JPH0785407B2 - 拡散結合ｘ線タ−ゲツト - Google Patents

拡散結合ｘ線タ−ゲツト

Info

Publication number
JPH0785407B2
JPH0785407B2 JP62003101A JP310187A JPH0785407B2 JP H0785407 B2 JPH0785407 B2 JP H0785407B2 JP 62003101 A JP62003101 A JP 62003101A JP 310187 A JP310187 A JP 310187A JP H0785407 B2 JPH0785407 B2 JP H0785407B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray target
target member
brazing material
ray
fixing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP62003101A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62168317A (ja
Inventor
トーマス・ジェイ・コーラー
スティーヴン・タヴォレッティ
Original Assignee
ヴァライアン・アソシエーツ・インコーポレーテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ヴァライアン・アソシエーツ・インコーポレーテッド filed Critical ヴァライアン・アソシエーツ・インコーポレーテッド
Publication of JPS62168317A publication Critical patent/JPS62168317A/ja
Publication of JPH0785407B2 publication Critical patent/JPH0785407B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K15/00—Electron-beam welding or cutting
    • B23K15/0046—Welding
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/02—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating by means of a press ; Diffusion bonding
    • B23K20/023—Thermo-compression bonding
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/22—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating taking account of the properties of the materials to be welded
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/32—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at more than 1550 degrees C
    • B23K35/322—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at more than 1550 degrees C a Pt-group metal as principal constituent
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C10/00—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
    • C23C10/28—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces using solids, e.g. powders, pastes
    • C23C10/30—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces using solids, e.g. powders, pastes using a layer of powder or paste on the surface
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
    • H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
    • H01J35/108—Substrates for and bonding of emissive target, e.g. composite structures
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2235/00—X-ray tubes
    • H01J2235/10—Drive means for anode (target) substrate
    • H01J2235/1006—Supports or shafts for target or substrate
    • H01J2235/1013—Fixing to the target or substrate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般に、Ｘ線管（Ｘ線筒）に、より詳しくは、
回転式Ｘ線ターゲツトを備えたＸ線筒に関する。
当該技術では周知のように、Ｘ線筒は、種々の用途及び
構造を備えている。或る形式のＸ線筒においては、高エ
ネルギーの電子ビームは、加熱フイラメントカソードか
ら放出され、アノードのＸ線放出域に集束される。Ｘ線
放出域は、タングステン−レニウム合金のような材料を
含み、この材料は、前記のように集束された電子ビーム
がそれに入射したことに応答してＸ線を放出する。その
ためアノードは普通にＸ線ターゲツトと呼ばれている。
高エネルギーの電子ビームがＸ線ターゲツトに入射する
と、Ｘ線ターゲツトに大量の熱が発生する。この熱は、
ターゲツトの構造、従つてＸ線筒の作動にとつて有害で
ある。そのため、この形式の従来のＸ線筒において、タ
ーゲツトアノードは、支持軸上に取付けられて電動機に
よつて回転するデイスクのような部材を備えている。デ
イスク及び支持軸は、典型的には、高融点合金例えばチ
タン−ジルコニウム−モリブデン（TZM）合金からでき
ている。電子ビームは、フオーカルトラツク（Ｘ線放出
材料であるタングステン−レニウムからできているデイ
スクの表面の環状部分）に集束される。電動機はターゲ
ツトデイスクを例えば10000RPMの高速で回転させること
によつてフオーカルトラツクの一部分を集束された電子
ビームの経路に入出するように回転させる。そのため電
子ビームは、Ｘ線放出性のフオーカルトラツクの一部分
にのみ入射するため、フオーカルトラツクの残りの部分
は、集束された電子ビームの一部分の経路に前記フオー
カルトラツクの一部分が回転によつて再び進入するのに
要する時間の間冷却することができる。
従来のＸ線筒においては、支持軸は、ねじ付ステムを突
出させたフランジ取付け部材を備えている。ステムは、
Ｘ線ターゲツトデイスクの中心部の開口に嵌合し、この
デイスクは、フランジ付き取付け部材の表面と係合して
いる。TZM合金のＸ線ターゲツトデイスイクは、TZM合金
のナツトをステムにねじ締めしてＸ線ターゲツトデイス
クをフランジ付き取付け部材にクランプすることによつ
て、TZM合金の支持軸に固着される。次にデイスクの下
面上の錘を移動させるか又はデイスクの下面から少量の
材料を除去するかして、デイスクを動的に平衡させる。
この固着装置は、或る用途については満足に作動する
が、他の用途については、デイスクの高速回転によつて
支持軸上においてデイスクがスリツプし不平衡となるこ
とがわかつている。不平衡になつたターゲツトデイスク
は、回転中に振動し、この振動は時にＸ線筒を破壊する
程度に大きくなる。
別の公知のＸ線筒によれば、支持軸のステムは、ねじ部
を備えてなく、TZMの合金以外の材料例えばニオブ（コ
ロンビウムとも呼ばれる）から作製される。製造中にス
テムとターゲツトデイスクとは、加熱され、それによつ
てターゲツトがステムに、従つて支持軸に拡散結合され
る。この取付け方法は、或る用途については満足である
が、ニオブのような材料からできているステムは、Ｘ線
筒の使用中に通常経験されるような高温の下では特に、
耐火性合金例えばTZM合金から製造されたステムよりも
脆弱である。そのため、このような高温の下では、ステ
ムとターゲツトデイスクの前述したスリツプがひき起こ
され、それに伴つて、ターゲツトが不平衡になり、振動
が起こる。またステムとターゲツトステムとの間の拡散
結合との間の拡散結合に加わる応力は、引張応力又は圧
縮応力であり、これは拡散結合に対する機械的応力のう
ちで最も破壊的な形式の応力である。また長期間使用し
ていると、ニオブのステムが通されて嵌合するターゲツ
トデイスクの開口の大きさは少し膨張する。この膨張
は、ニオブのステムとターゲツトデイスクとの間の拡散
結合に、余計な引張応力を与える結果となる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、このような従来の技術の欠点を解消すること
を目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明により、Ｘ線ターゲツト部材を支持部材に固着す
る固着方法において、該支持部材の第１面と該Ｘ線ター
ゲツト部材の第１面との間の界面に、該Ｘ線ターゲツト
部材の融点及び該支持部材の融点よりも融点の低いろう
付け材を配し、該ろう付け材の融点よりも低い温度で該
ターゲツト部材の該第１面と該支持部材の第１面とに該
ろう付け材を拡散させる各工程から成る固着方法が提供
される。この固着方法によれば、ターゲツト部材は支持
部材に構造的に結合され、単一の複合構造物を形成す
る。そのため、ターゲツト部材は、Ｘ線をターゲツト部
材の回転中に支持部材上において実質的にスリツプを受
けなくなる。ろう付け材は、パラジウム、ニツケル又は
コバルトの合金でもよい。ターゲツト部材及び支持部材
は、耐火金属又はその合金例えばチタン−ジルコニウム
−モリブデン（TZM）合金とすることができる。
本発明の好ましい実施態様によれば、支持軸の横取付け
面にろう付け材を配し、該ろう付け材及び横取付面に該
Ｘ線ターゲツト部材を位置させ、該ターゲツト部材を該
ろう付け材及び取付面に固着し、該ターゲツト部材を該
ろう付け材及び取付け面に対して膨張させることによつ
て、該ろう付け材を該取付け面及びターゲツト部材中に
拡散させることによつて、支持軸の横取付け面にＸ線タ
ーゲツト部材を結合する方法が提供される。支持軸に対
して横方向に（従つて、ターゲツト部材の回転軸線に対
して横方向に）配置された表面の間に拡散結合が形成さ
れるので、この拡散結合が加わる応力は、引張応力又は
圧縮応力よりも拡散結合に対する破壊性の低いせん断応
力である。
本発明によれば、回転軸線の回りに回転可能なＸ線ター
ゲツト組立体を含むＸ線が提供される。回転可能なター
ゲツト組立体は、Ｘ線ターゲツト部材と、Ｘ線ターゲツ
ト部材を支持するための支持手段とを備えている。ター
ゲツト部材はこの支持手段上において平衡させる。ター
ゲツト部材を支持手段に固着する手段が更に設けられて
おり、この固着手段は、ターゲツト部材の第１面と支持
手段の第１面との界面に配されたろう付け材を含み、こ
のろう付け材の第１部分は、ターゲツト部材の第１面中
に拡散され、ろう付け材の第２部分は、支持手段の第１
面中に拡散される。この構成によれば、Ｘ線組立体の回
転中にターゲツト部材が支持部材上にすべることが実質
的に防止されるので、ターゲツト部材が支持部材上にお
いて不平衡になることが防止され、回転中のターゲツト
部材の振動が実質的に除かれる。
本発明の前述した特徴及び利点は、添付図面に示した好
ましい実施例の以下の詳細な説明によつて一層明らかと
なろう。
〔実施例〕
第１図には、Ｘ線筒12を含むＸ線発生装置10が図示され
ている。Ｘ線筒12は、調節可能なフイラメント供給ユニ
ツト14、調節可能なバイアスユニツト16及び調節可能な
高電圧供給ユニツト18に、電気的に接続されている。Ｘ
線筒12は、カソード組立体20と、本発明による回動可能
なＸ線ターゲツト組立体22とを備えている。Ｘ線ターゲ
ツト組立体22の詳細については後に詳述する。こゝで
は、回動可能なターゲツト組立体22が、ターゲツト部材
24（この例ではアノード電極26を含む）と、ターゲツト
組立体22の回転軸線32と直角に配された取付面30を備え
た支持部材28を含み、ターゲツト部材24が取付面30上に
配されていることを指摘するにとどまる。ターゲツト部
材24は、ターゲツト部材24と取付面30との間に配された
ろう付け材36を含む固定手段によつて、支持部材28に固
着されている。ろう付け材36の第１部分及び第２部分
は、それぞれターゲツト部材24及び支持部材28に、本発
明による結合工程を用いて拡散され、この拡散結合工程
は、ろう付け材の溶融温度以下の温度で行われることに
より、Ｘ線筒のエンベロープ38の内面にろう材が蒸着さ
れることを防止する。この工程については以下に詳述す
る。この構成によれば、Ｘ線ターゲツト組立体22の回転
の間にターゲツト部材24が支持部材28上において実質的
にスリツプしなくなるため、支持部材28上においてター
ゲツト部材24が不平衡となることが防止され、従つて、
Ｘ線発生装置10の作動中のターゲツト部材24の振動が実
質的に解消される。
Ｘ線筒12は、大体において円筒のエンベロープ38を含
み、エンベロープ38は、誘電材料例えば無鉛ガラスから
できていてもよい。エンベロープ38の一端は、金属カラ
ー42の一端に外周部がシールされた凹み部分40を備えて
いる。カラー42の他端は、電導性材料例えば銅からでき
ている普通のアノードローター44の一端に周知のように
気密に固着されている。アノードローター44の軸46は、
エンベロープ38の外部に延長しており、調節可能な高電
圧供給ユニツト18の正端４にアノードローター44を電気
的に接続するための端子手段を形成している。
エンベロープ38の内部において、支持部材28は、耐火材
料、例えばチタン−ジルコニウム−モリブデン（TZM）
合金からできている電導性ステム48を含み、ステム48
は、アノードローター44の内側端から長手方向に延長し
ていて、これと電気的に接続されている。また、支持部
材28は、ナツト54を含み、ナツト54は、この例では、耐
火性金属例えばTZM合金からできている。支持部材28
は、フランジ部分50も含み、フランジ部分50は、この例
では、TZM合金からできており、ローター44と反対側の
ステム48の先端に一体的に形成されている。フランジ部
分50は、取付面30に終止している。支持部材28には、ス
テム48のフランジ部分50の取付面30に、アノードデイス
ク26を含むターゲツト部材24が固着されている。アノー
ドデイスク26は、回転軸線32と直角に配され、アノード
ローター44によつて周知のように回転させられる。アノ
ードデイスク26の内側端は、その外周縁に近接して湾曲
環状ターゲツト面又はフオーカルトラツク52を形成する
ように、円錘台形の形状となつている。フオーカルトラ
ツク52は、タングステン又はタングステン−レニウム合
金のような材料からできており、この材料は、フイラメ
ントのカソード組立体20から経路21に沿つて高エネルギ
ーの入射電子流のボンバードを受けた時に容易にＸ線を
放出する。しかし、アノードデイスク26の他の部分は、
この例では、以下に説明する目的のために、電導性耐火
材料例えばTZM合金からできている。TZM合金のナツト54
は、TZM合金のステム48のねじ付端部（第２図参照）と
係合し、やはりTZM合金のアノードデイスク26の上面に
載置されている。
アノードデイスク26は回転可能となつているが、フオー
カルトラツク52は、カソード組立体20に対向してこれか
ら隔てられた関係に常時位置決めされ、エンベロープ38
の径方向に整列されたＸ線透過窓56に向つて傾斜してい
る。カソード組立体20は、中空のアーム58の適当な角度
の先端部分上に固定的に支持されている。アーム58の反
対側の先端は、軸方向に配向された支持シリンダー60の
一端に封着されている。支持シリンダー60の他端は、エ
ンベロープ38の凹み部分62の円周に沿つて封着されてお
り、この凹み部分からは、電子端子のリード線64、66、
68が気密に延長している。
電気端子のリード線64、68は、バイアスユニツト16及び
フイラメント供給ユニツト14にそれぞれ電気的に接続さ
れている。バイアスユニツト16の別の出力端子は、フイ
ラメント供給ユニツト14の出力端子及び高電圧ユニツト
18の負の出力端子と共通に、リード線66に電気的に接続
されている。エンベロープ38の内部において、リード線
64、66、68は、中型アーム58を経てカソード組立体20中
に延長している。リード線66、68は、カソード組立体20
中のカソードフイラメント70の両端間において、高電圧
供給ユニツト18の負の高出力電圧（例えば、大地電圧に
対して−60KVDC）に重畳されるAC信号を供給する。カソ
ードフイラメント70は、このAC信号によつて加熱され、
それから電子を放出することによつて応答する。また、
高電圧供給ユニツト18は、大地電圧に対して正の高電圧
（例えば＋60KVDC）を、軸46に供給する。この正の電位
は、電導性の軸46、アノードローター44及びステム46を
介してアノードデイスク26に供給される。そのため、高
電位差（例えば120KVDC）が、アノードデイスク26とカ
ソードフイラメント70との間に存在し、カソードフイラ
メント70によつて放出された電子をアノードデイスク26
に向つて吸引する。カソードフイラメント70は、カソー
ド組立体20の導電性の本体72中に絶縁されて取付けられ
ている。リード線64は、経路21に沿つて電子ビームとし
てフイラメント70によついて送出された電子を集束する
ために周知の仕方で本体72をバイアスするように、リー
ド線66に供給された−60KVDC信号に対して例えば負の適
切な直流電圧を伝送し、このビームは、アノードデイス
ク26のフオーカルトラツク52に入射し、フオーカルトラ
ツク52からは、電子ボンバードに応答して、Ｘ線透過窓
56を経てＸ線が送出される。
作動中にアノードローター44（図示しない誘導電動機の
ローター要素である）は、回転軸線32の回りに所定の速
度例えば10000RPMでターゲツト部材24を回転させる。そ
のため、集束された電子ビームは、環状のフオーカルト
ラツク52が回転軸線32の回りに回転する間にこのフオー
カルトラツクの絶えず異なつた部分に衝突するので、高
エネルギーの電子ビームによつてボンバードされたフオ
ーカルトラツク52の領域には、電子ビームが再び同じ領
域に入射する前に、或る冷却時間が与えられる。この回
転を行なわせない場合には、電子ビームは、タングステ
ン−レニウムからできているフオーカルトラツク52をす
みやかに焼損させ、Ｘ線筒12からのＸ線の放射を停止さ
せるであろう。ターゲツト組立体22の到達する回転速度
が非常に高速なため、ターゲツト組立体22は、振動を防
止するように正確にバランスさせねばならない。この振
動は、電子ビームが入射するフオーカルトラツク52の領
域を変化させることによつてＸ線筒12からのＸ線の放出
を不安定にするだけでなく、振動が激しい場合には、Ｘ
線筒12を損傷させる。そのため、ターゲツト部材24は、
支持部材28のステム48に固着され、ターゲツト組立体22
が回転中にバランスされるまで少量の材料を例えば研削
によつて除去する。しかしターゲツト部材24が後にスリ
ツプし、即ち、支持部材28上の位置を変更した場合に、
ターゲツト組立体22は不平衡となり、回転中に振動す
る。この事態は、只１つのナツト例えばナツト54を用い
てターゲツト部材24をステム74に固着する従来の技術に
よるＸ線筒には屡々発生する。
次に、前記のスリツプを実質的に解消するように支持部
材28を固定する方法並びにこの方法を利用したＸ線ター
ゲツト組立体22を含む本発明を、第２図を参照して説明
する。第２図は、ターゲツト部材24及び支持部材28を示
す断面図であり、図示を明瞭にするために拡大尺を用い
ている。この例ではTZM合金からできている支持部材28
は、フランジ部分50を形成したステム48を有している。
フランジ部分50は、ターゲツト部材24を後述するように
支持させたほぼ円形の取付面30を備えている。支持部材
28のステム48のネツク部分51は、フランジ部分50から先
に延長し、雄ねじ端部53に終止している。そのため、支
持部材28は、ターゲツト部材24（この例では、TZM合金
のアノードデイスク26を含み、中心部の開口27を備えて
いる）を受入れて支持するようになつている。ネツク部
分91は、中心部の開口27よりも少し小さな直径をもつよ
うに選定されている。アノードデイスク26は、ステム48
の雄ねじ端部53のところに嵌合し、ネツク部分51の回り
にきつちりと嵌合し、その底面29は、取付面30上に載置
されている。
アノードデイスク26を支持部材28上に載置する前に、こ
の例ではリング又はワツシヤーの形状のろう付け材36の
層を取付面30上に付与する。ろう付け材36は、融点の比
較的低い金属、例えば、パラジウム−コバルト合金（Pd
−Co、融点約1238℃）又はパラジウム−ニツケル合金
（Pd−Ni、融点1230℃）とする。なおTZM合金の融点
は、比較的高く、約2600℃である。アノードデイスク26
は、支持部材28に嵌合され、ネツク部51と中心部の開口
27との間のきつい嵌合によつて、回転軸線32の回りに、
支持部材28上に心出しされている。支持部材28の雄ねじ
端部53は、この例ではTZM合金製のナツト54を受入れる
ようになつている。ナツト54は、雄ねじ端部53に対して
ねじ締めされ、ろう付け材36及びフランジ部分50の取付
面30に向つてアノードデイスク26を下向きに加圧する。
この機械的な力は、比較的柔軟なろう付け材を比較的硬
質のTZM合金のアノードデイスク26とTZM合金のフランジ
部分50との間において圧縮することによつて、ろう付け
材36を、薄いワツシヤー状の部材となるように変形さ
せ、アノードデイスク26の底面29を取付面30に密接させ
る。なお、ろう付け材36のワツシヤーの大きさは、ろう
付け材36が前記のように機械的に圧縮された時にワツシ
ヤーがフランジ部分50の外側縁から先に横方向に延長す
ることのないように選定されている。
TZM合金のナツト54を前記のようにきつく締付けた後
に、ターゲツト部材24を加熱する。この場合に、ターゲ
ツト部材24の加熱は、電子ビームの形態の電力をアノー
ドデイスク26のフオーカルトラツク52に適用することに
よつて実現される。別の方法として、高周波電磁界にア
ノードデイスク26を曝露することによつて誘導的にアノ
ードデイスク26を加熱してもよい。ターゲツト組立体22
は、好ましくは、アノードデイスク26に電力を適用して
いる間は回転させないようにして、支持部材28上におい
てターゲツト部材24がスリツプする機会を最小にする。
そのため、フオーカルトラツク52に適用される電子ビー
ムは、フオーカルトラツク52を損傷させないように、比
較的低電力のビームとする。アノードデイスク26におい
て発生した熱は、支持部材28のステム48を通る伝導と放
射とによつて、アノードデイスク26を経て消散される。
しかしフランジ部分50とナツト54とは、アノードデイス
ク26と同じ程度には加熱されない。その理由は、フラン
ジ部分50及びナツト54は、アノードデイスク26からの伝
導のみによつて温度の上昇を経験し、またアノードデイ
スク26には、アノードデイスク26に適用される誘導加熱
又は電子ビームよつて直接に熱が発生するためである。
そのためのアノードデイスク26は、より低温のステム48
のフランジ部分50又はナツト54よりも大きな機械的膨張
を前記熱に応答して受ける。そのためフランジ部分50と
ナツト54とは、ターゲツト部材24の機械的な膨張量を制
限し、ターゲツト部材24のアノードデイスク26とフラン
ジ部分50及びナツト54との間の界面に、非常に大きな機
械的な力を発生させる。換言すれば、ターゲツト部材24
の底面29と支持部材28の取付面30との間の界面にある圧
縮されたろう付け材36のワツシヤーはフランジ部分50に
対するアノードデイスク26の制限された膨張によつて更
に圧縮される。またこの付加的な圧縮は、ターゲツト部
材24の（そして、伝導によつて、支持部材28の）加熱の
ため、高温において生ずる。この大きな機械的な力と熱
（例えば1000℃）との組合せによつて、ターゲツト部材
24のアノードデイスク26の隣接した領域37及び支持部材
28のフランジ部分50の隣接した領域39にろう付け材36を
拡散させ、底面29と取付面30とを互いに接触させる。そ
のため、非常に強力な機械的結合が、TZM合金のターゲ
ツト部材24とTZM合金の支持部材28との間に形成され、
アノードデスク26をその上に固定させると共に、Ｘ線発
生装置10の作動中に経験されるターゲツト組立体の高速
回転の間にターゲツト部材24が支持部材28上においてス
リツプすることを実質的に防止する。
Ｘ線発生装置10の使用中にターゲツト組立体22が1300℃
の範囲の温度に到達することが見出されている。本発明
においてワツシヤーの材料として用いられる典型的なろ
う付け材36、例えばPd−Co合金及びPd−Ni合金は、ター
ゲツト組立体22の使用温度範囲に等しいか又はこれより
も低い融点と、この高温の使用温度において、例えば10
-4トルのオーダーの、比較的高い蒸気圧とを有してい
る。なお、TZM合金の蒸気圧は更に著しく低く、10-11ト
ルよりも低い。そのため、Ｘ線筒12の使用中にそうした
ろう付け材がＸ線筒12中に曝露されると、ろう付け材の
高蒸気圧によつて、ろう付け金属を含む金属沈着物が、
エンベロープ38の内面上に形成される。そのため、高電
圧素子（即ち、アノード及びカソード）とエンベロープ
38の表面上の金属沈着物との間に、アークが発生し、Ｘ
線筒12の性能を劣化させる。
本発明による固定方法及びこの固定方法によつて製造さ
れたターゲツト組立体22は、ろう付け材36の融点よりも
低い温度でTZM合金のターゲツト部材24及びTZM合金の支
持部材28にろう付け材36を拡散させることによつて、前
記の問題点を解消する。即ち、ターゲツト部材24は、ろ
う付け材36の融点よりも低い温度よりも低い温度に加熱
され、この加熱に応答してアノードデイスク26とフラン
ジ50との間の界面に発生した機械的な力によつて、ろう
付け材36の融点よりも低い温度においてろう付け材36を
域37、39中に完全に拡散させる。一例として、ろう付け
材36として適切な材料の１つであるPd−Co合金の融点
は、1280℃である。前述した拡散結合工程の間に、ター
ゲツト部材24は、（例えばフオーカルトラツク52に電力
を適用することによつて）約1000℃に加熱されるに過ぎ
ない。しかし、ターゲツト部材24の底面29と支持部材28
の取付面30との間の界面にアノードデイスク26の膨張が
フランジ部分50とナツト54とにより制限されることによ
つて生じた大きな機械的な力は、前記の温度との組合せ
によつて、アノードデイスク26のTZM合金及びフランジ
部分50中にろう付け材を完全に拡散させる。なお、TZM
合金のアノードデイスク26及びフランジ部分50の領域3
7、39にろう付け材が拡散すると、これらの領域の融点
は、ろう付け材36の融点（Pd−Co合金を使用した場合に
は、例えば1238℃）よりも高いが、TZM合金の融点（260
0℃）よりも低い。拡散結合されたターゲツト組立体22
がＸ線筒12の通常の使用時に1300℃以上の非常に高い温
度となつた時には、ろう付け材は、ターゲツト部材24と
支持部材28との間の拡散結合の一部分としてのみ存在し
ている。換言すれば、Ｘ線筒12のＸ線動作の間に、Pd−
Co又はPd−Ni系のろう付け材36は、それがTZM合金と共
に拡散される領域37、39を除いては、Ｘ線簡12中には存
在していない。TZM合金の蒸気圧は、非常に低く、1300
℃で10-11トルよりも低い。そのため領域37、39の拡散
金属の蒸気圧は同様に低く、Ｘ線筒12の表面上へのろう
付け材の沈着を阻止する。そのため、本発明によつて、
ろう付け材36の融点よりも低い温度でターゲツト部材24
を支持部材28にろう付けすることによつてろう付け材36
がＸ線筒12の内面に沈着することを阻止するようにし
た、Ｘ線ターゲツト組立体のろう付け分法及びそれによ
り製造されたＸ線ターゲツト組立体22が提供される。こ
の構成によれば、ターゲツト部材24のアノードデイスク
26が支持部材28のステム48上においてスリツプすること
を実質的に阻止することによつてアノードデイスク26が
不平衡となり回転中にステム26上において振動すること
を阻止するための拡散結合が、ターゲツト部材24と支持
部材28との間に形成される。
なお、ろう付け材36は、ターゲツト部材24と支持部材28
との間の別の界面に配設してもよい。例えばろう付け材
36は、支持部材28のネツク部分51の側面にか又はこのネ
ツク部分51と接触する中心部の開口27の壁部に配設する
ことができる。しかしろう付け材は、前述した金属の沈
着をさけるために、アノードデイスク26を支持部材28に
固着した時にネツク部分51と接触しない中心部の開口27
の壁部分には配するべきではない。その理由は、ろう付
け材は、そうした場合に、その本来の状態（即ち、Pd−
Co又はPd−Ni）にとどまり、ターゲツト部材24又は支持
部材28中に拡散しないためである。別の方法として、TZ
M合金のナツト54とTZM合金のアノードデイスク26との界
面又はナツト54もしくは雄ねじ端部53のねじ山に、従つ
てTZM合金のナツト54とTZM合金のねじ端部53との間の界
面にろう付け材を配してもよい。どちらの場合にも、ろ
う付け材がこれらのTZM合金の部材によつて遮蔽される
ように、即ち曝露されないように（従つて、Ｘ線筒38の
側面上に金属が沈着しないように）適切に配慮する。
Ｘ線筒12の作動中のターゲツト組立体22の回転は、回転
軸線32から径方向外方に向うターゲツト部材24に対する
機械的な力、即ち遠心力を発生させる。この遠心力は第
２図に矢印33によつて表わされ、アノードデイスク26を
ネツク部分51から離れるように付勢する傾向をもつてい
る。明らかなように、遠心力33は取付面30上にろう付け
材36を配することによつて、従つて、ターゲツト部材24
の底面29と支持部材28の取付面30との界面に拡散結合を
形成することによつて、この拡散組合にせん断応力を与
える。他方では、この遠心力33は、アノードデイスク26
の中心部の開口27の壁部と支持部材28のネツク部分51と
の間に形成された拡散結合に引張又は圧縮応力を与える
であろう。周知のように、拡散結合は、引張応力又は圧
縮応力を受けた場合よりもせん断応力を受けた場合の方
が破壊され難い。そのため、第２図に示すように取付面
30とアノードデイスク26の底面29との間に形成された拡
散結合は、より好ましいと共に、支持部材28のステム48
がろう付け材から成るこの明細書の発明の背景の項で説
明したようなターゲツト組立体（支持部材のステムがろ
う付け材を含むもの）において発生する引張−圧縮応力
の問題も克服する。
本発明の好ましい実施例について以上に説明したが、本
発明はこの特定の構成以外にもいろいろと変更して実施
することができる。一例として、Pd−Co又はPd−Ni以外
のろう付け材も使用してもよい。また、TZM合金以外の
適当な材料を、支持部材28、ナツト54及びターゲツト部
材24のために使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明による固着方法に従つて製造した本発
明によるＸ線ターゲツト組立体を組込んだＸ線発生装置
の略配列接続図、第２図は、第１図に示したＸ線発生装
置のＸ線ターゲツト組立体の拡大断面図である。 符号の説明 24……Ｘ線ターゲツト部材、28……支持部材 29……底面（24の第１面） 30……取付け面（28の第１面） 36……ろう付け材。

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】Ｘ線ターゲット部材を支持部材に固着する
    固着方法において、 前記支持部材の第１面と前記Ｘ線ターゲット部材の第１
    面との間の界面に、前記Ｘ線ターゲット部材の融点及び
    前記支持部材の融点よりも融点の低いパラジウム−コバ
    ルト合金からなるろう付け材を配するステップと、 前記ろう付け材の融点よりも低い温度で、前記Ｘ線ター
    ゲット部材の前記第１面と前記支持部材の前記第１面と
    に前記ろう付け材を拡散させるステップと、 を備える固着方法。
  2. 【請求項２】前記拡散させるステップが、 前記Ｘ線ターゲット部材と前記支持部材とを、それぞれ
    の前記第１面の間の界面において一緒に加圧するステッ
    プと、 前記Ｘ線ターゲット部材を加熱し、前記界面において前
    記ろう付け材に対して前記Ｘ線ターゲット部材を膨張さ
    せる、加熱ステップと、 を備える特許請求の範囲第１項記載の固着方法。
  3. 【請求項３】前記加熱ステップが、低電力の電子ビーム
    を前記Ｘ線ターゲット部材に与えるステップを備える、
    特許請求の範囲第２項記載の固着方法。
  4. 【請求項４】前記加熱ステップが、前記Ｘ線ターゲット
    部材を高周波の電磁界にさらすステップを備える、特許
    請求の範囲第２項記載の固着方法。
  5. 【請求項５】支持軸の横取付面にＸ線ターゲット部材を
    結合する方法において、 前記横取付面に、パラジウム−コバルト合金からなるろ
    う付け材を配するステップと、 前記ろう付け材及び前記取付面に前記Ｘ線ターゲット部
    材を位置させるステップと、 前記取付面及び前記Ｘ線ターゲット部材中に前記ろう付
    け材を拡散させるステップと、 を備える結合方法。
  6. 【請求項６】前記拡散させるステップが、 前記ろう付け材及び前記取付面に前記Ｘ線ターゲット部
    材を固定させるステップと、 前記Ｘ線ターゲット部材を加熱して前記Ｘ線ターゲット
    部材を前記ろう付け材及び前記取付面に対して膨張させ
    るステップと、 を備える特許請求の範囲第５項記載の結合方法。
  7. 【請求項７】前記ろう付け材の融点よりも低い温度に前
    記Ｘ線ターゲット部材を加熱する、特許請求の範囲第６
    項記載の結合方法。
  8. 【請求項８】前記Ｘ線ターゲット部材及び前記取付面が
    耐火金属から成る、特許請求の範囲第５項記載の結合方
    法。
  9. 【請求項９】ねじ端部を有する支持部材にＸ線ターゲッ
    ト部材を結合する方法において、 前記支持部材の取付面上に前記Ｘ線ターゲット部材を位
    置させるステップと、 前記ねじ端部とそれを受け入れるためのナットとの間の
    界面に、パラジウム−コバルト合金からなるろう付け材
    を配するステップと、 前記ねじ端部に前記ナットを締め付け、前記ナットを前
    記Ｘ線ターゲット部材に対して締め付けて前記Ｘ線ター
    ゲット部材を前記取付面に固着するステップと、 前記ろう付け材の融点よりも低い温度に前記Ｘ線ターゲ
    ット部材を加熱して、前記ろう付け材を前記ナット及び
    前記ねじ端部に拡散させるステップと、 を備える結合方法。
  10. 【請求項１０】Ｘ線ターゲット部材と、 前記Ｘ線ターゲット部材を支持するための支持手段と、 前記Ｘ線ターゲット部材を前記支持手段に固着するため
    の固着手段と、 を備え、 前記固着手段は、前記Ｘ線ターゲット部材の第１面と前
    記支持手段の第１面との間の界面に配された、パラジウ
    ム−コバルト合金からなるろう付け材からなり、前記ろ
    う付け材の第１部分は、前記Ｘ線ターゲット部分の前記
    第１面中に拡散され、前記ろう付け材の第２部分は、前
    記支持手段の前記第１面中に拡散される、Ｘ線ターゲッ
    ト組立体。
  11. 【請求項１１】前記Ｘ線ターゲット部材及び前記支持手
    段が耐火金属からなり、前記ろう付け材は、前記耐火金
    属の融点よりも低い融点をもつ、特許請求の範囲第10項
    記載のＸ線ターゲット組立体。
  12. 【請求項１２】前記支持手段が、ステム部分と、前記ス
    テム部分に対して横方向に配されたフランジ部分とを備
    え、前記Ｘ線ターゲット部材は、該Ｘ線ターゲット部材
    の開口を経て延びる前記ステム部分及び前記フランジ部
    分上に配される、特許請求の範囲第10項記載のＸ線ター
    ゲット組立体。
  13. 【請求項１３】前記Ｘ線ターゲット部材と前記フランジ
    部分との間の界面に前記ろう付け材を配した、特許請求
    の範囲第12項記載のＸ線ターゲット組立体。
  14. 【請求項１４】前記Ｘ線ターゲット部材と前記ステム部
    分との間の界面に前記ろう付け材を配した、特許請求の
    範囲第13項記載のＸ線ターゲット組立体。
  15. 【請求項１５】前記ステム部分をねじ付きとし、前記支
    持手段は、ねじ付きの前記ステム部分を受けるようにし
    たナットを備え、前記ナットは、前記Ｘ線ターゲット部
    材と係合する、特許請求の範囲第12項記載のＸ線ターゲ
    ット組立体。
  16. 【請求項１６】前記ナットと前記Ｘ線ターゲット部材と
    の間の界面に前記ろう付け材を配した、特許請求の範囲
    第15項記載のＸ線ターゲット組立体。
  17. 【請求項１７】前記ステム部分のねじ付部分と前記ナッ
    トとの間の界面にろう付け材を配した、特許請求の範囲
    第16項記載のＸ線ターゲット組立体。
  18. 【請求項１８】空気抜きしたエンベロープと、 前記エンベロープ中に配設されて回転軸線の回りを回転
    可能とした、回転可能なＸ線ターゲット組立体とを備
    え、前記Ｘ線ターゲット組立体は、 （ｉ） 通し孔を備えたＸ線ターゲット部材と、 （ii） 前記回転軸線に対して横方向に配される取付面
    であって、前記Ｘ線ターゲット部材の下面が前記取付面
    上に配される取付面と、前記取付面から前記Ｘ線ターゲ
    ット部材の前記通し孔を通って延びるねじ付ステムと、
    を含む支持部材と、 （iii） 前記ねじ付ステムを受けるようにされ、前記
    Ｘ線ターゲット部材の上面と係合するナットと、 （iv） 前記Ｘ線ターゲット部材を前記支持部材に固着
    するための固着手段と、 を備え、 前記固着手段は、前記Ｘ線ターゲット部材の下面と前記
    取付面との間に配された、パラジウム−コバルト合金か
    らなるろう付け材を含み、前記ろう付け材の第１部分は
    前記Ｘ線ターゲット部材中に拡散され、前記ろう付け材
    の第２部分は前記支持部材の取付面に拡散されるように
    したＸ線管。
  19. 【請求項１９】前記Ｘ線ターゲット部材と前記支持部材
    とがTZMからなり、前記ろう付け材はTZMの融点よりも低
    い融点をもつ、特許請求の範囲第18項記載のＸ線管。
  20. 【請求項２０】Ｘ線ターゲット部材を支持部材に固着す
    るための固着方法において、 前記Ｘ線ターゲット部材の融点及び前記支持部材の融点
    よりも低い融点をもったパラジウム−コバルト合金から
    なるろう付け材を、前記支持部材の第１面と前記Ｘ線タ
    ーゲット部材の第１面との間の界面に配するステップ
    と、 前記ろう付け材の融点よりも低い温度において、２つの
    前記第１面のうち少なくとも一方に前記ろう付け材を拡
    散させるステップと、 を備える固着方法。
  21. 【請求項２１】Ｘ線ターゲット部材と、 前記Ｘ線ターゲット部材を支持する支持手段と、 前記Ｘ線ターゲット部材を前記支持手段に固着する固着
    手段と、を備え、 前記固着手段は、前記Ｘ線ターゲット部材の第１面と前
    記支持手段の第１面との間の界面に配されるパラジウム
    −コバルト合金からなる材料を含み、前記材料の一部分
    は、２つの前記第１面のうちの少なくとも一方に拡散さ
    れるようにした、Ｘ線ターゲット組立体。
JP62003101A 1986-01-09 1987-01-09 拡散結合ｘ線タ−ゲツト Expired - Lifetime JPH0785407B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US817692 1986-01-09
US06/817,692 US4736400A (en) 1986-01-09 1986-01-09 Diffusion bonded x-ray target

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62168317A JPS62168317A (ja) 1987-07-24
JPH0785407B2 true JPH0785407B2 (ja) 1995-09-13

Family

ID=25223660

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62003101A Expired - Lifetime JPH0785407B2 (ja) 1986-01-09 1987-01-09 拡散結合ｘ線タ−ゲツト

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4736400A (ja)
EP (2) EP0653773B1 (ja)
JP (1) JPH0785407B2 (ja)
DE (2) DE3751638T2 (ja)

Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4969172A (en) * 1988-08-15 1990-11-06 Machlett Labs. Inc. X-ray tube rotor structure
US4866748A (en) * 1988-08-15 1989-09-12 Varian Associates, Inc. Rotor structure brazed joint
US4993054A (en) * 1989-09-27 1991-02-12 General Electric Company Brazed X-ray tube anode assembly
JP2697381B2 (ja) * 1991-06-20 1998-01-14 株式会社島津製作所 回転陽極ｘ線管
US5247563A (en) * 1992-02-25 1993-09-21 General Electric Company High vapor pressure metal for X-ray anode braze joint
US5547410A (en) * 1994-07-08 1996-08-20 General Electric Company Method of making an improved target/stem connection for x-ray tube anode assemblies
US5577093A (en) * 1994-07-08 1996-11-19 General Electric Company Target/stem connection for x-ray tube anode assemblies
US5530733A (en) * 1994-07-08 1996-06-25 General Electric Company Target/stem connection utilizing a diffusion enhancer for x-ray tube anode assemblies
US5498187A (en) * 1994-10-06 1996-03-12 General Electric Company Method of making an improved target/stem assembly - rotor body assembly connection for x-ray tubes
US5548628A (en) * 1994-10-06 1996-08-20 General Electric Company Target/rotor connection for use in x-ray tube rotating anode assemblies
US5498186A (en) * 1994-10-06 1996-03-12 General Electric Company Method of making an improved target/stem connection for x-ray tube anode assemblies
US5655000A (en) * 1995-10-06 1997-08-05 General Electric Company Target/rotor connection for use in x-ray tubes
US6088426A (en) * 1998-05-27 2000-07-11 Varian Medical Systems, Inc. Graphite x-ray target assembly
US6078644A (en) * 1998-07-01 2000-06-20 Varian Medical Systems, Inc. Carbon-backed x-ray target with coating
US6256375B1 (en) * 1999-03-29 2001-07-03 General Electric Company Target angle matching cathode structure for an X-ray tube
US6463125B1 (en) 1999-05-28 2002-10-08 General Electric Company High performance x-ray target
US7062017B1 (en) 2000-08-15 2006-06-13 Varian Medical Syatems, Inc. Integral cathode
EP1432005A4 (en) * 2001-08-29 2006-06-21 Toshiba Kk ROTARY X-RAY TUBE WITH POSITIVE POLE
US6984358B2 (en) * 2002-09-13 2006-01-10 Lockheed Martin Corporation Diffusion bonding process of two-phase metal alloys
US7184520B1 (en) * 2003-01-29 2007-02-27 Varian Medical Systems Technologies, Inc. Component mounting system with stress compensation
CN100550269C (zh) * 2003-03-03 2009-10-14 皇家飞利浦电子股份有限公司 X射线管阴极组件和界面反应连接工艺方法
DE10316089A1 (de) * 2003-04-08 2004-11-11 Siemens Ag Hochleistungsröntgenröhre
US9208988B2 (en) 2005-10-25 2015-12-08 Rapiscan Systems, Inc. Graphite backscattered electron shield for use in an X-ray tube
US10483077B2 (en) 2003-04-25 2019-11-19 Rapiscan Systems, Inc. X-ray sources having reduced electron scattering
GB0525593D0 (en) 2005-12-16 2006-01-25 Cxr Ltd X-ray tomography inspection systems
GB0812864D0 (en) * 2008-07-15 2008-08-20 Cxr Ltd Coolign anode
US8243876B2 (en) 2003-04-25 2012-08-14 Rapiscan Systems, Inc. X-ray scanners
US6925152B2 (en) * 2003-05-13 2005-08-02 Ge Medical Systems Global Technology Co., Llc Target attachment assembly
US9046465B2 (en) 2011-02-24 2015-06-02 Rapiscan Systems, Inc. Optimization of the source firing pattern for X-ray scanning systems
US7460648B2 (en) * 2007-05-03 2008-12-02 Varian Medical Systems, Inc. Mechanical interface assembly
US7924983B2 (en) * 2008-06-30 2011-04-12 Varian Medical Systems, Inc. Thermionic emitter designed to control electron beam current profile in two dimensions
GB0901338D0 (en) 2009-01-28 2009-03-11 Cxr Ltd X-Ray tube electron sources
JP5646876B2 (ja) * 2010-05-13 2014-12-24 株式会社日立メディコ 回転陽極ｘ線管およびそれを備えたｘ線管装置
US8744047B2 (en) 2010-10-29 2014-06-03 General Electric Company X-ray tube thermal transfer method and system
US20120106711A1 (en) * 2010-10-29 2012-05-03 General Electric Company X-ray tube with bonded target and bearing sleeve
US8848875B2 (en) 2010-10-29 2014-09-30 General Electric Company Enhanced barrier for liquid metal bearings
US8503615B2 (en) 2010-10-29 2013-08-06 General Electric Company Active thermal control of X-ray tubes
JP6318245B2 (ja) * 2013-07-11 2018-04-25 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． 熱膨張に適合する回転陽極の装着
US9831058B2 (en) * 2015-01-21 2017-11-28 Varex Imaging Corporation Vacuum assemblies and methods of formation
CN108907630B (zh) * 2018-08-14 2020-08-07 合肥工业大学 一种CT机X射线管用W/Mo/石墨复合阳极靶材的制造方法
CN109449070A (zh) * 2018-11-30 2019-03-08 杭州凯龙医疗器械有限公司 一种x射线管及其阳极组件、阳极组件的生产方法
CN111463093A (zh) * 2020-04-09 2020-07-28 上海联影医疗科技有限公司 X射线管、医疗成像设备和x射线管的装配方法
CN113001002A (zh) * 2021-03-30 2021-06-22 杭州凯龙医疗器械有限公司 一种ct管靶盘与转子铜套的固定方法

Family Cites Families (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2754168A (en) * 1956-07-10 atlee
US31560A (en) * 1861-02-26 Arrangement of carriage-springs
US2480351A (en) * 1946-09-04 1949-08-30 Western Electric Co Electrical resistance brazing
BE487480A (ja) * 1948-02-23
US2720575A (en) * 1952-03-27 1955-10-11 Bendix Aviat Corp Method of brazing a joint
US3122424A (en) * 1961-12-13 1964-02-25 King L D Percival Graphite bonding method
US3259971A (en) * 1962-12-10 1966-07-12 Martin Marietta Corp High temperature braze alloy and method of using the same for molybdenum, other refractory metals and alloys thereof
US3496630A (en) * 1966-04-25 1970-02-24 Ltv Aerospace Corp Method and means for joining parts
FR1598193A (ja) * 1967-11-21 1970-07-06
AT315305B (de) * 1971-03-16 1974-05-27 Siemens Ag Drehanode für Röntgenröhren
GB1383557A (en) * 1971-04-01 1974-02-12 Philips Electronic Associated Manufacturing a rotatable anode for an x-ray tube
DE2215370A1 (de) * 1972-03-29 1973-10-11 Picker Corp Drehanodenlager fuer roentgenroehren
US3753021A (en) * 1972-04-03 1973-08-14 Machlett Lab Inc X-ray tube anode target
DE2226714C3 (de) * 1972-06-02 1975-06-05 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Drehanoden-Anordnung einer Röntgenröhre mit in einem buchsenförmigen Rohr über radial wirkende Federn gelagerten Kugellagern
US3969131A (en) * 1972-07-24 1976-07-13 Westinghouse Electric Corporation Coated graphite members and process for producing the same
JPS49116992A (ja) * 1973-03-09 1974-11-08
IT1023141B (it) * 1973-11-02 1978-05-10 Tokyo Shibaura Electric Co Struttura anodica rotativa per tubo a raggi x
US3935986A (en) * 1975-03-03 1976-02-03 Texas Instruments Incorporated Solid state bonding process employing the isothermal solidification of a liquid interface
JPS556040Y2 (ja) * 1975-11-04 1980-02-12
DE2613060C3 (de) * 1976-03-26 1979-04-26 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Röntgenröhren-Drehanode
DE2610660C3 (de) * 1976-03-13 1979-02-22 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Drehanoden-Röntgenröhre
DE2618235C3 (de) * 1976-04-26 1983-01-13 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Röntgenröhren-Drehanode
US4097759A (en) * 1976-07-21 1978-06-27 Picker Corporation X-ray tube
US4097760A (en) * 1976-07-21 1978-06-27 Picker Corporation X-ray tube having bearing lubrication
US4145632A (en) * 1977-04-18 1979-03-20 General Electric Company Composite substrate for rotating x-ray anode tube
ES468605A1 (es) * 1977-04-18 1978-11-16 Gen Electric Conjunto de anodo para tubo de rayos x.
US4073426A (en) * 1977-04-18 1978-02-14 General Electric Company Method for joining an anode target comprising tungsten to a graphite substrate
US4166231A (en) * 1977-10-07 1979-08-28 The Machlett Laboratories, Inc. Transverse beam x-ray tube
DE2833751C3 (de) * 1978-08-01 1981-10-29 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Röntgenröhren-Drehanodenteller
US4336476A (en) * 1978-09-05 1982-06-22 The Machlett Laboratories, Incorporated Grooved X-ray generator
US4185365A (en) * 1978-09-08 1980-01-29 General Electric Company Method of making stationary anode x-ray tube with brazed anode assembly
US4327305A (en) * 1978-11-20 1982-04-27 The Machlett Laboratories, Inc. Rotatable X-ray target having off-focal track coating
US4335327A (en) * 1978-12-04 1982-06-15 The Machlett Laboratories, Incorporated X-Ray tube target having pyrolytic amorphous carbon coating
US4276493A (en) * 1979-09-10 1981-06-30 General Electric Company Attachment means for a graphite x-ray tube target
DE2941396A1 (de) * 1979-10-12 1981-04-23 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Drehanoden-roentgenroehre mit einem grundkoerper aus graphit
DE3013441C2 (de) * 1980-04-05 1984-12-13 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Anodenteller für eine Drehanoden-Röntgenröhre und Verfahren zu seiner Herstellung
US4252263A (en) * 1980-04-11 1981-02-24 General Electric Company Method and apparatus for thermo-compression diffusion bonding
JPS5795051A (en) * 1980-12-03 1982-06-12 Hitachi Ltd Structure of fixing target for rotary positive electrode type x ray tube
US4480165A (en) * 1981-12-02 1984-10-30 United Aircraft Products, Inc. Braze fixture and method of using
JPS58119142A (ja) * 1982-01-06 1983-07-15 Hitachi Ltd 回転陽極
JPS58142750A (ja) * 1982-02-17 1983-08-24 Hitachi Ltd 回転陽極ｘ線管の陽極
JPS58167086A (ja) * 1982-03-26 1983-10-03 Hitachi Ltd 拡散接合方法
US4481655A (en) * 1982-04-01 1984-11-06 General Electric Company X-Ray target attachment
DE3226858A1 (de) * 1982-07-17 1984-01-19 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Drehanoden-roentgenroehre
NL8301838A (nl) * 1983-05-25 1984-12-17 Philips Nv Roentgenbuis voor het opwekken van zachte roentgenstraling.
JPS6020434A (ja) * 1983-07-13 1985-02-01 Hitachi Ltd Ｘ線管用回転陽極複合タ−ゲツト
US4574388A (en) * 1984-05-24 1986-03-04 General Electric Company Core for molybdenum alloy x-ray anode substrate
FR2566960B1 (fr) * 1984-06-29 1986-11-14 Thomson Cgr Tube a rayons x a anode tournante et procede de fixation d'une anode tournante sur un axe support
US5519093A (en) * 1994-05-11 1996-05-21 Air Products And Chemicals, Inc. Synthesis of amine functional co-and terpolymers

Also Published As

Publication number Publication date
EP0229697B1 (en) 1995-12-20
EP0653773B1 (en) 1997-09-03
JPS62168317A (ja) 1987-07-24
DE3752113D1 (de) 1997-10-09
DE3751638D1 (de) 1996-02-01
DE3752113T2 (de) 1998-01-08
EP0229697A2 (en) 1987-07-22
EP0653773A1 (en) 1995-05-17
DE3751638T2 (de) 1996-07-18
EP0229697A3 (en) 1988-07-06
US4736400A (en) 1988-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0785407B2 (ja) 拡散結合ｘ線タ−ゲツト
US3795832A (en) Target for x-ray tubes
US4276493A (en) Attachment means for a graphite x-ray tube target
US5414748A (en) X-ray tube anode target
US3855492A (en) Vibration reduced x-ray anode
EP1292964B1 (en) Drive assembly for an x-ray tube having a rotating anode
US4367556A (en) Rotary-anode X-ray tube
US4679220A (en) X-ray tube device with a rotatable anode
US7248673B2 (en) Integrated component mounting system
US4481655A (en) X-Ray target attachment
US5838762A (en) Rotating anode for x-ray tube using interference fit
US3842305A (en) X-ray tube anode target
US3943393A (en) Stress free filament structure
US3821581A (en) Targets for x ray tubes
US5588035A (en) X-ray tube noise and vibration reduction
JP2005518071A (ja) Ｘ線生成装置
US5592525A (en) Method for making a rotating anode with an integral shaft
US5349626A (en) X-ray tube anode target
US6157702A (en) X-ray tube targets with reduced heat transfer
GB2073945A (en) Anode disk for a rotary-anode X-ray tube and method of manufacturing same.
US4005322A (en) Rotating anode target structure
JP5646876B2 (ja) 回転陽極ｘ線管およびそれを備えたｘ線管装置
JPH01221845A (ja) Ｘ線管回転陽極
JP3755953B2 (ja) 金属外囲器回転陽極ｘ線管の製造方法
US6947524B2 (en) Target bore strengthening method