JPH0783827B2 - 真空装置 - Google Patents

真空装置

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JPH0783827B2
JPH0783827B2 JP3246654A JP24665491A JPH0783827B2 JP H0783827 B2 JPH0783827 B2 JP H0783827B2 JP 3246654 A JP3246654 A JP 3246654A JP 24665491 A JP24665491 A JP 24665491A JP H0783827 B2 JPH0783827 B2 JP H0783827B2
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JP
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sintered metal
vent
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filter
gas
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Inventor
忠雄 畠山
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日電アネルバ株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はスパッタ装置,PCVD
装置,ドライエッチング装置に代表されるような薄膜製
造等に用いられる真空装置,さらに詳しくいえば真空チ
ャンバ内で基板処理時に発生するパーティクルを粗引き
排気時およびガス供給時、基板へ付着することを防止す
るようにした真空装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図4に従来のインライン型真空装置のロ
ードロックチャンバの概略図を示す。ロードロックチャ
ンバ1の中のトレイ2に基板3が取り付けられている。
ロードロックチャンバ1にはスローベント機構15およ
びスロー排気機構16が接続されている。また、スロー
排気機構16にはルーツブロアポンプ8およびロータリ
ポンプ9が接続されている。ベントガス(N2 )を供給
する場合、スローベント機構15を介することによりガ
ス供給開始時、発生する乱流を防止してチャンバ1内に
少しずつ導入するようにしている。また、粗引き排気す
る場合は、スロー排気機構16を通すことにより同様に
乱流を防止してゆっくりと時間をかけて排気している。
従来の真空装置は上記のようにガス供給,排気をゆっく
り行うことにより基板処理時に発生するパーティクルの
舞い上げを防止していた(特開昭59−133365号
公報およびPeter D.Hoh J.Vac.Technol.A2(2),Apr.-Jun
e 1984 参照)
【0003】そのため、排気時間およびガス導入のため
のベント時間が長くなり、大量生産を目的とするインラ
イン型の真空装置ではスループットが低下するという欠
点があった。上記欠点を考慮して、本出願人はベント時
および粗引き排気時の基板へのパーティクルの付着を低
減化し、かつ、粗引き排気およびガス導入にかかる時間
をスローベント機構等を挿入した従来装置より短縮化で
きる真空装置を出願した(特願平2−413520)。
【0004】図2に上記真空装置の概略図を示す。この
例はインライン型真空装置のロードロックチャンバ部分
を示すものである。ロードロックチャンバ1のトレイ2
の中に基板3が配置されている。ベントガス系はベント
バルブ4を介して導入され、ロードロックチャンバ1内
で金属焼結フィルタ5に接続されている。ベントバルブ
4を開くことにより金属焼結フィルタ5を介してロード
ロックチャンバ1内にN2 ガスが層流で流入する。一
方、粗引き排気系はロータリポンプ9にルーツブロワポ
ンプ8が接続され、さらに粗引きバルブ7を介してロー
ドロックチャンバ1内に導入されている。ロードロック
チャンバ1内では金属焼結フィルタ13が接続されてい
る。粗引きバルブ7を開いてロータリポンプ9およびル
ーツブロワ8を起動することにより金属焼結フィルタ1
3を介して排気ができる。このように粗引き口およびベ
ント口に金属焼結フィルタを接続し、金属焼結フィルタ
を介してガス導入および排気することにより粗引きおよ
びベント開始時の乱流を抑え、パーティクルの基板への
付着を低減化し、粗引き時およびベント時にかかる時間
の短縮を図っている。
【0005】図3(a) および (b)に上記真空装置に用い
られる金属焼結フィルタの例を示す。金属焼結フィルタ
は図3(a) に示すようにベント口の接続面積に対し外壁
面5aの面積が大きな金属焼結フィルタ5をベント口4
aに結合する構成、または、図3(b) に示すように金属
焼結フィルタ12をプレート形状とし,ロードロックチ
ャンバ壁1aの真空側のベント口の開口面積を大きく
し,この開口部に組み込んだ構成にしてある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】さて、上述の真空装置
は上記の欠点は解決できるものの、ベント中および後に
大気に曝されたときに金属焼結フィルタ内部に大気成分
が残留する。そのためフィルタが減圧になったときの気
体の平均自由工程が長くなり、圧力に対して実効コンダ
クタンスが減少することによりフィルタ内部が排気しに
くくなるという欠点があった。本発明の目的は上記欠点
を解決するもので、プロセスガスをフィルタ内部に流し
フィルタ内部をガス置換することにより、金属焼結フィ
ルタの残留ガス汚染を防止できる真空装置を提供するこ
とにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明による真空装置は基板処理等のためチャンバ内
を排気する粗引き口の他にベント口を備えた真空装置に
おいて、前記チャンバ内の粗引き口全面およびベント口
全面それぞれを金属焼結フィルタで覆うとともにこの金
属焼結フィルタにプロセスガスを送る機構を結合し、前
記プロセスガスを前記金属焼結フィルタに流した状態で
前記ベントおよび粗引き排気を前記金属焼結フィルタを
通して行うように構成してある。
【0008】このような構成によれば、ベントする前か
らプロセスガスを金属焼結フィルタに流し、ロードロッ
クチャンバが然るべき真空度になるまで流すことによ
り、ベント時および粗引き時の金属焼結フィルタと大気
成分との接触を防止し金属焼結フィルタの残留ガス汚染
を防止できる。
【0009】
【実施例】以下、図面を参照して本発明をさらに詳しく
説明する。図1は本発明による真空装置の実施例を示す
概略図である。本実施例は図2と同様インライン型真空
装置のロードロックチャンバ部分を示した図である。
【0010】ロードロックチャンバ1のトレイ2の中に
基板3が配置されている。ベントガス系はベントバルブ
4を介してロードロックチャンバ1内に導入され、チャ
ンバ1内に設けた金属焼結フィルタ5に接続されてい
る。ベントバルブ4を開くことにより金属焼結フィルタ
5を介してロードロックチャンバ1内にN2 ガスが層流
で導入できる。一方、粗引き排気系はロータリポンプ9
にルーツブロワポンプ8が接続され、さらに粗引きバル
ブ7を介してロードロックチャンバ1内に導入されてい
る。ロードロックチャンバ1内では金属焼結フィルタ1
3が粗引き口に接続されている。粗引きバルブ7を開い
てロータリポンプ9およびルーツブロワ8を起動するこ
とにより金属焼結フィルタ13を介して排気ができる。
パージガス系は流量可変できるパージバルブ10を介し
てベントバルブ4と金属焼結フィルタ5の間に、パージ
バルブ11を介して粗引きバルブ7と金属焼結フィルタ
13の間にそれぞれ接続されている。パージバルブ1
0,11を開くことによりプロセスガス(Arガス)1
4,17をそれぞれ金属焼結フィルタ5,13に導入で
きる。
【0011】上記装置を動作させるためには、まず、真
空排気されているロードロックチャンバ1をベントする
前にパージバルブ10,11を開け,プロセスガス1
4,17を金属焼結フィルタ5,13に流す。次にベン
トバルブ4を開け、ベントガス6を流しロードロックチ
ャンバ1内を大気圧にする。この間もプロセスガス1
0,11は継続して流し続ける。トレイ2の脱着を行っ
た後、粗引きを行う。ロードロックチャンバ1が然るべ
き真空度になった後、パージバルブ10,11を閉じ
る。このように構成することにより金属焼結フィルタを
残留ガス汚染から防止できる。
【0012】
【発明の効果】以上,説明したように本発明はベントガ
ス系および粗引き排気系に設けられた金属焼結フィルタ
にプロセスガスを流す機構を設けることにより、多孔質
素材より構成されている金属焼結フィルタ内部と大気と
の接触を防止できるので、大気が金属焼結フィルタ内部
に残留することを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による真空装置の実施例を示す概略図で
ある。
【図2】既に提案している真空装置の例を示す概略図で
ある。
【図3】図2の金属焼結フィルタの詳細を示す図であ
る。
【図4】従来のインライン型真空装置のロードロックチ
ャンバの概略図である。
【符号の説明】
1…ロードロックチャンバ 2…トレイ 3…基板 4…ベントバルブ 5,12,13…金属焼結フィルタ 6…ガス(N2 ) 7…粗引きバルブ 8…ルーツブロワポンプ 9…ロータリポンプ 10,11…パージバルブ 14,17…プロセスガス(Ar)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板処理等のためチャンバ内を排気する
    粗引き口の他にベント口を備えた真空装置において、 前記チャンバ内の粗引き口全面およびベント口全面それ
    ぞれを金属焼結フィルタで覆うとともにこの金属焼結フ
    ィルタにプロセスガスを送出する機構を結合し、前記プ
    ロセスガスを前記金属焼結フィルタに流した状態で前記
    記ベントおよび粗引き排気を前記金属焼結フィルタを通
    して行うことを特徴とする真空装置。
JP3246654A 1991-08-30 1991-08-30 真空装置 Expired - Fee Related JPH0783827B2 (ja)

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