JPH0798310B2

JPH0798310B2 - 平面研磨機

Info

Publication number: JPH0798310B2
Application number: JP4214464A
Authority: JP
Inventors: 勝夫秋元
Original assignee: 秋元産業株式会社
Priority date: 1992-07-02
Filing date: 1992-07-02
Publication date: 1995-10-25
Anticipated expiration: 2010-10-25
Also published as: JPH0615570A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ガラス材、アルミニウ
ム板材、木材その他の被処理材の表面に梨地加工を施
し、艶消し処理、平滑面処理等を濃淡なく、また、均一
に行なえるようにした平面研磨機に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、ガラス材、アルミニウム板
材、木材その他の表面に粒径が小さい研磨材を吹き付
け、表面に梨地処理を行なうサンドブラスト加工が提案
されている。このサンドブラスト加工には、圧縮空気の
噴射エネルギーを使用して研磨材を吹き付けるエア方式
として重力式、サイホン式、直圧式等があり、また、圧
縮空気を使用しない遠心投射方式として、回転するイン
ペラの中心部から供給した研磨材をインペラ外周から遠
心力でたたきつけるものがある。更に、研磨材を瀑布の
ように横幅広く自然落下させ、その中間で横幅が広いイ
ンペラを使用して研磨材をたたいて加速する平打式のも
のがある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ただ、従来提案されて
いる上述したエア方式の、一般にはサンドブラスト装置
と呼ばれるものは、細いノズル先端から研磨材を被処理
材に強制的に吹き付けるために、横幅が大きい被処理材
に対しては、その表面上で蛇行させながら行なってい
る。そのため、研磨加工を均一に行なえず、濃淡が生
じ、いわゆる縞模様が出現してしまうことになるから、
この方式のサンドブラスト装置によって、横幅が大きい
被処理材の表面研磨を行なうことは困難なものであっ
た。

【０００４】また、遠心式のものは、横幅が大きい被処
理材に対応できるよう、その投射口を大きくするとすれ
ば、インペラ自体が極めて大型なものとなって、これの
回転機構、その荷重支持構造、研磨材の供給機構その他
も必然的に大型化するから、多大な設置スペースを必要
とし、機構的に複雑なものとなり、その保守も面倒にな
らざるを得ない。

【０００５】一方、平打ち式の研磨機として従来提供さ
れているものは、被処理材における加工可能な処理横幅
の範囲が９００ｍｍ程度であり、それ以上の幅が広い被
処理材に対する研磨加工は困難なものであった。それ
は、羽根材相互の空隙に研磨材を落下供給させる関係
上、研磨材をたたきつける羽根材を長尺なものとできな
いこと、羽根全域に均一に研磨材を供給できないこと等
が技術的な障害として挙げられるからであった。

【０００６】更に、こうした従来の研磨処理機は、処理
機内に被処理材を搬入して研磨処理を行なった後は、そ
の搬入口から逆方向に搬出させるものとしているから、
搬入、研磨処理、搬出その他の一連の作業に要するその
加工処理時間が実質的に長くなり、能率的でないばかり
でなく、被処理材を一方向に搬送するとする自動化は全
く不可能であった。

【０００７】そこで、本発明は、叙上のような従来存し
た諸事情に鑑み創出されたもので、主として、横幅が大
きい被処理材であってもその被加工面全域に亙って濃淡
を生じさせずに均一に研磨処理でき、また、被処理材を
一方向に搬送させながら加工処理できることで、連続的
に自動的に行なうことを用能とし、自動化処理ラインへ
の組み込みを容易にする平面研磨機を提供することを目
的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ため、本発明にあっては、前部に搬入口２、後部に搬出
口３が夫々開口されている躯体フレーム１と、躯体フレ
ーム１内で搬入口２から搬出口３に至るまで被処理材Ｗ
を搬送する搬送装置１０と、搬入された被処理材Ｗに対
して、その搬送方向にほぼ直交する全域に均一に分散さ
せて研磨材Ｓを強制的に叩き付ける打撃方式の投射装置
２０と、投射後の被処理材Ｗ表面から研磨材Ｓ等を掻取
り状に除去し、吸い込む除去装置６０と、搬出口３近傍
の研磨材Ｓ、その他の塵埃等を吸い込み清掃する吸塵装
置７０と、吸い込まれた研磨材Ｓと塵埃その他とを分離
した後、再使用可能な研磨材Ｓを投射装置２０に再度供
給する循環分離装置９０とを備えている。

【０００９】投射装置２０は、被処理材Ｗの搬送方向に
ほぼ直交して配装された複数の打撃羽根板２５を周縁に
有して、回転するドラム状の打撃機構２１と、研磨材タ
ンク２７から吐出された研磨材Ｓを被処理材Ｗの搬送方
向にほぼ直交した方向で分散させて、旋回される前記打
撃羽根板２５端縁に沿って打撃羽根板２５下方に落下供
給させる研磨材供給機構２６とを備えて構成することが
できる。そして、打撃機構２１は、被処理材Ｗの搬送方
向に対してほぼ直交して配置されて底部が開放されてい
るほぼ半円筒状のカバー２２内に配装されていて、軸受
によって回転自在に支承されたドラムシャフト２３周囲
にこのドラムシャフト２３自体の長さ方向で適宜間隔毎
に羽根支持板２４を放射状に列設し、これらの羽根支持
板２４夫々によってドラムシャフト２３自体の長さ方向
に沿う打撃羽根板２５を固定支持したものとすることが
できる。一方、研磨材供給機構２６は、躯体フレーム１
上に配設形成された研磨材タンク２７と、この研磨材タ
ンク２７から吐出供給される研磨材Ｓの落下供給量を調
整して打撃機構２１に供給する流量調整器２８と、落下
供給された研磨材Ｓを打撃羽根板２５の端縁に沿って被
処理材Ｗの搬送方向にほぼ直交するよう分散させる分散
手段４５とを備えたものとすることができる。更に、分
散手段４５は、流量調整器２８と打撃機構２１との間に
配装されており、流量調整器２８下方で、打撃機構２１
側に下方傾斜して配装されていて、最下端縁が打撃機構
２１における打撃羽根板２５端縁位置近傍に至る傾斜盤
４６と、この傾斜盤４６の下端部上面に突設形成した塞
き止め板４７とから成るものとすることができる。

【００１０】除去装置６０は、吸気源に連通したクリー
ナーダクト６１と、下端に至るに伴ない前後方向で次第
に狭幅となって形成されている吸込ノズル６３を下端に
有し、クリーナーダクト６１に連通して躯体フレーム１
内に配置されているクリーナーフード６２とを備えて構
成することができ、更に、この吸込ノズル６３の下端縁
には、被処理材Ｗの搬送方向に対向するように下方傾斜
し、搬送される被処理材Ｗ表面上に摺接するゴム板製の
掻取片６４を着脱、交換自在に付設することができる。

【００１１】吸塵装置７０は、被処理材Ｗ上に高圧空気
を噴射し、被処理材Ｗに付着している研磨材Ｓ、塵埃そ
の他を剥離させる空気噴射機構７１と、剥離させた塵埃
その他を吸い込み除去する吸込機構８１とを備えて構成
することができる。

【００１２】循環分離装置９０は、除去装置６０、吸塵
装置７０夫々に連通するサイクロン式集塵機構９１と、
この集塵機構９１によって分離回収された研磨材Ｓ中か
ら塵埃を選別分離する選別機構１０１と、選別分離され
た研磨材Ｓを投射装置２０に供給する供給機構１１５と
を備えて構成することができる。そして、選別機構１０
１は、集塵機構９１末端部の取出口９４に接続した接続
管１０２と、この接続管１０２下部に貯留された研磨材
Ｓを上方に持ち上げるほぼ直立状の第１エレベーター１
０４と、この第１エレベーター１０４上部から自重落下
される研磨材Ｓ中から塵埃を除去する風力選別手段１０
６と、自重落下した研磨材Ｓを貯留する貯留部１１１と
を備える。供給機構１１５は、貯留部１１１下部とほぼ
一体状の筐体に形成された第２エレベーターダクト１１
６内で循環するほぼ直立状の第２エレベーターのものと
することができる。

【００１３】

【作用】本発明に係る平面研磨機にあって、搬送装置１
０は、搬入口２から搬入されたガラス材、アルミニウム
板材その他の被処理材Ｗを搬出口３に至るまで搬送し、
その搬送中の躯体フレーム１内で、研磨処理した後に研
磨材Ｓその他を除去清掃し、処理後の被処理材Ｗを搬出
口３から搬出させる。

【００１４】搬送中の被処理材Ｗに対し、投射装置２０
は、研磨材供給機構２６によって搬送方向にほぼ直交す
る全域に亙って所定の研磨材Ｓを均一に分散させ、その
分散させた状態で打撃機構２１に流下供給させる。そし
て、打撃機構２１は、分散供給された研磨材Ｓを、回転
する打撃羽根板２５端縁によって被処理材Ｗ表面に対し
て強制的に叩き付け、この打撃作用が被処理材Ｗ表面を
均一に研磨させる。

【００１５】このとき、流量調整器２８は、研磨材Ｓの
分散供給量を調整させ、また、分散手段４５は、流量調
整器２８から流下供給された研磨材Ｓを、打撃羽根板２
５端縁位置近傍に至るまでで下方傾斜した傾斜盤４６上
で自然落下させる途中において塞き止め板４７が一旦塞
き止めた後に溢流させるから、打撃羽根板２５端縁全域
に均一に分散させて供給させる。内部に打撃機構２１を
配装させているカバー２２は、打撃機構２１による強制
的な打撃作用による研磨材Ｓの周囲への散乱を阻止させ
る。

【００１６】研磨処理後に搬送される被処理材Ｗは、こ
の被処理材Ｗの処理面上の研磨材Ｓ、処理屑その他が除
去装置６０において、その掻取片６４によって掻取り状
に除去され、クリーナーフード６２、クリーナーダクト
６１を経て吸気源側に吸込ませる。

【００１７】また、吸塵装置７０は、被処理材Ｗ上に残
置された研磨材Ｓ、塵埃その他を空気噴射機構７１によ
って吹き飛ばし状に強制的に剥離させ、剥離させた塵埃
その他を吸込機構８１を経て、同じく吸気源側に吸込ま
せる。

【００１８】除去装置６０、吸塵装置７０によって吸い
込まれ、躯体フレーム１内の被処理材Ｗから除去された
研磨材Ｓその他は循環分離装置９０内に送り込まれ、循
環分離装置９０のサイクロン式集塵機構９１、選別機構
１０１夫々によって、再使用可能な研磨材Ｓと、研磨材
Ｓ以外の不要物である塵埃その他とに重量の相違を利用
して選別分離させる。そして、再使用可能な研磨材Ｓを
投射装置２０に供給して、この投射装置２０において再
度利用させる。このときの選別分離に際し、サンクロン
式の遠心分離方式による自身の重量の相違による選別、
また、直立状の第１エレベーター１０４の自重選別方式
による自重落下するときの風力利用の選別で行なわせ
る。

【００１９】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明するに、本発明においては、例えば平面状のガラス材
である被処理材Ｗを躯体フレーム１前部の搬入口２から
後部の搬出口３に至るまで搬送する搬送装置１０と、搬
入された被処理材Ｗに対して研磨材Ｓを強制的に叩き付
ける打撃方式で研磨する投射装置２０と、投射後の被処
理材Ｗ表面から研磨材Ｓを吸い込み除去する除去装置６
０と、搬出口３近傍の研磨材Ｓ、その他を吸い込み清掃
する吸塵装置７０と、更に、吸い込まれた研磨材Ｓを分
離した後、投射装置２０に再度供給する循環分離装置９
０とを備える。しかして、前部から後部に至るまでに形
成された搬送装置１０上に構枠された空洞状の躯体フレ
ーム１の搬入口２側に投射装置２０が配装され、次い
で、除去装置６０、吸塵装置７０が搬出口３側に設けら
れ、除去装置６０、吸塵装置７０によって回収された研
磨材Ｓのうち再度の研磨に使用可能なものが分離された
後、投射装置２０に再び供給されるよう、循環分離装置
９０が搬送装置１０の側方に、これの後部から前部に至
るようにして設けられている。

【００２０】搬送装置１０は、躯体フレーム１の前後方
向に沿って配装した左右一対のローラーフレーム１１相
互間に、搬送モーター１２の駆動力で循環されるチェー
ン１３によって従動回転される複数本の搬送ローラー１
４を装架配列して成り、各搬送ローラー１４上に載置さ
れた被処理材Ｗを躯体フレーム１の搬入口２から搬出口
３に至るまで順次に搬送させるようになっている。ロー
ラーフレーム１１相互の間隔は、処理すべき被処理材Ｗ
の最大幅員に対応しており、搬入口２に搬入された被処
理材Ｗを躯体フレーム１内で搬送して搬出口３から搬出
させる。

【００２１】投射装置２０は、被処理材Ｗの搬送方向に
ほぼ直交して配装された複数の打撃羽根板２５を周縁に
有して、回転するドラム状の打撃機構２１と、研磨材タ
ンク２７から吐出された研磨材Ｓを被処理材Ｗの搬送方
向にほぼ直交した方向で分散させて、旋回する打撃羽根
板２５端縁に沿って打撃羽根板２５下方に落下供給させ
る研磨材供給機構２６とを備えて成る。そして、この投
射装置２０は、躯体フレーム１の搬入口２近傍に配置さ
れており、搬入口２から搬入された被処理材Ｗに対し
て、いわゆる梨地加工を施すもので、適当量で供給され
た研磨材Ｓを強制的に叩き、下方で搬送されている被処
理材Ｗに対して研磨材Ｓによる強力な打撃作用を与える
ものとなっている。

【００２２】打撃機構２１は、被処理材Ｗの搬送方向に
対してほぼ直交して配置されて底部が開放されているほ
ぼ半円筒状のカバー２２内に配装されており、図示を省
略したモータによって従動回転されるよう、軸受によっ
て回転自在に支承されたドラムシャフト２３周囲にこの
ドラムシャフト２３自体の長さ方向で適宜間隔毎に羽根
支持板２４を放射状に列設し、これらの羽根支持板２４
夫々によってドラムシャフト２３自体の長さ方向に沿う
打撃羽根板２５を固定支持して、シロッコファン風車構
造に形成したものである。この打撃機構２１自体は、被
処理材Ｗの搬送方向に沿うように、図１に示す側面から
見て半時計方向に回転され、研磨材供給機構２６から自
然落下される研磨材Ｓを打撃羽根板２５によって被処理
材Ｗに叩き付けるもので、例えば１３５０〜１５００／
ｒｐｍで回転される。

【００２３】図４に示すように、打撃羽根板２５自体
は、金属製の基盤表面に耐磨耗性のゴム板を貼着した積
層構造に形成されていて、羽根支持板２４にボルト、ナ
ットによってネジ止めされており、打撃機構２１の回転
に伴ない打撃羽根板２５自体が被処理材Ｗに向かうとき
にゴム板が研磨材Ｓを叩き、被処理材Ｗに対する打撃作
用を与えるようになっている。

【００２４】一方、研磨材供給機構２６は、躯体フレー
ム１上に配設形成された研磨材タンク２７と、この研磨
材タンク２７から吐出供給される研磨材Ｓの落下供給量
を調整して打撃機構２１に供給する流量調整器２８と、
落下供給された研磨材Ｓを打撃羽根板２５の端縁に沿っ
て被処理材Ｗの搬送方向にほぼ直交するよう分散させる
分散手段４５とを備える。この研磨材供給機構２６は、
図１に示すように、前記の打撃機構２１に比しやや搬入
口２に近い躯体フレーム１の端部側の上部に配置されて
おり、研磨材Ｓとしては、従来からの一般的なものが使
用される。

【００２５】研磨材タンク２７は、図示例にあって、躯
体フレーム１の幅員とほぼ同一の幅員を有する適当容量
の直方体状に形成されており、底部は開放されていて流
量調整器２８に連通され、上部は後述の循環分離装置９
０の末端部分が接続されており、また、内部の貯留量が
外部から視認できるように、適数の覗き窓が形成されて
いる。

【００２６】流量調整器２８は、図４乃至図７に示すよ
うに、研磨材タンク２７下方に、被処理材Ｗの搬送方向
にほぼ直交して、打撃羽根板２５の端縁に沿うよう幅広
く形成配置されており、底部に至るに伴ない前後方向で
次第に狭幅となる固定板２９の底部に複数の流下孔３１
を開穿し、この固定板２９底部外側面に位置させて、同
様に複数のスライド孔３３を開穿した左右にスライド調
整される流量調整板３２と、この流量調整板３２底部外
側面に位置させて、同様に複数の開閉孔３５を開穿した
左右にスライドされる開閉板３４とを積層状に配装して
成る（図６参照）。そして、移動しない固定板２９の流
下孔３１に対しスライドされる流量調整板３２のスライ
ド孔３３との合致部分の大きさ程度によって研磨材Ｓの
落下流量が適宜に調整され、また、開閉板３４の開閉孔
３５がスライド孔３３に合致するときは合致部分の空隙
を開放して研磨材Ｓを落下させ、合致しないときは合致
部分を閉塞して研磨材Ｓを落下させないようになってい
る（図７参照）。

【００２７】また、これらの固定板２９、流量調整板３
２、開閉板３４は、共に断面でほぼＶ字状に形成されて
積層化されたバケット構造のものとなっていて、例えば
躯体フレーム１の両側壁相互間で装架支承されている。
図示のように、最上層の固定板２９は例えば研磨材タン
ク２７底部に固定され、中層の流量調整板３２は躯体フ
レーム１のいずれか一方の側壁によって支持され、最下
層の開閉板３４は躯体フレーム１の両側壁夫々にスライ
ド自在に貫挿した左右の支持シャフト３６端に固着した
断面でほぼＶ字状の支承板３７上に固定されている。な
お、この支持シャフト３６によって支承板３７を介し
て、左右で開閉板３４を支持することで、この流量調整
器２８自体に付加される研磨材Ｓの荷重を十分に支持す
るものとなり、その歪形その他が防止されることで、流
量調整器２８全般からのほぼ均一な分散形態での研磨材
Ｓの落下供給に大きく役立つ。

【００２８】査定板２９の流下孔３１、流量調整板３２
のスライド孔３３、開閉板３４の開閉孔３５夫々は、こ
れらの各板２９，３２，３４夫々のＶ字型の底部端に１
列状に開穿されている。そして、いずれもほぼ同形、同
大のものとしてあり、図７に示すように、流量調整板３
２、開閉板３４夫々がスライドして、スライド孔３３が
流下孔３１相互間に、あるいは開閉孔３５がスライド孔
３３相互間に位置するとき、流下孔３１を閉塞するもの
としてある。

【００２９】また、本実施例にあっての流量調整板３２
のスライド調整手段４１は、図５に示すように、躯体フ
レーム１のいずれか一方の側壁に固定したナット体４２
と、このナット体４２に進退自在に捩じ込まれ、躯体フ
レーム１側壁に貫挿されて、一端が流量調整板３２のい
ずれか一方の側壁に回転自在に貫挿係合したネジ棒材４
３と、このネジ棒材４３の他端に固着され、ネジ棒材４
３自体を回転させるハンドル４４とから成る。

【００３０】更に、同じく、本実施例にあっての開閉板
３４のスライド手段３８は、図５に示すように、前記の
いずれか一方の支持シャフト３６端に開閉シリンダー３
９のシリンダロッドを連繋して成り、この開閉シリンダ
ー３９による進退動によって、開閉孔３５の開閉を迅速
に行なわせるものとしてある。

【００３１】分散手段４５は、図４に示すように、流量
調整器２８と打撃機構２１との間に配装されており、流
量調整器２８から流下供給された研磨材Ｓを自然落下さ
せる途中で一旦塞き止めた後に溢流させることで、打撃
羽根板２５端縁全域に均一に分散させて供給できるよう
にしてある。そのため、この分散手段４５は、流量調整
器２８下方で、打撃機構２１側に下方傾斜して配装され
ていて、最下端縁が打撃機構２１における打撃羽根板２
５端縁位置近傍に至る傾斜盤４６と、この傾斜盤４６の
下端部上面に突設形成した塞き止め板４７とから成る。
この分散手段４５の前後は、防粒盤４８、保護盤４９夫
々によって躯体フレーム１内部とは区画されており、ま
た、傾斜盤４６の下端部上方は、前記カバー２２端縁と
ほぼ合致し、傾斜盤４６の下端部上に、塞き止め板４７
上縁から溢流する研磨材Ｓが自然に流下する開口を形成
して、保護盤４９下部に調整板取付板５１を介して調整
板５２を連設してある。更に、傾斜盤４６下端部下方で
ある搬入口２の開口側には、打撃機構２１による研磨材
Ｓの散乱を防止するスカート５３を付設してある。

【００３２】傾斜盤４６下端縁と打撃機構２１における
打撃羽根板２５端縁との間隙は、２．５〜３ｍｍ程度の
ものとしてあり、傾斜盤４６下端縁から自然に流下する
研磨材Ｓに対して、その流下速度に比し速い回転速度で
旋回される打撃羽根板２５が叩き、下方で搬送されてい
る被処理材Ｗに打撃作用を与える。

【００３３】また、図示を省略したが、この投射装置２
０に関連して、例えば投射装置２０の後方に位置させ
て、研磨材Ｓの噴射ノズルを備えた重力式、サイホン
式、直圧式等のエア方式のショットブラスト装置を設け
ることも可能であり、局所的な研磨処理をも可能にす
る。

【００３４】このように構成された投射装置２０の搬送
方向の後方に、被処埋材Ｗ上の研磨材Ｓを除去する吸い
込み式の除去装置６０が躯体フレーム１に配装されてい
る。この除去装置６０は、図示を省略した真空ポンプの
如き吸気源に連通したクリーナーダクト６１と、下端に
至るに伴ない前後方向で次第に狭幅となって形成されて
いる吸込ノズル６３を下端に有し、クリーナーダクト６
１に連通して躯体フレーム１内に配置されているクリー
ナーフード６２とを備えて成る。

【００３５】クリーナーダクト６１は、図１、図２に示
すように、躯体フレーム１上方で左右方向に沿って配設
されている角筒状に形成されていて、前部はクリーナー
フード６２上部に、後部は循環分離装置９０の後述する
サイクロン式集塵機構９１に夫々接続されており、この
集塵機構９１によって分離された塵埃が吸気源側に集積
されるものとしてある。

【００３６】クリーナーフード６２は、図８、図９に示
すように、クリーナーダクト６１に連結するほぼ角筒状
の連結部を上部に有し、正面から見て下部に至るに伴な
い次第に末広がり状で、側面から見て下部に至るに伴な
い次第に狭幅となって形成されており、下端部には、処
理すべき被処理材Ｗの幅員にほぼ対応した幅員に形成さ
れた吸込ノズル６３を有する。この吸込ノズル６３に
は、被処理材Ｗの搬送方向に対向するように下方傾斜し
ているゴム板製の掻取片６４が吸込ノズル６３の下端縁
に着脱、交換自在に付設されており、搬送される被処理
材Ｗ表面上に摺接することで、表面に付着している研磨
材Ｓを掻取り、吸込ノズル６３から吸い込ませるように
してある。

【００３７】また、このクリーナーフード６２内は、適
当数の区画片６５によって区画形成されており、吸込ノ
ズル６３の各部位においての吸込圧が平均化するように
配慮してある。

【００３８】この除去装置６０の搬送方向の後方に、被
処理材Ｗ上の研磨材Ｓを吹き飛ばし、清掃する吸い込み
式の吸塵装置７０が搬出口３近傍に位置して躯体フレー
ム１に配装されている。この吸塵装置７０は、除去装置
６０によっても除去されずに被処理材Ｗ表面に付着して
いる塵埃その他を吹き飛ばし分離した後、吸込み除去し
て清掃するもので、被処理材Ｗ上に高圧空気を噴射し、
被処理材Ｗに付着している研磨材Ｓ、塵埃その他を強制
的に剥離させる空気噴射機構７１と、剥離させた塵埃そ
の他を吸い込み除去する吸込機構８１とを備えて成る。

【００３９】空気噴射機構７１は、図１０、図１１に示
すように、被処理材Ｗの搬送方向にほぼ直交した左右方
向に揺動するシーソーアーム７２と、図示を省略した空
気供給源に連通されていて、下面に多数の空気噴射孔７
８を開穿してシーソーアーム７２に支持された噴気パイ
プ７７とから成る。

【００４０】シーソーアーム７２は、例えば躯体フレー
ム１上側壁を貫挿させた状態で、躯体フレーム１上側壁
に軸受部材等によって揺動自在に支承させることで左右
で一対に配され、揺動モータ７３を駆動源とする揺動手
段７４によって左右方向に揺動される。揺動手段７４自
体は、例えば躯体フレーム１上部に配置した揺動モータ
７３にてチェーン、ベルト等を介して従動回転される偏
心回転盤７５といずれか一方のシーソーアーム７２上部
とを偏心揺動アーム７６にて連繋したものである。

【００４１】噴気パイプ７７は、シーソーアーム７２の
下端に搬送方向の前後に沿って連設した支持材７９の前
後両端部の左右相互間で架装されることで、搬送方向の
前後で適宜間隔を隔てて前後に一対にして配されてお
り、噴気パイプ７７の両端に連通されている空気供給パ
イプから供給された高圧空気を空気噴射孔７８から被処
理材Ｗ上に噴射する。この噴射に際し、揺動手段７４に
よって噴気パイプ７７自体が左右に揺動するから、被処
理材Ｗ上に満遍なく高圧空気があたり、被処理材Ｗ表面
の付着物を吹き飛ばす。

【００４２】また、吸込機構８１は、躯体フレーム１の
搬出口３近傍の躯体フレーム１上側壁に連通する吸込ダ
クト８２から成り、この吸込ダクト８２は、前記除去装
置６０におけるクリーナーダクト６１から分岐された角
筒状の分岐連通フード８３に上部が連通されており、下
部は末広がり状にして躯体フレーム１の上側壁に接続さ
れた状態で躯体フレーム１上に配装されている。この吸
込機構８１は、躯体フレーム１における搬出口３近傍位
置で、空気噴射機構７１によって被処理材Ｗ上から剥離
された被処理材Ｗ、塵埃その他を吸込み、後述のサイク
ロン式集塵機構９１に送り入れるものである。

【００４３】そして、前記の除去装置６０及び吸塵装置
７０によって吸込まれた研磨材Ｓ、塵埃その他は、循環
分離装置９０によって回収され、再使用可能な研磨材Ｓ
と、その他の塵埃とに分離し、研磨材Ｓは投射装置２０
に供給される一方、塵埃その他は所定の集塵箇所に集積
され、廃棄されるものとしてある。そのための循環分離
装置９０は、図１乃至図３、図１２、図１３に示すよう
に、除去装置６０、吸塵装置７０夫々に連通するサイク
ロン式集塵機構９１と、この集塵機構９１によって分離
回収された研磨材Ｓ中から塵埃を選別分離する選別機構
１０１と、選別分離された研磨材Ｓを投射装置２０に供
給する供給機構１１５とを備える。

【００４４】集塵機構９１は、図１２に示すように、適
当な架台上に配置構成されており、除去装置６０、吸塵
装置７０夫々の末端部に連通する取入口９３を上部に有
し、下方に至るに伴ない次第に窄まる円錘状で、下端に
は取出口９４を備えた回収取出部９５を下部に有する外
筒体９２と、図示を省略した吸気源側の集塵機に連通さ
れている集塵ダクト９７が上部に接続され、下端が開放
されている内筒体９６との二重筒構造に形成されてい
る。この集塵機構９１内に吸込まれた研磨材Ｓその他
は、重力的に重い研磨材Ｓが外筒体９２内側面に沿って
旋回しながら取出口９４に落下し、重力的に軽い塵埃そ
の他が集塵ダクト９７を経て集塵機に集積される。

【００４５】選別機構１０１は、集塵機構９１末端部の
取出口９４に接続した接続管１０２と、この接続管１０
２下部に貯留された研磨材Ｓを上方に持ち上げるほぼ直
立状の第１エレベーター１０４と、この第１エレベータ
ー１０４上部から自重落下される研磨材Ｓ中から塵埃を
除去する風力選別手段１０６と、自重落下した研磨材Ｓ
を貯留する貯留部１１１とを備える。

【００４６】図示にあって、接続管１０２の上部は、取
出口９４に連設したホッパー１０３に、また、下部は第
１エレベーター１０４下部に夫々接続されており、上部
のホッパー１０３から下部に至るまでの傾斜したほぼ角
筒状に形成されている。

【００４７】第１エレベーター１０４は、接続管１０２
下部とほぼ一体状の筐体に形成された第１エレベーター
ダクト１０５内で循環するバケットエレベーターのもの
としてあり、接続管１０２内で流下する研磨材Ｓ等を順
次に第１エレベーターダクト１０５の上部にまで待ち来
すようにしている。

【００４８】風力選別手段１０６は、第１エレベーター
１０４のバケット夫々が第１エレベーターダクト１０５
上部で反転するとき投入される上下二重構造の金網体１
０７を上部に配し、この金網体１０７の下方に、図示を
省略した送風機からの送風によって重量選別する送風選
別室１０８を区画形成し、送風によって排除された軽量
の塵埃その他の不要物以外のものである重量の研磨材Ｓ
を自重落下させて、貯留部１１１に案内する下方傾斜の
案内筒１０９を配設して成る。排除される軽量の塵埃そ
の他の不要物は、送風選別室１０８前方に配置した集積
区画内に集積貯留されることで、纏めて廃棄されるよう
になっている。

【００４９】貯留部１１１は、案内筒１０９と一体的な
ボックス状に形成され、この貯留部１１１内に貯留され
た再使用可能な研磨材Ｓは供給機構１１５によって投射
装置２０に供給される。

【００５０】供給機構１１５は、貯留部１１１下部とほ
ぼ一体状の筐体に形成された第２エレベーターダクト１
１６内で循環するバケットエレベーターであるほぼ直立
状の第２エレベーターのものとしてあり、貯留部１１１
内に貯留された研磨材Ｓを順次に第２エレベーターダク
ト１１６の上部にまで待ち来すようにしている。第２エ
レベーターダクト１１６内で循環する第２エレベーター
（１１５）の各バケットが第２エレベーターダクト１１
６内上部で反転するとき、各バケット内の研磨材Ｓが投
射装置２０における研磨材供給機構２６の研磨材タンク
２７内に投入されるようになっている。

【００５１】また、このようにして、躯体フレーム１に
連設している除去装置６０のクリーナーダクト６１、同
じく吸塵装置７０の吸込ダクト８２、循環分離装置９０
の集塵機構９１、選別機構１０１夫々は、その内部が一
連に連続されるように、それらの筐体が外部とはほぼ遮
断された密閉一体状に形成されており、内部で循環する
研磨材Ｓ、及び被処理材Ｗから削剥された処理屑、その
他の塵埃等が外部に漏出しないようにしてあるものであ
る。

【００５２】そしてまた、搬送装置１０下方には、投射
装置２０によって強制的に叩き付けられた研磨材Ｓが被
処理材Ｗ下方に回り込んだときのそれらを回収する回収
装置１２０が設けられている。この回収装置１２０は、
図１、図３、図１２、図１３に示すように、躯体フレー
ム１位置に対応した搬送装置１０下方に配装されてお
り、平面から見て被処理材Ｗの搬送方向の前後で長い長
方形を呈するほぼ逆角錐状にして、搬送方向に沿った左
右夫々で形成された回収ホッパー１２１と、この回収ホ
ッパー１２１底部に形成した溝状の第１送り部１２２内
に配置した第１送りスクリューコンベア部材１２３と、
第１送り部１２２にほぼ直交させた搬送方向の前後に沿
って、第１送り部１２２の底部に連設させて形成した溝
状の第２送り部１２４内に配置され、終端が前記循環分
離装置９０における第１エレベーターダクト１０５底部
に位置するようにした第２送りスクリューコンベア部材
１２５とを備えて成る。

【００５３】したがって、躯体フレーム１内において、
投射装置２０によって強制的に打撃投射された研磨材Ｓ
等が搬送装置１０下方に回り込んだとき、回収ホッパー
１２１底部の第１送り部１２２内に集積された後、第１
送りスクリューコンベア部材１２３、及び第２送りスク
リューコンベア部材１２５夫々によって循環分離装置９
０における選別機構１０１の第１エレベーターダクト１
０５底部に送られる。すると、この循環分離装置９０に
よって選別分離される研磨材Ｓその他と共に選別分離さ
れた後、投射装置２０の研磨材タンク２７内に供給さ
れ、再使用されるものとなっている。

【００５４】次に、以上のように構成された本発明の一
実施例における使用の一例を説明するに、図示を省略し
たが、一連の加工処理ライン中に組み込まれるもので、
研磨加工すべき被処理材Ｗが躯体フレーム１の搬入口２
から投入されると、搬送装置１０によって搬出口３に至
るまで搬送される。その搬送中に、投射装置２０におい
て、研磨材供給機構２６から順次に供給された研磨材Ｓ
に打撃機構２１によって強制的な打撃作用が付与されて
これＳが被処理材Ｗ表面に投射されると、表面全域に均
一した所定の研磨処理が施される。

【００５５】そして、研磨処理後の被処理材Ｗ表面に付
着した研磨材Ｓ、及び被処理材Ｗから削剥された処理屑
等は、除去装置６０において、被処理材Ｗ表面から掻取
り状に剥離された後、クリーナーフード６２、クリーナ
ーダクト６１を経て循環分離装置９０におけるサイクロ
ン式の集塵機構９１に送られる。被処理材Ｗの搬送方向
の前方、搬出口３近傍に配置した吸塵装置７０におい
て、空気噴射機構７１が被処理材Ｗ表面に付着している
細かな研磨材Ｓその他の塵埃等を吹き飛ばすようにして
剥離し、吸込機構８１を経て同じく循環分離装置９０に
おけるサイクロン式の集塵機構９１に送られる。

【００５６】このようにして集塵機構９１内に集められ
た躯体フレーム１内の使用後の研磨材Ｓ、処理屑、塵埃
その他は、重力的に分別され、塵埃は適当な集塵機に集
められる一方、研磨材Ｓ等は選別機構１０１へ送られ、
再度の重力的な選別処理が行なわれて、再使用可能な研
磨材Ｓのみが投射装置２０における研磨材供給機構２６
の研磨材タンク２７に供給される。

【００５７】また、投射装置２０下方に回り込んだ研磨
材Ｓ等は回収装置１２０によって循環分離装置９０に送
られ、同様に選別分離された後、研磨材タンク２７内に
供給される。

【００５８】

【発明の効果】木発明は以上のように構成されており、
これがため、相当に横幅が大きい広幅な被処理材Ｗであ
ってもその被加工面全域に亙って研磨材Ｓを分散状に均
一な打撃作用で投射できるから、濃淡を生じさせずに均
一に研磨処理でき、また、その研磨処理に際し、被処理
材Ｗは搬入口２から搬出口３に至る一方向に搬送させな
がら加工処理するから、連続自動的に行なえ、自動化処
理ラインへの組み込みを容易にすることができる。

【００５９】すなわち、本発明は、ガラス材、アルミニ
ウム板材、木材その他の所定の被処理材Ｗを躯体フレー
ム１前部の搬入口２から後部の搬出口３に至るまで投射
装置２０によって搬送する間で、被処理材Ｗに対して、
その搬送方向にほぼ直交する全域に均一に分散させて研
磨材Ｓを強制的に叩き付ける打撃方式の投射装置２０に
よって研磨し、研磨投射後の被処理材Ｗ表面から研磨材
Ｓ等を除去装置６０によって掻取り状に除去し、吸い込
み、また、搬出口３近傍の研磨材Ｓ、その他の塵埃を吸
塵装置７０によって吸い込み清掃し、更に、吸い込まれ
た研磨材Ｓと塵埃その他とを分離した後、再使用可能な
研磨材Ｓを循環分離装置９０によって投射装置２０に再
度供給するようにしたからであり、これによって、艶消
し処理、平滑面処埋等を濃淡なく、均一に行なえるもの
としたのである。

【００６０】また、打撃機構２１、研磨材供給機構２６
を備えた投射装置２０は、被処理材Ｗの搬送方向にほぼ
直交して配装された複数の打撃羽根板２５が旋回される
とき、これの下方に順次落下供給される研磨材Ｓに強制
的な打撃作用を与えるから、打撃羽根板２５下方で搬送
されている被処理材Ｗに対して、それの幅員が広いもの
であっても、処理面全域に均一な研磨処理を施すことが
できる。そのため、従来のように局所的な濃淡、縞模様
その他が生じることがなく、美麗な、体裁のよい良好な
処理品を得ることができるばかりでなく、ガラス材、ア
ルミニウム材、木材、その他の所定の各種の素材への研
磨処理を可能にする。

【００６１】更に、この研磨材供給機構２６における流
量調整器２８は、被処理材Ｗに対して打撃する研磨材Ｓ
の供給量を自在に変更し、研磨の深浅、粗細の程度その
他を微妙に調整できるのであり、また、分散手段４５
は、流量調整器２８から落下供給された研磨材Ｓを被処
理材Ｗの搬送方向にほぼ直交した方向に沿って均一に分
散させ、研磨処理を満遍なく行なわせるものである。打
撃羽根板２５を有して回転する打撃機構２１は、カバー
２２内に配装されているから、研磨材Ｓの打撃に際し、
周囲に研磨材Ｓを散乱させず、躯体フレーム１内におい
ての除去、清掃の負担を加重しない。

【００６２】クリーナーダクト６１、クリーナーフード
６２を備えた除去装置６０、空気噴射機構７１、吸込機
構８１を備えた吸塵装置７０は、躯体フレーム１内にお
いて、投射装置２０によって被処理材Ｗ上に打撃され、
被処理材Ｗ表面に付着、ないしは残置された研磨材Ｓ、
更には研磨後で付着している処理屑、その他の塵埃を除
去でき、搬出口３から搬出された被処理材Ｗ自体をその
まま次工程にて処理できるようにするものである。この
とき、除去装置６０にあっては掻取片６４が被処理材Ｗ
上から研磨材Ｓその他を掻取り状に集め、また、吸塵装
置７０にあっては、空気噴射機構７１によって強制的に
剥離するよう被処埋材Ｗ上から不要物を吹き飛ばした
後、真空式に吸込み除去するので、不要物が被処理材Ｗ
上に残置されることは極めて少ない。

【００６３】循環分離装置９０は、集塵機構９１、選別
機構１０１、供給機構１１５を備えており、除去装置６
０、吸塵装置７０によって吸い込まれ、躯体フレーム１
内の被処理材Ｗから除去された研磨材Ｓ塵埃その他
を、再使用可能な研磨材Ｓと不要物である塵埃その他と
に選別した後、再使用可能な研磨材Ｓを回収して投射装
置２０に供給するから、研磨材Ｓの無駄がないものであ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】全体の概略側断面図である。

【図２】同じく概略平面図である。

【図３】同じく概略正面図である。

【図４】投射装置の側面図である。

【図５】同じく一部省略の正面図である。

【図６】流量調整器の側断面図である。

【図７】流量調整器における研磨材の流量調整作動時の
要部平面図である。

【図８】除去装置の側面図である。

【図９】同じく正面図である。

【図１０】吸塵装置の側面図である。

【図１１】同じく正面図である。

【図１２】循環分離装置における集塵機構の側断面図で
ある。

【図１３】同じく、選別機構、供給機構の側断面図であ
る。

【符号の説明】

Ｓ研磨材Ｗ被処理材１躯体フレーム２搬入口３搬出口１０搬送装置１１ローラー
フレーム１２搬送モーター１３チェーン１４搬送ローラー２０投射装置２１打撃機構２２カバー２３ドラムシ
ャフト２４羽根支持板２５打撃羽根
板２６研磨材供給機構２７研磨材タ
ンク２８流量調整器２９固定板３１流下孔３２流量調整
板３３スライド孔３４開閉板３５開閉孔３６支持シャ
フト３７支承板３８スライド
手段３９開閉シリンダ４１スライド
調整手段４２ナット体４３ネジ棒材４４ハンドル４５分散手段４６傾斜盤４７塞き止め
板４８防粒盤４９保護盤５１調整板取付板５２調整板５３スカート６０除去装置６１クリーナ
ーダクト６２クリーナーフード６３吸込ノズ
ル６４掻取片６５区画片７０吸塵装置７１空気噴射
機構７２シーソーアーム７３揺動モー
タ７４揺動手段７５偏心回転
盤７６偏心揺動アーム７７噴気パイ
プ７８空気噴射孔７９支持材８１吸込機構８２吸込ダク
ト８３分岐連通フード９０循環分離装置９１集塵機構９２外筒体９３取入口９４取出口９５回収取出
部９６内筒体９７集塵ダク
ト１０１選別機構１０２接続管１０３ホッパー１０４第１エ
レベーター１０５第１エレベーターダクト１０６風力選
別手段１０７金網体１０８送風選
別室１０９案内筒１１１貯留部１１５供給機構１１６第２エ
レベーターダクト１２０回収装置１２１回収ホ
ッパー１２２第１送り部１２３第１送
りスクリューコンベア部材１２４第２送
り部１２５第２送りスクリューコンベア部材

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】前部に搬入口、後部に搬出口が夫々開口
されている躯体フレームと、躯体フレーム内で搬入口か
ら搬出口に至るまで被処理材を搬送する搬送装置と、搬
入された被処理材に対して、その搬送方向にほぼ直交す
る全域に均一に分散させて研磨材を強制的に叩き付ける
打撃方式の投射装置と、投射後の被処理材表面から研磨
材等を掻取り状に除去し、吸い込む除去装置と、搬出口
近傍の研磨材、その他の塵埃等を吸い込み清掃する吸塵
装置と、吸い込まれた研磨材と塵埃その他とを分離した
後、再使用可能な研磨材を投射装置に再度供給する循環
分離装置とを備えた平面研磨機において、前記投射装置
は、被処理材の搬送方向に対してほぼ直交して配置され
て底部が開放されているほぼ半円筒状のカバー内で回転
自在に支承されたドラムシャフト周囲にこのドラムシャ
フト自体の長さ方向で適宜間隔毎に羽根支持板を放射状
に列設し、これらの羽根支持板夫々によって、被処理材
の搬送方向にほぼ直交して配装される複数の打撃羽根板
が周縁に固定支持されて成る打撃機構と、研磨材タンク
から吐出された研磨材を被処理材の搬送方向にほぼ直交
した方向で分散させて、旋回される前記打撃羽根板端縁
に沿って打撃羽根板下方に落下供給させる研磨材供給機
構とを備えており、この研磨材供給機構は、躯体フレー
ム上に配設形成された研磨材タンクと、この研磨材タン
クから吐出供給される研磨材の落下供給量を調整して打
撃機構に供給する流量調整器と、落下供給された研磨材
を打撃羽根板の端縁に沿って被処理材の搬送方向にほぼ
直交して分散させるよう、流量調整器下方で流量調整
器、打撃機構相互間に配装されている分散手段とを備え
ていて、分散手段は、打撃機構側に下方傾斜して配装さ
れていて、最下端縁が打撃機構における打撃羽根板端縁
位置近傍に至る傾斜盤と、この傾斜盤の下端部上面に突
設形成した塞き止め板とから成ることを特徴とする平面
研磨機。
【請求項２】除去装置は、吸気源に連通したクリーナ
ーダクトと、下端に至るに伴ない前後方向で次第に狭幅
となって形成されている吸込ノズルを下端に有し、クリ
ーナーダクトに連通して躯体フレーム内に配置されてい
るクリーナーフードとを備えている請求項１記載の平面
研磨機。
【請求項３】吸込ノズルの下端縁には、被処理材の搬
送方向に対向するように下方傾斜し、搬送される被処理
材表面上に摺接するゴム板製の掻取片を着脱、交換自在
に付設してある請求項１乃至２のいずれか記載の平面研
磨機。
【請求項４】循環分離装置は、除去装置、吸塵装置夫
々に連通するサイクロン式集塵機構と、この集塵機構に
よって分離回収された研磨材中から塵埃を選別分離する
選別機構と、選別分離された研磨材を投射装置に供給す
る供給機構とを備えている請求項１乃至３のいずれか記
載の平面研磨機。
【請求項５】選別機構は、集塵機構末端部の取出口に
接続した接続管と、この接続管下部に貯留された研磨材
を上方に持ち上げるほぼ直立状の第１エレベーターと、
この第１エレベーター上部から自重落下される研磨材中
から塵埃を除去する風力選別手段と、自重落下した研磨
材を貯留する貯留部とを備えている請求項４記載の平面
研磨機。
【請求項６】供給機構は、貯留部下部とほぼ一体状の
筐体に形成された第２エレベーターダクト内で循環する
ほぼ直立状の第２エレベーターのものとしてある請求項
４または５記載の平面研磨機。