JPH0784502A - ホログラム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】広い波長領域に渡って高い感度特性を有し、高
回折効率、高透明性、高解像度および保存性に優れたホ
ログラム記録材料およびそれを用いた体積位相型ホログ
ラムの製造方法。 【構成】ビニルモノマーの単一重合体または２成分以上
の共重合体である高分子化合物（Ａ）、重合可能なエチ
レン性不飽和結合を少なくとも１個以上有する化合物
（Ｂ）、スチリル色素（Ｃ）およびスルホニウム有機ホ
ウ素錯体（Ｄ）の組合せを含むことを特徴とするホログ
ラム記録材料と、該記録材料を用いて作成したホログラ
ム記録媒体に輻射線の干渉パターンに露出する第１の工
程、該記録媒体から未重合の該輻射線重合性物質を除去
し且つまた該記録媒体を膨潤せしめる溶媒にて処理する
第２の工程、さらに該記録媒体に対する溶解性及び膨潤
性に乏しい溶媒に、該記録媒体を接触せしめる第３の工
程を具備してなることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、広い波長領域に渡って
高い感度特性を有し、且つ解像度、回折効率及び透明性
などのホログラム特性に優れたホログラム記録材料及び
それを用いた体積位相型ホログラムの製造方法に関する
ものである。

【従来の技術】従来、ホログラム記録媒体として、漂白
処理銀塩および重クロム酸ゼラチン系の感光材料が一般
に使用されてきた。しかし、これらのホログラム記録媒
体によるホログラムの製造は、何れも感光板の作製方
法、ホログラム製造のための処理が煩雑であったり、製
造されたホログラムが耐環境特性、例えば耐湿性、耐候
性に劣る、また解像度に限界があるという問題点を有し
ていた。

【０００２】かかる問題を解決するために、耐環境特性
に優れ、且つ高解像度、高回折効率などのホログラムの
有すべき特性を備えた体積位相型ホログラムの製造方法
として、フォトポリマーを利用した例が知られている。
例えば、特公昭６２−２２１５２号公報では、担体とな
るべき重合体中に光重合性物質である２個以上のエチレ
ン性不飽和結合を有する多官能単量体を分散せしめた感
材を、輻射線の干渉パターンに露出する第１の工程、該
感材を第１の溶媒で処理し該感材を膨潤せしめる第２の
工程、膨潤作用の乏しい第２の溶媒で処理し該感材を収
縮せしめる第３の工程とを具備してなることを特徴とす
るホログラム製造方法が開示されている。しかしなが
ら、該公知文献における方法において、充分な回折効率
を有するホログラムを製造するためには５０ｍＪ／ｃｍ
２以上の露光エネルギーが必要とされ、ホログラムの大
量複製、即ち露光時間の短縮化において重要な特性とな
る感度特性をより一層向上させることが望まれた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、広い波長領
域に渡って高い感度特性を有し、且つ解像度、回折効率
及び透明性に優れたホログラム記録材料及びそれを用い
た体積位相型ホログラムの製造方法を提供するものであ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上の諸
点を考慮し、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
本発明に至ったものである。すなわち、本発明の第一の
発明は、ビニルモノマー単一重合体または２成分以上の
共重合体である高分子化合物（Ａ）、重合可能なエチレ
ン性不飽和結合を少なくとも１個以上有する化合物
（Ｂ）、スチリル色素（Ｃ）およびスルホニウム有機ホ
ウ素錯体（Ｄ）の組合せを含むことを特徴とするホログ
ラム記録材料であり、第二の発明は、基材上に請求項１
記載のホログラム記録材料を皮膜状に形成しホログラム
記録媒体を得た後、該ホログラム記録媒体を輻射線の干
渉パターンに露出する第１の工程、該記録媒体上に形成
された被膜状の該ホログラム記録材料を膨潤せしめる溶
媒で、該ホログラム記録媒体を処理する第２の工程、さ
らに該記録媒体上の該ホログラム記録材料に対する溶解
性及び膨潤性に乏しい溶媒に、該記録媒体を接触せしめ
る第３の工程を具備してなることを特徴とする体積位相
型ホログラムの製造方法法であり、第三の発明は、前記
ホログラム記録媒体を輻射線による干渉パターンに露出
する前あるいは後に、紫外線、可視光線、電子線などの
活性線への露出処理、（および）または加熱処理するこ
とを特徴とする前記体積位相型ホログラムの製造方法で
ある。

【０００５】以下、詳細にわたって本発明を説明する。
本発明のホログラム記録材料において使用される高分子
化合物（Ａ）は、ビニルモノマーの単一重合体または２
成分以上の共重合体である。具体的なビニルモノマーと
しては、（メタ）アクリル酸エステル類が挙げられる。
その様な（メタ）アクリル酸エステルの具体例として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、
ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ
ル、ドデシル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、
２−エチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２−エチ
ルヘキシル、２−メチルペンチル、シクロヘキシル、ア
ダマンチル、イソボルニル、ジシクロペンタニル、テト
ラヒドロフルフリールなどの鎖状、分枝状及び環状アル
キルの（メタ）アクリル酸エステル類、フェニル、４−
メトキシカルボニルフェニル、４−エトキシカルボニル
フェニル、４−ブトキシカルボニルフェニル、４−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル、ベンジル、４−フェニルエチ
ル、４−フェノキシジエチレングルコール、４−フェノ
キシテトラエチレングリコール、４−フェノキシヘキサ
エチレングリコール、４−ビフェニリルなどの芳香環を
含有する（メタ）アクリル酸エステル類、フェロセニル
メチル、フェロセニルエチルなどの鉄原子を含有する
（メタ）アクリル酸エステル類、トリフルオロエチル、
テトラフルオロプロピル、ヘプタデカフルオロデシル、
オクタフルオロペンチル、２，３−ジブロモプロピルな
どのハロゲン原子を含有する（メタ）アクリル酸エステ
ル類、トリメトキシシリルプロピル、トリメチルシロキ
シエチルなどのケイ素原子を含有する（メタ）アクリル
酸エステル類、グリシジルアクリレートやグリシジルメ
タクリレートなどのエポキシ基を含有する（メタ）アク
リル酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル、ｔ−ブチルアミノエチ
ルなどのアミノ基を含有する（メタ）アクリル酸エステ
ル類などが挙げられる。

【０００６】また、その他のビニルモノマーとしては、
ブタジエン、イソプレン、アクリルアミド、Ｎ−ブチル
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、ア
クリロニトリル、スチレン、４−ブロモスチレン、パー
フルオロスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエ
ン、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、Ｎ−ビ
ニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルピリ
ジン、ビニルピロリジンなどが挙げられる。

【０００７】本発明のホログラム記録材料に供される重
合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１個以上有
する化合物（Ｂ）としては、１官能であるビニルモノマ
ーの他にオリゴマーを含むものであり、さらには高分子
量化合物であってもよく、またこれらの混合物であって
もよい。その様な化合物としては、アクリル酸、メタク
リル酸、イタコン酸、マレイン酸、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、２−ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルカルバ
ゾール等の高沸点ビニルモノマー、さらには、脂肪族ポ
リヒドロキシ化合物、例えば、エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３
−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５
−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，
１０−デカンジオール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビト
ール、マンニトールなどのジあるいはポリ（メタ）アク
リルエステル類、芳香族ポリヒドロキシ化合物、例え
ば、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロ
ール等のジあるいはポリ（メタ）アクリルエステル、イ
ソシアヌル酸のエチレンオキシド変性（メタ）アクリレ
ート、さらには、側鎖にヒドロキシ基やハロゲン化メチ
ル基の如き反応活性を有する官能基を持つ重合体とアク
リル酸、メタクリル酸、クロトン酸などの不飽和カルボ
ン酸との高分子反応によって得られるポリマーも好適に
使用しうる。このような高分子化合物としては、ポリビ
ニルアルコール、ビニルアルコールと酢酸ビニルとの共
重合体、ポリエピクロルヒドリン、フェノキシ樹脂、ポ
リクロロメチルスチレン、２−ヒドロキシ（メタ）アク
リレートと種々アクリレートモノマーとの共重合体、フ
ェノール樹脂などが挙げられる。さらには、（メタ）ア
クリル化されたエポキシ樹脂、ポリエステルアクリレー
トオリゴマー、（メタ）アクリル化ウレタンオリゴマ
ー、アクロレイン化ポリビニルアルコール等をあげるこ
とができる。

【０００８】本発明で使用のスチリル色素（Ｃ）として
は、一般式（１）ないし一般式（３）で表されるスチリ
ル色素を示す。

【０００９】

【化１】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³はそれぞれ独立に、置換基
を有しても良いアルキル基または置換基を有しても良い
アラルキル基を示し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、セレ
ン原子、ＮＨ基、ＣＨ＝ＣＨ基、またはＣ（ＣＨ₃）₂基
を示し、且つＸはＮ−Ｒ¹とともに、縮合ベンゼン環を
さらに有しても良い５員環および６員環の複素環を形成
する。またＹは、ハロゲン、ＮＯ₃、ＢＦ₄、ＰＦ₆、Ａ
ｓＦ₆、ＣｌＯ₄、ＳｂＦ₆、ＣＦ₃ＳＯ₃またはＣＨ₃Ｃ₆
Ｈ₄ＳＯ₃を示し、ｎは１または２の整数を示す。）

【００１０】このようなスチリル色素の具体例として次
に挙げる化合物を例示することができる。２−（ｐ−ジ
メチルアミノスチリル）−１−エチルピリジニウムヨー
ダイド、２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−
１，３−ブタジエニル］−１−エチルピリジニウムヨー
ダイド、２−｛［５，５−ジメチル−３−（ｐ−ジメチ
ルアミノスチリル）−２−シクロヘキセン−１−イリデ
ン］メチル｝−１−エチルピリジニウムパークロレー
ト、２−｛［５，５−ジメチル−３−［４−（ｐ−ジメ
チルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−２−
シクロヘキセン−１−イリデン］メチル｝−１−エチル
ピリジニウムパークロレート、２−｛［４−（ｐ−ジメ
チルアミノスチリル）−２Ｈ−ベンゾピラン−２−イリ
デン］メチル｝−１−エチルピリジニウムパークロレー
ト、２−｛［４−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ル）−１，３−ブタジエニル］−２Ｈ−ベンゾピラン−
２−イリデン］メチル｝−１−エチルピリジニウムパー
クロレート、４−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−１
−エチルピリジニウムヨーダイド、４−［４−（ｐ−ジ
メチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−１
−エチルピリジニウムヨーダイド、４−｛［５，５−ジ
メチル−３−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２−シ
クロヘキセン−１−イリデン］メチル｝−１−エチルピ
リジニウムパークロレート、４−｛［５，５−ジメチル
−３−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３
−ブタジエニル］−２−シクロヘキセン−１−イリデ
ン］メチル｝−１−エチルピリジニウムパークロレー
ト、４−｛［４−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２
Ｈ−ベンゾピラン−２−イリデン］メチル｝−１−エチ
ルピリジニウムパークロレート、４−｛［４−［４−
（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニ
ル］−２Ｈ−ベンゾピラン−２−イリデン］メチル｝−
１−エチルピリジニウムパークロレート、２−（ｐ−ジ
メチルアミノスチリル）−３−メチルベンゾオキサゾリ
ウムヨーダイド、２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェ
ニル）−１，３−ブタジエニル］−３−メチルベンゾオ
キサゾリウムヨーダイド、２−（ｐ−ジエチルアミノス
チリル）−３−メチルベンゾオキサゾリウムヨーダイ
ド、２−（ｐ−ジュロリジルスチリル）−３−エチルベ
ンゾオキサゾリウムヨーダイド、２−｛［５，５−ジメ
チル−３−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２−シク
ロヘキセン−１−イリデン］メチル｝−３−メチルベン
ゾオキサゾリウムヨーダイド、２−｛［５，５−ジメチ
ル−３−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，
３−ブタジエニル］−２−シクロヘキセン−１−イリデ
ン］メチル｝−３−メチルベンゾオキサゾリウムヨーダ
イド、２−｛［４−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−
２Ｈ−ベンゾピラン−２−イリデン］メチル｝−３−エ
チルベンゾオキサゾリウムテトラフルオロボレート、２
−｛［４−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−
１，３−ブタジエニル］−２Ｈ−ベンゾピラン−２−イ
リデン］メチル｝−３−エチルベンゾオキサゾリウムテ
トラフルオロボレート、２−（ｐ−ジメチルアミノスチ
リル）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリウ
ムヨーダイド、２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ル）−１，３−ブタジエニル］−３−メチルナフト
［２，１−ｄ］オキサゾリウムヨーダイド、２−
｛［５，５−ジメチル−３−（ｐ−ジメチルアミノスチ
リル）−２−シクロヘキセン−１−イリデン］メチル｝
−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリウムヨー
ダイド、２−｛［４−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）
−２Ｈ−ベンゾピラン−２−イリデン］メチル｝−３−
エチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリウムテトラフル
オロボレート、５，５−ジクロロ−２−｛［５，５−ジ
メチル−３−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−
１，３−ブタジエニル］−２−シクロヘキセン−１−イ
リデン］メチル｝−３−メチルベンゾオキサゾリウムパ
ークロレート、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−
３−エチルベンゾチアゾリウムヨーダイド、２−［４−
（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニ
ル］−３−エチルベンゾチアゾリウムヨーダイド、２−
（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−３−ベンジルベンゾ
チアゾリウムヨーダイド、２−｛［５，５−ジメチル−
３−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２−シクロヘキ
セン−１−イリデン］メチル｝−３−メチルベンゾチア
ゾリウムヨーダイド、２−｛［５，５−ジメチル−３−
［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタ
ジエニル］−２−シクロヘキセン−１−イリデン］メチ
ル｝−３−メチルベンゾチアゾリウムヨーダイド、２−
｛［４−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２Ｈ−ベン
ゾピラン−２−イリデン］メチル｝−３−エチルベンゾ
チアゾリウムテトラフルオロボレート、２−｛［４−
［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタ
ジエニル］−２Ｈ−ベンゾピラン−２−イリデン］メチ
ル｝−３−エチルベンゾチアゾリウムテトラフルオロボ
レート、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−３−メ
チルナフト［２，１−ｄ］チアゾリウムヨーダイド、２
−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブ
タジエニル］−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾ
リウムヨーダイド、２−｛［５，５−ジメチル−３−
（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２−シクロヘキセン
−１−イリデン］メチル｝−３−メチルナフト［２，１
−ｄ］チアゾリウムヨーダイド、２−｛［４−（ｐ−ジ
メチルアミノスチリル）−２Ｈ−ベンゾピラン−２−イ
リデン］メチル｝−３−エチルナフト［２，１−ｄ］チ
アゾリウムテトラフルオロボレート、５，５−ジクロロ
−２−｛［５，５−ジメチル−３−［４−（ｐ−ジメチ
ルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−２−シ
クロヘキセン−１−イリデン］メチル｝−３−メチルベ
ンゾチアゾリウムパークロレート、２−（ｐ−ジメチル
アミノスチリル）−３−エチルベンゾセレナゾリウムヨ
ーダイド、２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）
−１，３−ブタジエニル］−３−エチルベンゾセレナゾ
リウムヨーダイド、２−｛［５，５−ジメチル−３−
（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２−シクロヘキセン
−１−イリデン］メチル｝−３−メチルベンゾセレナゾ
リウムヨーダイド、２−｛［５，５−ジメチル−３−
［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタ
ジエニル］−２−シクロヘキセン−１−イリデン］メチ
ル｝−３−メチルベンゾセレナゾリウムヨーダイド、２
−｛［４−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２Ｈ−ベ
ンゾピラン−２−イリデン］メチル｝−３−エチルベン
ゾセレナゾリウムテトラフルオロボレート、２−｛［４
−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブ
タジエニル］−２Ｈ−ベンゾピラン−２−イリデン］メ
チル｝−３−エチルベンゾセレナゾリウムテトラフルオ
ロボレート、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−３
−メチルナフト［２，１−ｄ］セレナゾリウムヨーダイ
ド、２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，
３−ブタジエニル］−３−メチルナフト［２，１−ｄ］
セレナゾリウムヨーダイド、２−｛［５，５−ジメチル
−３−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２−シクロヘ
キセン−１−イリデン］メチル｝−３−メチルナフト
［２，１−ｄ］セレナゾリウムヨーダイド、２−｛［４
−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２Ｈ−ベンゾピラ
ン−２−イリデン］メチル｝−３−エチルナフト［２，
１−ｄ］セレナゾリウムテトラフルオロボレート、５，
５−ジクロロ−２−｛［５，５−ジメチル−３−［４−
（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニ
ル］−２−シクロヘキセン−１−イリデン］メチル｝−
３−メチルベンゾセレナゾリウムパークロレート、２−
（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−１−エチルキノリニ
ウムヨーダイド、２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェ
ニル）−１，３−ブタジエニル］−１−エチルキノリニ
ウムヨーダイド、２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェ
ニル）−１，３−ブタジエニル］−６−ジメチルアミノ
−１−エチルキノリニウムパークロレート、２−
｛［５，５−ジメチル−３−（ｐ−ジメチルアミノスチ
リル）−２−シクロヘキセン−１−イリデン］メチル｝
−１−エチルキノリウムヨーダイド、２−｛［５，５−
ジメチル−３−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）
−１，３−ブタジエニル］−２−シクロヘキセン−１−
イリデン］メチル｝−１−エチルキノリウムヨーダイ
ド、２−｛［４−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２
Ｈ−ベンゾピラン−２−イリデン］メチル｝−１−エチ
ルキノリウムテトラフルオロボレート、２−｛［４−
［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタ
ジエニル］−２Ｈ−ベンゾピラン−２−イリデン］メチ
ル｝−１−エチルキノリウムテトラフルオロボレート、
４−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−１−エチルキノ
リニウムヨーダイド、４−［４−（ｐ−ジメチルアミノ
フェニル）−１，３−ブタジエニル］−１−エチルキノ
リニウムヨーダイド、４−｛［５，５−ジメチル−３−
（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２−シクロヘキセン
−１−イリデン］メチル｝−１−エチルキノリウムヨー
ダイド、４−｛［５，５−ジメチル−３−［４−（ｐ−
ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−
２−シクロヘキセン−１−イリデン］メチル｝−１−エ
チルキノリウムヨーダイド、４−｛［４−（ｐ−ジメチ
ルアミノスチリル）−２Ｈ−ベンゾピラン−２−イリデ
ン］メチル｝−１−エチルキノリウムテトラフルオロボ
レート、４−｛［４−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェ
ニル）−１，３−ブタジエニル］−２Ｈ−ベンゾピラン
−２−イリデン］メチル｝−１−エチルキノリウムテト
ラフルオロボレート、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリ
ル）−１，３，３−トリメチル−３Ｈ−インドリウムヨ
ーダイド、２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）
−１，３−ブタジエニル］−１，３，３−トリメチル−
３Ｈ−インドリウムヨーダイド、２−｛［５，５−ジメ
チル−３−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２−シク
ロヘキセン−１−イリデン］メチル｝−１，３，３−ト
リメチル−３Ｈ−インドリウムヨーダイド、２−
｛［５，５−ジメチル−３−［４−（ｐ−ジメチルアミ
ノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−２−シクロヘ
キセン−１−イリデン］メチル｝−１，３，３−トリメ
チル−３Ｈ−インドリウムヨーダイド、２−｛［４−
（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−２Ｈ−ベンゾピラン
−２−イリデン］メチル｝−１，３，３−トリメチル−
３Ｈ−インドリウムテトラフルオロボレート、２−
｛［４−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，
３−ブタジエニル］−２Ｈ−ベンゾピラン−２−イリデ
ン］メチル｝−１，３，３−トリメチル−３Ｈ−インド
リウムテトラフルオロボレート。

【００１１】次に、本発明で使用のスルホニウム有機ホ
ウ素錯体（Ｄ）は、一般式（４）で表されるスルホニウ
ム有機ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ素
錯体から選ばれるスルホニウム有機ホウ素錯体を示す。

【００１２】

【化２】 （式中Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立に、置換基を
有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリー
ル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有
してもよいアルキレン基、置換基を有してもよい脂環
基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有し
てもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアル
キルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置
換基を有してもよいアミノ基より選ばれる基を、Ｒ⁷は
酸素原子もしくは孤立電子対を、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰および
Ｒ¹¹はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル
基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有して
もよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル
基より選ばれる基を示し、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はその２
個以上の基が結合している環状構造であってもよく、Ｒ
⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶の二つ以上が同時に置換基を有しても
よいアリール基となることはなく、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ ¹⁰およ
びＲ¹¹全てが同時に置換基を有してもよいアリール基と
なることはない。） 一般式（４）で表されるスルホニウム有機ホウ素錯体
は、特願平４−５６８３１号にて記載の方法に従い合成
することができる。

【００１３】一般式（４）におけるスルホニウムまたは
オキソスルホニウムカチオン上の置換基Ｒ⁴、Ｒ⁵および
Ｒ⁶において、置換基を有してもよいアルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル
基、ベンジル基、アセトニル基、フェナシル基、サリチ
ル基、アニシル基、シアノメチル基、クロロメチル基、
ブロモメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキ
シカルボニルメチル基、メンチル基、ピナニル基等が、
置換基を有してもよいアリール基としては、フェニル
基、ｐ−トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、ｐ−メトキシフェニル基、ビフェニリル基、ナフチ
ル基、アンスリル基、フェナントリル基、ｐ−シアノフ
ェニル基、２，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｐ−クロロフェニル
基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基、ｐ−フェニルチオ
フェニル基等が、置換基を有してもよいアルケニル基と
しては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル
基、３，３−ジシアノ−１−プロペニル基等が、置換基
を有してもよい脂環基としては、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、１−シ
クロヘキセニル基等が、置換基を有してもよいアルコキ
シル基としてはメトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ベ
ンジルオキシ基等が、置換基を有してもよいアリールオ
キシ基としては、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基、
ｐ−フルオロフェノキシ基、ｐ−ニトロフェノキシ基等
が、置換基を有してもよいアルキルチオ基としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等が、置換基
を有してもよいアリールチオ基としては、フェニルチオ
基、ｐ−トリルチオ基、ｐ−シアノフェニルチオ基等
が、置換基を有してもよいアミノ基としては、アミノ
基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、シクロヘキシ
ルアミノ基、アニリノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基
等が挙げられ、さらにＲ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はその２個以
上の基が結合している環状構造であってもよく、例え
ば、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、１，４−ジ
クロロテトラメチレン基等の置換基を有してもよいアル
キレン基、エチレンジオキシ基、ジエチレンジオキシ
基、アジポイル基、エチレンジチオ基等が挙げられるが
本発明はこれらに限定されるものではない。

【００１４】また、一般式（４）における有機ホウ素ア
ニオン上の置換基Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹において、
置換基を有してもよいアルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イ
ソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデ
シル基、オクタデシル基、アリル基、ベンジル基等が、
置換基を有してもよいアリール基としては、フェニル
基、ｐ−トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、ｐ−メトキシフェニル基、ナフチル基、２，４−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル基、ｐ−フルオロフ
ェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−ブロモフェニル
基等が、置換基を有してもよいアルケニル基としては、
ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基等が、置
換基を有してもよいアルキニル基としては、エテニル
基、２−ｔｅｒｔ−ブチルエテニル基、２−フェニルエ
テニル基等が挙げられるが本発明はこれらに限定される
ものではない。

【００１５】一般式（４）において特に好ましい構造と
しては、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶のうち少なくとも１つが、
置換基を有してもよいアリル基、置換基を有してもよい
ベンジル基、置換基を有しても良いビニル基、もしくは
置換基を有してもよいフェナシル基のいずれかであり、
Ｒ⁸が置換基を有してもよいアルキル基であり、Ｒ⁹、Ｒ
¹⁰およびＲ¹¹が置換基を有してもよいアリール基である
構造である。

【００１６】この様なスルホニウム有機ホウ素錯体錯体
の具体例としては、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルスルホ
ニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリエチルボレート、ジメチ
ルベンジルスルホニウムフェニルトリエチルボレート、
ジメチル（ｐ−クロロベンジル）スルホニウムメチルト
リフェニルボレート、ジブチル（ｐ−ブロモベンジル）
スルホニウムイソプロピルトリフェニルボレート、ジメ
チル（ｐ−シアノベンジル）スルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、ジメチルフェナシルスルホニウムブチ
ルトリフェニルボレート、ジメチルフェナシルスルホニ
ウム−ｓｅｃ−ブチルトリフェニルボレート、ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェナシルスルホニウム−ｓｅｃ−ブチル
トリフェニルボレート、ジメチル（ｐ−クロロフェナシ
ル）スルホニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリフェニルボレ
ート、ジメチル（ｐ−ブロモフェナシル）スルホニウム
ベンジルトリフェニルボレート、ジメチル（２−フェニ
ル−３，３−ジシアノプロプ−２−エニル）スルホニウ
ムブチルトリ（ｐ−メトキシフェニル）ボレート、ジブ
チルエトキシスルホニウムブチルトリ（ｐ−フルオロフ
ェニル）ボレート、ジメチルフェノキシスルホニウムブ
チルトリ（ｐ−クロロフェニル）ボレート、メチル（ジ
メチルアミノ）（ｐ−トリル）スルホニウムブチルトリ
（ｐ−ブロモフェニル）ボレート、ジメチル（メチルチ
オ）スルホニウムブチルトリス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチルフェニル
チオスルホニウム−ｓｅｃ−ブチルトリ（ｐ−メトキシ
フェニル）ボレート、メチルフェニル（ｐ−シアノベン
ジル）スルホニウム−ｓｅｃ−ブチルトリ（ｐ−フルオ
ロフェニル）ボレート、メチルフェニルフェナシルスル
ホニウム、メチルフェニル（２−フェニル−３，３−ジ
シアノプロプ−２−エニル）スルホニウム−ｔｅｒｔ−
ブチルトリ（ｐ−ブロモフェニル）ボレート、メチルフ
ェニルエトキシスルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ブチルフェニルフェノキシスルホニウムブチルトリ
フェニルボレート、ジメチルアミノビス（ｐ−トリル）
スルホニウム−ｓｅｃ−ブチルトリ（ｐ−ブロモフェニ
ル）ボレート、テトラメチレンフェナシルスルホニウム
−ｓｅｃ−ブチルトリフェニルボレート、ジメチルアリ
ルスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジメチル
シアノメチルスルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジメチルアセトニルスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレート、ジメチルエトキシカルボニルメチルスルホ
ニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリ（ｐ−クロロフェニル）
ボレート、ジメチル（メチルチオメチル）スルホニウム
ブチルトリフェニルボレート、テトラメチレン−ｐ−シ
アノベンジルスルホニウム−ｓｅｃ−ブチルトリ−ｐ−
フルオロフェニルボレート、ジメチルベンジルオキソス
ルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジメチルフェ
ナシルオキソスルホニウム−ｓｅｃ−ブチルトリ（ｐ−
クロロフェニル）ボレート、メチルフェニルベンジルオ
キソスルホニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリ（ｐ−メトキ
シフェニル）ボレート、メチルフェニルフェナシルオキ
ソスルホニウム−ｔｅｒｔ−ブチルトリ（ｐ−フルオロ
フェニル）ボレート等が挙げられる。

【００１７】本発明のホログラム記録材料は、ビニルモ
ノマーの単一重合体または２成分以上の共重合体である
高分子化合物（Ａ）、重合可能なエチレン性不飽和結合
を少なくとも１個有する化合物（Ｂ）、スチリル色素
（Ｃ）及びスルホニウム有機ホウ素錯体（Ｄ）を含むこ
とを特徴とする。該ホログラム記録材料を適当な溶媒中
に溶解させ、得られた溶液を光学的に透明な基材上、あ
るいは光学的に透明な保護膜上に皮膜状に塗布すること
によって、該ホログラム記録材料から構成されるホログ
ラム記録媒体が形成される。塗布される厚みは、乾燥後
の膜厚として１μｍから２０μｍにすることが好まし
く、４μｍから１０μｍの範囲がより好ましい。上記各
成分の配合比に特定の制限はないが、照射用レーザ光の
透過率が１％以上となるようにスチリル色素（Ｃ）の濃
度を調製することが好ましい。さらに必要に応じて、各
種添加剤、例えば可塑剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤等
を添加してもよい。

【００１８】ビニルモノマーの単一重合体または２成分
以上の共重合体である高分子化合物（Ａ）のホログラム
記録材料に占める量は、高回折効率、高解像度、高透明
性を有する体積位相型ホログラムを製造するためには、
１０〜９０重量％、好ましくは、３０〜７０重量％であ
る。重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１個
以上有する化合物（Ｂ）の使用量は、ビニルモノマーの
単一重合体または２成分以上の共重合体である高分子化
合物（Ａ）１００重量部に対し１０〜２００重量部、好
ましくは４０〜１５０重量部である。上記範囲を逸脱す
ると高い回折効率の維持および感度特性の向上が困難と
なるので好ましくない。

【００１９】本発明のホログラム記録材料で使用される
光重合開始剤のうち、スチリル色素（Ｃ）は、ビニルモ
ノマーの単一重合体または２成分以上の共重合体である
高分子化合物（Ａ）１００重量部に対し、０．１〜３０
重量部、好ましくは、０．５〜１５重量部の範囲で使用
される。使用量は、感光層膜厚と、該膜厚の光学密度に
よって制限を受ける。即ち、光学密度が２を越さない範
囲で使用することが好ましい。また、光重合開始剤のも
う一方の成分であるスルホニウム有機ホウ素錯体（Ｄ）
は、ビニルモノマーの単一重合体または２成分以上の共
重合体である高分子化合物（Ａ）１００重量部に対し、
０．１〜２０重量部、好ましくは１〜１５重量部の範囲
で使用される。

【００２０】本発明におけるホログラム記録材料は、光
学的に透明な基材上に皮膜状に形成されたホログラム記
録媒体として使用される。光学的に透明な基材としては
ガラス板、ポリカーボネ−ト板、ポリメチルメタクリレ
ート板またはポリエステルフィルムなどが挙げられる。
また、該ホログラム記録媒体は光学的に透明な保護膜に
被覆された形態で使用することも可能である。この様な
保護膜としては、ポリビニルアルコール、ポリエチレン
テレフタレート、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデンあるいはセロファンフィルムなどが挙
げられる。

【００２１】次に、本発明の体積位相型ホログラムの製
造方法について説明する。すなわち、本発明のホログラ
ム記録材料から構成されるホログラム記録媒体を、輻射
線、特にＨｅ−Ｃｄレーザー、Ａｒイオンレーザー、Ｈ
ｅ−Ｎｅレーザー、Ｋｒイオンレーザー、あるいはルビ
ーレーザーなどから発振される可視レーザー光線の干渉
パターンに露出する第１の工程に処する。次いで該ホロ
グラム記録媒体を被覆している前記保護膜を該ホログラ
ム記録媒体から剥離除去せしめた後に、該ホログラム記
録媒体から未重合の該輻射線重合性物質を除去し、且つ
また該ホログラム記録媒体におけるビニルモノマーの単
一重合体または２成分以上の共重合体である高分子化合
物（Ａ）を膨潤せしめる作用を有する溶媒に浸漬する第
２の工程、いわゆる膨潤工程に処する。該工程に好適に
用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの芳香族系有機溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルな
どの酢酸エステル系有機溶媒、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系有機溶媒、メ
タノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコ
ール系有機溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフランなど
の環状エーテル系有機溶媒、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、テトラクロロエタンなどの塩素系有機溶媒など一
般的に用いられる有機溶媒、あるいはこれらの混合溶媒
を適用することができる。その場合、該ホログラム記録
媒体におけるビニルモノマーの単一重合体または２成分
以上の共重合体である高分子化合物（Ａ）を、完全には
溶解せず膨潤させる作用を有することが必要で、使用す
る該高分子化合物（Ａ）の種類によって適宜選択する必
要がある。該膨潤工程を完遂するに必要な浸漬時間は、
使用する溶媒の膨潤効率及び浸漬温度によって異なる
が、室温の場合、概ね３０秒から５分の間にて完了す
る。

【００２２】前記膨潤処理工程に次いで、さらに、該ホ
ログラム記録媒体に対する溶解性及び膨潤性に乏しい溶
媒に、該ホログラム記録媒体を接触せしめ、前記膨潤処
理工程にて膨潤した該ホログラム記録媒体を収縮せしめ
る第３の工程、いわゆる収縮処理工程に処する。該工程
に好適に用いられる溶媒の具体例としては、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、石油エーテルなどのｎ−アルカン
系有機溶媒が好適に用いられるが、該ホログラム記録媒
体を収縮せしめる作用を有する溶媒であれば、前記した
溶媒に限定されるものではない。

【００２３】さらに、本発明のホログラム記録材料を用
いた体積位相型ホログラムの製造において、該ホログラ
ム記録材料から構成されるホログラム記録媒体を輻射線
の干渉パターンに露出する前あるいは後に、該記録媒体
を紫外線、可視光線、または電子線などの活性線に露出
処理する、（および）または加熱処理することにより、
本発明における体積位相型ホログラムの製造をさらに効
果的なものにすることが可能である。

【００２４】前記した処理のために用いられる活性線源
に特に限定はないが、紫外線源としては、低圧水銀灯、
中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンラン
プ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光
灯、タングステンランプなどが、また可視光線源として
は、前記光線源の他に、Ｈｅ−Ｃｄ、Ａｒイオンなどの
可視光レーザー光源、白色灯、蛍光灯などを使用するこ
とが可能である。この場合、使用される活性光源から発
せられる活性線は、本発明のホログラム記録媒体に使用
される、スチリル色素（Ｃ）及び（または）スルホニウ
ム有機ホウ素錯体（Ｄ）によって効果的に吸収される必
要がある。これら活性線に露出する時間及び露出量は活
性線源によって異なるので、適宜、最適値を決める必要
がある。

【００２５】また加熱処理用の熱源としては、一般的に
は熱循環式オーブンあるいは加熱ロールが好適に用いら
れるが、これに限定されるものではない。加熱処理温度
範囲は５０度から１２０度の間が好ましく、より好まし
くは６０度から９０度の間である。

【作用】本発明のホログラム記録材料は、ビニルモノマ
ーの単一重合体または２成分以上の共重合体である高分
子化合物（Ａ）、重合可能なエチレン性不飽和結合を少
なくとも１個以上有する化合物（Ｂ）、スチリル色素
（Ｃ）およびスルホニウム有機ホウ素錯体（Ｄ）の組合
せを含むことを特徴とする。本発明において使用される
スチリル色素（Ｃ）は、Ａｒイオンレーザー、Ｈｅ−Ｃ
ｄレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、あるいはＫｒイオン
レーザーなどの可視レーザー光源から発振される可視光
を効率良く吸収し、その優れた分光増感作用によってス
ルホニウム有機ホウ素錯体（Ｄ）を効率良く分解する。
その結果フリーラジカルが効率よく発生し、ラジカル重
合が効果的に誘起されることになる。特に本発明におい
て使用されるスルホニウム有機ホウ素錯体は、その分子
内に２つのフリーラジカル発生源を有するために、効果
的にフリーラジカルを発生し、本発明におけるホログラ
ム記録材料の感度特性を格段に向上することが可能にな
ったものと推察される。

【００２６】また一方では、該ホログラム記録材料を用
いた体積位相型ホログラム記録において、該ホログラム
記録材料から構成されるホログラム記録媒体に輻射線の
干渉パターン露出すると、該輻射線露出部位中、干渉作
用の強い部位においては、重合可能なエチレン性不飽和
結合を少なくとも１個以上有する化合物（Ｂ）の重合反
応が生じ、支持体としてのビニルモノマーの単一重合体
または２成分以上の共重合体である高分子化合物（Ａ）
と共に網目構造を形成し、次の膨潤処理工程にて使用さ
れる溶媒に対し不溶となる。一方、輻射線露出部位中、
干渉作用の弱い部位においては、重合可能なエチレン性
不飽和結合を少なくとも１個以上有する化合物（Ｂ）の
重合反応が生じないか、あるいは、重合度が低いため、
該膨潤処理用溶媒によって、該ホログラム記録媒体は膨
潤する。これにより両部位における密度差が形成され、
その結果屈折率差を生じホログラム記録がおこなわれる
ものと推量される。この作用は、該ホログラム記録媒体
に対する溶解性及び膨潤性に乏しい第２の溶媒に接触せ
しめることによって顕著に増幅され、且つまた、該ホロ
グラム記録媒体の膜厚を膨潤処理前の膜厚に戻す作用と
相まって、高い回折効率およびプレイバック波長再現性
に優れた体積位相型ホログラムを提供するに至ったもの
と考えられる。

【００２７】

【実施例】以下実施例に基づき、本発明をより詳細に説
明する。以下の各例において、部は特に断わりのない限
り重量部を表わす。

【００２８】実施例１ ポリメタクリル酸メチル（アルドリッチ社製、重量平均
分子量７１万）を１００部、ペンタエリスリトールトリ
アクリレートを７０部、スチリル色素（化合物ａ）を４
部、ジメチルフェナシルスルホニウム−ｎ−ブチルトリ
フェニルボレート（化合物ｂ）を５部、テトラクロロエ
タンを９００部からなる感光液を１００×１２５×３ｍ
ｍのガラス板上に、感光液乾燥後の膜厚が１０μｍとな
るように４ミルアプリケーターを用いて塗布し、６０℃
オーブン中にて２０分間乾燥させた。さらに、ポリビニ
ルアルコール（アルドリッチ社製、鹸化度９９％以上）
水溶液をホログラム記録用感光膜の上に塗布し、体積位
相型ホログラム記録用媒体を作成した。次いで、該記録
媒体を６０Ｗ蛍光灯に６０秒間暴露し、前露光処理を行
った。

【００２９】この媒体に、第１図に示す体積位相型ホロ
グラム製造用光学系で、Ａｒイオンレーザーの５１４ｎ
ｍ光を用いて体積位相型ホログラム記録を施した。次い
で、保護層であるポリビニルアルコール層を剥離除去し
た後、該記録媒体をキシレンに１分間浸漬し、感光層を
現像および膨潤処理し、ヘプタンに３０秒間浸漬し収縮
処理させ、体積位相型型ホログラムを製造した。回折効
率は、日本分光工業（株）製ＡＲＴ２５Ｃ型分光光度計
で測定した。該装置は、幅３ｍｍのスリットを有したフ
ォトマルチメータを、試料を中心にした半径２０ｃｍの
円周上に設置できる。幅０．３ｍｍの単色光を試料に４
５度の角度で入射し、試料からの回折光を検出した。正
反射光以外で最も大きな値と、試料を置かず直接入射光
を受光したときの値との比を回折効率とした。８ｍＪ／
ｃｍ²の露光量にて、プレイバック波長が５１０ｎｍ、
回折効率が７０％、６５０ｎｍにおける透過率が９０％
の体積位相型ホログラムが製造された。この体積位相型
ホログラムを２５℃、６０％ＲＨの環境下に１８０日間
放置しても回折効率の低下は認められなかった。

【００３０】

【化３】

【００３１】実施例２ 実施例１において、Ａｒイオンレーザー光による体積位
相型ホログラム記録を施す前の処理として、蛍光灯への
暴露に変え、該記録媒体を８０℃の熱風乾燥器中にて２
０分間の加熱処理を施した他は実施例１と同様の方法で
操作した。得られたホログラム特性を第１表にまとめて
示した。

【００３２】実施例３〜７ 実施例１におけるスチリル色素（化合物ａ）を化合物
（ｃ）ないし化合物（ｇ）のスチリル色素に変えて、実
施例１と同様の操作で体積位相型ホログラムの作製を行
なった時の結果を第１表に示した。尚、実施例４ではＡ
ｒイオンレーザーの４８８ｎｍ光を、実施例７ではＫｒ
イオンレーザーの６４７ｎｍ光をそれぞれ用いた。得ら
れたホログラムの特性を第１表にまとめて示した。

【００３３】

【化４】

【００３４】

【００３５】実施例８〜１０ 実施例１におけるジメチルフェナシルスルホニウム−ｎ
−ブチルトリフェニルボレート（化合物（ｂ））を、化
合物（ｈ）ないし化合物（ｊ）で表されるスルホニウム
有機ホウ素錯体に変えた他は実施例１と同様の方法で操
作し、体積位相型ホログラムを作製した。得られたホロ
グラム特性を第２表に示した。

【００３６】

【化５】

【００３７】実施例１１ 実施例１におけるポリメタクリル酸メチルを、ポリメタ
クリル酸イソボルニルに変え、他は実施例１と同様の方
法で操作したときのホログラム特性結果を第３表に示し
た。

【００３８】実施例１２ 実施例１におけるポリメタクリル酸メチルを、ポリメタ
クリル酸フェロセニルメチルに変え、他は実施例１と同
様の方法で操作したときのホログラム特性結果を第３表
に示した。尚、ポリメタクリル酸フェロセニルメチル
は、Ｃ．Ｕ．Ｐｉｔｔｍａｎらの「Ｍａｃｒｏｍｏｌｅ
ｃｕｌｅｓ」誌の第３巻、第７４６頁（１９７０年）に
記載の方法にて得る事ができる。

【００３９】実施例１３ 実施例１におけるポリメタクリル酸メチルを、ポリメタ
クリル酸ベンジルに変え、他は実施例１と同様の方法で
操作したときのホログラム特性結果を第３表に示した。

【００４０】実施例１４ 実施例１におけるポリメタクリル酸メチルを、ポリアク
リル酸トリメトキシシリルプロピルに変え、他は実施例
１と同様の方法で操作したときのホログラム特性結果を
第３表に示した。

【００４１】実施例１５ 実施例１におけるポリメタクリル酸メチルを、ポリメタ
クリル酸メチルとスチレンの共重合体（モル比で７：
３）に変え、他は実施例１と同様の方法で操作したとき
のホログラム特性結果を第３表に示した。

【００４２】

【表１】

【００４３】

【表２】

【００４４】

【表３】

【００４５】

【発明の効果】本発明におけるホログラム記録材料の使
用およびそれを用いた本発明のホログラム製造方法によ
り、広い波長領域に渡って２０ｍＪ／ｃｍ²以下と少な
い露光エネルギーで、高解像度、高回折効率、高透明性
を有する体積位相型ホログラムを製造することが可能と
なる。

【図面の簡単な説明】

【図１】体積位相型ホログラム製造用の二光束レーザー
露光装置のブロック図を示す。

【符号の説明】

１：レーザー光源 ２：ミラー ３：レンズ ４：スペーシャルフィルター ５：基材（ガラス板） ６：ホログラム感光膜 ７：保護膜（ポリビニルアルコール膜）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安池 円 東京都中央区京橋二丁目３番13号 東洋イ ンキ製造株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ビニルモノマーの単一重合体または２成
   分以上の共重合体である高分子化合物（Ａ）、重合可能
   なエチレン性不飽和結合を少なくとも１個以上有する化
   合物（Ｂ）、スチリル色素（Ｃ）およびスルホニウム有
   機ホウ素錯体（Ｄ）からなることを特徴とするホログラ
   ム記録材料。
2. 【請求項２】 基材上に請求項１記載のホログラム記録
   材料を皮膜状に形成しホログラム記録媒体を得た後、該
   ホログラム記録媒体を輻射線の干渉パターンに露出する
   第１の工程、該記録媒体上に形成された被膜状の該ホロ
   グラム記録材料を膨潤せしめる溶媒で、該ホログラム記
   録媒体を処理する第２の工程、さらに該記録媒体上の該
   ホログラム記録材料に対する溶解性及び膨潤性に乏しい
   溶媒に、該記録媒体を接触せしめる第３の工程を具備し
   てなることを特徴とする体積位相型ホログラムの製造方
   法。
3. 【請求項３】 前記ホログラム記録媒体を輻射線による
   干渉パターンに露出する前あるいは後に、紫外線、可視
   光線、電子線などの活性線への露出処理、（および）ま
   たは加熱処理することを特徴とする特許請求項２記載の
   体積位相型ホログラムの製造方法。