JPH078834B2 - 置換されたビニル鎖により3位置が置換された新規なシクロプロパンカルボン酸 - Google Patents

置換されたビニル鎖により3位置が置換された新規なシクロプロパンカルボン酸

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JPH078834B2
JPH078834B2 JP35407491A JP35407491A JPH078834B2 JP H078834 B2 JPH078834 B2 JP H078834B2 JP 35407491 A JP35407491 A JP 35407491A JP 35407491 A JP35407491 A JP 35407491A JP H078834 B2 JPH078834 B2 JP H078834B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、置換されたビニル鎖により3位
置が置換された新規なシクロプロパンカルボン酸に関す
るものである。
【0002】従って、本発明の主題は、全ての立体異性
体型における又は立体異性体の混合物としての一般式
(IV’):
【化2】 [式中、Xは酸素若しくは硫黄原子、スルホキシド基又
はスルホン基を示し、 は1〜6個の炭素原子を有す
る線状若しくは分枝鎖状アルキル基又はフェニル基を表
わし、 は1〜6個の炭素原子を有する線状又は分枝
鎖状アルキル基を表わす]を有する化合物、特にXが酸
素若しくは硫黄原子を示す式(IV’)を有する化合物
にある。
【0003】式(IV’)を有する化合物においてR
及びR が表わす1〜6個の炭素原子を有する線状若し
くは分枝鎖状アルキル基とは、メチル、エチル、線状若
しくは分枝鎖状のプロピル、線状若しくは分枝鎖状のブ
チル、線状若しくは分枝鎖状のペンチル又は線状若しく
は分枝鎖状のヘキシル基である
【0004】一般式(IV') の化合物は、式(II):
【化3】 [式中、R4 は水素原子又は容易に開裂しうるアルコー
ルの残基を示し、R4 が水素原子でありかつ配列がcis
である場合、式:
【化4】 の環状型として示すことができる]を有する化合物を式
(III) :
【化5】 [式中、X、R1 及びR3 は上記の意味を有する]を有
する化合物と反応させて式(IV):
【化6】 を有する化合物を得、R4 が容易に開裂しうるエステル
の残基を示す場合にはこれを加水分解剤の作用にかけて
4 が水素原子を示す式(IV)の化合物(即ち一般式(I
V') の化合物)を得ることによって製造することができ
る。
【0005】一般式(IV') の化合物は、全ての立体異性
体型における又は立体異性体の混合物としての一般式
(I):
【化7】 [式中、X、R1 及びR3 は前記の意味を持ち、R2
ピレスリノイドの合成に使用されるアルコールR2 OH
の残基を示す]を有する化合物を製造するための中間体
として有用である。即ち、式(IV') の化合物をアルコー
ルR2 OH又はその誘導体の1種の作用にかけることに
よって、式(I)を有する対応する化合物を得ることが
できる。
【0006】式(I)を有する化合物は、寄生虫を撲滅
するために使用しうる有用な性質を示す。例えばこれは
植物の寄生虫、家屋の寄生虫及び温血動物の寄生虫を撲
滅することができる。したがって、式(I)の化合物は
昆虫、線虫並びに植物及び動物の寄生性ダニを撲滅する
ために使用することができる。
【0007】上記方法を行なうための好適条件は次の通
りである:式(III) を有する化合物による作用は、例え
ばアルカリアルコラート(例えばカリウムt−ブチラー
ト又はナトリウムエチラート)のような強塩基の存在下
で行ない;容易に開裂しうるアルコールの残基はメトキ
シメチル、メチルチオメチル又はt−ブチル残基であ
り;容易に開裂しうるエステルに反応させる加水分解剤
は、特に、例えばp−トルエンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸又は塩酸のような酸分解剤であり;式(IV') を有
する化合物とアルコールR2 OHとの縮合は、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド又はジイソプロピルカルボジイ
ミドの存在下で有利に行なわれる。
【0008】式(IV)の化合物は、式(II)の化合物を
式(V):
【化8】 [式中、X、R1 及びR3 は上記の意味を有しかつYは
8個までの炭素原子を有するアルコキシル又はアリール
基を示す]を有する化合物の作用にかけることによって
製造することもできる。好適実現方法においては、式
(II)を有する化合物を例えばブチルリチウムのような
強塩基の存在下で式(V)を有する化合物と反応させ
る。
【0009】参考として、式(I)の化合物においてX
がスルホキシド基若しくはスルホン基を示す化合物は、
出発化合物としてXが硫黄原子を示す式(III) 又は式
(V)を有する化合物を使用し、このように得られた式
(I)においてXが硫黄原子である化合物に対し酸化を
行なうことによって製造することもできる。上記方法を
行なうための好適条件において、酸化剤はメタ過沃素酸
ナトリウム又は例えば過安息香酸若しくはメタクロル過
安息香酸のような過酸である。
【0010】式(II)、(III) 及び(V)を有する化合
物は文献に記載されている。
【0011】式(IV') を有する酸の中では、特に次のも
のを挙げることができる。 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸及び1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−
2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸;1R,trans 3−(ΔZ2
−メチルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸;1R,tr
ans 3−(ΔE又はΔZ2−フェニルチオ−2−エトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸;1R,trans 3−(ΔE2−エトキシ
−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸及び1R,trans 3−(Δ
Z2−エトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸;1R,ci
s 3−(ΔZ2−フェニルチオ−2−エトキシカルボニ
ルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸;1R,cis 3−(ΔE2−メトキシカルボニル−
2−メトキシエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸及び対応する1R,cis ΔZ酸;1R,
cis 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−メトキシカルボニ
ルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸及び対応するΔE酸;1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸及び対応す
るΔZ酸。
【0012】以下の例により本発明を説明するが、本発
明はこれらのみに限定されない。
【0013】例1:1R,trans 3−(ΔE2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=CH3 、X=O)
【0014】工程A 1R,trans 3−(ΔE及びΔZ2−メトキシ−2−メ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸t−ブチル (1R,trans ΔE及びΔZ、R1 =CH3 、R4 =t
−ブチル、R3 =CH3、X=O)。テトラヒドロフラ
ン80ミリリットル中のメチル−1−メトキシアセテー
ト−O,O−ジメチルホスホン酸8.5gの溶液中へシ
クロヘキサン中のブチルリチウムの20%溶液21ミリ
リットルを−60℃で導入して10分間撹拌し、さらに
−60℃にてテトラヒドロフラン25ミリリットル中の
1R,trans 3−ホルミル−2,2−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸t−ブチル7.92gの溶液を導入
し、そして−60℃にて5時間撹拌した。次いで、反応
混合物を水中へ注ぎ入れ、撹拌しそしてエチルエーテル
で抽出した。有機相をデカンテーションにより分離し、
減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。残留物をシリカ
上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルと
の混合物(9/1)で溶出させてΔZエステル1.23
gとΔEエステル6.77gとを得た。 ΔZ異性体 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.3p
pm。 t−ブチルのメチルの水素に基づくピーク、1.47p
pm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.57〜1.67ppm及び2.25〜2.5
ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.73及び3.8
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.93〜6.1pp
m。 ΔE異性体 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.13〜1.28
ppm。 t−ブチルのメチルの水素に基づくピーク、1.45p
pm。 シクロプロピルの位置3における水素のピーク、2.5
3〜2.76ppm。 メトキシメチルの水素に基づくピーク、3.6〜4.3
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。
【0015】工程B 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔE、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=CH3 、X=O) 塩化メチレン40ミリリットル中の1R,trans 3−
(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t−
ブチル2.13gの溶液中へ9.1ミリリットルのトリ
フルオロ酢酸を0℃にて導入し、この温度で3時間撹拌
した。90ミリリットルのシクロヘキサンを導入し、そ
して全体を撹拌し、次いで減圧下での蒸留により濃縮乾
固させた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/6)で溶出
させて0.87gの求める生成物を得た。MP=78
℃。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク1.2〜1.35pp
m。 シクロプロパンの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.44〜1.53ppm及び2.7〜2.9p
pm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.60〜3.84
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。
【0016】工程B’ 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=CH3 、X=O) 19gの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−メ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸t−ブチルと1.9gのパラトルエ
ンスルホン酸とを190ミリリットルのトルエン中に導
入し、反応混合物を還流させそして1時間還流させ続
け、次いで減圧下で濃縮乾固した。水とエーテルとを加
え、撹拌後にエーテル相をデカンテーションにより分離
し、そして減圧下での蒸留により濃縮乾固した。残留物
をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸
エチルとの混合物(4/6)で溶出させて7gの求める
生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.26〜1.37
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.67〜1.75ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.47〜2.54〜2.03ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、8.3ppm。
【0017】参考例1:1R,trans 3−(ΔE2−メ
トキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1
−(3−フェノキシフェニル)−メチル 1.45gの1−クロル−N,N−2−トリメチルプロ
ペニルアミンと1.7gの1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸とを14ミリリッ
トルの塩化メチレン中に導入し、そして30分間撹拌し
た。1.7gの(S)−α−シアノ−1−(3−フェノ
キシフェニル)−メチルアルコールと塩化メチレン14
ミリリットル中のピリジン1.47gの溶液とを導入
し、全体を20℃にて3時間撹拌した。次いで、反応混
合物を1N塩酸水溶液中に注ぎ入れ、そして撹拌した。
有機相をデカンテーションにより分離し、水洗し、そし
て減圧下での蒸留により濃縮乾固した。残留物をシリカ
上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルと
の混合物(8/2)で溶出させて2.7gの求める生成
物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.16〜1.28
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.5〜1.6ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.74〜2.83〜2.88〜2.97ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.85p
pm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.0ppm。 CNのα位における炭素により担持された水素に基づく
ピーク、6.45ppm。
【0018】参考例2:1R,trans (ΔE2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸1−(3−フェノキシフ
ェニル)−メチル 2.28gの1R,trans (ΔE2−メトキシ−2−メ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸と20ミリリットルの塩化メチレン
と2.06gのジシクロルヘキシルカルボジイミドと1
ミリリットルのピリジンとを混合し、そして20℃で4
5分間撹拌した。塩化メチレン5ミリリットル中の3−
フェノキシベンジルアルコール2gの溶液を導入し、2
0℃にて16時間撹拌した。ろ過後、ろ液を減圧下での
蒸留により濃縮乾固させ、残留物をシリカ上でのクロマ
トグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(7
/3)で溶出させた。1.6gの求める生成物が得られ
た。 [α]D =+3.5°、(c=1%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.16〜1.3p
pm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.48〜1.57ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.67〜2.76ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.58〜3.8p
pm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。 ベンジルCH2 の水素に基づくピーク、5.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.8〜7.6pp
m。
【0019】適当なアルコールを使用して参考例2にお
けると同様に操作することにより、次の化合物(参考例
3〜14)が得られた。
【0020】参考例3:1R,trans 3−(ΔZ2−メ
トキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1
−(3−フェノキシフェニル)−メチル [α]D =+7.5°(c=0.8%、CHCl3 ) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.27
ppm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.7〜1.8ppm及び2.4〜2.7pp
m。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.0〜7.6pp
m。
【0021】参考例4:1R,trans (ΔZ2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸1−(3−フェノキシフ
ェニル)−メチル [α]D =+10°(c=0.5%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.3p
pm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.6〜1.7ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.36〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 ベンジルメチレンの水素に基づくピーク、5.1pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
【0022】参考例5:1R,trans (ΔE2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸3’−アリル−2’−メ
チル−4’−オキソ−2’−シクロペンテン−1’−イ
ル MP=62℃、[α]D =−9.5°(c=0.5%、
クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.45〜1.54ppm。 アレスロロンの位置Z’におけるメチルに基づくピー
ク、2.06ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜3.0ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.8pp
m。
【0023】参考例6:1R,trans (ΔZ2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸3’−アリル−2’−メ
チル−4’−オキソ−2’−シクロペンテン−1’−イ
ル [α]D =−5.5°(c=0.5%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.68〜1.77ppm。 アレスロロンの位置2’におけるメチルの水素に基づく
ピーク、2.05ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.74〜3.82
ppm。 アリルの位置3におけるメチレンの水素に基づくピー
ク、4.8〜5.25ppm。 アレスロロンの位置2’における水素に基づくピーク、
5.5〜6.2ppm。 アレスロロンの位置1’における水素に基づくピーク、
5.5〜6.2ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.1ppm。
【0024】参考例7:1R,trans (ΔZ2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸[1−(3−プロピン−
2−イル)−2,5−ジオキソイミダゾリジニルメチ
ル] [α]D =+3.5°(c=0.5%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3pp
m。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.6〜1.7ppm。 エテニルの水素に基づくピーク、2.3〜2.4〜2.
45ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.35〜2.45〜2.2〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 イミダゾリンメチレンの水素に基づくピーク、4.05
ppm。 プロピニルのメチレンの水素に基づくピーク、4.25
〜4.30ppm。 −COOCH2 −におけるアルコール結合のメチレンの
水素に基づくピーク、5.4〜5.55〜5.6〜5.
7ppm。
【0025】参考例8:1R,trans (ΔE2−メトキ
シ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1−
(3−フェノキシ−4−フルオロフェニル)−メチル [α]D =+3°(c=1.5%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.16〜1.25
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.45〜1.55ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.9ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.8pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
【0026】参考例9:1R,trans 3−(ΔZ2−メ
トキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1
−(3−フェノキシ−4−フルオロフェニル)−メチル [α]D =+9.5°(c=1.2%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.25
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.69〜1.78ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.66ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、2.75〜3.82
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7〜7.6ppm。
【0027】参考例10:1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(RS)−シアノ
−6’−フェノキシ−2’−ピリジルメチル [α]D =+6°(c=0.5%、クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.2〜
1.28〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.52〜1.60ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.68〜3.0ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.78〜
3.8ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 ピリジンの位置3及び5における水素に基づくピーク、
6.8〜6.96〜7〜7.7ppm。 ピリジンの位置4における水素に基づくピーク、7.6
5〜7.76〜7.88ppm。
【0028】参考例11:1R,trans (ΔZ2−メト
キシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸(RS)−シアノ−
6’−フェノキシ−2’−ピリジルメチル [α]D =+13.5°(c=0.7%、クロロホル
ム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.28
〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.73〜1.82ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.67ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.57〜3.77
〜3.8ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.08pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.38ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜8ppm。
【0029】参考例12:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸ベンジル NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.3p
pm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.8ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.5ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 ベンジルメチレンの水素に基づくピーク、5.15pp
m。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.38ppm。
【0030】参考例13:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸ペンタフルオロフ
ェニルメチル NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.74ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.61ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7〜3.8pp
m。 ベンジルメチレンの水素に基づくピーク、5.22〜
5.25〜5.27ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.06pp
m。
【0031】参考例14:1R,trans (ΔE2−メト
キシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸[1−(3−プロピン
−2−イル)−2,5−ジオキソイミダゾリジニル]−
メチル [α]D =O(クロロホルム)。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.32
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.4〜1.5ppm。 エチニルの水素に基づくピーク、2.3〜2.4〜2.
43ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.65〜2.87ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6〜3.8pp
m。 プロピニルのメチレンにおける水素に基づくピーク、
4.28〜4.32ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.9〜5.03pp
m。 −COOCH2 −のメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.4〜5.6〜5.62〜5.78ppm。
【0032】例2:1R,cis 3−(ΔE及びΔZ2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,cis ΔE及びΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、
3 =CH3 、X=O)4.24gのメチル−1−メト
キシアセテート−O,O−ジメチルホスホン酸と2.8
4gの1R,5S−6,6−ジメチル−4(R)−ヒド
ロキシ−3−オキソビシクロ−[3,1,0]−ヘキサ
ン−2−オンと70ミリリットルのテトラヒドロフラン
とを混合した。テトラヒドロフラン30ミリリットル中
のカリウムt−ブチラート4.5gの溶液を−45℃に
て導入し、そして−40℃で5時間撹拌した後、反応混
合物を氷水中に注ぎ入れた。次いで、これを1N塩酸水
溶液によりpH5まで酸性化し、そしてエチルエーテル
で抽出した。エーテル溶液を減圧下での蒸留により濃縮
乾固させて4.2gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.29〜1.33
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.76〜1.9(E)及び1.8〜1.96(Z)p
pm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.2〜2.5(Z)及び2.75〜3.05(E)p
pm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.63〜3.73
及び3.8〜3.05ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.55〜6.7(Z)
及び5.58〜5.73(E)ppm。
【0033】参考例15及び15’:1R,cis 3−
(ΔZ2−メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)α−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メ
チル及び1R,cis 3−(ΔE2−メトキシ−2−メト
キシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプ
ロパンカルボン酸(S)α−シアノ−1−(3−フェノ
キシフェニル)メチル 例2で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作し、さらに得られた生成物
をクロマトグラフィーによって分離し、ヘキサン−酢酸
エチル混合物(8/2)で溶出させて求める2つの生成
物を得た。 エステルΔE: [α]D =+7°(c=0.3%、クロロホルム) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.21〜1.27
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.83〜1.97ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.83〜3.12ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.67〜3.88
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.33〜5.68pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7〜7.6ppm。 エステルΔZ: [α]D =+29.5°(c=0.5%、クロロホル
ム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.26ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.89〜2.03ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
1.28〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.75〜3.81
ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.5〜6.7ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.98〜7.7pp
m。
【0034】例3:1R,trans 3−(ΔZ2−メトキ
シ−2−イソプロピルオキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=イソプロピル、X=O)
【0035】工程A 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−イソプロピ
ルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸メトキシメチル及び対応するΔE
化合物 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =−CH2
OCH3 、R3 =イソプロピル、X=O) 1.66gの1−イソプロピルオキシカルボニル−1−
メトキシメチルジフェニル−ホスフィンオキサイドを6
0ミリリットルのテトラヒドロフラン中に導入し、シク
ロヘキサン中のブチル−リチウムの20%溶液2.75
ミリリットルを−60℃にて加え、さらにテトラヒドロ
フラン10ミリリットル中のメトキシメチル−2,2−
ジメチル−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸93
0mgを導入した。−60℃にて6時間撹拌した後、反
応混合物を水中へ注ぎ入れ、そしてエチルエーテルで抽
出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、
残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサン
と酢酸エチルとの混合物(8/2)で溶出させて650
mgのΔZ異性体と380mgΔE異性体とを得た。 異性体ΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.33
ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.31〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.80ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.57〜2.63ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7ppm。 イソプロピルの水素に基づくピーク、5.08ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.3ppm。 異性体ΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.35
ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.3〜1.42ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.49〜1.58ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.75〜3ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.6ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.88〜5.02pp
m。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.3ppm。
【0036】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−イソプロピ
ルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=イソプロピル、X=O) 5.4gの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−
イソプロピルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチルと10
0ミリリットルのメタノールと100ミリリットルのア
セトンと200ミリリットルの1N塩酸水溶液とを混合
し、20℃にて16時間撹拌し、次いで水中へ注ぎ入れ
た。塩化メチレンで抽出した後、抽出物を減圧下での蒸
留により濃縮乾固して4.6gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27〜1.38
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.67〜1.77ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.38〜2.63ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.05ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.76ppm。 イソプロピルの水素に基づくピーク、5.17ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.08pp
m。
【0037】参考例16:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−イソプロピルオキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 例3で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 [α]D =+9.5°(c=0.5%、クロロホルム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.27
ppm。 イソプロピルのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.25〜1.35ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.72〜1.77ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.41〜2.67ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7ppm。 イソプロピルの水素に基づくピーク、5.1ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.8及び5.96pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
【0038】例4:1R,trans 3−(ΔZ2−メトキ
シ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=t−ブチル、X=O)
【0039】工程A 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−t−ブトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸メトキシメチル及び対応するΔZエステ
ル 1.73gの1−t−ブトキシカルボニル−1−メトキ
シメチルジフェニルホスフィンオキサイドを60ミリリ
ットルのテトラヒドロフラン中に導入し、そして−60
℃にてシクロヘキサン中のブチルリチウムの20%溶液
2.75ミリリットルを加えた。テトラヒドロフラン1
0ミリリットル中のメトキシメチル−2,2−ジメチル
−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸930mgの
溶液を加え、−60℃にて5時間撹拌した後、反応混合
物を水中に注ぎ入れ、そしてエチルエーテルで抽出し
た。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、残留
物をシリカ上でクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸
エチルとの混合物(8/2)で溶出させて0.7gのΔ
Zエステルと0.72gのΔEエステルとを得た。 エステルΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.35
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
53ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.68〜1.77ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.6ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.3ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.8〜6ppm。 エステルΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.34
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
56ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。
【0040】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシカルボニル−
2−メトキシエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=t−ブチル、X=O)520mgの1R,trans 3−
(ΔZ2−メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテ
ニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸メ
トキシメチルと10ミリリットルのメタノールと10ミ
リリットルのアセトンと20ミリリットルの1N塩酸水
溶液とを混合し、20℃にて16時間撹拌し、そして水
中へ注ぎ入れた。塩化メチレンで抽出しかつ減圧下での
蒸留により濃縮乾固した後、求める酸420mgを得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.26〜1.37
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
55ppm。 イソプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.74ppm。 イソプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.37〜2.6ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.77ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.87〜6.03pp
m。
【0041】参考例17:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シ
アノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例4で製造した酸から出発して参考例2におけると同様
に操作して、求める生成物を得た(MP=66℃)。 [α]D =+7.5°(c=0.5%、クロロホルム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
53ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.79ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.42〜2.66ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.73ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.8〜5.97pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.47ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.58pp
m。
【0042】例5:1R,trans 3−(ΔZ2−メトキ
シ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=C25 、X=O)
【0043】工程A 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−エトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =t−ブチ
ル、R3 =C25 、X=O) 小片に切断したナトリウム1.25gを25ミリリット
ルのトルエン中に導入した。0℃にて0.05ミリリッ
トルのエタノール次いで9.9gのt−ブチル−2,2
−ジメチル−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸を
滴加し、さらに17.7gの酢酸エチルメトキシを加え
た。20℃にて16時間撹拌した後、反応混合物を水中
へ注ぎ込み、そして塩化メチレンで抽出した。抽出物を
減圧下での蒸留により濃縮乾固し、残留物をシリカ上で
クロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合
物で溶出させて10gの求める生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3pp
m。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
47ppm。 エトキシのエチルにおける水素に基づくピーク、1.1
6〜1.28〜1.4及び4.05〜4.16〜4.2
8〜4.4ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.57〜1.66ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.15〜2.34及び2.4〜2.5ppm。 メトキシルの水素に基づくピーク、3.7ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.86〜6.03pp
m。
【0044】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−エトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =CH3 、R4 =H、R3
=C25 、X=O) 5.6gの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−
エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸t−ブチルを60ミリリットルの
トルエン中に導入して還流させた。0.5gのp−トル
エンスルホン酸を加え、1時間還流させ、次いで反応混
合物を水中へ注ぎ入れた。有機相をデカンテーションに
より分離し、水相をエチルエーテルで抽出し、そして抽
出物を合した後、有機相を減圧下で濃縮乾固した。残留
物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢
酸エチルとの混合物(4/6)で溶出させて3.2gの
求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.36
ppm。 エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.32〜1.
43及び4.03〜4.15〜4.26〜4.38pp
m。 イソプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.74ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.35〜2.44及び2.52〜2.61ppm。 メトキシのメチルにおける水素に基づくピーク、3.7
ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.66〜6.03pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、10.01pp
m。
【0045】参考例18:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例5で得られた酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.21〜1.26
ppm。 エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜1.4
及び4.1〜4.2〜4.3〜4.4ppm。 シクロプロピルの位置1及び位置3における水素に基づ
くピーク、1.7〜1.8及び2.43〜2.5〜2.
6〜2.7ppm。 メトキシの水素に基づくピーク、3.74ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.09〜6.05pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.43ppm。
【0046】例6:1R,trans 3−(ΔZ2−エトキ
シ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =C25 、R4 =H、R
3 =C25 、X=O)
【0047】工程A 1R,trans 3−(ΔE2−エトキシ−2−エトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔE、R1 =C25 、R4 =t−ブ
チル、R3 =C25 、X=O及びΔZ異性体)。テト
ラヒドロフラン40ミリリットル中のO,O−ジエチル
−1−エトキシ−1−エトキシカルボニルメチルホスホ
ン酸5.36gの溶液中へブチルリチウムの溶液10.
5ミリリットル(滴定値2モル/l)を−60℃にて徐
々に導入し、そして10分間撹拌した。さらに−60℃
にて3.96gの1R,trans 3−ホルミル−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸t−ブチルを導入
し、そして全体を−60℃にて5時間撹拌した。次い
で、反応混合物を水中に注ぎ入れ、そしてエチルエーテ
ルで抽出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮し、
残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサン
と酢酸エチルとの混合物(9/1)で溶出して1.35
gの1R,trans 3−(ΔZ2−エトキシ−2−エトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸t−ブチルと3.46gの1R,trans
3−(ΔE2−エトキシ−2−エトキシカルボニルエテ
ニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t
−ブチルとを得た。異性体ΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3pp
m。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.18〜1.43
及び3.75〜4.1ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.18〜
1.43及び4.06〜4.43ppm。 t−ブトキシのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.47ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.57〜1.66ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.27〜2.36及び2.44〜2.53ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.95〜6.61pp
m。 異性体ΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.06〜1.28
ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.22〜1.33
〜1.45及び3.6〜3.7〜3.8〜3.9pp
m。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.22〜
1.33〜1.45及び4.1〜4.2〜4.3〜4.
4ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.15〜1.47ppm。 t−ブトキシのメチルにおける水素に基づくピーク、
1.47ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.53〜2.62及び2.67〜2.76ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.54〜5.08pp
m。
【0048】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−エトキシ−2−エトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸 (1R,trans 、ΔZ、R1 =C25 、R4 =H、R
3 =C25 、X=O) 32ミリリットルのトルエン中へ3.2gの1R,tran
s 3−(ΔE2−エトキシ−2−エトキシカルボニルエ
テニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
t−ブチルと0.32gのp−トルエンスルホン酸とを
導入した。反応混合物を還流させ、45分間保ち、次い
で減圧下での蒸留によって濃縮乾固した。エチルエーテ
ルを加え、水洗した後、有機溶液を減圧下での蒸留によ
り濃縮乾固した。残留物をシリカ上でのクロマトグラフ
にかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/6)で
溶出させて1.84gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.35
ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜
1.4及び3.76〜3.88〜4.0〜4.1pp
m。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.2〜
1.3〜1.4及び4.08〜4.2〜4.3〜4.4
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.65〜1.75ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.49〜2.56〜2.65ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.95〜6.11pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、7.33ppm。
【0049】参考例19:1R,trans 3−(ΔZ2−
エトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 参考例2におけると同様に操作し、かつ例6で製造した
酸と適当なアルコールとから出発して求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.95p
pm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.15〜1.17
〜1.38及び3.75〜3.87〜3.98〜4.1
ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.15〜
1.17〜1.38及び4.05〜4.16〜4.23
〜4.4ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.7〜1.8ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.68ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.9〜6.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.38ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.5pp
m。
【0050】例7:1R,trans 3−(ΔE2−エトキ
シ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE、R1 =C25 、R4 =H、R
3 =C25 、X=O)塩化メチレン70ミリリットル
中の1R,trans 3−(ΔE2−エトキシ−2−エトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸t−ブチル3.38gの溶液中へ13.
4ミリリットルのトリフルオロ酢酸を0℃にて導入し、
0℃で3時間撹拌した。シクロヘキサンを導入し、そし
て減圧下での蒸留により濃縮乾固させた後の残留物をシ
リカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチ
ルとの混合物(4/6)で溶出させて1.81gの求め
る酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.19〜1.35
ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.23〜
1.35〜1.46及び4.15〜4.26〜4.38
〜4.5ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.23〜1.35
〜1.46及び3.6〜3.7〜3.8〜3.95pp
m。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.43〜1.52ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.8〜2.9〜2.69〜2.78ppm。 エチレン水素に基づくピーク、4.96〜5.1pp
m。 カルボキシルの水素に基づくピーク、9ppm。
【0051】参考例20:1R,trans 3−(ΔE2−
エトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例7で製造した酸から出発して参考例1におけると同様
に操作して、求める生成物を得た。 [α]D =+9.5°(c=1%、クロロホルム) NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.25
ppm。 エトキシカルボニルの水素に基づくピーク、1.2〜
1.45及び4.15〜4.26〜4.38〜4.5p
pm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.2〜1.45及
び3.6〜3.7〜3.8〜3.95ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.49〜1.58ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.8〜2.85〜2.95ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、4.9〜5.0pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.43ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
【0052】例8:1R,trans 3−(2−フェノキシ
−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ又はΔE、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C25 、X=O)
【0053】工程A 1R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェノキシ−2−
エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=t−ブチル、R3 =C25 、X=O) 小片に切断したナトリウム1.25gを25ミリリット
ルのトルエン中に導入し、かつ0.05ミリリットルの
エタノールを0℃にて導入した。次いで、9.9gの1
R,trans 2,2−ジメチル−3−ホルミルシクロプロ
パンカルボン酸t−ブチルと28gのフェノキシ酢酸エ
チルとを滴加し、20℃にて16時間撹拌した。20ミ
リリットルのトルエンを加えて4時間撹拌し、次いで反
応混合物を水と氷との混合物へ注ぎ入れ、そして塩化メ
チレンで抽出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮
乾固させ、そして残留物をシリカ上でのクロマトグラフ
にかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(7/3)で
溶出させて12.47gの求める生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.05〜1.16〜
1.28及び3.96〜4.08〜4.2〜4.3pp
m。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.23
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
37ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.62〜1.70ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.13〜2.4ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.23〜6.4pp
m。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.7〜7.4pp
m。
【0054】工程B 1R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェノキシ−2−
エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔZ又はΔE、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C25 、X=O) 120ミリリットルのトルエン中へ12gの1R,tran
s 3−(2−フェノキシ−2−エトキシカルボニルエテ
ニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t
−ブチルを導入し、そして還流させた後、1gのp−ト
ルエンスルホン酸を加え、還流を1時間続けた。次い
で、反応混合物を水中へ注ぎ入れ、有機相をデカンテー
ションにより分離し、そして減圧下での蒸留により濃縮
乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/6)で溶出
させて、7.91gの求める酸を得た。 IRスペクトル(クロロホルム) 3510cm-1における吸収、OHモノ及びダイマー酸 1720cm-1における吸収、エステルのC=O 1699cm-1における吸収、ダイマー酸 1655cm-1(屈曲)及び1651cm-1(最大)に
おける吸収、C=C共役結合 1600cm-1、1594cm-1、1491cm-1にお
ける吸収、芳香族 1380cm-1における吸収、二重ジメチル。
【0055】参考例21:1R,trans 3−(ΔE又は
ΔZ2−フェノキシ−2−エトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 例8で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.06〜1.18〜
1.3及び4.01〜4.13〜4.25〜4.37p
pm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.13〜1.15
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.8〜1.9ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.3〜2.4〜2.46〜2.55ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.27〜6.46pp
m。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.36ppm。
【0056】例9:1R,cis 3−(ΔZ2−メチルチ
オ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸
【0057】工程A 1R,cis 3−(1−ヒドロキシ−2−メチルチオ−2
−エトキシカルボニルエチル)−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸 11.54gのエチルメチルチオアセテートと11.3
6gの1R,5S−6,6−ジメチル−4(R)−ヒド
ロキシ−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘキサ
ン−2−オンとを200ミリリットルのテトラヒドロフ
ラン中で混合した。−60℃まで冷却した後、テトラヒ
ドロフラン140ミリリットル中のカリウムt−ブチラ
ート18gを導入し、その温度で1時間撹拌した。次い
で、10分間かけてかつ−20℃を越えることなく20
0ミリリットルの1N塩酸を加えた。反応混合物を1.
5lの水中に注ぎ入れ、そして塩化メチレンで抽出し
た。抽出物を減圧下で濃縮乾固させ、残留物をイソプロ
ピルエーテルから再結晶化させた。10.22gの求め
る生成物が得られた。MP=114℃。
【0058】工程B 6,6−ジメチル−4−[メチルチオ,エトキシカルボ
ニルメチル]−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−
ヘキサン−2−オン 上記工程Aで得られた生成物9.67gを、80mgの
p−トルエンスルホン酸の存在下でベンゼン120ミリ
リットル中で還流させた。約60ミリリットルのベンゼ
ンを留去し、シリカゲルを満たしたディーン・スターク
装置のフラスコを装着し、還流を1.5時間続けた。減
圧下で濃縮乾固させた後、残留物をシリカ上でのクロマ
トグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6
/4)で溶出させて7.36gの求める生成物を得た。
【0059】工程C 1R,cis 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−エトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸及び1R,cis 3−(ΔE2−メチルチオ−
2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸 工程Bで得た生成物6.5gを60ミリリットルのベン
ゼン中で6ミリリットルのトリエチルアミンと共に3時
間還流させた。冷却後、反応混合物を100ミリリット
ルの2N塩酸中へ撹拌しながら注ぎ入れた。有機相をデ
カントしかつ濃縮乾固させ、次いで残留物をシリカ上で
のクロマトグラフにかけ、塩化メチレンと酢酸エチルと
の混合物(8/2)で溶出させて2.5gのΔZ酸及び
170mgのΔE酸並びにΔE酸とΔZ酸との混合物
1.74gを得、この混合物からさらに220mgのΔ
E酸をシリカ上での第2回のクロマトグラフィー(塩化
メチレンと酢酸エチルとの混合物(9/1)による溶
出)で回収した。 ΔE酸 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜1.4
及び4.1〜4.2〜4.4〜4.5ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27〜1.35
ppm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.8〜1.9〜2.8〜2.9〜3.1pp
m。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.2ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.25〜6.41pp
m。 ΔZ酸 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.3〜1.4
及び4.1〜4.2〜4.3〜4.5ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.3〜1.36p
pm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.9〜2.05及び2.5〜2.6〜2.8p
pm。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.3ppm。 カルボキシルの水素に基づくピーク、6.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、7.4〜7.6ppm。
【0060】参考例22:1R,cis 3−(ΔZ2−メ
チルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例9で製造した酸と適当なアルコールとから出発して参
考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.33〜
1.45及び4.13〜4.25〜4.37〜4.48
ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.28
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.97〜2.10ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.55〜2.65〜2.74〜2.85ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.46ppm。 芳香族核の水素におけるピーク、7.0〜7.67pp
m。
【0061】例10:1R,trans 3−(ΔZ2−メチ
ルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸
【0062】工程A 1R,trans 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−エトキシ
カルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸t−ブチル 0℃まで冷却したナトリウム2.3gを50ミリリット
ルのエタノール中へ導入した。エチラートが生成した
後、9.9gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホ
ルミルシクロプロパンカルボン酸t−ブチルと13.4
gのエチルメチルチオアセテートとを導入し、+5℃に
て16時間撹拌した。減圧下での蒸留により濃縮乾固さ
せた後、水とエチルエーテルとを加え、次いで有機相を
デカンテーションにより分離し、水洗し、そして減圧下
での蒸留により濃縮乾固させた。残留物をシリカ上での
クロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合
物(8/2)で溶出させて5.6gの求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.15〜1.27〜
1.38及び4.05〜4.16〜4.28〜4.4p
pm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.27
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
43ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.67〜1.75ppm。 チオメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、2.
28ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.53〜2.78ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.7〜6.8ppm。
【0063】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−エトキシ
カルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸 上記で得られた生成物5gを50ミリリットルのトルエ
ン中で0.5gのp−トルエンスルホン酸の存在下に4
5分間還流させた。20℃まで冷却した後、反応混合物
を100ミリリットルの水中に注ぎ入れ、そしてエチル
エーテルで抽出した。有機相を合し、脱水し、そして減
圧下で濃縮乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマト
グラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(4/
6)で溶出させて、3.47gの求める生成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27〜1.38
ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.65〜2.74〜2.82〜2.90ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.77〜1.87ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.77〜6.8pp
m。 メチルチオの水素におけるピーク、2.28ppm。 エチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.33〜
1.45及び4.1〜4.2〜4.3〜4.4ppm。
【0064】参考例23:1R,trans 3−(ΔZ2−
メチルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,
2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ
−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例10で製造した酸と適当なアルコールとから出発して
参考例2におけると同様に操作して、求める生成物を得
た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.23〜1.3p
pm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.8〜1.9ppm。 メチルチオのメチルにおける水素に基づくピーク、2.
3ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.8〜2.9〜3.0ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.5ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.7〜6.9ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.0〜7.6pp
m。
【0065】例11:1R,trans 3−(ΔE又はΔZ
2−フェニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)
−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C25 、X=S)工程A 1R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェニルチオ−2
−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸t−ブチル (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=t−ブチル、R3 =C25 、X=S) 2.3gのナトリウムを50ミリリットルのエタノール
中に導入し、そしてエチラートが生成した後、9.9g
の2,2−ジメチル−3−ホルミルシクロプロパンカル
ボン酸t−ブチルと19.6gのエチルフェニルチオア
セテートとの混合物を0℃にて加え、+5℃で16時間
撹拌した。溶剤を減圧下で除去し、水とエチルエーテル
とをさらに撹拌しながら加え、次いでエーテル相をデカ
ンテーションにより分離し、減圧下での蒸留により濃縮
乾固した。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(8/2)で溶出
させた。ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(9/1)で
再びクロマトグラフにかけた後、5.86gの求める生
成物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エトキシの水素に基づくピーク、0.98〜1.1〜
1.23及び4.0〜4.12〜4.23〜4.35p
pm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.2〜1.23p
pm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
47ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.77〜1.85ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.57〜2.65及び2.73〜2.8ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.9〜7.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.2ppm。
【0066】工程B 1R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェニルチオ−2
−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸 (1R,trans 、ΔE又はΔZ、R1 =フェニル、R4
=H、R3 =C25 、X=S) 5.27gの2R,trans 3−(ΔE又はΔZ2−フェ
ニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸t−ブチルと50
ミリリットルのトルエンと0.5gのp−トルエンスル
ホン酸とを混合し、この反応混合物を還流させかつ45
分間保った。冷却後、水中に注ぎ入れかつ撹拌し、有機
相をデカンテーションにより分離し、そしてエチルエー
テルで抽出した。有機相を合し、そして減圧下での蒸留
により濃縮乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマト
グラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6/
4)で溶出させて、3.32gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、0.98〜1.1〜1.
2及び3.9〜4.05〜4.2〜4.28ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.27ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.8〜1.9ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.6〜2.7〜2.8〜2.9ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.9〜7.1ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.2ppm。 カルボキシルの水素に基づくピーク、8.5ppm。
【0067】参考例24:1R,trans 3−(ΔE又は
ΔZ2−フェニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 例11で製造した酸と適当なアルコールとから出発して
参考例2におけるように操作して、求める生成物を得
た。MP=84℃。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.0〜1.11〜1.
23及び3.96〜4.08〜4.2〜4.3ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.25
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.89〜1.98ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.7〜2.8及び2.83〜2.9ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.7pp
m。
【0068】例12:1R,cis 3−(ΔZ2−フェニ
ルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸 (1R,cis 、R1 =フェニル、R4 =H、R3 =C2
5 、X=S)
【0069】工程A 1R,cis 3−(1−ヒドロキシ−2−フェニルチオ−
2−エトキシカルボニルエチル)−2,2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸 5.25gのエチルフェニルチオアセテートと3.5g
の1R,5S−6,6−ジメチル−4(R)−ヒドロキ
シ−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘキサン−
2−オンとを100ミリリットルのテトラヒドロフラン
中に導入し、次いで−60℃にて5.6gのカリウムt
−ブチラートと50ミリリットルのテトラヒドロフラン
とを加え、−60℃にて1時間撹拌した。温度を−20
℃以上に上昇させることなく1N塩酸水溶液を加え、そ
して撹拌した後、反応混合物を水中へ注ぎ入れ、塩化メ
チレンで抽出した。抽出物を水洗し、かつ減圧下での蒸
留により濃縮乾固させた。残留物をシリカ上でのクロマ
トグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6
/4)で溶出させて3.5gの求める酸を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.1〜1.35p
pm。 エチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.1〜
1.35ppm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.11〜1.77ppm。 エチルの位置3における水素に基づくピーク、3.7〜
4.66ppm。 エチルのメチレンにおける水素に基づくピーク、3.4
〜4.67ppm。 ヒドロキシルの水素に基づくピーク、5.94ppm。 カルボキシルの水素に基づくピーク、5.94ppm。
【0070】工程B 6,6−ジメチル−4−(1−フェニルチオ−1−エト
キシカルボニルメチル)−3−オキサビシクロ−[3,
1,0]−ヘキサン−2−オン 3.38gの1R,cis 3−(1−ヒドロキシ−2−フ
ェニルチオ−2−エトキシカルボニルエチル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸と50mgのp−
トルエンスルホン酸とを100ミリリットルのベンゼン
中に導入、そして還流させた。約30ミリリットルのベ
ンゼンを留去した後、シリカゲルを満たしたディーン−
スターク装置のフラスコを装着し、そして還流を、1.
5時間続けた。減圧下で蒸留により濃縮乾固させ、かつ
残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサン
と酢酸エチルとの混合物(6/4)で溶出させた後、
2.6gの求める生成物が得られた。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.11〜1.23〜
1.35及び4.05〜4.16〜4.28〜4.45
ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.12〜1.2p
pm。 シクロプロピルの位置1及び3における水素に基づくピ
ーク、1.95〜2.41ppm。 −S−CH−C(=O)−の水素に基づくピーク、3.
7〜3.8ppm。 3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘキサン−2−
オン骨格の4位置の炭素に結合する水素に基づくピー
ク、4.5〜4.63ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.3〜7.7pp
m。
【0071】工程C 1R,cis 3−(ΔZ2−フェニルチオ−2−エトキシ
カルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸 (1R,cis 、R1 =フェニル、R4 =H、R3 =C2
5 、X=S) 2.2gの6,6−ジメチル−4−(1−フェニルチオ
−1−エトキシカルボニルメチル)−3−オキサビシク
ロ−[3,1,0]−ヘキサン−2−オンと2ミリリッ
トルのトリエチルアミンとを22ミリリットルのベンゼ
ン中へ導入し、反応混合物を還流させ、3時間還流させ
続けた。20℃まで冷却した後、1N塩酸水溶液を加
え、有機相をデカンテーションにより分離し、水洗し、
そして減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。残留物を
シリカ上でのクロマトグラフにかけ、塩化メチレンと酢
酸エチルとの混合物(8/2)で溶出させて、1.1g
の求める酸を得た。MP=約50℃。 NMRスペクトル(CDCl3 ) エチルの水素に基づくピーク、1.02〜1.13〜
1.25及び4〜4.2〜4.23〜4.35ppm。 二重メチルの水素に基づくピーク、1.22〜1.38
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.9〜2.04ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.8〜3.0ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、7.3ppm。 エチレン水素に基づくピーク、7.7〜7.9ppm。
【0072】参考例25:1R,cis 3−(ΔZ2−フ
ェニルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,
2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ
−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例12の工程Cで得られたΔZ酸と適当なアルコールと
から出発して参考例2におけると同様に操作して、求め
る生成物を得た。 NMRスペクトル 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.27
ppm。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
2.5〜2.8ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
1.92〜2.05ppm。 エチレン水素に基づくピーク、7.6〜7.8ppm。 CNのα位における水素に基づくピーク、6.48pp
m。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.03〜1.15
〜1.27及び4.02〜4.13〜4.25〜4.3
6ppm。 チオフェニルの芳香族水素に基づくピーク、7.3pp
m。 フェノキシフェニルの芳香族水素に基づくピーク、6.
92〜7.6ppm。
【0073】参考例26:1R,cis 3−(ΔE2−メ
チルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例9の工程Cで得たΔE酸と適当なアルコールとから出
発して参考例2におけると同様に操作して、求める生成
物を得た。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.26
ppm。 エトキシルの水素に基づくピーク、1.25〜1.37
〜1.48及び4.1〜4.2〜4.4〜4.5pp
m。 シクロプロピルの位置1における水素に基づくピーク、
1.85〜2.0ppm。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.25ppm。 シクロプロピルの位置3における水素に基づくピーク、
2.8〜3.2ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.1〜6.3ppm。 CNのα位における炭素が有する水素に基づくピーク、
6.4ppm。 芳香族核の水素に基づくピーク、6.9〜7.6pp
m。
【0074】例13:1R,trans 3−[(ΔE+Δ
Z)−2−メチルチオ−2−メトキシカルボニルエテニ
ル]−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 1.42gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホル
ミルシクロプロパン−1−カルボン酸と13.2gのメ
チルメチルチオアセテートとを100ミリリットルのメ
タノール中に導入し、+10℃にてメタノール100ミ
リリットル中のカリウムメチラート14gの溶液を加え
た。20℃にて18時間撹拌し、減圧下での蒸留により
濃縮乾固させ、かつ残留物をシリカ上でのクロマトグラ
フにかけ、シクロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1
/1)で溶出させた後、5.2gの求める生成物が得ら
れた。
【0075】参考例27:1R,trans 2,2−ジメチ
ル−3−(ΔZ2−メチルスルフィニル−2−メトキシ
カルボニルエテニル)−シクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチル:
ジアステレオマーA及びジアステレオマーB
【0076】工程A 1R,trans 3−(ΔZ+ΔE2−メチルチオ−2−メ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸(S)−シアノ−1−(3−フェノ
キシフェニル)メチル 例13で得られた酸5.1gを70ミリリットルの塩化
メチレン中に導入し、4.26gのジシクロヘキサンカ
ルボジイミドと1.95ミリリットルのピリジンとを加
え、20℃にて15分間撹拌した後、4.7gの(S)
α−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチルア
ルコールを加え、そして20℃で18時間撹拌を続け
た。ろ過した後、ろ液を減圧下での蒸留により濃縮乾固
し、残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ベン
ゼンで溶出して6.4gの求める生成物を得た。
【0077】工程B 1R,trans 2,2−ジメチル−3−(ΔZ2−メチル
スルフィニル−2−メトキシカルボニルエテニル)−シ
クロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3−フェノ
キシフェニル)メチル:ジアステレオマーA及びジアス
テレオマーB 6gの1R,trans 3−(ΔE+ΔZ2−メチルチオ−
2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−1−(3−
フェノキシフェニル)メチルと水60ミリリットルにお
けるメタ過沃素酸ナトリウム5.7gの溶液とを200
ミリリットルのメタノール中へ導入した。20℃にて2
4時間撹拌した後、1.8gのメタ過沃素酸ナトリウム
を加え、20℃にて18時間撹拌した。ろ過した後、ろ
液を減圧下での蒸留により濃縮乾固し、残留物を酢酸エ
チルで抽出した。抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾
固させ、次いでシリカ上でのクロマトグラフにかけ、シ
クロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1/1)で溶出
させて0.5gのジアステレオマーAと0.5gのジア
ステレオマーBとを得た。 ジアステレオマーA: [α]D =+152.5°(c=1%、ベンゼン) ジアステレオマーB: [α]D =+57.5°(c=0.3%、ベンゼン)
【0078】参考例28:1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−イソプロピルオキシカルボニルエテニ
ル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチ
ル 1.5gの1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−
イソプロピルオキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸(ΔZ異性体につき例
3に記載したと同様な方法で製造)と1.19gの
(S)α−シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メ
チルアルコールとを15ミリリットル中の塩化メチレン
中に溶解させた。0℃にて、1.26gのジシクロヘキ
シルカルボジイミドと100mgの4−ジメチルアミノ
ピリジンとを含有する塩化メチレン溶液15ミリリット
ルを加えた。室温で16時間撹拌した後、生成した尿素
を分離し、ろ液を塩化メチレンで洗浄し、そして減圧下
で濃縮乾固させた。2.95gの粗生成物が得られ、こ
れをシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢
酸エチルとの混合物(8/2)で溶出させた。1.58
gの求める生成物が得られた。 [α]D =+2°(c=0.5%、クロロホルム)
【0079】参考例29:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(6−フェノキシ
−2−ピリジル)メチル 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸と(6−フェノキシ−2−ピリジル)メチル
アルコールとから出発して参考例28と同様にして、求
める生成物を得た。 [α]D =+22°(c=1.2%、クロロホルム)
【0080】例14:1R,trans 2,2−ジメチル−
3−(ΔE2−メチルスルフィニル−2−メトキシカル
ボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸 5.44gのメチルメチルスルフィニルアセテートと
5.68gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホル
ミルシクロプロパンカルボン酸とを50ミリリットルの
塩化メチレン中に溶解させた。3.4ミリリットルのピ
ロリジンを加え、全体を20℃にて18時間撹拌した。
塩化メチレンを加え、そして1N塩酸水溶液で洗浄し、
減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、かつシリカ上で残
渣をクロマトグラフにかけ、酢酸エチルと酢酸との混合
物(100/2)で溶出させた後、6.2gの求める生
成物が得られた。 [α]D =+106.5°(c=1%、ベンゼン)
【0081】参考例30:1R,trans 2,2−ジメチ
ル−3−(ΔE2−メチルスルフィニル−2−メトキシ
カルボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸(S)
−シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチル:ジアス
テレオマーA及びB 5.6gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−(ΔE
2−メチルスルフィニル−2−メトキシカルボニルエテ
ニル)シクロプロパンカルボン酸と1.95ミリリット
ルのピリジンと4.4gのジシクロヘキシルカルボジイ
ミドとを60ミリリットルの塩化メチレン中に導入し、
そして全体を20℃にて15分間撹拌した。4.84g
の(S)α−シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチ
ルアルコールを加え、そして20℃で16時間撹拌しか
つろ過した後、ろ液を減圧下での蒸留により濃縮乾固さ
せた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、シ
クロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(6/4)で溶出
させて1.0gのジアステレオマーAと1.1gのジア
ステレオマーBとを得た。 ジアステレオマーA: [α]D =+26.5°(c=0.5%、ベンゼン) ジアステレオマーB: [α]D =+130°(c=0.5%、ベンゼン)
【0082】参考例31:1R,trans 2,2−ジメチ
ル−3−(ΔE2−メチルスルホニル−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−
シアノ−(3−フェノキシフェニル)メチル 1.2gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−(ΔE
2−メチルスルフィニル−2−メトキシカルボニルエテ
ニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3
−フェノキシフェニル)メチル(参考例30で製造)を
30ミリリットルの塩化メチレン中に溶解し、次いで4
31mgのメタクロル過安息香酸を−20℃にて導入
し、そして全体を20℃で2時間撹拌した。ろ過し、減
圧下での蒸留によりろ液を濃縮乾固させ、残渣をシリカ
上でクロマトグラフにかけ、シクロヘキサンと酢酸エチ
ルとの混合物(6/4)で溶出させた後、0.8gの求
める生成物が得られた。 [α]D =+73°(c=0.3%、ベンゼン)
【0083】例15:1R,cis 3−(ΔZ2−メチル
チオ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸 5.68gの1R,5S6,6−ジメチル−4(R)−
ヒドロキシ−3−オキサビシクロ−[3,1,0]−ヘ
キサン−2−オンと5.28gのメチルメチルチオアセ
テートとを75ミリリットルのテトラヒドロフラン中に
溶解した。−60℃にてテトラヒドロフラン50ミリリ
ットル中のカリウムt−ブチラート8.97gの溶液を
徐々に加え、−60℃にて1時間撹拌し、次いで燐酸1
ナトリウムの飽和水溶液を加えた。酢酸エチルで抽出
し、抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させ、残渣
をベンゼン中に溶解させた後、100mgのp−トルエ
ンスルホン酸を加え、そして全体を1.5時間還流させ
た。生成した水を共沸蒸留により除去し、12ミリリッ
トルのトリエチルアミンを加え、次いで反応混合物を還
流させ、3時間保った後、減圧下での蒸留により濃縮乾
固させた。残留物をシリカ上でのクロマトグラフにか
け、シクロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(1/1)
で溶出させて6.3gの求める生成物を得、これはNM
Rスペクトルによれば10%のE異性体を含有した。 NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.32〜1.35
ppm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.9〜2.1ppm。 チオメチルの水素に基づくピーク、2.23ppm。 シクロプロパンの位置3における水素に基づくピーク、
2.52〜2.83ppm。 メトキシの水素に基づくピーク、3.85ppm。 エチレン水素(ΔEの〜1/10)に基づくピーク、
6.3〜6.5ppm。 エチレン水素(ΔZの〜9/10)に基づくピーク、
7.4〜7.6ppm。
【0084】参考例32:1R,cis 3−(ΔZ2−メ
チルチオ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 例15で製造した6.3gの(ΔZ+ΔE)酸を75ミ
リリットルの塩化メチレン中に溶解させ、5.26gの
ジシクロヘキシルカルボジイミドを加え、20℃にて1
5分間撹拌し、次いで5.8gの(S)α−シアノ−1
−(3−フェノキシフェニル)メチルアルコールと2.
4ミリリットルのピリジンとを加え、さらに20℃にて
18時間撹拌した。ろ過し、減圧下での蒸留によりろ液
を濃縮乾固し、シリカ上で残渣をクロマトグラフにか
け、シクロヘキサンと酢酸エチルとの混合物(9/1)
で溶出させた後、求める生成物ΔZ異性体6.8gと求
める生成物ΔE異性体0.8gとを得た。 円偏光二色性(ジオキサン) 異性体ΔZ: 257nmにおける最大値、Δε=+1.15; 290nmにおける最大値、Δε=+1.0; 305nmにおける最大値、Δε=+0.9 異性体ΔE: 240nmにおける最大値、Δε=−0.6; 275nmにおける最大値、Δε=−0.25; 300nmにおける最大値、Δε=−0.6。参考例33 :1R,cis 2,2−ジメチル−3−(ΔZ
2−メチルスルフィニル−2−メトキシカルボニルエテ
ニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3
−フェノキシフェニル)メチル:ジアステレオマーA及
びB 1R,cis 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸(S)−シアノ−1−(3−フェノキシフェ
ニル)メチルから出発して参考例27と同様にして、求
める生成物をジアステレオマーA及びBとして得た。 ジアステレオマーA: [α]D =+73°(c=1%、ベンゼン) ジアステレオマーB: [α]D =+52°(c=1%、ベンゼン)
【0085】参考例34:1R,cis 2,2−ジメチル
−3−(ΔZ2−メチルスルホニル−2−メトキシカル
ボニルエテニル)シクロプロパンカルボン酸(S)−シ
アノ−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,cis 2,2−ジメチル−3−(ΔZ2−メチルス
ルフィニル−2−メトキシカルボニルエテニル)シクロ
プロパンカルボン酸(S)−シアノ−(3−フェノキシ
フェニル)メチル(参考例33で製造)から出発して参
考例31に使用したと同様な方法で、求める生成物を得
た。 [α]D =+15°(c=1%、ベンゼン)
【0086】参考例35:1R,trans 3−(ΔE2−
メトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(6−フェノキシ
−2−ピリジル)メチル 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカ
ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸と(6−フェノキシ−2−ピリジル)メチル
アルコールとを使用して参考例28で使用したと同様な
方法で、求める生成物を得た。 [α]D =+9°(c=0.7%、クロロホルム)
【0087】例16:1R,trans 3−(ΔZ2−メト
キシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸工程A 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−t−ブトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸メトキシメチル:異性体E及び異性体Z 0.88gのカリウムt−ブチラートと4ミリリットル
のt−ブチルアルコールと2ミリリットルのジメチルホ
ルムアミドと4ミリリットルのテトラヒドロフランとを
混合し、そしてテトラヒドロフラン3ミリリットル中の
メチル−O,O−ジエチルホスホノt−ブトキシアセテ
ート2.13gの溶液を導入し、そして30分間撹拌し
た。さらに0℃にてテトラヒドロフラン6ミリリットル
中の1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホルミル−シ
クロプロパンカルボン酸メトキシメチルの溶液を加え、
0℃にて1時間撹拌し、次いで反応混合物を水中に注ぎ
入れ、そしてイソプロピルエーテルで抽出した。撹拌
し、デカントし、有機相を減圧下での蒸留により濃縮乾
固し、残留物をシリカ上でのクロマトブラフにかけ、か
つベンゼンと酢酸エチルとの混合物(95/5)で溶出
させた後、0.97gのΔZ異性体と0.45gのΔE
異性体とが得られた。 異性体ΔZ: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.25〜1.32
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
32ppm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.66〜1.76ppm。 シクロプロパンの位置3における水素に基づくピーク、
2.4〜2.65ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシカルボニルのメチルにおける水素に基づくピー
ク、3.75ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.25ppm。 エチレン水素に基づくピーク、6.0〜6.2ppm。 異性体ΔE: NMRスペクトル(CDCl3 ) 二重メチルの水素に基づくピーク、1.18〜1.32
ppm。 t−ブチルのメチルにおける水素に基づくピーク、1.
25ppm。 シクロプロパンの位置1における水素に基づくピーク、
1.5〜1.6ppm。 シクロプロパンの位置3における水素に基づくピーク、
2.68〜2.93ppm。 メトキシメチルのメチルにおける水素に基づくピーク、
3.5ppm。 メトキシカルボニルのメチルにおける水素に基づくピー
ク、3.8ppm。 メトキシメチルのメチレンにおける水素に基づくピー
ク、5.25ppm。 エチレン水素に基づくピーク、5.4〜5.5ppm。
【0088】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−t−ブトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸 910mgの1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2
−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチルと17.5
ミリリットルのメタノールと17.5ミリリットルのア
セトンと35ミリリットルの1N塩酸水溶液とを混合
し、そして20℃で6.5時間撹拌した。次いで、反応
混合物を水中に注ぎ込み、エチルエーテルで抽出し、そ
して抽出物を減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。残
留物をシリカ上でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと
酢酸エチルとの混合物(4/6)で溶出させて0.47
gの求める生成物を得た。 IRスペクトル(エタノール) OHモノマー酸及びダイマー酸:3500cm-1 エステルのC=O :1725cm-1 酸のC=O :1695cm-1 C=C Z :1640cm-1 COOMeバンド :1440cm-1 t−Bu :1372cm-1
【0089】参考例36:1R,trans 3−(ΔZ2−
メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シ
アノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−2−t−ブトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸と(S)−シアノ−1−(3−フェノキ
シフェニル)メチルアルコールとを使用して参考例28
に記載したと同様な方法で、求める生成物を得た。MP
=72℃。 [α]D =−90°(c=0.7%、クロロホルム)
【0090】例17:1R,trans 3−(ΔZ2−t−
ブトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
【0091】工程A 1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホルミルシクロプ
ロパンカルボン酸メトキシメチル 25.6gの1R,trans 2,2−ジメチル−3−ホル
ミルシクロプロパンカルボン酸を250ミリリットルの
テトラヒドロフラン中に溶解し、1.64gの水素化リ
チウムを導入し、そして全体を+15℃にて30分間撹
拌した。18.2gの新たに調製したクロルメチル−メ
チルエーテルの溶液(0.225モル)を導入し、そし
て撹拌を20℃にて4時間続けた。次いで、反応混合物
を水と氷と重炭酸ナトリウムとの混合物へ注ぎ入れ、そ
して撹拌しかつイソプロピルエーテルで抽出した後、有
機相を減圧下での蒸留により濃縮乾固させた。減圧下で
蒸留した後、15.15gの求める生成物が得られた。
沸点67℃/0.05mmHg。
【0092】工程B 1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシ−2−t−ブ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸メトキシメチル 2.8gのカリウムt−ブチラートと13.3ミリリッ
トルのt−ブタノールと6.6ミリリットルのジメチル
ホルムアミドと13.3ミリリットルのテトラヒドロフ
ランとを混合し、そして0℃でテトラヒドロフラン1
3.3ミリリットル中のt−ブチル−O,O−ジエチル
ホスホノ−t−ブトキシアセテート8.1gの溶液を加
えた。0℃にて30分間撹拌した後、テトラヒドロフラ
ン20ミリリットル中の1R,trans 2,2−ジメチル
−3−ホルミルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチ
ル4.66gの溶液を加え、−5℃にて1時間撹拌し
た。次いで、反応混合物を水中に注ぎ入れ、イソプロピ
ルエーテルで抽出した。有機相を減圧下での蒸留により
濃縮乾固させ、そして残留物をシリカ上でのクロマトグ
ラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物(8/
2)で溶出させて、0.59gの求める生成物を得た。
【0093】工程C 1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシ−2−t−ブ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸 590mgの1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシ
−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチルと20
ミリリットルのメタノールと10ミリリットルのアセト
ンと20ミリリットルの1N塩酸水溶液とを混合し、そ
して20℃で6時間撹拌した。次いで、反応混合物を水
中に注ぎ入れ、そして塩化メチレンで抽出した。有機相
を減圧下での蒸留により濃縮乾固し、残留物をシリカ上
でのクロマトグラフにかけ、ヘキサンと酢酸エチルとの
混合物(4/6)で溶出させて364mgの求める生成
物を得た。MP=85℃。
【0094】参考例37:1R,trans 3−(ΔZ2−
t−ブトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)
−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−
シアノ−1−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,trans 3−(ΔZ2−t−ブトキシ−2−t−ブ
トキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸と(S)−シアノ−1−(3−フェ
ノキシフェニル)メチルアルコールとから出発して参考
例28に用いたと同様な方法で、求める生成物を得た。
MP=81℃。 [α]D =−9°(c=0.5%、クロロホルム)
【0095】例18:1R,trans 3−(ΔE2−t−
ブトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸 410mgの1R,trans 3−(ΔE2−t−ブトキシ
−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸メトキシメチル(例16の
工程Aで得られる)と8ミリリットルのメタノールと8
ミリリットルのアセトンと16ミリリットルの1N塩酸
水溶液とを混合し、20℃にて6時間撹拌した。水中へ
注ぎ入れ、エチルエーテルで抽出し、かつ減圧下での蒸
留により有機相を濃縮乾固させて、300mgの求める
生成物を得た。
【0096】参考例38:1R,trans (ΔE2−t−
ブトキシ−2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(S)−シアノ−
1−(3−フェノキシフェニル)メチル 1R,trans 3−(ΔE2−t−ブトキシ−2−メトキ
シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
パンカルボン酸と(S)−シアノ−1−(3−フェノキ
シフェニル)メチルアルコールとから出発して参考例2
8に使用したと同様な方法で、求める生成物を得た。M
P=80℃。 [α]D =+7°(c=1%、クロロホルム)
【0097】式(I)を有する化合物の生物学的活性の
検討 家ばえに対するノックダウン効果 試験昆虫は4日令の雌家ばえである。試験はカーンス及
びマーシュチャンバにおいて0.25g/lの濃度で直
接噴霧により行ない、この場合溶剤としてアセトン(5
%)とイソパールL(登録商標)(石油溶剤)との混合
物を使用した(使用した溶剤量、1秒間に2ミリリット
ル)。各処理につき50匹の昆虫を使用した。検査は1
0分間まで毎分、次いで15分間にて行ない、KT50
は常法により決定した。得られた実験結果を下記表に要
約する:
【0098】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A01N 53/06 53/08 53/10 53/12 C07C 67/343 69/734 Z 9279−4H 317/44 323/55 9155−4H A01N 53/00 504 9155−4H 506 Z 9155−4H 508 D 9155−4H 510

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 全ての立体異性体型における又は立
    体異性体の混合物としての、一般式(IV’): 【化1】 [式中、Xは酸素若しくは硫黄原子、スルホキシド基又
    はスルホン基を示し、 は1〜6個の炭素原子を有す
    る線状若しくは分枝鎖状アルキル基又はフェニル基を表
    わし、 は1〜6個の炭素原子を有する線状又は分枝
    鎖状アルキル基を表わす]を有する化合物。
  2. 【請求項2】 式(IV') を有する酸が、 1R,trans 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキシカ
    ルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパン
    カルボン酸及び1R,trans 3−(ΔZ2−メトキシ−
    2−メトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチル
    シクロプロパンカルボン酸;1R,trans 3−(ΔZ2
    −メチルチオ−2−エトキシカルボニルエテニル)−
    2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸;1R,tr
    ans 3−(ΔZ又はΔE2−フェニルチオ−2−エトキ
    シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
    パンカルボン酸;1R,trans 3−(ΔE2−エトキシ
    −2−エトキシカルボニルエテニル)−2,2−ジメチ
    ルシクロプロパンカルボン酸及び1R,trans 3−(Δ
    Z2−エトキシ−2−エトキシカルボニルエテニル)−
    2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸;1R,ci
    s 3−(ΔZ2−フェニルチオ−2−エトキシカルボニ
    ルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
    ン酸;1R,cis 3−(ΔE2−メトキシ−2−メトキ
    シカルボニルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロ
    パンカルボン酸及び対応する1R,cis ΔZ酸;1R,
    cis 3−(ΔZ2−メチルチオ−2−メトキシカルボニ
    ルエテニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボ
    ン酸及び対応するΔE酸;1R,trans 3−(ΔE2−
    メトキシ−2−t−ブトキシカルボニルエテニル)−
    2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸及び対応す
    るΔZ酸である請求項1記載の化合物。
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