記置換基群Ｂから選ばれる同一また
は異なった１ないし３個の置換基により置換されていて
もよい）を示す。（置換基群Ａ）ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、Ｃ
１〜Ｃ３低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルキル
基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロ
アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキルチオ基、Ｃ１〜
Ｃ３低級ハロアルコキシＣ１〜Ｃ２低級アルキル基。（置換基群Ｂ）ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ３低
級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルキル基、Ｃ１〜
Ｃ３低級アルコキシ基。］で表わされる４−ハロピラゾ
ール−３−カルボン酸誘導体。
【請求項２】下記一般式（Ｉ）【化２】［式中、Ｒは、式ＣＯＯＲ¹ で表される基（Ｒ¹ は、水
素原子またはＣ１〜Ｃ７低級アルキル基（当該低級アル
キル基は、下記置換基群Ｃから選ばれる同一または異な
った１ないし２個の置換基により置換されていてもよ
い）を示す）、式ＣＯＮＲ² Ｒ³ で表される基（Ｒ² お
よびＲ³ は、同一または異なって、水素原子、Ｃ１〜Ｃ
３低級アルキル基、アリール基（当該アリール基は、下
記置換基群Ｂから選ばれる同一または異なった１ないし
２個の置換基により置換されていてもよい）、Ｃ１〜Ｃ
３低級アルコキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ
基を示す）、シアノ基、ホルミル基、式Ｃ（Ｒ⁴ ）₂ Ｏ
Ｈで表される基（Ｒ⁴ は水素原子またはＣ１〜Ｃ３低級
アルキル基を示す）、式ＣＨ＝ＮＲ⁵ で表される基（Ｒ
⁵ は水酸基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基、アラルキル
オキシ基、カルボキシＣ１〜Ｃ２低級アルコキシ基を示
す）を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｑ¹ はフェニル
基またはピリジニル基（当該フェニル基またはピリジニ
ル基は、下記置換基群Ａから選ばれる同一または異なっ
た１ないし３個の置換基により置換されていてもよい）
を示し、Ｑ² はフェニル基、ピリジニル基またはピラジ
ニル基（当該フェニル基、ピリジニル基またはピラジニ
ル基は、下記置換基群Ｂから選ばれる同一または異なっ
た１ないし３個の置換基により置換されていてもよい）
を示す。（置換基群Ａ）ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、Ｃ
１〜Ｃ３低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルキル
基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロ
アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３低級アルキルチオ基、Ｃ１〜
Ｃ３低級ハロアルコキシＣ１〜Ｃ２低級アルキル基。（置換基群Ｂ）ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ３低
級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３低級ハロアルキル基、Ｃ１〜
Ｃ３低級アルコキシ基。（置換基群Ｃ）Ｃ１〜Ｃ３低級アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ
３低級アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ２低級アルコキシＣ１
〜Ｃ２低級アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４低級アルコキシカ
ルボニル基、アセチレン、酸素原子を含有する５または
６員飽和複素環基。］で表わされる４−ハロピラゾール
−３−カルボン酸誘導体。
【請求項３】請求項１または２に記載の化合物を有効成
分として含有する除草剤。