JPH08108329A - 負圧生成手段 - Google Patents
負圧生成手段Info
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- JPH08108329A JPH08108329A JP26634294A JP26634294A JPH08108329A JP H08108329 A JPH08108329 A JP H08108329A JP 26634294 A JP26634294 A JP 26634294A JP 26634294 A JP26634294 A JP 26634294A JP H08108329 A JPH08108329 A JP H08108329A
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- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
させて小型化及び経費節減が図れるようにした、負圧生
成手段を提供する。 【構成】 高圧エアーを供給するエアー供給源と、この
エアー供給源と連通し負圧を生成する減圧手段と、この
減圧手段と連通し作用域を含む真空系と、この真空系に
連通し減圧によって作動する作動手段と、この作動手段
の作動が伝達されて前記エアー供給源のエアー供給量を
調整するエアー量調整手段と、を少なくとも含む。
Description
クテーブル等に関連して設けられる負圧生成手段に関す
る。
切削装置は、例えば図3に示すようにチャックテーブル
Tを備えており、このチャックテーブルTはウェーハW
(粘着テープNを介してフレームFに貼着されている)
を吸引保持し、チャックテーブルTを移動してアライメ
ント手段Aによるアライメント工程及び回転ブレードを
備えた切削手段Bにて切削工程を遂行するようになって
いる。この場合、チャックテーブルTには吸引機構が設
けられ、且つ吸引機構に関連して負圧生成手段が装着さ
れている。
段は、エアー供給源からベンチュリー管等の減圧手段に
高圧エアーを供給すると共にこれを排気することによ
り、作用域即ちチャックテーブルの吸引機構をほぼ真空
まで減圧するが、その真空状態を保持するために高圧エ
アーの供給を続行しなければならずエアーの供給量が著
しく増大する。このため、エアー供給源は比較的大型で
高能力のものを必要とし、設置スペースを多く取るばか
りか諸経費が増大する等の欠点がある。本発明は、この
ような従来の問題点を解決するためになされ、エアー供
給源からの高圧エアーの供給量を減少させることにより
小型の使用を可能とし、経費の節減も図れるようにし
た、負圧生成手段を提供することを課題とする。
するための手段として、本発明は、高圧エアーを供給す
るエアー供給源と、このエアー供給源と連通し負圧を生
成する減圧手段と、この減圧手段と連通し作用域を含む
真空系と、この真空系に連通し減圧によって作動する作
動手段と、この作動手段の作動が伝達されて前記エアー
供給源のエアー供給量を調整するエアー量調整手段と、
を少なくとも含む負圧生成手段を要旨とするものであ
る。
用域を含む真空系を真空状態にすると、作動手段が作動
しその作動手段から伝達された作動によりエアー量調整
手段が働き、エアー供給源からの高圧エアーの供給を自
動的に調節することが出来る。
詳説する。図1において、1はコンプレッサ等のエアー
供給源であり、ベンチュリー管等の減圧手段2に接続管
3を介して接続され、接続管3の途中の要所にバルブ機
構4aを有するエアー量調整手段4が設けられ、エアー
供給源1から減圧手段3に高圧エアーを供給出来るよう
にしてある。
通する作用域例えばチャックテーブル等の保持手段であ
り、減圧手段2の減圧作用によって真空系7を形成し、
保持手段5の上に載置されたフレーム付きウェーハWを
吸引保持することが出来る。
スプリング8bを介してピストン8cが装着され、スプ
リング8b側の開口端は分岐管9にて前記接続管6に接
続され、ピストン8c側の開口端からはピストンロッド
10が突出している。
作アームであり、その一端側は前記ピストンロッド10
の先端部に枢支され、他端側は前記エアー量調整手段4
のバルブ機構4aに装着され、この操作アーム11を介
してバルブ機構4aを操作出来るようにしてある。
ように構成されその作用について説明すると、前記保持
手段5の上にウェーハWが載置されるとエアー供給源1
から高圧エアーが減圧手段2に供給され、接続管6内が
減圧されて真空系7が形成される。この結果、保持手段
5は負圧となってウェーハWを吸引保持する。
4aは開状態であるが、前記真空系7の作用によって分
岐管9内も負圧となり、作動手段8のピストン8cが吸
引されてスプリング8bを縮めながら図1の右方向に移
動する。すると、ピストンロッド10が右方向に引っ張
られて操作アーム11を時計方向に回動し、この回動に
伴って下の添え図のように前記バルブ機構4aが閉じる
方向に回転する。従って、スプリング8bの復元力と真
空圧とのバランスがとれるようにエアー供給量が制御さ
れ、エアー供給源1からの高圧エアーの節約がなされ
る。
段8のスプリング8bの復元力によってピストン8cが
図1の左方向に押し戻されて元の位置に復帰し、これに
伴ないピストンロッド10を介して操作アーム11が反
時計方向に回動されてエアー量調整手段4のバルブ機構
4aも開状態に復帰される。
基本的構成は図1の実施例と同じ(同一部材は同一符号
を付す)であるが、減圧手段2に関連させて逆流防止弁
13を設けた点が構成上異なっている。即ち、接続管6
の途中に逆流防止弁13が設けられており、前記エアー
量調整手段4のバルブ機構4aが完全に閉じられたとし
ても、逆流防止弁13は実線で示す位置となってエアー
が真空系7に逆流せず、このためウェーハWが保持手段
5に吸引保持された状態が維持され且つエアーの使用量
を前記実施例以上に節約することが出来る。尚、かかる
構成では、ウェーハWを取り外す際真空系7が大気に開
放出来るよう大気開放バルブ14を設ける必要がある。
チャックテーブル等の負圧生成手段において、作用域で
ある保持手段を含む真空系に連通させて作動手段を設
け、この作動手段により操作アームを介してエアー量調
整手段のバルブ機構を操作出来るように構成したので、
真空系が真空圧に達した時にエアー量調整手段のバルブ
機構を閉じる方向に回動させ或は完全に閉じてエアー供
給源からの高圧エアーの供給量を減少させることが出来
る。従って、エアー供給源は従来のものより小型化して
設置スペースを減少出来ると共に、電力等諸経費も節減
出来る効果を奏する。
る。
である。
4…エアー量調整手段 4a…バルブ機構 5…保持手段 6…接続管
7…真空系 8…作動手段 8a…シリンダ 8
b…スプリング 8c…ピストン 9…分岐管
10…ピストンロッド 11…操作アーム 12…
負圧生成手段 13…逆流防止弁 14…大気開放バルブ
Claims (1)
- 【請求項1】 高圧エアーを供給するエアー供給源と、
このエアー供給源と連通し負圧を生成する減圧手段と、
この減圧手段と連通し作用域を含む真空系と、この真空
系に連通し減圧によって作動する作動手段と、この作動
手段の作動が伝達されて前記エアー供給源のエアー供給
量を調整するエアー量調整手段と、を少なくとも含む負
圧生成手段。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26634294A JP3666034B2 (ja) | 1994-10-05 | 1994-10-05 | 負圧生成手段 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26634294A JP3666034B2 (ja) | 1994-10-05 | 1994-10-05 | 負圧生成手段 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08108329A true JPH08108329A (ja) | 1996-04-30 |
JP3666034B2 JP3666034B2 (ja) | 2005-06-29 |
Family
ID=17429605
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26634294A Expired - Lifetime JP3666034B2 (ja) | 1994-10-05 | 1994-10-05 | 負圧生成手段 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3666034B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009166153A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Koganei Corp | 真空発生装置 |
JP2009176992A (ja) * | 2008-01-25 | 2009-08-06 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハ加工装置 |
JP2009255235A (ja) * | 2008-04-17 | 2009-11-05 | Nikon Corp | 研磨装置 |
CN107695746A (zh) * | 2017-11-16 | 2018-02-16 | 重庆市乐珐机电有限责任公司 | 法兰盘固定夹具 |
JP2019212734A (ja) * | 2018-06-04 | 2019-12-12 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
KR20210134061A (ko) * | 2019-03-25 | 2021-11-08 | 케이엘에이 코포레이션 | 휘어진 반도체 웨이퍼를 평탄화하는 진공 홀드-다운 장치 |
-
1994
- 1994-10-05 JP JP26634294A patent/JP3666034B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
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KR20210134061A (ko) * | 2019-03-25 | 2021-11-08 | 케이엘에이 코포레이션 | 휘어진 반도체 웨이퍼를 평탄화하는 진공 홀드-다운 장치 |
JP2022532832A (ja) * | 2019-03-25 | 2022-07-20 | ケーエルエー コーポレイション | 撓んだ半導体ウェハを平坦化する真空押え付け装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3666034B2 (ja) | 2005-06-29 |
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