JPH0230222Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0230222Y2 JPH0230222Y2 JP1985168997U JP16899785U JPH0230222Y2 JP H0230222 Y2 JPH0230222 Y2 JP H0230222Y2 JP 1985168997 U JP1985168997 U JP 1985168997U JP 16899785 U JP16899785 U JP 16899785U JP H0230222 Y2 JPH0230222 Y2 JP H0230222Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- blade
- blades
- casing
- rotating wheel
- facing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims description 26
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 11
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 11
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は、高速回転するインペラによつて砥粒
を投射し以て製品の表面を研掃する装置に関す
る。
を投射し以て製品の表面を研掃する装置に関す
る。
(従来技術)
従来のインペラ方式の投射装置では、砥粒はイ
ンペラの回転中心部を経てインペラブレードへ供
給され、該ブレードの表面を外方へ移動しながら
遠心作用により投射されているが、このような方
式では砥粒の分散角度がインペラの回転方向に沿
つて大きく広がり、製品の一部分だけを研掃した
り、小物製品を研掃したりする場合に投射効率
(全投射量の被研掃物に当る割合)が悪くなる。
すなわち、砥粒のムダ使いになると共に、エネル
ギーの浪費にもなる。
ンペラの回転中心部を経てインペラブレードへ供
給され、該ブレードの表面を外方へ移動しながら
遠心作用により投射されているが、このような方
式では砥粒の分散角度がインペラの回転方向に沿
つて大きく広がり、製品の一部分だけを研掃した
り、小物製品を研掃したりする場合に投射効率
(全投射量の被研掃物に当る割合)が悪くなる。
すなわち、砥粒のムダ使いになると共に、エネル
ギーの浪費にもなる。
また従来のものでは、砥粒のインペラへの供給
は自重落下によつており、このため研掃砥粒を投
射装置の上方へ荷揚げしなければならない。また
研掃砥粒をインペラへ供給する配管の設定にも制
約が生ずる。これらのことから、研掃装置が大型
化、複雑化し、設置スペース、製作コスト等で問
題があつた。
は自重落下によつており、このため研掃砥粒を投
射装置の上方へ荷揚げしなければならない。また
研掃砥粒をインペラへ供給する配管の設定にも制
約が生ずる。これらのことから、研掃装置が大型
化、複雑化し、設置スペース、製作コスト等で問
題があつた。
(考案の目的)
本考案は上記のような事情に鑑みてなされたも
のであり、砥粒のインペラの回転方向における分
散角度が必要以上に広がらず、また設置姿勢を自
由に取れる研掃砥粒の投射装置を提供せんとする
ものである。
のであり、砥粒のインペラの回転方向における分
散角度が必要以上に広がらず、また設置姿勢を自
由に取れる研掃砥粒の投射装置を提供せんとする
ものである。
(考案の構成)
以下、本考案を実施例に基づき詳細に説明する
と、第1図及び第2図は本考案に係る研掃砥粒の
投射装置を示し、1,1はベース2,2を介して
キヤビネツト3の壁面に取り付けられた一対の軸
受で、該軸受1,1間には軸4が回転自在にかけ
渡されている。なお前記軸4の一端にはプーリ5
が固着されており、図示しないベルトを介して同
じく図示しない駆動モータと連動可能にされてい
る。前記軸4には、内筒6、外筒7及び該両者を
連結する2枚の孔明き円盤8,8から成る回転ホ
イール9が、該内筒6を該軸4に嵌合させて装着
されている。
と、第1図及び第2図は本考案に係る研掃砥粒の
投射装置を示し、1,1はベース2,2を介して
キヤビネツト3の壁面に取り付けられた一対の軸
受で、該軸受1,1間には軸4が回転自在にかけ
渡されている。なお前記軸4の一端にはプーリ5
が固着されており、図示しないベルトを介して同
じく図示しない駆動モータと連動可能にされてい
る。前記軸4には、内筒6、外筒7及び該両者を
連結する2枚の孔明き円盤8,8から成る回転ホ
イール9が、該内筒6を該軸4に嵌合させて装着
されている。
なお前記内筒6と軸4とは、キー部材11によ
り一体化されている。前記外筒7の外周面には、
軸線方向に断面凸状の溝12が複数個、等間隔で
刻設されている。前記外筒7の外周部には、該外
筒7とほぼ同じ横巾を有し、その底部に前記溝1
2に対応する形状のリブを形成した複数個のブレ
ード13が、該リブを該溝12に嵌合させて放射
状に取り付けられている。なお前記外筒7の両端
面には円形の固定プレート14,14が取り付け
られており、前記ブレード13の該外筒7からの
脱落を防いでいる。また前記ブレード13におけ
る前記回転ホイール9の回転方向側の表面には、
耐摩耗性の打撃ライナ15が取り付けられてい
る。
り一体化されている。前記外筒7の外周面には、
軸線方向に断面凸状の溝12が複数個、等間隔で
刻設されている。前記外筒7の外周部には、該外
筒7とほぼ同じ横巾を有し、その底部に前記溝1
2に対応する形状のリブを形成した複数個のブレ
ード13が、該リブを該溝12に嵌合させて放射
状に取り付けられている。なお前記外筒7の両端
面には円形の固定プレート14,14が取り付け
られており、前記ブレード13の該外筒7からの
脱落を防いでいる。また前記ブレード13におけ
る前記回転ホイール9の回転方向側の表面には、
耐摩耗性の打撃ライナ15が取り付けられてい
る。
前記回転ホイール9及びブレード13は、投射
口16を備えたケーシング17により覆われてい
る。なお前記投射口16付近の内面には耐摩耗性
のライナ18が装着されている。前記ケーシング
17における前記軸4の貫通部はシールフランジ
19,19により密封されている。なお21,2
2,23はカラーであり、前記回転ホイール9の
ケーシング17内での位置決め及び前記軸4表面
の摩耗防止を目的として装着されている。
口16を備えたケーシング17により覆われてい
る。なお前記投射口16付近の内面には耐摩耗性
のライナ18が装着されている。前記ケーシング
17における前記軸4の貫通部はシールフランジ
19,19により密封されている。なお21,2
2,23はカラーであり、前記回転ホイール9の
ケーシング17内での位置決め及び前記軸4表面
の摩耗防止を目的として装着されている。
前記ケーシング17はブラケツト24,24を
介して前記キヤビネツト3の壁面に取り付けられ
ているが、該ブラケツト24,24には複数個の
ボルト孔(図示せず)が穿設されており、該ボル
ト孔とケーシング17の両側壁下部に穿設された
ボルト孔(図示せず)とを適宜合わせてボルト締
めすることにより、前記投射口16の向きを上下
方向に調節可能である。前記ケーシング17の両
側壁上部には、前記ブレード13交換用の開口2
5,25が互いに相対向して穿設されており、該
開口25,25は常時はフタ26,26により閉
鎖されている。
介して前記キヤビネツト3の壁面に取り付けられ
ているが、該ブラケツト24,24には複数個の
ボルト孔(図示せず)が穿設されており、該ボル
ト孔とケーシング17の両側壁下部に穿設された
ボルト孔(図示せず)とを適宜合わせてボルト締
めすることにより、前記投射口16の向きを上下
方向に調節可能である。前記ケーシング17の両
側壁上部には、前記ブレード13交換用の開口2
5,25が互いに相対向して穿設されており、該
開口25,25は常時はフタ26,26により閉
鎖されている。
前記ケーシング17の投射口16付近には、扁
平な空胴体から成り、その横巾が前記ブレード1
3のそれとほぼ同じにされた噴射スリツト27
が、その先端開口を該ケーシング17内に臨ませ
て配設されている。なお、噴射スリツト27の横
巾は、必要な投射巾に合わせて任意に決定しても
よい。前記噴射スリツト27の先端開口は、前記
ブレード13の打撃ライナ15方向に向けられて
いると共に、該ブレード13の回転軌道との間に
若干の隙間を保つて配設されている。
平な空胴体から成り、その横巾が前記ブレード1
3のそれとほぼ同じにされた噴射スリツト27
が、その先端開口を該ケーシング17内に臨ませ
て配設されている。なお、噴射スリツト27の横
巾は、必要な投射巾に合わせて任意に決定しても
よい。前記噴射スリツト27の先端開口は、前記
ブレード13の打撃ライナ15方向に向けられて
いると共に、該ブレード13の回転軌道との間に
若干の隙間を保つて配設されている。
前記噴射スリツト27の基端部は、扁平な空胴
体から成ると共に、途中で二又に分岐したミキシ
ングノズル28に接続している。
体から成ると共に、途中で二又に分岐したミキシ
ングノズル28に接続している。
前記ミキシングノズル28の一方の分岐端は、
図示しない砥粒貯槽と連通接続しており、他方の
分岐端はエアー流入スリツト29を介して図示し
ない圧縮空気源と連通接続している。
図示しない砥粒貯槽と連通接続しており、他方の
分岐端はエアー流入スリツト29を介して図示し
ない圧縮空気源と連通接続している。
なお前記エアー流入スリツト29は、ミキシン
グノズル28側の一端が扁平な中空状で他端が円
筒形状を成している。
グノズル28側の一端が扁平な中空状で他端が円
筒形状を成している。
(作 用)
上記のように構成された研掃砥粒の投射装置に
おいて、ケーシング17の投射口16の向きを上
下方向の所定の角度にセツトした上、図示しない
駆動モータを作動させて回転ホイール9を回転さ
せ、同じく図示しない圧縮空気源より圧縮空気を
エヤー流入スリツト29、ミキシングノズル28
及び噴射スリツト27を介して該ケーシング17
内へ供給する。このような状態で図示しない砥粒
貯槽から砥粒を前記ミキシングノズル28内へ供
給すると、該砥粒は圧縮空気の流れに乗り、噴射
スリツト27の先端開口から帯状となつて噴射さ
れ、ブレード13の打撃ライナ15に打たれてケ
ーシング17の投射口16から機外へ投射され
る。この場合、該砥粒の回転ホイール9の回転方
向における分散角度aは、噴射スリツト27の先
端開口の隙間を変えることにより調節可能であ
り、本実施例においては10〜30゜内に全量を集中
させることができた。
おいて、ケーシング17の投射口16の向きを上
下方向の所定の角度にセツトした上、図示しない
駆動モータを作動させて回転ホイール9を回転さ
せ、同じく図示しない圧縮空気源より圧縮空気を
エヤー流入スリツト29、ミキシングノズル28
及び噴射スリツト27を介して該ケーシング17
内へ供給する。このような状態で図示しない砥粒
貯槽から砥粒を前記ミキシングノズル28内へ供
給すると、該砥粒は圧縮空気の流れに乗り、噴射
スリツト27の先端開口から帯状となつて噴射さ
れ、ブレード13の打撃ライナ15に打たれてケ
ーシング17の投射口16から機外へ投射され
る。この場合、該砥粒の回転ホイール9の回転方
向における分散角度aは、噴射スリツト27の先
端開口の隙間を変えることにより調節可能であ
り、本実施例においては10〜30゜内に全量を集中
させることができた。
(考案の効果)
以上の説明から明らかなように、本考案は外周
面に放射状にブレードを取り付けた回転ホイール
を高速回転させると共に、該回転ホイールの外方
から該ブレードに向かつて砥粒を吹き付け、該ブ
レードの打撃力によつて砥粒を被研掃物に向かつ
て投射するものである。
面に放射状にブレードを取り付けた回転ホイール
を高速回転させると共に、該回転ホイールの外方
から該ブレードに向かつて砥粒を吹き付け、該ブ
レードの打撃力によつて砥粒を被研掃物に向かつ
て投射するものである。
このような本考案によれば、砥粒の回転ホイー
ルの回転方向における分散角度を従来のインペラ
方式の場合よりも小さくすることができる。その
結果、製品の一部分だけを研掃したり、小物製品
を研掃する場合に砥粒のムダ打ちが少なくなり、
その分砥粒及びエネルギーの節約になる。また本
考案では、砥粒の回転ホイールへの供給は圧縮空
気を介してなされているため、研掃砥粒を投射装
置の上方へ、荷揚げしなくてもよい。また研掃砥
粒を回転ホイールへ供給する配管も自由に設定で
きる。これらのことから研掃装置が小型化、簡素
化され、設置スペースの縮少、製作コストの低減
等が可能になる。
ルの回転方向における分散角度を従来のインペラ
方式の場合よりも小さくすることができる。その
結果、製品の一部分だけを研掃したり、小物製品
を研掃する場合に砥粒のムダ打ちが少なくなり、
その分砥粒及びエネルギーの節約になる。また本
考案では、砥粒の回転ホイールへの供給は圧縮空
気を介してなされているため、研掃砥粒を投射装
置の上方へ、荷揚げしなくてもよい。また研掃砥
粒を回転ホイールへ供給する配管も自由に設定で
きる。これらのことから研掃装置が小型化、簡素
化され、設置スペースの縮少、製作コストの低減
等が可能になる。
図面は本考案に係る研掃砥粒の投射装置を示
し、第1図は要部切欠き正面図、第2図は第1図
のA−A線における断面図である。 1,1……軸受、4……軸、9……回転ホイー
ル、13……ブレード、15……打撃ライナ、1
6……投射口、17……ケーシング、27……噴
射スリツト、28……ミキシングノズル、29…
…エヤー流入スリツト。
し、第1図は要部切欠き正面図、第2図は第1図
のA−A線における断面図である。 1,1……軸受、4……軸、9……回転ホイー
ル、13……ブレード、15……打撃ライナ、1
6……投射口、17……ケーシング、27……噴
射スリツト、28……ミキシングノズル、29…
…エヤー流入スリツト。
Claims (1)
- 一対の軸受1,1間に軸4を回転自在にかけ渡
し、該軸4に円筒状の回転ホイール9を同芯状に
装着・固定し、該回転ホイール9の外周面にブレ
ード13を複数個、放射状に、かつ等間隔で取り
付け、該回転ホイール9及びブレード13を投射
口16を備えたケーシング17で包囲し、該投射
口16附近に扁平な空胴体から成る噴射スリツト
27を、その先端開口部をケーシング17内に臨
ませると共に、その基端開口部を圧縮空気源及び
砥粒供給源に連通するミキシングノズル28に接
続させて配設し、前記噴射スリツト27の先端開
口部は、前記ブレード13の回転方向に対向し、
かつ該ブレード13の回転軌道との間に若干の隙
間を保つて配設されていることを特徴とする研掃
砥粒の投射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985168997U JPH0230222Y2 (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985168997U JPH0230222Y2 (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6278266U JPS6278266U (ja) | 1987-05-19 |
JPH0230222Y2 true JPH0230222Y2 (ja) | 1990-08-14 |
Family
ID=31102396
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985168997U Expired JPH0230222Y2 (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0230222Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0798310B2 (ja) * | 1992-07-02 | 1995-10-25 | 秋元産業株式会社 | 平面研磨機 |
US7905766B2 (en) * | 2005-09-06 | 2011-03-15 | Sintokogio, Ltd. | Centrifugally projecting machine |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS496591A (ja) * | 1972-04-26 | 1974-01-21 |
-
1985
- 1985-10-31 JP JP1985168997U patent/JPH0230222Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS496591A (ja) * | 1972-04-26 | 1974-01-21 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6278266U (ja) | 1987-05-19 |
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