JPH0782255A - イミダゾールの硫酸化誘導体の新製造法及び得られる新中間体 - Google Patents

イミダゾールの硫酸化誘導体の新製造法及び得られる新中間体

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JPH0782255A
JPH0782255A JP5354133A JP35413393A JPH0782255A JP H0782255 A JPH0782255 A JP H0782255A JP 5354133 A JP5354133 A JP 5354133A JP 35413393 A JP35413393 A JP 35413393A JP H0782255 A JPH0782255 A JP H0782255A
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JP5354133A
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Neerja Bhatnagar
ネールジャ・バトナガル
Jean Buendia
ジャン・ビュアンディア
Christine Griffoul
クリスティーヌ・グリフール
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Sanofi Aventis France
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Roussel Uclaf SA
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    • C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 イミダゾールの硫酸化誘導体の新製造法及び
得られる新中間体を提供する。 【構成】 詳しくは、次式（Ｉ） 【化１】 ［ここで、Ｒ1 はアルキル、アルケニル、アルキニル、
アルキルチオ又はシクロアルキル基を、Ｒ2 及びＲ3 は
水素、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、アシル、ア
ルキル、アルケニル、アルコキシ、アルキルチオ、フェ
ニル、ベンゾイル、フェニルチオ、アミノ、カルバモイ
ル、カルボキシ、ニトロ、シアノ又は−（ＣＨ2 ）m1−
Ｓ（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10基を、Ｒ4 は−（ＣＨ2 ）m1−Ｓ
（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10、−ＳＯ2 ＮＨＣＯＮＲ14Ｒ15、−
ＳＯ2 ＮＨＳＯ2 Ｒ14、−ＳＯ2 ＮＨＣＯＲ14、−ＳＯ
2 ＮＨＳＯ2 ＮＲ14Ｒ15又は−ＳＯ2 ＮＨＣＯ2 Ｒ14を
表わす］の化合物の製造法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、イミダゾールの硫酸
化誘導体の新製造法及び得られる新中間体に関する。
【０００２】
【発明の概要】しかして、本発明は、次式（Ｉ）
【化１８】 ［ここで、Ｒ1 はアルキル、アルケニル、アルキニル若
しくはアルキルチオ基（これらの基のそれぞれは直鎖状
若しくは分岐鎖状であって、多くとも１０個の炭素原子
を含有する）又は３〜７個の炭素原子を含有するシクロ
アルキル基を表わし（これらの全ての基は置換されてい
てもよい）、Ｒ2 及びＲ3 は、同一であっても異なって
いてもよく、下記のもの： ａ）水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル、メルカプ
ト、ホルミル、アシル、遊離の、塩形成された若しくは
エステル化されたカルボキシ、ニトロ、シアノ基及び−
ＰＯ3 （Ｒ）2 基（ここで、Ｒは水素原子又は置換され
ていてもよいアルキル若しくはフェニル基を表わす）； ｂ）−（ＣＨ2 ）m1−Ｓ（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10基（ここ
で、ｍ１は０〜４の整数を表わし、ｍ２は０〜２の整数
を表わし、Ｘは単結合又は−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、
−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｎ＝ＣＨ−Ｎ−Ｒ13、−ＮＨ−
ＣＯ−ＮＨ−基を表わし、Ｒ10及びＲ13は同一であって
も異なっていてもよく、水素原子、多くとも６個の炭素
原子を含有する直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル若しく
はアルケニル基、３〜６個の炭素原子を含有するシクロ
アルキル基、置換されていてもよいフェニル若しくはベ
ンジル基、ピリジル、ニトロピリジル、ピリミジニル、
テトラゾリル、ジアゾリル、ピペリジニル、アルキルピ
ペリジニル、チアゾリル、アルキルチアゾリル、テトラ
ヒドロフラニル又はメチルテトラヒドロフラニル基）； ｃ）アルキル、アルケニル、アルコキシ及びアルキルチ
オ基（ここで、硫黄原子は一又は二酸化されていれもよ
い。これらの基のそれぞれは直鎖又は分岐鎖状であっ
て、多くとも６個の炭素原子を含有し、硫黄、酸素又は
窒素原子のうちから選択される１個以上のヘテロ原子に
より中断されていてよく、また置換されていてもよ
い）； ｄ）フェニル、ベンゾイル及びフェニルチオ基（ここ
で、硫黄原子は一又は二酸化されていれもよい。これら
の基は置換されていてもよい）； ｅ）次式
【化１９】 ｛ここで、Ｒ6 及びＲ7 又はＲ8 及びＲ9 は、同一であ
っても異なっていてもよく、下記の基： ・水素原子、 ・アミノ酸、 ・多くとも６個の炭素原子を含有するアルキル及びアル
ケニル基（置換されていてもよい）、 ・置換されていてもよいフェニル、ベンジル及びフェネ
チル基、 ・−（ＣＨ2 ）m1−Ｓ（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10基 のうちから選択され、或いはＲ6 及びＲ7 又はＲ8 及び
Ｒ9 は、それらが結合している窒素原子と共に、５、６
若しくは７員の単環式基又は８〜１４員の同一若しくは
異なる縮合環よりなる基（これらの基は、酸素、窒素及
び硫黄原子のうちから選択される１個以上の他のヘテロ
原子を含有でき、また下記の基：ハロゲン原子、ヒドロ
キシル、ニトロ、多くとも６個の炭素原子を含有するア
ルキル及びアルコキシ、アミノ（１又は２個の同一又は
異なる多くとも６個の炭素原子を含有するアルキル基に
より置換されていてもよい）及びフェニル基のうちから
選択される１個以上の基により置換されていてもよい）
を形成し、或いはＲ8 及びＲ9 は、同一であっても異な
っていてもよく、アシル基を表わし、或いはＲ8 及びＲ
9 の一つはカルバモイル、アルコキシカルボニル又はベ
ンジルオキシカルボニル基を表わし、或いはＲ8 及びＲ
9 はそれらが結合している窒素原子と共にフタルイミド
又はスクシンイミド基を形成する｝の基： ｆ）−Ｓ−Ｓ−Ｒ12基（ここで、Ｒ12は、アミノ及びア
ルコキシ基を除く前記のａ）〜ｅ）においてＲ2 又はＲ
3 について定義したような意味を表わす）のうちから選
択され、ただし、Ｒ2 及びＲ3 の少なくとも一つは置換
されていてもよいアルコキシ基又は前記のような−（Ｃ
Ｈ2 ）m1−Ｓ（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10基を表わすものとし、
Ｒ4 は下記の基：前記のような−（ＣＨ2 ）m1−Ｓ
（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10、ハロゲン原子、ニトロ、−（ＣＨ
2 ）m1−ＣＯＯＲ14、−（ＣＨ2 ）m1−ＣＯＮＨＲ14、
−（ＣＨ2 ）m1−ＣＮ（ここで、ｍ１は前記の意味を有
する）、
【化２０】 （ここで、Ｒ13は前記の定義を有し、Ｒ14及びＲ15は同
一であっても異なっていてもよく、水素原子、多くとも
６個の炭素原子を含有するアルキル基又は３〜６個の炭
素原子を含有する置換されていてもよいシクロアルキル
基を表わし、Ｙは酸素又は硫黄原子を表わす）のうちか
ら選択され、前記のアルキル、アルケニル、シクロアル
キル、アルキルチオ、フェニルチオ、アルコキシ、フェ
ニル、ベンジル基のいずれも、下記の基：ハロゲン原
子、ヒドロキシル、ニトロ、多くとも４個の炭素原子を
含有するアルキル、アルケニル及びアルコキシ、トリフ
ルオルメチル、シアノ、アミノ、モノアミノ及びジアル
キルアミノ、遊離の、塩形成された若しくはエステル化
されたカルボキシ、ハロアルキル、アルキルチオ、ハロ
アルキルチオ、ハロアルコキシ、フェニル、ピリジル、
ベンジル、フェネチル、ベンゾイル、フェノキシ、ベン
ジルオキシ、フェニルチオ、カルバモイル、アシル、ア
シルオキシ及びテトラゾリル基のうちから選択される１
個以上の基により置換されていてもよい］の化合物［こ
の式（Ｉ）の化合物はその全ての可能なラセミ体、エナ
ンチオマー及びジアステレオマー異性体の形態にある］
並びにそれらの無機若しくは有機酸又は無機若しくは有
機塩基との付加塩を製造するにあたり、次式（II）
【化２１】 （ここで、Ｒ'1、Ｒ'2及びＲ'3は、それぞれＲ1 、Ｒ2
及びＲ3 について上で定義した意味であってそれらの存
在し得る反応性官能基が保護されているものを有する）
の化合物を次式(III)
【化２２】 （ここで、Ｈａｌはハロゲン原子を表わし、Ｂは硼素原
子を表わし、Ｘ1 及びＸ2 は、Ｘ1 及びＸ2 が同一であ
っても異なっていてもよく、ヒドロキシル基、多くとも
６個の炭素原子を含有するアルキル若しくはアルコキシ
基、フェニル又はフェノキシ基を表わすか、或いはＸ1
とＸ2 がそれらが結合している硼素原子と共に次式
【化２３】 （ここで、Ｘ3 は水素原子又は多くとも４個の炭素原子
を含有するアルキル基を表わす）のうちから選択される
環を形成するようなものである）の化合物と反応させて
次式（IV）
【化２４】 （ここで、Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3、Ｘ1 、Ｘ2 及びＢは前記
の意味を有する）の化合物を得、式（IV）の化合物を次
式（Ｖ）
【化２５】 （ここで、Ｘ4 はハロゲン原子、アルコキシ、トリフレ
ート又は−Ｏ−ＳＯ2 Ｆ基を表わし、Ｒ'4はＲ4 につい
て前記した意味であって存在し得る反応性官能基が保護
されているものを有する）の化合物と反応させて次式
（Ｉ')
【化２６】 の化合物を得、式（Ｉ')の化合物に、所望ならば及び必
要ならば、下記の反応： ａ）保護された反応性官能基が有し得る保護基の除去反
応、 ｂ）無機若しくは有機酸又は無機若しくは有機塩基によ
る塩形成反応、 ｃ）酸官能基のエステル化反応、 ｄ）エステル官能基のけん化反応、 ｅ）シアン官能基の酸官能基への転換反応、 ｆ）カルボキシ官能基のアルコール官能基への還元反
応、 ｇ）アルコキシ官能基のヒドロキシ官能基への転換反
応、 ｈ）硫黄原子含有基の相当するスルホキシド又はスルホ
ン官能基への酸化反応、 ｉ）スルホキシド又はスルホン官能基の相当するスルホ
キシミン官能基への転換反応、 ｊ）ニトリル基のテトラゾール基への転換反応、 ｋ）ラセミ形の分割された生成物への分割反応、 ｌ）カルボキシ基のカルバモイル基への転換反応、 ｍ）カルバモイル基のニトリル基への転換反応 の一つ以上の反応に任意の順序で付すことを特徴とする
式（Ｉ）の化合物［得られる式（Ｉ）の化合物はその全
ての可能なラセミ体、エナンチオマー及びジアステレオ
マー異性体の形態にある］の化合物並びにそれらの塩類
の製造法にある。
【０００３】
【発明の具体的な説明】前記のような−（ＣＨ2 ）m1−
Ｓ（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10基において、ｍ１が０でないとき
は、−（ＣＨ2 ）m1−は種々のアルキレン基、例えばメ
チレン、エチレン、ｎ−プロピレン又はｎ−ブチレン基
を表わし、特にｍ１が０、１又は２の値をを表わすとき
は、−（ＣＨ2 ）m1−はそれぞれ単結合、メチレン又は
エチレン基を表わす。
【０００４】−Ｓ（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10基の意味として
は、例えば下記のものが挙げられる。もちろん、これら
に限定されない。次式
【化２７】 （ここで、Ｄはフェニル、ピリジル又はピリミジル基を
表わす）の基、次式
【化２８】 （ここで、Ａ及びＢは同一であっても異なっていてもよ
く、水素原子、フェニル、ピリジル又はピリミジル基を
表わす）の基、次式
【化２９】 （ここで、ｎ＝１又は２である）。
【０００５】式（Ｉ）の化合物並びに以下の記載におい
て、用語「直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基」は、好ま
しくは下記の基：メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル及びｔ−ブ
チル基を表わすが、ペンチル又はヘキシル基、特にイソ
ペンチル及びイソヘキシル基を表わすことができる。用
語「直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基」は、好ましく
は下記の基：ビニル、アリル、１−プロペニル、ブテニ
ル、特に１−ブテニル又はペンテニル基を表わす。用語
「直鎖状又は分岐鎖状のアルキニル基」は、好ましくは
下記の基：エチニル、プロピニル、直鎖状若しくはは分
岐鎖状ブチニル基を表わす。１個以上のヘテロ原子によ
り中断されたアルキル基としては、下記の基：メトキシ
メチル、メトキシエトキシメチル、プロピルチオプロピ
ル、プロピルオキシプロピル、プロピルチオエチル、、
メチルチオメチルが挙げられる。用語「ハロゲン原子」
とは、好ましくは塩素又は臭素原子を表わすが、弗素又
は沃素原子も表わすことができる。用語「直鎖状又は分
岐鎖状のアルコキシ基」は、好ましくは下記の基：メト
キシ、エトキシ、プロポキシ又はイソプロポキシ基をあ
らわすが、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔ−ブトキシ基を表わす
ことができる。
【０００６】用語「アシル基」は、好ましくは、１〜６
個の炭素原子を含有する基、例えば、下記の基：ホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル又はベンゾイル
基を表わすが、ペンタノイル、ヘキサノイル、アクリロ
イル、クロトニル又はカルバモイル基も表わすことがで
きる。用語「１又は２個のアルキル基で置換されたアミ
ノ基」は、好ましくは、アルキル基が前記のようなアル
キル基のうちから選択されるもの、例えば、モノアルキ
ルアミノ基についてはメチルアミノ若しくはエチルアミ
ノ基、ジアルキルアミノ基についてはジメチルアミノ若
しくはメチルエチルアミノ基を表わす。用語「アシルオ
キシ基」は、例えば、アシル基が前記のような意味を有
するものを表わし、好ましくはホルミルオキシ、アセチ
ルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ又はベ
ンゾイルオキシ基を表わす。
【０００７】用語「シクロアルキル基」は、好ましくは
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又はシ
クロヘキシル基を表わす。用語「単環式基及び縮合環よ
りなる基」は、飽和又は不飽和の基を表わす。用語「単
環式基」は、飽和の基、例えば、下記の基：ピロリジニ
ル、イミダゾリジニル、ピラゾリジニル、ピペリジル、
ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、アゼ
ピニル基、或いは不飽和の基：例えばピラニル、ピロリ
ル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピラジニ
ル、ピリミジニル、ピリダジニル、チアゾリル、チアジ
アゾリル、オキサゾリル、フラザニル、ピロリニル（例
えばδ−２−ピロリニル）、イミダゾリニル（例えばδ
−２−イミダゾリニル）、ピラゾリニル（例えばδ−３
−ピラゾリニル）並びにこれらの基が含有できる複素原
子の位置異性体、例えばイソチアゾリル又はイソオキサ
ゾリル基を表わす。
【０００８】用語「縮合環よりなる基」は、飽和の基と
して、例えば下記の基：１−オキサスピロ［４，５］デ
シル、テトラヒドロピラン−２−スピロシクロヘキシ
ル、シクロヘキサンスピロ−２' −（テトラヒドロフラ
ン）又は１，１０−ジアザアンタラ−４−イル、或いは
不飽和の基として、例えば下記の基：ベンゾチエニル、
ナフト［２，３−ｂ］チエニル、インデニル、インドリ
ジニル、イソインドリル、３Ｈ−インドリル、インドリ
ル、インダゾリニル、プリニル、キノリジニル、ベンゾ
ピロリル、ベンゾイミダゾリル、イソキノリル、キノリ
ル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、
キナゾリニル、シンノリル、プテリジニル、カルバゾリ
ル、β−カルボリニル、アクリジニル、フェナジニル、
インドリニル、イソインドリニル基、或いはまた前記の
ような複素環式基よりなる縮合多環式基、例えばフロ
［２，３−ｂ］ピロール又はチエノ［２，３−ｂ］フラ
ンを表わす。
【０００９】用語「ハロアルキル基」は、好ましくは、
アルキル基が前記のようなものであり且つ１個以上の前
記のようなハロゲン原子により置換されているもの、例
えばブロムエチル、トリフルオルメチル、トリフルオル
エチル又はペンタフルオルエチル基を表わす。用語「ア
ルキルチオ基」は、好ましくは、アルキル基が前記のよ
うなもの、例えばメチルチオ又はエチルチオ基を表わ
す。用語「ハロアルキルチオ基」は、好ましくは、アル
キル基が前記のようなものであり且つ１個以上の前記の
ようなハロゲン原子により置換されているもの、例えば
ブロムエチルチオ、トリフルオルメチルチオ、トリフル
オルエチルチオ又はペンタフルオルエチルチオ基を表わ
す。用語「ハロアルコキシ基」は、好ましくは、アルコ
キシ基が前記のようなものであり且つ１個以上の前記の
ようなハロゲン原子により置換されているもの、例えば
ブロムエトキシ、トリフルオルメトキシ、トリフルオル
エトキシ又はペンタフルオルエトキシ基を表わす。
【００１０】用語「カルバモイル基」は、置換カルバモ
イル基も表わし、例えば、Ｎ−メチルカルバモイル若し
くはＮ−エチルカルバモイルのような低級Ｎ−モノアル
キルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル若
しくはＮ，Ｎ−ジエチルカルバモイルのような低級Ｎ，
Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−（ヒドロキシメチ
ル）カルバモイル若しくはＮ−（ヒドロキシエチル）カ
ルバモイルのようなＮ−（低級ヒドロキシアルキル）カ
ルバモイル基、カルバモイルメチル若しくはカルバモイ
ルエチルのような低級カルバモイルアルキル基を表わ
す。用語「アルキルチオ基により置換されたフェニル
基」は、例えばベンジルチオ基を表わす。
【００１１】式（Ｉ）の化合物並びに以下の記載におい
て、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 により表わすことができ
又はこれらが有し得るアルキル、アルケニル、シクロア
ルキル及びフェニル基は、これらの基について前記した
ものを意味することができ、そしてこれらの基について
前記したような置換基により置換されていても又はされ
ていなくてもよい。従って、Ｒ2 及びＲ3 は、例えばア
ルキルチオ、フェニルチオ、アルキルスルフィニル、フ
ェニルスルフィニル、アルキルスルホニル又はアリール
スルホニル基を表わすことができが、シクロアルキルチ
オ基、例えばシクロヘキシルチオ基を表わすこともでき
る。用語「アルキルチオ、アルキルスルフィニル及びア
ルキルスルホニル基」は、直鎖状又は分岐鎖状のアルキ
ル基がアルキル基について前記したような意味を表すこ
とができる基を示す。従って、これらの基は、好ましく
は下記の基：メチルチオ、ヒドロキシメチルチオ、エチ
ルチオ、アミノエチルチオ、メチルスルフィニル、エチ
ルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル
基を表わすが、下記の基：プロピルチオ、イソプロピル
チオ、ブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔ−ブチルチ
オ、イソペンチルチオ若しくはイソヘキシルチオ基又は
これらの基においてチオ基がスルフィニル若しくはスル
ホニル基に酸化されているものを表わすことができる。
【００１２】−（ＣＨ2 ）m1−Ｓ（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10基
におけるｍ１、ｍ２及びＲ10の意味に応じて、Ｒ2 及び
Ｒ3 は、下記の基：フェニルチオ、ピリジルチオ、ピリ
ミジルチオ、イミダゾリルチオ、Ｎ−メチルイミダゾリ
ルチオ並びにこれらの基においてチオ基がスルフィニル
若しくはスルホニル基に酸化されているもの、例えばフ
ェニルスルフィニル又はフェニルスルホニル基を表わす
ことができる。
【００１３】置換アルキル基の例としては、１個以上の
フェニル基により置換されているもの、例えばベンジ
ル、ビフェニルメチル、トリフェニルメチル基、並びに
ピリジル基により置換されているもの、例えばピリジル
メチル基が挙げられるが、もちろんこれらに限られな
い。これらの基においてアルキル基は、もちろんエチ
ル、プロピル又はブチル基を表わし、例えばフェネチル
基が挙げられる。置換アルケニル基の例としては、上記
の例で示したように、アルキル基をアルケニル基により
置き換えた、１個以上のフェニル又はピリジル基により
置換されたもの、例えばフェニルビニル又はフェニルア
リル基が挙げられる。
【００１４】前記のカルバモイル及びアミノ基、特に次
式
【化３０】 の基は、２個の同一又は異なる基が窒素原子に結合して
いる基を表わし、例えば、アミノ基を得るために水素原
子から、モノアルキル又はジアルキルアミノ基（この直
鎖状又は分岐鎖状のアルキル基は１〜６個の炭素原子を
含有する。特に、メチル、エチル、イソプロピル、メト
キシメチル、メトキシエチル及びエトキシエチル基）を
得るように前記のアルキル基から、例えばフェニルアミ
ノ又はベンジルアミノ基を得るようにフェニル、ベンジ
ル又はフェネチル基（置換されていてもよい）のような
基から選択される。
【００１５】置換カルバモイル基としては、例えばＮ−
メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル基のよう
な低級Ｎ−モノアルキルカルバモイル基、例えばＮ，Ｎ
−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイ
ル基のような低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、
例えばＮ−（ヒドロキシメチル）カルバモイル、Ｎ−
（ヒドロキシエチル）カルバモイル基のようなＮ−（低
級ヒドロキシアルキル）カルバモイル基、例えばカルバ
モイルメチル、カルバモイルメチル基のような低級カル
バモイルアルキル基、フェニルカルバモイル基、ピリジ
ルカルバモイル基、ベンジルカルバモイル基、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、ピリジルメチルカル
バモイル基を挙げることができる。
【００１６】表現「アミノ酸」は、好ましくは、グリシ
ン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、フェ
ニルアラニンのような天然アミノ酸、特にプロリン又は
当業者に知られたその他の天然アミノ酸の一つから誘導
される残基を表わす。
【００１７】Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 又はＲ9 により表わすこ
とができる−（ＣＨ2 ）m1−Ｘ−Ｒ10基としては、特に
下記の基
【化３１】 挙げることができる。
【００１８】Ｒ6 とＲ7 又はＲ8 とＲ9 により形成する
ことができる複素環は、好ましくは飽和である。これ
は、既に述べた置換基、特に、塩素及び臭素原子、メチ
ル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ベンゾイル、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル基などから選択される１個以上
の基により置換されていてもよい。例えば、メチルピペ
ラジニル、エチルピペラジニル、プロピルピペラジニ
ル、フェニルピペラジニル又はベンジルピペラジニル基
が挙げられる。後者の２個の基において、フェニル及び
ベンジル基は前記のように置換されていてもよく、例え
ばクロルフェニル又はトリフルオルフェニル基である。
Ｒ8 及びＲ9 により表わすことができるアシル基は、特
にアセチル、プロピオニル、ブチリル、ペンタノイル又
はカルバモイル基のうちから選択される。Ｒ8 又はＲ9
がアルコキシカルボニル基を表わすときは、この基は好
ましくはｔ−ブチルオキシカルボニル基である。
【００１９】式（Ｉ）の化合物のカルボキシ基は、平均
的当業者に知れた各種の基により塩形成することができ
る。例えば下記のものが挙げられる。・塩形成用化合物
としては、例えばナトリウム、カリウム、リチウム、カ
ルシウム、マグネシウム若しくはアンモニウム塩のよう
な無機塩基、又は例えばメチルアミン、プロピルアミ
ン、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリス（ヒ
ドロキシメチル）アミノメタン、エタノールアミン、ピ
リジン、ピコリン、ジシクロヘキシルアミン、モルホリ
ン、ベンジルアミン、プロカイン、リジン、アルギニ
ン、ヒスチジン、Ｎ−メチルメチルグルカミンのような
有機塩基。・エステル化用化合物としては、アルコキシ
カルボニル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル又はベンジルオキシ
カルボニル基を形成させるためのアルキル基（これらの
アルキル基は例えばハロゲン原子、ヒドロキシ、アルコ
キシ、アシル、アシルオキシ、アルキルチオ、アミノ又
はアリール基のうちから選択される基により置換されて
いてもよい。例えば、クロルメチル、ヒドロキシプロピ
ル、メトキシメチル、プロピオニルオキシメチル、メチ
ルチオメチル、ジメチルアミノエチル、ベンジル又はフ
ェネチル基のような基である）。
【００２０】式（Ｉ）の化合物の無機又は有機酸との付
加塩は、例えば下記の酸；塩酸、臭化水素酸、沃化水素
酸、硝酸、硫酸、りん酸、プロピオン酸、酢酸、ぎ酸、
安息香酸、マレイン酸、フマル酸、こはく酸、酒石酸、
くえん酸、しゅう酸、グリオキシル酸、アスパラギン
酸、アスコルビン酸、アルキルモノスルホン酸、例えば
メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホ
ン酸、アルキルジスルホン酸、例えばメタンジスルホン
酸、α，β−エタンジスルホン酸、アリールモノスルホ
ン酸、例えばベンゼンスルホン酸及びアリールジスルホ
ン酸により形成された塩であってよい。
【００２１】Ｒ2 及びＲ3 が共に硫黄が酸化されていて
もよいアルキルチオ又はフェニルチオ基を表わすとき
は、Ｒ2 及びＲ3 は同一であっても異なっていてもよい
が、本発明の好ましい化合物は、特に、これらの硫黄含
有基が同じ酸化度を有するものである。本発明の好まし
い化合物のうちでは、特に、Ｒ2 及びＲ3 の一方が前記
のような酸化されていてもよい硫黄含有基を表わし、か
つ、Ｒ2 及びＲ3 の他方が好ましくはアルキル、アルコ
キシ、遊離の、塩形成された若しくはエステル化された
カルボキシ基又は前記のような１個以上の置換基により
置換されていてもよいフェニル基を表わす式（Ｉ）の化
合物である。更に、本発明の好ましい化合物としては、
Ｒ2 が硫黄含有基を表わす式（Ｉ）の化合物である。特
に、Ｒ2 及び（又は）Ｒ3 基は、好ましくは、アルキル
チオ又はアルケニルチオ基であり、これらは下記の基：
ホルミル、ヒドロキシル、アルコキシ、アシルオキシ、
遊離の、塩形成された若しくはエステル化されたカルボ
キシ、アミノ、置換アミノ、カルバモイル、置換カルバ
モイル、アルキルチオ、フェニルチオ、ピリジニル、ピ
リミジニル、フェニル基のうちから選択される１個以上
の基により置換されていてもよい。
【００２２】Ｒ2 及びＲ3 が有し得る置換基のうちで
は、アミノ及びカルバモイル基は、特に前記のような１
又は２個のアルキル基及びアミノ酸により置換されてい
てもよい。また、Ｒ2 及びＲ3 が有し得る置換アミノ及
びカルバモイル基は、前記したような複素環を形成する
ことができる。また、Ｒ2 及びＲ3 は、特に、塩素及び
弗素のような１個以上のハロゲン原子により置換された
アルキルチオ基を表わすことができる。例えば、−Ｓ−
ＣＦ3、−Ｓ−ＣＨＦ2 、−Ｓ−ＣＨ2 Ｆ、−Ｓ−ＣＦ2
−ＣＨＦ2 、−Ｓ−ＣＦ2 −ＣＨＦＣｌが挙げられ
る。
【００２３】しかして、Ｒ2 及びＲ3 は、下記の基を表
わすことができる。ここで、ｎ、ｎ１及びｎ２は同一で
あっても異なっていてもよく、０〜２の値を有する。次
式
【化３２】 （ここで、Ｘ4 はＨ、ＯＨ、シクロヘキシル、ピリジ
ル、フェニル、ＣＨＯ、ＣＯＯＨ、ＮＨ2 又は次式
【化３３】 の基を表わす）の基。
【００２４】また、Ｒ2 及びＲ3 は、特に、下記の基も
表わすこともできる。−ＣＯＯＨ、−ＣＯ2 Ｘ5 、−Ｓ
Ｘ5 、−ＮＨ2 、−Ｃ≡Ｎ、−ＯＭｅ、−ＯＥｔ、−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ−ＣＯＯＨ、テトラゾリル、次式
【化３４】 の基（その全ての異性体の形態、ｃｉｓ−ｔｒａｎｓ異
性体の形態にある）、次式
【化３５】 （ここで、Ｘ5 はアルキル又はアリール基を表わす）の
基。
【００２５】特に、Ｒ2 及びＲ3 は、次式
【化３６】 の基を表わすことができる。従って、式（Ｉ）の化合物
は、特に、Ｒ2 及びＲ3 が前記の意味を有するもの、そ
して特に、Ｒ2 が前記のような置換されていてもよいア
ルキルチオ基又はメトキシのようなアルコキシ基を表わ
し、かつ、Ｒ3 が遊離の、塩形成された若しくはエステ
ル化されたカルボキシ基又はアミド化されたカルボキシ
基、例えば特に−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ−メチル、−ＣＯ
Ｏ−エチル、−ＣＯＮＨ2 又は次式
【化３７】 の基を表わす化合物である。
【００２６】Ｒ4 の好ましい意味としては、特に、シア
ノ基、前記のような−（ＣＨ2 ）m1−ＳＯ2 −Ｘ−Ｒ10
基、特に下記の基
【化３８】 の基を挙げることができる。
【００２７】特に、本発明の主題は、次式（Ｉa)
【化３９】 ［ここで、Ｒ1aは多くとも４個の炭素原子を含有する直
鎖状又は分岐鎖状のアルキル又はアルケニル基を表わ
し、Ｒ2a及びＲ3aは、同一であっても異なっていてもよ
く、下記のもの： ａ）水素原子、下記の基：メルカプト、ホルミル、遊離
の、塩形成された又はエステル化されたカルボキシ、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、アシル； ｂ）アルキル、アルケニル、アルコキシ及びアルキルチ
オ基（硫黄原子は一又は二酸化されていてもよい。これ
らの基は直鎖状又は分岐鎖状であって、多くとも６個の
炭素原子を含有する）、フェニル、ベンゾイル及びフェ
ニルチオ基（硫黄原子は一又は二酸化されていてもよ
い）（これらの基の全ては、下記の基：ハロゲン原子、
ヒドロキシル、トリフルオルメチル、シアノ、ニトロ、
ホルミル、多くとも４個の炭素原子を含有するアルキル
及びアルコキシ、フェニル及び遊離の、塩形成された又
はエステル化されたカルボキシ基のうちから選択される
１個以上の同一又は異なる基により置換されていてもよ
い）； ｃ）次式
【化４０】 （ここで、Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8a及びＲ9aは、同一であって
も異なっていてもよく、水素原子、アミノ酸、アルキル
基（これらの基は多くとも６個の炭素原子を含有す
る）、フェニル、ベンジル及びフェネチル基のうちから
選択され、或いはＲ6a及びＲ7a並びにＲ8a及びＲ9aは、
それぞれ、それらが結合している窒素原子と共に複素環
式基を形成する。これらの基は同一又は異なっていてよ
く、下記の基：イミダゾリル、ピロリル、ピロリニル、
ピロリジニル、ピリジル、ピペリジニル、ピリミジニ
ル、ピリダジニル、ピラジニル、ピペラジニル、フェニ
ルピペラジニル、ピペリジル、オキサゾリル、モルホリ
ニル、チオモルホリニル、アゼピン及びインドリル基の
うちから選択され、そしてこれらの基はハロゲン原子、
ヒドロキシル、ニトロ、アルキル及びアルコキシ（これ
らは多くとも６個の炭素原子を含有する）及びフェニル
基のうちから選択される１個以上の同一又は異なる基に
より置換されていてもよい）の基のうちから選択され、
Ｒ4aはシアノ基、遊離の、塩形成された又はエステル化
されたカルボキシ基、−（ＣＨ2 ）p −Ｘa −Ｒ10a 基
（ここで、ｐは０及び１の値を表わし、Ｘa は−ＮＨ
−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、次式
【化４１】 の基若しくは−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−基又は単結合を表わ
し、Ｒ10a 及びＲ13a は同一であっても異なっていても
よく、水素原子、多くとも６個の炭素原子を含有する置
換されていてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル
若しくはアルケニル、ピリジル、フェニル、ベンジル、
ニトロピリジル、ピリミジニル、テトラゾリル、ジアゾ
リル、ピペリジニル、アルキルピペリジニル、チアゾリ
ル、アルキルチアゾリル、テトラヒドロフラニル、メチ
ルテトラヒドロフラニル基を表わす）を表わし、アルキ
ル及びアルケニル基は、ハロゲン原子、ヒドロキシル、
ニトロ、多くとも４個の炭素原子を含有するアルキル、
アルケニル及びアルコキシ、トリフルオルメチル、シア
ノ、アミノ、モノ及びジアルキルアミノ、遊離の、塩形
成された又はエステル化されたカルボキシ、フェニル及
びテトラゾリル基のうちから選択される１個以上の同一
又は異なる基により置換されていてもよい］の化合物
［この式（Ｉa)の化合物はその全ての可能なラセミ体、
エナンチオマー及びジアステレオマー異性体の形態にあ
る］に相当する化合物並びにそれらの無機若しくは有機
酸又は無機若しくは有機塩基との付加塩を製造するにあ
たり、Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3及びＲ'4がそれぞれＲ1a、
Ｒ2a、Ｒ3a及びＲ4aについて上で定義した意味であって
それらの存在し得る反応性官能基が保護されているもの
を有する式（II）、(III) 及び（IV）の化合物を使用し
て前記したように製造を行うことを特徴とする前記の製
造法にある。
【００２８】さらに詳しくは、本発明の主題は、次式
（Ｉb)
【化４２】 ［ここで、Ｒ1bは多くとも４個の炭素原子を含有するア
ルキル基を表わし、Ｒ3bは水素原子、ホルミル、アシル
オキシ、置換されていてもよいアルキル若しくはアルコ
キシ、又は遊離の、塩形成された若しくはアルキル基に
よりエステル化されたカルボキシ基を表わし、Ｒ2bは置
換されていてもよいフェニルチオ、フェニルスルホニ
ル、フェニルスルフィニル、アルキルチオ、アルキルス
ルホニル又はアルキルスルフィニル基を表わし、そして
Ｒ2b及びＲ3bが表わし得るこれらの全ての基においてア
ルキル及びアルコキシ基は多くとも６個の炭素原子を含
有し、フェニル基はハロゲン原子及び下記の基：ヒドロ
キシル、トリフルオルメチル、アシルオキシ、遊離の、
塩形成された若しくはエステル化されたカルボキシ、フ
ェニル、ピリジル、テトラゾリル、多くとも４個の炭素
原子を含有するアルキル及びアルコキシ基（それ自体多
くとも４個の炭素原子を含有するアルコキシ基により置
換されていてもよい）のうちから選択される１個以上の
基により置換されていてもよいようなものであり、Ｒ4b
はシアノ、遊離の、塩形成された若しくはエステル化さ
れたカルボキシ基、−ＳＯ2 −Ｘb −Ｒ10b 基（ここ
で、Ｘb は−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−
Ｏ−、次式
【化４３】 の基若しくは−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−基又は単結合を表わ
し、Ｒ10b 及びＲ13b は同一であっても異なっていても
よく、水素原子、下記の基の一つ：メチル、エチル、プ
ロピル、ビニル、アリル、ピリジル、フェニル、ベンジ
ル、ニトロピリジル、ピリミジニル、テトラゾリル、ジ
アゾリル、ピペリジニル、アルキルピペリジニル、チア
ゾリル、アルキルチアゾリル、テトラヒドロフラニル、
メチルテトラヒドロフラニル基を表わす）を表わす］の
化合物［この式（Ｉb)の化合物はその全ての可能なラセ
ミ体、エナンチオマー及びジアステレオマー異性体の形
態にある］に相当する化合物並びにそれらの無機若しく
は有機酸又は無機若しくは有機塩基との付加塩を製造す
るにあたり、Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3及びＲ'4がそれぞれ
Ｒ1b、Ｒ2b、Ｒ3b及びＲ4bについて上で定義した意味で
あってそれらの存在し得る反応性官能基が保護されてい
るものを有する式（II）、(III) 及び（IV）の化合物を
使用して前記のように製造を行うことを特徴とする上記
の製造法にある。
【００２９】本発明のさらに特定の主題は、次式（Ｉd)
【化４４】 ［ここで、Ｒ1dは多くとも４個の炭素原子を含有するア
ルキル基を表わし、Ｒ3dは下記の基の一つ：遊離の、塩
形成された若しくは多くとも４個の炭素原子を含有する
直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基によりエステル化
されたカルボキシ、ホルミル、アシルオキシ、又は多く
とも４個の炭素原子を含有するヒドロキシル基により置
換されていてもよいアルキル基を表わし、Ｒ2dは下記の
基の一つ：フェニルチオ、フェニルスルホニル、フェニ
ルスルフィニル、アルキルチオ、アルキルスルホニル又
はアルキルスルフィニル基（アルキル基は多くとも４個
の炭素原子を含有する）を表わし、Ｒ4dは−ＳＯ2 −Ｎ
Ｈ2 、−ＳＯ2 −ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ10d 、次式
【化４５】 の基又は−ＳＯ2 −ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ10d 基（ここ
で、Ｒ10d 及びＲ13d は水素原子及び下記の基：メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル及びプロペニル基のうちから
選択される）を表わす］の化合物［この式（Ｉd)の化合
物はその全ての可能なラセミ体、エナンチオマー及びジ
アステレオマー異性体の形態にある］に相当する化合物
並びにそれらの無機若しくは有機酸又は無機若しくは有
機塩基との付加塩を製造するにあたり、Ｒ'1、Ｒ'2、
Ｒ'3及びＲ'4がそれぞれＲ1d、Ｒ2d、Ｒ3d及びＲ4dにつ
いて上で定義した意味であってそれらの存在し得る反応
性官能基が保護されているものを有する式（II）、(II
I) 及び（IV）の化合物を使用して前記のように製造を
行うことを特徴とする上記の製造法にある。
【００３０】さらに詳しくは、本発明の主題は、Ｒ'1が
多くとも４個の炭素原子を含有するアルキル基を表わ
し、Ｒ'3が下記の基の一つ：遊離の、塩形成された若し
くは多くとも４個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは
分岐鎖状のアルキル基によりエステル化されたカルボキ
シ、ホルミル、アシルオキシ、又は多くとも４個の炭素
原子を含有するヒドロキシル基により置換されていても
よいアルキル基を表わし、Ｒ'2が下記の基の一つ：フェ
ニルチオ、フェニルスルホニル、フェニルスルフィニ
ル、アルキルチオ、アルキルスルホニル又はアルキルス
ルフィニル基（アルキル基は多くとも４個の炭素原子を
含有する）を表わし、反応性官能基が保護されていても
よい式（II）の化合物を開始時に使用し、、Ｒ'4が−Ｓ
Ｏ2 −ＮＨ2、−ＳＯ2 −ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ10d 、次
式
【化４６】 の基又は−ＳＯ2 −ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ10d 基（ここ
で、Ｒ10d 及びＲ13d は水素原子及び下記の基：メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル及びプロペニル基のうちから
選択される）を表わす式（Ｖ）の化合物（反応性官能基
は保護されていてもよい）を使用することを上記の製造
法にある。
【００３１】更に特定すれば、本発明の主題は、Ｒ'3が
アルコキシ基又は遊離の、塩形成された若しくはエステ
ル化されたカルボキシ基を表わし、Ｒ'2がスルホキシド
又はスルホンの形で酸化されていてもよいアルキルチオ
又はフェニルチオ基を表わし、これらのアルコキシ、ア
ルキルチオ及びフェニルチオ基がハロゲン原子、多くと
も４個の炭素原子を含有するアルキル若しくはアルコキ
シ、トリフルオルメチル、アミノ、モノ若しくはジアル
キルアミノ、シアノ、アシル、アシルオキシ又はフェニ
ル基のうちから選択される１個以上の基により置換され
ていてもよい式（II）の化合物を開始時に使用すること
を特徴とする上記の製造法にある。
【００３２】特に、本発明の主題は、式（Ｉ）の化合物
に相当する下記の化合物： ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（フェニルチ
オ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（メチルチ
オ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・４' −［［２−ブチル−４−（エチルチオ）−５−
（ヒドロキシメチル）］−１Ｈ−イミダゾール−１−イ
ル］メチル］（１，１' −ビフェニル）−２−カルボン
酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（エチルスル
ホニル）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（エチルスル
フィニル）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（エチルチ
オ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（フェニルス
ルホニル）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（フェニルス
ルフィニル）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −テトラゾリル（１，１'
−ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（メチルチ
オ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
（（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
（（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
（（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸のジカリウム塩 を製造するための上記の製造法にある。
【００３３】さらに、本発明の主題は、式（Ｉ）の化合
物に相当する下記の化合物： ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
（（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
（（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
（（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸のジカリウム塩 を製造するための上記の製造法にある。
【００３４】本発明を実施するのに好ましい条件下で
は、式（III)の化合物は、Ｈａｌが好ましくは臭素原子
を表わすが塩素又は沃素原子も表わすこともできるよう
なものである。式（III)の化合物と式（II）の化合物と
の反応は、例えばジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フラン、アセトン、アセトニトリル、ジメチルプロピル
尿素、ジメトキシエタン又はジメチルスルホキシドのよ
うな溶媒中で溶媒の還流下に又は周囲温度で、好ましく
は撹拌下に行なうことができる。反応は、例えば水素化
ナトリウム若しくはカリウム、ナトリウム若しくはカリ
ウムメチラート、ナトリウム若しくはカリウムエチラー
ト、又はナトリウム若しくはカリウムｔ−ブチラート、
或いはまた炭酸ナトリウム、カリウム若しくはカルシウ
ムの存在下に行なわれる。
【００３５】このようにして得られた式（IV）の化合物
と前記のような式（Ｖ）の化合物であってＸ4 が好まし
くは臭素、沃素又は塩素原子を表わすものとの反応は、
例えばトルエンとエタノールとの混合物又はジメチルホ
ルムアミドのような溶媒中で、例えば重炭酸ナトリウ
ム、カリウム又はカルシウムのような弱塩基の存在下
に、好ましくは例えばテトラキストリフェニルホスフィ
ンパラジウム、トリフェニルホスフィンとパラジウムジ
アセテートとの混合物又はテトラキストリフェニルホス
フィンニッケルのような触媒の存在下に行なうことがで
きる。
【００３６】他の触媒としては、例えば、ニッケル、パ
ラジウム、ロジウム又は白金触媒、好ましくはパラジウ
ム錯体、特に、ＰＰｈ3 の存在下でのビス（ジベンジリ
デンアセトン）Ｐｄ、トリス（ジベンジリデンアセト
ン）Ｐｄ、ｔｒｒａｓ−ベンジル（クロル）ビス（トリ
フェニルホスフィン）パラジウム、Ｐｄ（ＯＡｃ）2 ト
リスフリルホスフィン、Ｐｄ（ＯＡｃ）2 トリスフェニ
ルホスフィン、テトラキストリフェニルホスフィンパラ
ジウム、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン
Ｐｄ，Ｃｌ，Ｂｒ又はＯＡｃ、１，３−ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）プロパンＰｄ，Ｃｌ，Ｂｒ又はＯＡｃ、
１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンＰｄ，Ｃ
ｌ，Ｂｒ又はＯＡｃ、１，１−ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）フェロセンブタンＰｄ，Ｃｌ，Ｂｒ又はＯＡｃを
挙げることができる。式（IV）の化合物と式（Ｖ）の化
合物との反応においては、使用される溶媒は、好ましく
は、例えばアルゴンを吹き込むことによって予め脱ガス
される。
【００３７】前記の反応における化合物が有し得る各種
の反応性官能基は、必要ならば保護することができる。
例えば、ヒドロキシル、アシル、遊離のカルボキシ基又
はアミノ及びモノアルキルアミノ基であって、これらは
適当な保護基により保護することができる。使用するこ
とができる種々の保護基のリストが例えば仏国特許第２
４９９９９５号に見られる。
【００３８】反応性官能基の保護の例のリストを以下に
示すが、もちろんこれらは例示に過ぎない。 ・ヒドロキシル基は、例えば、ｔ−ブチルのごときアル
キル基、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリ
ル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、ベンジル
又はアセチルのような基により保護することができる。 ・アミノ基は、例えば、アセチル、ベンジル、ｔ−ブト
キシカルボニル、フタルイミド基又はペプチドの化学に
おいて知られたその他の基により保護することができ
る。 ・ホルミル基のようなアシル基は、例えば、ジメチルケ
タール若しくはジエチルケタール又はジオキシエチレン
ケタールのような環状又は非環状のケタールにより頬す
ることができる。 ・前記のような種々の化合物の酸官能基は、所望なら
ば、第一又は第二アミンにより、例えば塩化メチレン中
で例えば１−エチル−３−（ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド塩酸塩の存在下に周囲温度でアミド化す
ることができる。 ・酸官能基は、例えば、容易に解裂できるエステル、例
えばベンジルエステル若しくはブチルエステル又はペプ
チドの化学において知られたその他のエステルにより形
成されるエステルの形で保護することができる。
【００３９】このようにして得られた式（Ｉ')の化合物
は、Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3及びＲ'4の意味に応じて、式
（Ｉ）の化合物を構成し又は構成しない。式（Ｉ')の化
合物が式（Ｉ）の化合物を表わさないときは、それら
は、必要ならば及び所望ならば、式（Ｉ）の化合物を得
るために下記の反応に付すことができる。例えば、前記
のような保護基の除去は、当業者に知られた通常の条件
下で、特に、塩酸、ベンゼンスルホン酸若しくはｐ−ト
ルエンスルホン酸、ぎ酸又はトリフルオル酢酸のような
酸により行なわれる酸加水分解又は接触水添により行な
うことができる。フタルイミド基は、ヒドラジンにより
除去することができる。
【００４０】前記の化合物は、所望ならば、例えば、当
業者に知られた通常の方法に従って無機又は有機酸によ
る塩形成反応に付すことができる。また、前記の化合物
は、所望ならば、存在し得る酸官能基に対して無機若し
くは有機塩基により塩形成反応又はエステル化反応を行
なうことができる。これらのエステル化反応及び塩形成
反応は当業者に知られた通常の方法に従って行なうこと
ができる。
【００４１】前記の化合物の場合により行なうエステル
官能基の酸官能基への変換は、所望ならば当業者に知ら
れた通常の条件下で、特に、例えばメタノールのような
アルコール媒体中での苛性ソーダ若しくはカリ又は塩酸
若しくは硫酸によるアルカリ又は酸加水分解によって行
なうことができる。前記の化合物の存在し得るシアノ官
能基は、所望ならば、当業者に知られた通常の条件下
で、例えば硫酸、氷酢酸及び水混合物（これらの三者は
好ましくは等量である）又はエタノールと水混合物中で
還流下に行なう二重加水分解により酸官能基に変換する
ことができる。
【００４２】前記の化合物の存在し得る遊離の又はエス
テル化されたカルボキシ官能基は、所望ならば、当業者
に知られた方法に従ってアルコール官能基に変換するこ
とができる。特に、エステル化されたカルボキシ官能基
については、水素化アルミニウムリチウムを例えばテト
ラヒドロフラン又はジオキサン若しくはエチルエーテル
のような溶媒中で使用することができる。遊離のカルボ
キシ官能基については、特に水素化硼素を使用すること
ができる。
【００４３】前記の化合物の存在し得るアルコキシ官能
基、特にメトキシ基は、所望ならば、当業者に知られた
通常の条件下で、例えば、塩化メチレンのような溶媒中
での三臭化硼素、ピリジン臭化水素酸塩若しくは塩酸
塩、臭化水素酸若しくは塩酸水溶液、或いは還流下の酢
酸によりヒドロキシル官能基に変換することができる。
【００４４】前記の化合物の存在し得る硫黄原子含有基
は、所望ならば、当業者に知られた通常の条件下で、例
えば、周囲温度で例えば塩化メチレン又はジオキサンの
ような溶媒中で、例えば過酢酸若しくはｍ−クロル過安
息香酸のような過酸或いはオゾン、オクソン、過沃素酸
ナトリウムにより相当するスルホキシド又はスルホン官
能基に変換することができる。スルホキシド官能基は、
アルキルチオ若しくはアリールチオ基を含有する生成物
と特に過酸のような反応剤との等モル混合物により得る
ことができる。スルホン官能基は、アルキルチオ若しく
はアリールチオ基を含有する生成物と特に過酸のような
反応剤の過剰量との混合物により得ることができる。
【００４５】前記の化合物の存在し得るアルコール官能
基は、所望ならば、当業者に知られた通常の条件下で、
例えば、アルデヒドを得るには酸化マンガンを作用さ
せ、また酸を得るにはジョーンズ試薬を作用させること
によりアルデヒド又は酸官能基に変換することができ
る。
【００４６】前記の化合物の存在し得るニトリル官能基
は、所望ならば、当業者に知られた通常の条件下で、例
えば、文献（Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌ．Ｃｈｅ
ｍ．，３３，３３７（１９７１）、Ｓ．コジマ他）に記
載の方法に示されるように、例えばトリアルキル錫アジ
ドのような金属アジドをニトリル官能基に付加環化させ
ることによりテトラゾールに変換することができる。
【００４７】式（Ｉ）の化合物の光学活性形態は、当業
者に知られた通常の方法に従ってラセミ体を分割するこ
とにより製造することができる。ホルミル基のカルバモ
イル基への変換並びにカルバモイル基のニトリル基への
変換反応は、当業者に知られた通常の条件下で行なわれ
る。式（Ｉ）の化合物は、既知であり、特にヨーロッパ
特許出願第０４６５３６８号及び同０５０３１６２号に
記載されている。
【００４８】前記の方法により製造される式（Ｉ）の化
合物並びにそれらの酸付加塩は、有用な薬理学的性質を
持っている。これらの化合物は、アンジオテンシンII受
容体に対する拮抗性を付与されており、特に、アンジオ
テンシンIIの作用、詳しくは血管収縮作用、また筋細胞
のレベルでの栄養作用の阻害剤である。これらの性質
は、前記の製造法により製造された式（Ｉ）の化合物
［この式（Ｉ）の化合物は全ての可能なラセミ体又は光
学活性異性体の形態にある］並びに式（Ｉ）の化合物の
製薬上許容できる無機又は有機酸との付加塩を治療上使
用するのを正当化させるものである。
【００４９】前記の製造法により製造された式（Ｉ）の
化合物並びにそれらの製薬上許容できる無機又は有機酸
との付加塩は、特に薬剤として、動脈高血圧、心不全、
腎不全などの治療に、血管形成後の狭窄の再発の予防に
使用することができる。また、それらは、活性成分とし
て前記の薬剤の少なくとも１種を含有する製薬組成物と
して、ある種の胃腸障害、婦人科の障害の治療に、特に
子宮のレベルでの弛緩作用のために使用することができ
る。
【００５０】これらの製薬組成物は、経口的に、直腸経
路で、非経口的に又は皮膚若しくは粘膜はの局部的な適
用の場合には局所的に投与することができる。これらの
製薬組成物は、固体でも液体でもよく、人の医薬として
慣用されている製剤形状で、例えば無味の若しくは糖衣
錠剤、カプセル、顆粒、座薬、注射用調合剤、軟膏、ク
リーム、ゲル及びエーロゾル調合剤の形状で提供でき
る。活性成分は、これらの製薬組成物に通常使用される
補助剤、例えばタルク、アラビアゴム、ラクトース、で
んぷん、ステアリン酸マグネシウム、ココアバター、水
性若しくは非水性のビヒクル、動物性若しくは植物性の
脂肪物質、パラフィン誘導体、グリコール類、各種の湿
潤、分散若しくは乳化剤、保存剤と配合することができ
る。通常の薬用量は、使用化合物、治療患者及び疾病に
よって変わるが、例えば成人について経口投与で１日当
たり１〜１００ｍｇであってよい。
【００５１】式（II）の化合物のいくつかは、既知であ
り、例えばヨーロッパ特許第１６８９５０号に記載のよ
うに製造することができる。式（II）の出発物質は、特
に、次式（IIa)
【化４７】 （ここで、Ｒ'2は上で示した意味を有する）の化合物に
還元剤を作用させて相当する次式（IIb)
【化４８】 （ここで、Ｒ'2は既に示した意味を有する）の化合物を
得、次式（IIb)の化合物に式（IIc)
【化４９】 （ここで、Ｒ'1は上で示した意味を有し、Ｈａｌはハロ
ゲン原子を表わす）の化合物を作用させて次式（IId)
【化５０】 （ここで、Ｒ'1及びＲ'2は既に示した意味を有する）の
化合物を得、この化合物を次式（IIe) Ｒ'3−ＹＨ （IIe) （ここで、Ｒ'3は上で示した意味を有し、Ｙは硫黄又は
酸素原子を表わす）の化合物と反応させて次式（IIf)
【化５１】 （ここで、Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3及びＹは既に示した意味を
有する）の化合物を得、この化合物に環化反応を行なっ
て式（II）の化合物を得、式（II）の化合物に、所望な
らば及び必要ならば、下記の反応： ａ）保護された反応性官能基が有し得る保護基の除去反
応、 ｂ）無機若しくは有機酸又は無機若しくは有機塩基によ
る塩形成反応、 ｃ）酸官能基のエステル化反応、 ｄ）エステル官能基のけん化反応、 ｅ）シアン官能基の酸官能基への変換反応、 ｆ）カルボキシ官能基のアルコール官能基への還元反
応、 ｇ）アルコキシ官能基のヒドロキシ官能基への変換反
応、 ｈ）硫黄原子含有基の相当するスルホキシド又はスルホ
ン官能基への酸化反応、 ｉ）アルコール官能基のアルデヒド又は酸官能基への酸
化反応、 ｊ）ニトリル基のテトラゾール基への変換反応、 ｋ）ラセミ形の分割された生成物への分割反応、 ｌ）カルボキシ基のカルバモイル基への変換反応、 ｍ）カルバモイル基のニトリル基への変換反応 の一つ以上の反応に任意の順序で付すことを特徴とする
製造法により製造することができる［このようにして得
られる式（II）の化合物はその全ての可能なラセミ体、
エナンチオマー及びジアステレオマー異性体の形にあ
る］。
【００５２】本発明を実施するのに好ましい条件下で
は、上記の製造法は、下記の態様で行なわれる。式（II
b)の化合物を得るための式（IIa)の化合物の還元は、当
業者に知られた通常の方法に従って、例えば、通常の条
件下で例えば塩化水銀をアルミニウムに作用させること
により製造されるアルミニウムアマルガムによって行な
うことができる。反応は、例えばテトラヒドロフラン又
はトルエンのような溶媒中で、好ましくはほぼ５０℃の
温度で行なわれる。Ｗが臭素原子又は好ましくは塩素原
子を表わす式（IIc)の化合物の式（IIb)の化合物に対す
る付加は、当業者に知られた方法に従って、例えば、ピ
リジン又はトリエチルアミンのような塩基の存在下に行
なうことができる。反応はほぼ０℃の温度で行なうのが
好ましい。
【００５３】また、式（IId)の化合物は、式（IIa)の化
合物を例えば無水酢酸、無水酪酸又は無水吉草酸のよう
な無水物の存在下に、パラジウム若しくは亜鉛又はジチ
オン酸ナトリウムの存在下に水素化することにより還元
−アシル化反応に付すことによって得ることができる。
式（IIe)の化合物の式（IId)のアミドに対する付加は、
例えば、式（IId)のアミドを溶媒、例えばエタノール又
はメタノールのようなアルコールに溶解させ、次いで例
えばトリエチルアミンのような塩基と式（IIe)の化合物
を好ましくは撹拌しながら周囲温度で漸次添加すること
によって行なわれる。式（IIf)の化合物の環化反応は、
例えばジクロルメタン、ジクロルエタン又はクロロホル
ムのような溶媒中で行なうことができる。反応は、例え
ば、ピリジン又はジメチルアミノピリジンのような塩基
の存在下に約−７８℃の温度でジクロルメタンに予め溶
解した五塩化燐の存在下に行なうことができる。反応は
周囲温度で撹拌下に行うことができる。
【００５４】このようにして得られた式（II）の化合物
は、前記した反応の一つ以上に付すことができる。反応
は、式（Ｉ）の化合物について前記したような条件と同
じ条件で行なわれる。式（IIa)の化合物は、例えばイソ
ニトロソシアン酢酸エチルであって、これは例えばラン
カスター社より商品番号８９３０として市販されている
ものである。
【００５５】前記の式（III)の化合物は、次式（VI）
【化５２】 （ここで、Ｂは上で定義した通りであり、ｔｏｌはトリ
ル基を表わす）の三量体と平衡している化合物を例えば
メタノール、エタノール若しくはブタノールのような適
当なアルコール又は例えばプロパンジオール、エチレン
グリコール若しくはジメチルプロパンジオールのような
ジオールと反応させて次式（VIII）
【化５３】 （ここで、Ｂ、Ｘ1 及びＸ2 は上で示した意味を有す
る）の化合物を得、式（VIII）の化合物をハロゲン化剤
と反応させて式（III)の化合物を得ることによって製造
することができる。
【００５６】また、文献（Ｊ．Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，８０，８３８（１９５８）、Ｈ．Ｒ．スナイダー
他）に記載のように前記の式（VI）の化合物をハロゲン
化剤と反応させて次式（VI')
【化５４】 （ここで、Ｂ及びｔｏｌは上で示した意味を有し、Ｈａ
ｌはハロゲン原子、好ましくは臭素原子を表わす）の三
量体と平衡にある化合物を得、式（VI')の化合物を式
（II）の化合物と反応させて式（IV）の化合物を得、次
いで合成を前記のように続けて式（Ｉ）の化合物得るこ
とを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製造法も示すことが
できる。このような反応は、前記した条件下で行なうこ
とができ、後記の実施例において説明する。
【００５７】上記したように、前記の式（Ｉ）の化合物
の製造法は、従って、次式（II）
【化５５】 （ここで、Ｒ'1、Ｒ'2及びＲ'3は上で示した意味を有す
る）の化合物と次式（IIIa)
【化５６】 （ここで、Ｈａｌ及びＢは上で示した意味を有する）に
相当する式（III)の化合物と反応させて次式（IVa)
【化５７】 （ここで、Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3及びＢは上で示した意味を
有する）に相当する式（IV）の化合物を得、この化合物
を次式（Va）
【化５８】 （ここで、Ｈａｌ及びＲ'4は上で示した意味を有する）
の化合物と反応させることによって行なうことができ
る。前記のような式（Ｉ）の化合物のこのような製造例
は後記の例１に示す。
【００５８】前記の製造法において、前記の式（II）の
化合物は、次式(IIIb)
【化５９】 （ここで、Ｈａｌ及びＢは前記の意味を有する）に相当
する式(III) の化合物と反応させて、次式（IVb)又は
（IV'b）
【化６０】 （ここで、Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3及びＢは上で示した意味を
有する）の化合物を得、式（IVb)又は（IV'b）の化合物
を前記の式（Ｖ）の化合物と反応させることができる。
前記の式（Ｉ）の化合物のこのような製造例を例２に示
す。
【００５９】このような式（Ｉ）の化合物は、必要なら
ば及び所望ならば、前記のようにその他の式（Ｉ）の化
合物を得るために各種の反応に、特にけん化反応に付す
ことができる。同様に、式（IV）の化合物、その例とし
て式（IVa)、（IVb)又は式（IV'b）の化合物も式（IV）
のその他の化合物を与えるように各種の反応に付すこと
ができる。
【００６０】また本発明の主題は、新規な工業用化合物
として、特に式（Ｉ）の化合物の製造法に必要な中間体
化合物としての前記のような式（IV）及び（Ｖ）の化合
物にある。さらに、式（III)の化合物も新規であって、
それ自体本発明の主題をなす。しかして、本発明の特定
の主題は、新規な化合物としての下記の化合物にある。 １：２−ヨードベンゼンスルホンアミド ２：２−ヨード−Ｎ−［（プロピルアミノ）カルボニ
ル］ベンゼンスルホンアミド ４ａ：２−［４−（ブロムメチル）フェニル］−５，５
−ジメチル−１，３，２−ジオキサボロラン ４ｂ：２−［４−（ブロムメチル）フェニル］−１，
３，２−ジオキサボロラン ５：１−［（４−ボロノフェニル）メチル］−２−ブチ
ル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カ
ルボン酸エチル ６ａ：２−ブチル−１−［４−（５，５−ジメチル−
１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニルメ
チル］−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５
−カルボン酸エチル ６ｂ：２−ブチル−１−［４−（１，３，２−ジオキサ
ボロラン−２−イル）フェニルメチル］−４−（メチル
チオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル ７：（Ｔ−４）（（４−（（２−ブチル−４−（メチル
チオ）−５−（エトキシカルボニル）−１Ｈ−イミダゾ
ール−１−イル）メチル）フェニル）（（２，２' −
（メチルアミノ）ビス（（エタノラト））（２−）−
Ｎ，Ｏ，Ｏ' ）ボロン８：２−ブチル−１−（（４−
（１，３，２−ベンゾジオキサボロール−２−イル）フ
ェニル）メチル）−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダ
ゾール−５−カルボン酸エチル ９ａ：２−ブチル−１−（（４−（４，４，５，５−テ
トラメチル−１，３，２−ジオキソラボロラン−２−イ
ル）フェニル）メチル）−４−（メチルチオ）−１Ｈ−
イミダゾール−５−カルボン酸エチル ９ｂ：２−ブチル−１−（（４−（１，３，２−ジオキ
ソラボロラン−２−イル）フェニル）メチル）−４−
（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸
エチル。
【００６１】これらの化合物１、２、４ａ、４ｂ、５、
６ａ、６ｂ、７、８、９ａ及び９ｂは、それぞれ下記の
化学式に相当する。
【化６１】
【化６２】
【化６３】
【化６４】
【化６５】
【化６６】
【化６７】
【化６８】 これらの式において、Ｚ及びＷは同一であっても異なっ
ていてもよく、水素原子又はアルキル基、特にメチル若
しくはエチル基を表わし、前記の化合物４、６及び９
は、Ｚがメチル基であるときはそれぞれ４ａ、６ａ及び
９ａと呼び、Ｚが水素原子であるときはそれぞれ４ｂ、
６ｂ及び９ｂと呼ぶ。前記の各化合物並びにそれらの同
族体のいくつかの製造を後記の実験の部に示す。
【００６２】
【実施例】下記の式（Ｉ）の化合物の製造例は本発明を
例示するものであって、それを何ら制限するものではな
い。
【００６３】製造１：２−ヨードベンゼンスルホンアミ
ド（化合物１） ３．５ｇのα−アミノベンゼンスルホンアミドと２５ｍ
ｌの９８％硫酸を６０℃で加熱する。２０ｇの氷を加
え、１．４５ｇの亜硝酸ナトリウムを４ｍｌの水に溶解
してなる溶液を０〜５℃で添加する。１０℃以下の温度
で３時間撹拌し、次いで３．７５ｇの沃化カリウムを２
５ｍｌの水に溶解してなる溶液を５〜１０℃で添加す
る。反応媒体を１９時間撹拌し、５０ｍｌの水を添加
し、次いでろ過し、水洗し、次いで５０ｍｌの酢酸エチ
ルで溶解し、０．２Ｎチオ硫酸ナトリウム溶液により洗
浄し、次いで水洗し、濃縮した後、４ｇの所期化合物を
得た。分析結果 Ｍｐ＝１９７−１９８℃ ＩＲ（ヌジョール） ３３６０，３２５５，１５６２ｃｍ-1 質量スペクトル：Ｍ+ ２８３ ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 ５．１７（ｓｌ，ＮＨ 2 ）；７．２３及び７．５２（ｔ
ｄ，芳香族，２Ｈ）；８．０８及び８．２０（ｄｄ，芳
香族，２Ｈ）
【００６４】製造２：２−ヨード−Ｎ−［（プロピルア
ミノ）カルボニル］ベンゼンスルホンアミド（化合物
２） ４ｇのヨードベンゼンスルホンアミドと４０ｍｌのアセ
トンを混合する。３．９２ｇの炭酸カリウムを添加す
る。反応媒体を還流させ、１．４６ｍｌのイソシアン酸
ｎ−プロピルを添加し、媒体を２時間還流させる。濃縮
した後、２００ｍｌの水を加え、次いで反応混合物をほ
ぼ０〜５℃に冷却しながら２Ｎ塩酸をｐＨ３になるまで
添加する。アセトン−イソプロピルエーテルから再結晶
した後、４．９ｇの所期化合物を得た。分析結果 Ｍｐ＝２１１−２１２℃ ＩＲ（ヌジョール） ３４０６，３３６８，１７１５，１５６５，１５３９ｃ
ｍ-1 質量スペクトル：Ｍ+ ３６８ ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 ０．８２（ｔｊ＝７．５，ＣＨ 3 ，３Ｈ）；１．４５
（ｍ，ＣＨ 2 ，２Ｈ）；３．１４（ｍ，ＣＨ 2 ，２
Ｈ）；６．３９（ｔ，ＣＯＮＨ，１Ｈ）；７．２９（ｔ
ｄ，Ｊ＝８．１５，芳香族）；８．１３（ｍ，芳香
族）；７．５９（ｓ，ＳＯ2 ＮＨ，１Ｈ）
【００６５】実験の部に記載する化合物６ａ、６ｂ、
７、８、９ａ及び９ｂの製造は下記のように概説するこ
とができる。
【化６９】
【００６６】製造３：１−［（４−ボロノフェニル）メ
チル］−２−ブチル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミ
ダゾール−５−カルボン酸エチル（化合物５） 方法１ ０．４２３ｇの４−ブロムメチルフェニルボロン酸
（（スナイダー他、Ｊ．Ａ．Ｃ．Ｓ．，８０，８３５
（１９５８）に記載の方法で製造）を、０．４８４ｇの
２−ブチル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール
−５−カルボン酸エチル、５ｍｌのジメチルホルムアミ
ド及び０．５２３ｇの炭酸カリウムの混合物中に添加す
る。周囲温度で４８時間撹拌した後、反応混合物を氷冷
水中に注ぐ。反応媒体を１５分間撹拌し、次いでろ過
し、水洗し、シクロヘキサンとイソプロピルエーテルと
の混合物から再結晶して０．４５０ｇの所期化合物を得
た。 方法２ １１ｇの２−（４−（ブロムメチル）フェニル）−１，
３，２−ジオキサボロランを６６ｍｌのジメチルホルム
アミドに溶解してなる溶液を、９．４４ｇの２−ブチル
−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カル
ボン酸エチル、６２ｍｌの無水ジメチルホルムアミド及
び１０．７８ｇの炭酸カリウムの混合物中に添加する。
周囲温度で４８時間撹拌した後、反応混合物を氷冷水中
に注ぎ、２Ｎ塩酸でｐＨ２まで酸性化する。ろ過し、水
洗し、乾燥した後、１０．４５ｇの所期化合物を得た。分析結果 Ｍｐ＝１６９−１７０℃ ＩＲ（ヌジョール） １６９３，１６１０，１５５５，１５１３ｃｍ-1 質量スペクトル：１０７４（三量体の形態） ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 分割された単量体と三量体との３／４〜１／４の混合
物：０．８７及び０．８６（ｔ，ＣＨ 3 ，３Ｈ）；１．
３２（ｍ，ＣＨ 2 ，２Ｈ）；１．３０（ｔ，ＣＯ2 ＣＨ
2 ＣＨ 3 ，３Ｈ）；１．６４（ｍ，ＣＨ 2 ，２Ｈ）；
２．６０（ｍ，ＣＨ 2 ，２Ｈ）；２．６１及び２．６３
（ｓ，ＳＣＨ 3 ，３Ｈ）；４．２５（ｑ，分割，ＣＯ2
ＣＨ 2 ＣＨ3 ，２Ｈ）；５．５５及び５．６０（ｓ，Ｎ
−ＣＨ 2 −Ｐｈ，２Ｈ）；７．００及び７．６８（ｔ
ｌ，芳香族，２Ｈ）；７．１１及び８．１２（ｄｌ，芳
香族，２Ｈ）；４．９３（ｍ，広い，０．２Ｈ，易動
性）
【００６７】製造４：２−ブチル−１−［４−（１，
３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニルメチ
ル］−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−
カルボン酸エチル（化合物６ｂ） １．２９２ｇの１−［（４−ボロノフェニル）メチル］
−２−ブチル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾー
ル−５−カルボン酸エチル（製造３に記載のように得
た）、２５ｃｃのトルエン及び０．７１０ｃｃの１，３
−プロパンジオールの混合物を４時間還流させると共に
生成する水を除去する。減圧下に蒸発乾固させた後、残
留物をヘプタンから加熱及び冷却により結晶化し、ろ過
し、洗浄し、１．１２ｇの所望化合物を得た。分析結果 ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 （２５０ＭＨｚ）ｐｐｍ ０．８６（ｔ，３Ｈ）：ｎＢｕのＣＨ3 ；１．３０
（ｍ，２Ｈ）−１．６０（ｍ，２Ｈ）−２．５８（ｔ，
２Ｈ）：ｎＢｕのＣＨ2 ；１．２８（ｔ，３Ｈ）−４．
２３（ｑ，２Ｈ）：−ＣＯＯＥｔ；２．０４（ｍ，２
Ｈ）：Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ 2 −ＣＨ2 −Ｏ；４．１４
（ｔ，２Ｈ）：Ｏ−ＣＨ 2 −ＣＨ2 −ＣＨ 2 −Ｏ；２．
５８（ｓ，３Ｈ）：ＳＣＨ 3 ；５．５２（ｓ，２Ｈ）；
Ａｒ−ＣＨ2 −イミダゾール；６．９４及び７．６８
（２ｄ，４Ｈ）：芳香族
【００６８】製造５：２−ブチル−１−［４−（５，５
−ジメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イ
ル）フェニルメチル］−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イ
ミダゾール−５−カルボン酸エチル（化合物６ａ） ２５０ｍｇの１−［（４−ボロノフェニル）メチル］−
２−ブチル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール
−５−カルボン酸エチル及び７０ｍｇの２，２' −ジメ
チル−１，３−プロパンジオールを使用して製造４にお
けるように実施し、２００ｍｇの所望化合物を得た。
【００６９】製造６：（Ｔ−４）（（４−（（２−ブチ
ル−４−（メチルチオ）−５−（エトキシカルボニル）
−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）メチル）フェニル）
（（２，２' −（メチルアミノ）ビス（（エタノラ
ト））（２−）−Ｎ，Ｏ，Ｏ' ）ボロン（化合物７） ２ｇの１−［（４−ボロノフェニル）メチル］−２−ブ
チル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−
カルボン酸エチル、３０ｃｃのシクロヘキサン及び１０
ｃｃの酢酸エチルを使用して製造４におけるように実施
し、次いで加熱溶解し、０．６１１ｃｃのＮ−メチルジ
エタノールアミンを使用する。濃縮した後、２．１７ｇ
の所望化合物を得た。分析結果 ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 （２５０ＭＨｚ）ｐｐｍ ０．８５（ｔ，３Ｈ）：ｎＢｕのＣＨ3 ；１．３（ｔ，
３Ｈ）：−ＣＯＯＥｔのＣＨ3 ；１．３（ｍ，２Ｈ）−
１．６２（ｑ，２Ｈ）：ｎＢｕの３位のＣＨ2及び２位
のＣＨ2 ；２．３０（ｓ，３Ｈ）：−Ｎ+ −ＣＨ3 ；
２．６０（ｓ，２Ｈ及びｔ，２Ｈ）Ｓ−ＣＨ3 及びｎＢ
ｕの１位のＣＨ2 ；２．９８及び３．２０（ｍ，４
Ｈ）：ＣＨ 2 −Ｎ+ ≡；４．１５（ｍ，４Ｈ）：ＣＨ 2
−Ｂ- ≡；４．２７（ｑ，２Ｈ）：−ＣＯＯＥｔのＣＨ
2 ；５．５０（ｓ，２Ｈ）；Ａｒ−ＣＨ 2 −イミダゾー
ル；６．９及び７．５（２ｄ，４Ｈ）：芳香族
【００７０】製造７：２−ブチル−１−（（４−（１，
３，２−ベンゾジオキサボロール−２−イル）フェニ
ル）メチル）−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾー
ル−５−カルボン酸エチル（化合物８） １ｇの１−［（４−ボロノフェニル）メチル］−２−ブ
チル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−
カルボン酸エチル及び０．２９３ｇのカテコールを使用
して製造４におけるように実施する。１．１６ｇの所望
化合物を得た。分析結果 ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 （２００ＭＨｚ）ｐｐｍ ０．８７（ｔ，３Ｈ）：ｎＢｕのＣＨ3 ；１．３５
（ｍ，２Ｈ）：ｎＢｕの３位のＣＨ2 ；１．６５（ｍ，
２Ｈ）：ｎＢｕの２位のＣＨ2 ；２．６３（ｔ，２
Ｈ）：ｎＢｕの１位のＣＨ2 ；１．３０（ｔ，３Ｈ）：
ＣＯ2 ＥｔのＣＨ3 ；４．２５（ｑ，２Ｈ）：ＣＯ2 Ｅ
ｔのＣＨ2 ；２．６３（ｓ，３Ｈ）：ＳＣＨ3 ；５．６
（ｓ，２Ｈ）：ベンジルのＣＨ2 ；７．１及び８．０５
（２ｄ）：芳香族；７．１５及び７．３：カテコール
【００７１】製造８：２−ブチル−１−（（４−（４，
４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキソラボ
ロラン−２−イル）フェニル）メチル）−４−（メチル
チオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル
（化合物９ａ） ０．５ｇの１−［（４−ボロノフェニル）メチル］−２
−ブチル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−
５−カルボン酸エチルから出発し、０．１８９ｇのピナ
コールを使用して製造４におけるように実施する。０．
５１１ｇの所望化合物を得た。分析結果 ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 （２５０ＭＨｚ）ｐｐｍ ０．８７（ｔ，３Ｈ）：ｎＢｕのＣＨ3 ；１．３３
（ｍ，２Ｈ）：ｎＢｕの３位のＣＨ2 ；１．６３（ｍ，
２Ｈ）：ｎＢｕの２位のＣＨ2 ；２．５３（ｔ，２
Ｈ）：ｎＢｕの１位のＣＨ2 ；１．３３（ｓ，１２
Ｈ）：４ＣＨ3 −Ｃ−；１．２３（ｔ，３Ｈ）：ＣＯ2
Ｅｔ；４．２３（ｑ，２Ｈ）：ＣＯ2 Ｅｔ；２．６１
（ｓ，３Ｈ）：Ｓ−ＣＨ3 ；５．５３（ｓ）：Ｎ−ＣＨ
2 −Ａｒ；６．３７及び７．７３（２ｄ，４Ｈ）：芳香
族
【００７２】製造９：２−ブチル−１−（（４−（１，
３，２−ジオキソラボロラン−２−イル）フェニル）メ
チル）−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５
−カルボン酸エチル（化合物９ｂ） ０．２ｇの１−［（４−ボロノフェニル）メチル］−２
−ブチル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−
５−カルボン酸エチルから出発し、９９ｍｇのエチレン
グリコールを使用して製造４におけるように実施する。
０．２１ｇの所期化合物を得た。分析結果 ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 （２００ＭＨｚ）ｐｐｍ ０．９（ｔ，３Ｈ）：ｎＢｕのＣＨ3 ；１．３５（ｍ，
２Ｈ）：ｎＢｕの３位のＣＨ2 ；１．６５（ｍ，２
Ｈ）：ｎＢｕの２位のＣＨ2 ；２．６３（ｔ，２Ｈ）：
ｎＢｕの１位のＣＨ2 ；１．３０（ｔ，３Ｈ）：ＣＯ2
Ｅｔ；４．２５（ｑ，２Ｈ）：ＣＯ2 Ｅｔ；２．６３
（ｓ，３Ｈ）：Ｓ−ＣＨ3 ；５．６０（ｓ，１Ｈ）：Ａ
ｒ−ＣＨ2 −イミダゾール；４．４５（ｓ，４Ｈ）：２
ＣＨ2 −Ｏ；７．０２及び７．８（２ｄ）：芳香族
【００７３】製造１０：２−ブロム−Ｎ−［（プロピル
アミノ）カルボニル］ベンゼンスルホンアミド １５ｇの２−ブロムベンゼンスルホンアミドを１５０ｃ
ｃのアセトン中で加熱還流し、１７．６ｇの炭酸カリウ
ムを添加し、次いで６．６ｃｃのイソシアン酸ｎ−プロ
ピルを添加し、次いで２時間３０分撹拌還流し、０℃に
冷却し、ｐＨ５まで酸性化する。１８．３５ｇの所期化
合物を得た。分析結果 Ｍｐ＝１６９−１７０℃ ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ ０．８４（ｔ，３Ｈ）：ＣＨ3 ；１．４５（ｍ，２
Ｈ），３．０７（ｑ，２Ｈ）：ＣＨ2 ；６．０８（ｌ，
１Ｈ）：ＮＨ；７．５（ｍ，２Ｈ），７．７１（ｄｄ，
１Ｈ）；８．２５（ｄｄ，１Ｈ）：芳香族；１０．００
（ｌ，１Ｈ）：ＮＨ
【００７４】例１：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチオ）
−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボニ
ル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニル）
−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カル
ボン酸のジカリウム塩
【００７５】工程Ａ：２−［（４−ブロムメチル）フェ
ニル］−５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサボロ
ラン ３．４ｇの４−メチルフェニルボロン酸（又はその三量
体）と２．６ｇの２，２−ジメチルプロパン−１，３−
ジオールを５０ｃｃのシクロヘキサン中で４時間加熱還
流すると共に生成する水を除去する。４．４５ｇのＮ−
ブロムスクシンイミドと１００ｍｇのアゾビスイソブチ
ロニトリルを添加する。反応媒体を４時間還流し、冷却
し、ろ過し、シクロヘキサンで洗浄し、７ｇの所望化合
物を得た。分析結果 Ｍｐ＝１１０℃ ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ １．０１（ｓ，６Ｈ）：（ＣＨ 3 ）2 −Ｃ；３．７５
（ｓ，４Ｈ）：ＣＨ 2 −Ｏ−Ｂ；４．５２（ｓ，２
Ｈ）：ＣＨ 2 Ｂｒ；６．９５（ｄ，２Ｈ），７．７２
（ｄ，２Ｈ）：芳香族
【００７６】工程Ｂ：２−ブチル−１−［４−（５，５
−ジメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イ
ル）フェニルメチル］−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イ
ミダゾール−５−カルボン酸エチル ２−ブチル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール
−５−カルボン酸エチル、６５ｃｃのジメチルホルムア
ミド及び３．７５ｇの炭酸カリウムの混合物を３０分間
撹拌し、次いで８ｇの工程Ａで得た化合物を３２ｃｃの
ジメチルホルムアミドに溶解してなる溶液を添加する。
反応媒体を周囲温度で４８時間撹拌し、次いで水中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出し、乾燥し、減圧下に蒸発乾固さ
せる。シクロヘキサン−酢酸エチル混合物（８−２）中
でペースト状にした後、５．６７ｇの所望化合物を得
た。分析結果 Ｍｐ＝１４５−１４６℃ ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ ０．８６（ｔ，３Ｈ）：ｎＢｕのＣＨ3 ；１．２９
（ｔ，３Ｈ）：ＣＯ2 ＥｔのＣＨ3 ；１．３４（ｍ，２
Ｈ），１．６２（ｍ，２Ｈ），２．６０（ｄ，２Ｈ）：
ｎＢｕのＣＨ2 ；２．６１（ｓ，３Ｈ）：Ｓ−ＣＨ3 ；
４．２３（ｑ，２Ｈ）：ＣＯ2 ＥｔのＣＨ2 ；５．５２
（ｓ，２Ｈ）：ベンジルのＣＨ2 ；６．９６（ｄ，２
Ｈ）及び７．７１（ｄ，２Ｈ）：芳香族
【００７７】工程Ｃ：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチ
オ）−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボ
ニル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニ
ル）−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−
カルボン酸エチル ６２ｍｇの２−ブロム−Ｎ−［（プロピルアミノ）カル
ボニル］ベンゼンスルホンアミド（製造１０に従って製
造）、４ｃｃのトルエン、０．１９３ｃｃの２Ｎ炭酸カ
リウム水溶液、７ｍｇのテトラキス（トリフェニルホス
フィン）パラジウム、１．６ｃｃのエタノールを混合
し、８５．５ｍｇの工程Ｂで得た化合物及び０．４ｃｃ
のトルエンの混合物を添加し、２４時間撹拌還流する。
少量のトルエンを添加し、反応媒体を２Ｎ塩酸によりｐ
Ｈ２まで酸性化する。塩化メチレンにより抽出し、次い
で水洗し、乾燥し、蒸発乾固させた後、１６５ｍｇの生
成物を集めた。これをシリカでクロマトグラフィーし、
トルエン−ジオキサン−酢酸混合物（９５−４−１）で
溶離し、しかして７５ｍｇの所望化合物を得た。分析結果 Ｍｐ＝１８２℃ ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ ０．７２（ｔ，３Ｈ）：ｎＢｕのＣＨ3 ；１．１６
（ｍ，２Ｈ）：ＣＨ2 ；３．０３（ｑ，２Ｈ）：ＣＨ 2
−ＮＨ；６．０１（ｓ，１Ｈ）：ＳＯ2 ＮＨ；６．１１
（ｔ，１Ｈ）：ＣＯＮＨ；７．２５（ｄ），７．６４
（ｔ），７．５３（ｔ），８．１２（ｄ）：芳香族
【００７８】工程Ｄ：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチ
オ）−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボ
ニル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニ
ル）−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−
カルボン酸のジカリウム塩 ２ｇの工程Ｃで得た化合物を４０ｃｃのエタノールに溶
解してなる溶液に０℃で２．３ｃｃの６Ｎ苛性カリ溶液
を添加する。反応媒体を周囲温度に戻す。７２時間後
に、沈殿を分離し、４ｃｃのエタノール、次いで４ｃｃ
の酢酸エチルで洗浄する。乾燥した後、２．０４ｇの所
望化合物を得た。分析結果 Ｍｐ＞２６０℃ 分析：Ｃ26Ｈ30Ｋ2 Ｎ4 Ｏ5 Ｓ2 計算：C % 50.30 H% 4.8 N% 9.02 S % 10.33 実測：C % 50.5 H% 4.9 N% 9.0 S % 10.3
【００７９】例２ａ：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチ
オ）−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボ
ニル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニ
ル）−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−
カルボン酸のジカリウム塩
【００８０】工程Ａ：２−［（４−ブロムメチル）フェ
ニル］−１，３，２−ジオキサボロラン ２１．０６ｇの４−メチルフェニルボロン酸から出発
し、１７．４ｃｃのトリメチレングリコール、２５０ｃ
ｃのシクロヘキサン、４４０ｍｇのアゾビスイソブチロ
ニトリル及び３２．０３ｇのＮ−ブロムスクシンイミド
を使用して、例１の工程Ａにおけるように操作を行な
う。３１ｇの所望化合物を得た。分析結果 Ｍｐ＝１０８−１０９℃ ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ ２．０５（ｍ，２Ｈ）：中央のＣＨ2 ；４．１４（ｔ，
４Ｈ）：Ｂ−ＯＣＨ 2；４．４９（ｓ，２Ｈ）：ＣＨ 2
−Ｂｒ；７．２７（ｄ，２Ｈ）及び７．７４（ｄ，２
Ｈ）：芳香族
【００８１】工程Ｂ：２−ブチル−１−［４−（１，
３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニルメチ
ル］−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−
カルボン酸エチル ３４．５ｇの２−ブチル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−
イミダゾール−５−カルボン酸エチル、５９ｇの炭酸カ
リウム、３．８２ｇの臭化テトラブチルアンモニウム及
び３１２ｃｃのアセトンの混合物を２０〜２２℃で３０
分間撹拌する。次いで３３．６ｇの上記工程Ａで得た化
合物を添加する。反応媒体を２４時間撹拌し、ろ過し、
減圧下に濃縮乾固する。５９ｃｃのエタノールから加熱
及び冷却して結晶化した後、２０．３ｇの所望化合物を
得た。分析結果 Ｍｐ＝１２０−１２１℃ ＮＭＲ：ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ ０．８６（ｔ，３Ｈ）：ＣＨ3 ；１．２８（ｔ，３
Ｈ）：ＣＯ2 ＥｔのＣＨ3；１．３０（ｍ，２Ｈ）：Ｃ
Ｈ2 ；１．６０（ｍ，２Ｈ）：ＣＨ2 ；２．５８（ｔ，
２Ｈ）：ＣＨ 2 −Ｃ＝Ｎ；２．５５（ｓ，３Ｈ）：Ｓ−
ＣＨ3 ；２．０４（ｍ，２Ｈ）：中央のＣＨ2 ；４．１
４（ｔ，４Ｈ）：ＢＯ−ＣＨ 2 ；４．２３（ｔ，２
Ｈ）：ＣＯ2 ＥｔのＣＨ2 ；５．５２（ｓ，２Ｈ）：Ｃ
Ｈ 2 −Ｎ；６．９４（ｄ，２Ｈ）及び７．６８（ｄ，２
Ｈ）：芳香族
【００８２】工程Ｃ：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチ
オ）−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボ
ニル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニ
ル）−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−
カルボン酸エチル 製造例１０で得た２６４ｍｇの化合物と１．３ｃｃのト
ルエン、１．０２７ｃｃの２Ｎ炭酸ナトリウム溶液、９
７．８ｍｇの臭化カリウム及び１７．３ｍｇのガルビノ
キシルからなり、１５分間撹拌しておいた混合物に１
２．９ｍｇのトリフェニルホスフィンと５．５ｍｇの酢
酸パラジウムを添加する。得られた混合物を１５分間撹
拌し、上記の工程Ｂで得た４００ｍｇの化合物を１．３
ｃｃのトルエン及び５．３ｃｃのエタノールに溶解して
なる溶液を添加し、全体を２４時間撹拌還流する。トリ
エンで希釈し、１．４７ｃｃの２Ｎ塩酸を添加すること
により酸性化した後、塩化メチレンで抽出し、次いで乾
燥し、減圧下に濃縮乾固する。残留物をシリカでクロマ
トグラフィーし（溶離剤：シクロヘキサン−ｎ−クロル
ブタン−イソプロパノール７５−２５−５）、０．２５
ｇの所望化合物を得た。これは例１の工程Ｃで得た化合
物と同一である。
【００８３】工程Ｄ：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチ
オ）−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボ
ニル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニ
ル）−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−
カルボン酸のジカリウム塩 例１の工程Ｄにおけるように操作を行ない、同一の化合
物を得た。
【００８４】例２ｂ：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチ
オ）−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボ
ニル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニ
ル）−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−
カルボン酸のジカリウム塩 操作は例２ａにおけるように行なう。工程Ｃにおいて１
２．９ｍｇのトリフェニルホスフィンの代わりに１０．
１ｍｇの１，３−ビスジフェニルホスフィノプロパンを
使用する。このようにして、例２ａの工程Ｃで得た化合
物と同一の４９．６ｍｇの化合物を得た。これを例１の
工程Ｄにおけるように処理して所期の化合物を得た。
【００８５】例３：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチオ）
−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボニ
ル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニル）
−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カル
ボン酸エチル ０．０８２４ｇの２−ヨード−Ｎ−プロピルアミノカル
ボニルベンゼンスルホンアミド（製造２で得た）及び１
０９ｍｇの製造４で得た化合物を使用して、例１の工程
Ｃにおけるように操作を行なって、所期の化合物を得
た。
【００８６】例４：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチオ）
−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボニ
ル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニル）
−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カル
ボン酸エチル ８２８ｍｇの２−ヨード−Ｎ−プロピルアミノカルボニ
ルスルホンアミド及び１．２ｇの製造５で得た化合物を
使用して、例２の工程Ｃにおけるように操作を行なっ
て、９０５ｍｇの所期化合物を得た。
【００８７】例５：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチオ）
−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボニ
ル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニル）
−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カル
ボン酸エチル ４４２ｍｇの製造６で得た化合物から出発し、２６４ｍ
ｇの製造１０で得た化合物を使用して例１の工程Ｃにお
けるように操作を行ない、しかして１５２ｍｇの所望化
合物を得た。
【００８８】例６：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチオ）
−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボニ
ル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニル）
−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カル
ボン酸エチル １ｇの製造３で得た化合物から出発し、７２２ｍｇの製
造１０で得た化合物を使用して例２の工程Ｃにおけるよ
うに操作を行ない、しかして６４６ｍｇの所望化合物を
得た。
【００８９】例７：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチオ）
−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボニ
ル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニル）
−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カル
ボン酸エチル １ｇの製造３で得た化合物から出発し、８２８ｍｇの製
造２で得た２−ヨード−Ｎ−［（プロピルアミノ）カル
ボニル］ベンゼンスルホンアミドを使用して例６におけ
るように操作を行ない、しかして５７１ｍｇの所望化合
物を得た。
【００９０】例８：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチオ）
−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボニ
ル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニル）
−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カル
ボン酸エチル 例２の工程Ｂで得た化合物の代わりに４３２．８ｍｇの
製造７で得た化合物を使用して例２の工程Ｃにおけるよ
うに操作を行ない、しかして１２１ｍｇの所望化合物を
得た。
【００９１】例９：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチオ）
−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボニ
ル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニル）
−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−カル
ボン酸エチル 例２の工程Ｂで得た化合物の代わりに３８７ｍｇの製造
９で得た化合物を使用して例２の工程Ｃにおけるように
操作を行ない、しかして２２０．５ｍｇの所望化合物を
得た。
【００９２】例１０：２−ブチル−４Ｈ−（メチルチ
オ）−１−［［２' −（（（（プロピルアミノ）カルボ
ニル）アミノ）スルホニル）−１，１' −（ビフェニ
ル）−４−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール−５−
カルボン酸エチル 例２の工程Ｂで得た化合物の代わりに４４０ｍｇの製造
８で得た化合物を使用して例２の工程Ｃにおけるように
操作を行ない、しかして１７２ｍｇの所望化合物を得
た。
【００９３】例１１：製薬組成物 下記の処方に相当する錠剤を調製した。 ・例１の化合物・・・５０ｍｇ ・補助剤・・・１錠２００ｍｇとするのに十分な量（補
助剤の詳細：ラクトース、タルク、でんぷん、ステアリ
ン酸マグネシウム）
【００９４】前記の例に従って、下記の化合物を製造し
た。
【化７０】
【化７１】
【化７２】 前記の化学式において、Ｇは好ましくは−ＳＯ2 −ＮＨ
−ＣＯ−ＮＨ−ＣＨ2−ＣＨ2 −ＣＨ3 又は−ＳＯ2 −
ＮＨ−ＣＯ2 −アルキル（ここで、アルキルは好ましく
はメチル、エチル、プロピル又はブチル基を表わす）を
表わす。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 233/92 403/10 ２３３ Ｃ０７Ｆ 9/6506 9155−4Ｈ // Ｃ０７Ｆ 5/02 Ｃ 7457−4Ｈ (Ｃ０７Ｄ 403/10 233:90 257:04） (72)発明者 クリスティーヌ・グリフール フランス国ロスニ・スー・ボワ、リュ・デ ュ・カトリエーム・ズアーブ、11

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 次式（Ｉ） 【化１】 ［ここで、 Ｒ1 はアルキル、アルケニル、アルキニル若しくはアル
    キルチオ基（これらの基のそれぞれは直鎖状若しくは分
    岐鎖状であって、多くとも１０個の炭素原子を含有す
    る）又は３〜７個の炭素原子を含有するシクロアルキル
    基を表わし（これらの全ての基は置換されていてもよ
    い）、 Ｒ2 及びＲ3 は、同一であっても異なっていてもよく、
    下記のもの： ａ）水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル、メルカプ
    ト、ホルミル、アシル、遊離の、塩形成された若しくは
    エステル化されたカルボキシ、ニトロ、シアノ基及び−
    ＰＯ3 （Ｒ）2 基（ここで、Ｒは水素原子又は置換され
    ていてもよいアルキル若しくはフェニル基を表わす）； ｂ）−（ＣＨ2 ）m1−Ｓ（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10基（ここ
    で、ｍ１は０〜４の整数を表わし、ｍ２は０〜２の整数
    を表わし、Ｘは単結合又は−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、
    −ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｎ＝ＣＨ−Ｎ−Ｒ13、−ＮＨ−
    ＣＯ−ＮＨ−基を表わし、Ｒ10及びＲ13は同一であって
    も異なっていてもよく、水素原子、多くとも６個の炭素
    原子を含有する直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル若しく
    はアルケニル基、３〜６個の炭素原子を含有するシクロ
    アルキル基、置換されていてもよいフェニル若しくはベ
    ンジル基、ピリジル、ニトロピリジル、ピリミジニル、
    テトラゾリル、ジアゾリル、ピペリジニル、アルキルピ
    ペリジニル、チアゾリル、アルキルチアゾリル、テトラ
    ヒドロフラニル又はメチルテトラヒドロフラニル基）； ｃ）アルキル、アルケニル、アルコキシ及びアルキルチ
    オ基（ここで、硫黄原子は一又は二酸化されていれもよ
    い。これらの基のそれぞれは直鎖又は分岐鎖状であっ
    て、多くとも６個の炭素原子を含有し、硫黄、酸素又は
    窒素原子のうちから選択される１個以上のヘテロ原子に
    より中断されていてよく、また置換されていてもよ
    い）； ｄ）フェニル、ベンゾイル及びフェニルチオ基（ここ
    で、硫黄原子は一又は二酸化されていれもよい。これら
    の基は置換されていてもよい）； ｅ）次式 【化２】 ｛ここで、Ｒ6 及びＲ7 又はＲ8 及びＲ9 は、同一であ
    っても異なっていてもよく、下記の基： ・水素原子、 ・アミノ酸、 ・多くとも６個の炭素原子を含有するアルキル及びアル
    ケニル基（置換されていてもよい）、 ・置換されていてもよいフェニル、ベンジル及びフェネ
    チル基、 ・−（ＣＨ2 ）m1−Ｓ（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10基のうちから
    選択され、 或いはＲ6 及びＲ7 又はＲ8 及びＲ9 は、それらが結合
    している窒素原子と共に、５、６若しくは７員の単環式
    基又は８〜１４員の同一若しくは異なる縮合環よりなる
    基（これらの基は、酸素、窒素及び硫黄原子のうちから
    選択される１個以上の他のヘテロ原子を含有でき、また
    下記の基：ハロゲン原子、ヒドロキシル、ニトロ、多く
    とも６個の炭素原子を含有するアルキル及びアルコキ
    シ、アミノ（１又は２個の同一又は異なる多くとも６個
    の炭素原子を含有するアルキル基により置換されていて
    もよい）及びフェニル基のうちから選択される１個以上
    の基により置換されていてもよい）を形成し、 或いはＲ8 及びＲ9 は、同一であっても異なっていても
    よく、アシル基を表わし、或いはＲ8 及びＲ9 の一つは
    カルバモイル、アルコキシカルボニル又はベンジルオキ
    シカルボニル基を表わし、或いはＲ8 及びＲ9 はそれら
    が結合している窒素原子と共にフタルイミド又はスクシ
    ンイミド基を形成する｝の基： ｆ）−Ｓ−Ｓ−Ｒ12基（ここで、Ｒ12は、アミノ及びア
    ルコキシ基を除く前記のａ）〜ｅ）においてＲ2 又はＲ
    3 について定義したような意味を表わす）のうちから選
    択され、ただし、Ｒ2 及びＲ3 の少なくとも一つは置換
    されていてもよいアルコキシ基又は前記のような−（Ｃ
    Ｈ2 ）m1−Ｓ（Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10基を表わすものとし、 Ｒ4 は下記の基：前記のような−（ＣＨ2 ）m1−Ｓ
    （Ｏ）m2−Ｘ−Ｒ10、ハロゲン原子、ニトロ、−（ＣＨ
    2 ）m1−ＣＯＯＲ14、−（ＣＨ2 ）m1−ＣＯＮＨＲ14、
    −（ＣＨ2 ）m1−ＣＮ（ここで、ｍ１は前記の意味を有
    する）、 【化３】 （ここで、Ｒ13は前記の定義を有し、Ｒ14及びＲ15は同
    一であっても異なっていてもよく、水素原子、多くとも
    ６個の炭素原子を含有するアルキル基又は３〜６個の炭
    素原子を含有する置換されていてもよいシクロアルキル
    基を表わし、Ｙは酸素又は硫黄原子を表わす）のうちか
    ら選択され、 前記のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アルキ
    ルチオ、フェニルチオ、アルコキシ、フェニル、ベンジ
    ル基のいずれも、下記の基：ハロゲン原子、ヒドロキシ
    ル、ニトロ、多くとも４個の炭素原子を含有するアルキ
    ル、アルケニル及びアルコキシ、トリフルオルメチル、
    シアノ、アミノ、モノアミノ及びジアルキルアミノ、遊
    離の、塩形成された若しくはエステル化されたカルボキ
    シ、ハロアルキル、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、
    ハロアルコキシ、フェニル、ピリジル、ベンジル、フェ
    ネチル、ベンゾイル、フェノキシ、ベンジルオキシ、フ
    ェニルチオ、カルバモイル、アシル、アシルオキシ及び
    テトラゾリル基のうちから選択される１個以上の基によ
    り置換されていてもよい］の化合物［この式（Ｉ）の化
    合物はその全ての可能なラセミ体、エナンチオマー及び
    ジアステレオマー異性体の形態にある］並びにそれらの
    無機若しくは有機酸又は無機若しくは有機塩基との付加
    塩を製造するにあたり、次式（II） 【化４】 （ここで、Ｒ'1、Ｒ'2及びＲ'3は、それぞれＲ1 、Ｒ2
    及びＲ3 について上で定義した意味であってそれらの存
    在し得る反応性官能基が保護されているものを有する）
    の化合物を次式(III) 【化５】 （ここで、Ｈａｌはハロゲン原子を表わし、Ｂは硼素原
    子を表わし、Ｘ1 及びＸ2 は、Ｘ1 及びＸ2 が同一であ
    っても異なっていてもよく、ヒドロキシル基、多くとも
    ６個の炭素原子を含有するアルキル若しくはアルコキシ
    基、フェニル又はフェノキシ基を表わすか、或いはＸ1
    とＸ2 がそれらが結合している硼素原子と共に次式 【化６】 （ここで、Ｘ3 は水素原子又は多くとも４個の炭素原子
    を含有するアルキル基を表わす）のうちから選択される
    環を形成するようなものである）の化合物と反応させて
    次式（IV） 【化７】 （ここで、Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3、Ｘ1 、Ｘ2 及びＢは前記
    の意味を有する）の化合物を得、式（IV）の化合物を次
    式（Ｖ） 【化８】 （ここで、Ｘ4 はハロゲン原子、アルコキシ、トリフレ
    ート又は−Ｏ−ＳＯ2 Ｆ基を表わし、Ｒ'4はＲ4 につい
    て前記した意味であって存在し得る反応性官能基が保護
    されているものを有する）の化合物と反応させて次式
    （Ｉ') 【化９】 の化合物を得、式（Ｉ')の化合物に、所望ならば及び必
    要ならば、下記の反応： ａ）保護された反応性官能基が有し得る保護基の除去反
    応、 ｂ）無機若しくは有機酸又は無機若しくは有機塩基によ
    る塩形成反応、 ｃ）酸官能基のエステル化反応、 ｄ）エステル官能基のけん化反応、 ｅ）シアン官能基の酸官能基への転換反応、 ｆ）カルボキシ官能基のアルコール官能基への還元反
    応、 ｇ）アルコキシ官能基のヒドロキシ官能基への転換反
    応、 ｈ）硫黄原子含有基の相当するスルホキシド又はスルホ
    ン官能基への酸化反応、 ｉ）スルホキシド又はスルホン官能基の相当するスルホ
    キシミン官能基への転換反応、 ｊ）ニトリル基のテトラゾール基への転換反応、 ｋ）ラセミ形の分割された生成物への分割反応、 ｌ）カルボキシ基のカルバモイル基への転換反応、 ｍ）カルバモイル基のニトリル基への転換反応 の一つ以上の反応に任意の順序で付すことを特徴とする
    式（Ｉ）の化合物［得られる式（Ｉ）の化合物はその全
    ての可能なラセミ体、エナンチオマー及びジアステレオ
    マー異性体の形態にある］の化合物並びにそれらの塩類
    の製造法。
  2. 【請求項２】 次式（Ｉa) 【化１０】 ［ここで、 Ｒ1aは多くとも４個の炭素原子を含有する直鎖状又は分
    岐鎖状のアルキル又はアルケニル基を表わし、 Ｒ2a及びＲ3aは、同一であっても異なっていてもよく、
    下記のもの： ａ）水素原子、下記の基：メルカプト、ホルミル、遊離
    の、塩形成された又はエステル化されたカルボキシ、ハ
    ロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、アシル； ｂ）アルキル、アルケニル、アルコキシ及びアルキルチ
    オ基（硫黄原子は一又は二酸化されていてもよい。これ
    らの基は直鎖状又は分岐鎖状であって、多くとも６個の
    炭素原子を含有する）、フェニル、ベンゾイル及びフェ
    ニルチオ基（硫黄原子は一又は二酸化されていてもよ
    い）（これらの基の全ては、下記の基：ハロゲン原子、
    ヒドロキシル、トリフルオルメチル、シアノ、ニトロ、
    ホルミル、多くとも４個の炭素原子を含有するアルキル
    及びアルコキシ、フェニル及び遊離の、塩形成された又
    はエステル化されたカルボキシ基のうちから選択される
    １個以上の同一又は異なる基により置換されていてもよ
    い）； ｃ）次式 【化１１】 （ここで、Ｒ6a、Ｒ7a、Ｒ8a及びＲ9aは、同一であって
    も異なっていてもよく、水素原子、アミノ酸、アルキル
    基（これらの基は多くとも６個の炭素原子を含有す
    る）、フェニル、ベンジル及びフェネチル基のうちから
    選択され、 或いはＲ6a及びＲ7a並びにＲ8a及びＲ9aは、それぞれ、
    それらが結合している窒素原子と共に複素環式基を形成
    する。これらの基は同一又は異なっていてよく、下記の
    基：イミダゾリル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニ
    ル、ピリジル、ピペリジニル、ピリミジニル、ピリダジ
    ニル、ピラジニル、ピペラジニル、フェニルピペラジニ
    ル、ピペリジル、オキサゾリル、モルホリニル、チオモ
    ルホリニル、アゼピン及びインドリル基のうちから選択
    され、そしてこれらの基はハロゲン原子、ヒドロキシ
    ル、ニトロ、アルキル及びアルコキシ（これらは多くと
    も６個の炭素原子を含有する）及びフェニル基のうちか
    ら選択される１個以上の同一又は異なる基により置換さ
    れていてもよい）の基のうちから選択され、 Ｒ4aはシアノ基、遊離の、塩形成された又はエステル化
    されたカルボキシ基、−（ＣＨ2 ）p −ＳＯ2 −Ｘa −
    Ｒ10a 基（ここで、ｐは０及び１の値を表わし、Ｘa は
    −ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、次式 【化１２】 の基若しくは−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−基又は単結合を表わ
    し、Ｒ10a 及びＲ13a は同一であっても異なっていても
    よく、水素原子、多くとも６個の炭素原子を含有する置
    換されていてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル
    若しくはアルケニル、ピリジル、フェニル、ベンジル、
    ニトロピリジル、ピリミジニル、テトラゾリル、ジアゾ
    リル、ピペリジニル、アルキルピペリジニル、チアゾリ
    ル、アルキルチアゾリル、テトラヒドロフラニル、メチ
    ルテトラヒドロフラニル基を表わす）を表わし、 アルキル及びアルケニル基は、ハロゲン原子、ヒドロキ
    シル、ニトロ、多くとも４個の炭素原子を含有するアル
    キル、アルケニル及びアルコキシ、トリフルオルメチ
    ル、シアノ、アミノ、モノ及びジアルキルアミノ、遊離
    の、塩形成された又はエステル化されたカルボキシ、フ
    ェニル及びテトラゾリル基のうちから選択される１個以
    上の同一又は異なる基により置換されていてもよい］の
    化合物［この式（Ｉa)の化合物はその全ての可能なラセ
    ミ体、エナンチオマー及びジアステレオマー異性体の形
    態にある］に相当する化合物並びにそれらの無機若しく
    は有機酸又は無機若しくは有機塩基との付加塩を製造す
    るにあたり、Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3及びＲ'4がそれぞれ
    Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a及びＲ4aについて上で定義した意味で
    あってそれらの存在し得る反応性官能基が保護されてい
    るものを有する式（II）、(III) 及び（IV）の化合物を
    使用して請求項１に記載のように製造を行うことを特徴
    とする請求項１記載の製造法。
  3. 【請求項３】 次式（Ｉb) 【化１３】 ［ここで、 Ｒ1bは多くとも４個の炭素原子を含有するアルキル基を
    表わし、 Ｒ3bは水素原子、ホルミル、アシルオキシ、置換されて
    いてもよいアルキル若しくはアルコキシ、又は遊離の、
    塩形成された若しくはアルキル基によりエステル化され
    たカルボキシ基を表わし、 Ｒ2bは置換されていてもよいフェニルチオ、フェニルス
    ルホニル、フェニルスルフィニル、アルキルチオ、アル
    キルスルホニル又はアルキルスルフィニル基を表わし、
    そしてＲ2b及びＲ3bが表わし得るこれらの全ての基にお
    いてアルキル及びアルコキシ基は多くとも６個の炭素原
    子を含有し、フェニル基はハロゲン原子及び下記の基：
    ヒドロキシル、トリフルオルメチル、アシルオキシ、遊
    離の、塩形成された若しくはエステル化されたカルボキ
    シ、フェニル、ピリジル、テトラゾリル、多くとも４個
    の炭素原子を含有するアルキル及びアルコキシ基（それ
    自体多くとも４個の炭素原子を含有するアルコキシ基に
    より置換されていてもよい）のうちから選択される１個
    以上の基により置換されていてもよいようなものであ
    り、 Ｒ4bはシアノ、遊離の、塩形成された若しくはエステル
    化されたカルボキシ基、−ＳＯ2 −Ｘb −Ｒ10b 基（こ
    こで、Ｘb は−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ
    −Ｏ−、次式 【化１４】 の基若しくは−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−基又は単結合を表わ
    し、Ｒ10b 及びＲ13b は同一であっても異なっていても
    よく、水素原子、下記の基の一つ：メチル、エチル、プ
    ロピル、ビニル、アリル、ピリジル、フェニル、ベンジ
    ル、ニトロピリジル、ピリミジニル、テトラゾリル、ジ
    アゾリル、ピペリジニル、アルキルピペリジニル、チア
    ゾリル、アルキルチアゾリル、テトラヒドロフラニル、
    メチルテトラヒドロフラニル基を表わす）を表わす］の
    化合物［この式（Ｉb)の化合物はその全ての可能なラセ
    ミ体、エナンチオマー及びジアステレオマー異性体の形
    態にある］に相当する化合物並びにそれらの無機若しく
    は有機酸又は無機若しくは有機塩基との付加塩を製造す
    るにあたり、Ｒ'1、Ｒ'2、Ｒ'3及びＲ'4がそれぞれ
    Ｒ1b、Ｒ2b、Ｒ3b及びＲ4bについて上で定義した意味で
    あってそれらの存在し得る反応性官能基が保護されてい
    るものを有する式（II）、(III) 及び（IV）の化合物を
    使用して請求項１に記載のように製造を行うことを特徴
    とする請求項１記載の製造法。
  4. 【請求項４】 次式（Ｉd) 【化１５】 ［ここで、 Ｒ1dは多くとも４個の炭素原子を含有するアルキル基を
    表わし、 Ｒ3dは下記の基の一つ：遊離の、塩形成された若しくは
    多くとも４個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは分岐
    鎖状のアルキル基によりエステル化されたカルボキシ、
    ホルミル、アシルオキシ、又は多くとも４個の炭素原子
    を含有するヒドロキシル基により置換されていてもよい
    アルキル基を表わし、 Ｒ2dは下記の基の一つ：フェニルチオ、フェニルスルホ
    ニル、フェニルスルフィニル、アルキルチオ、アルキル
    スルホニル又はアルキルスルフィニル基（アルキル基は
    多くとも４個の炭素原子を含有する）を表わし、 Ｒ4dは−ＳＯ2 −ＮＨ2 、−ＳＯ2 −ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
    Ｒ10d 、次式 【化１６】 の基又は−ＳＯ2 −ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ10d 基（ここ
    で、Ｒ10d 及びＲ13d は水素原子及び下記の基：メチ
    ル、エチル、ｎ−プロピル及びプロペニル基のうちから
    選択される）を表わす］の化合物［この式（Ｉd)の化合
    物はその全ての可能なラセミ体、エナンチオマー及びジ
    アステレオマー異性体の形態にある］に相当する化合物
    並びにそれらの無機若しくは有機酸又は無機若しくは有
    機塩基との付加塩を製造するにあたり、Ｒ'1、Ｒ'2、
    Ｒ'3及びＲ'4がそれぞれＲ1d、Ｒ2d、Ｒ3d及びＲ4dにつ
    いて上で定義した意味であってそれらの存在し得る反応
    性官能基が保護されているものを有する式（II）、(II
    I) 及び（IV）の化合物を使用して請求項１に記載のよ
    うに製造を行うことを特徴とする請求項１記載の製造
    法。
  5. 【請求項５】 Ｒ'1が多くとも４個の炭素原子を含有す
    るアルキル基を表わし、Ｒ'3が下記の基の一つ：遊離
    の、塩形成された若しくは多くとも４個の炭素原子を含
    有する直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基によりエス
    テル化されたカルボキシ、ホルミル、アシルオキシ、又
    は多くとも４個の炭素原子を含有するヒドロキシル基に
    より置換されていてもよいアルキル基を表わし、Ｒ'2が
    下記の基の一つ：フェニルチオ、フェニルスルホニル、
    フェニルスルフィニル、アルキルチオ、アルキルスルホ
    ニル又はアルキルスルフィニル基（アルキル基は多くと
    も４個の炭素原子を含有する）を表わし、反応性官能基
    が保護されていてもよい式（II）の化合物を開始時に使
    用し、Ｒ'4が−ＳＯ2 −ＮＨ2 、−ＳＯ2 −ＮＨ−ＣＯ
    −Ｏ−Ｒ10d 、次式 【化１７】 の基又は−ＳＯ2 −ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ10d 基（ここ
    で、Ｒ10d 及びＲ13d は水素原子及び下記の基：メチ
    ル、エチル、ｎ−プロピル及びプロペニル基のうちから
    選択される）を表わす式（Ｖ）の化合物（反応性官能基
    は保護されていてもよい）を使用することを特徴とする
    請求項１記載の製造法。
  6. 【請求項６】 Ｒ'3がアルコキシ基又は遊離の、塩形成
    された若しくはエステル化されたカルボキシ基を表わ
    し、Ｒ'2がスルホキシド又はスルホンの形で酸化されて
    いてもよいアルキルチオ又はフェニルチオ基を表わし、
    これらのアルコキシ、アルキルチオ及びフェニルチオ基
    がハロゲン原子、多くとも４個の炭素原子を含有するア
    ルキル若しくはアルコキシ、トリフルオルメチル、アミ
    ノ、モノ若しくはジアルキルアミノ、シアノ、アシル、
    アシルオキシ又はフェニル基のうちから選択される１個
    以上の基により置換されていてもよい式（II）の化合物
    を開始時に使用することを特徴とする請求項１記載の製
    造法。
  7. 【請求項７】 式（Ｉ）の化合物に相当する下記の化合
    物： ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
    ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（フェニルチ
    オ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
    ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（メチルチ
    オ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・４' −［［２−ブチル−４−（エチルチオ）−５−
    （ヒドロキシメチル）］−１Ｈ−イミダゾール−１−イ
    ル］メチル］（１，１' −ビフェニル）−２−カルボン
    酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
    ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（エチルスル
    ホニル）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
    ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（エチルスル
    フィニル）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
    ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（エチルチ
    オ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
    ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（フェニルス
    ルホニル）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −カルボキシ（１，１' −
    ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（フェニルス
    ルフィニル）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−１−［［２' −テトラゾリル（１，１'
    −ビフェニル）−４−イル］メチル］−４−（メチルチ
    オ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
    （（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
    ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
    −１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
    （（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
    ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
    −１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
    （（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
    ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
    −１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸のジカリウム塩 を製造するための請求項１記載の製造法。
  8. 【請求項８】 式（Ｉ）の化合物に相当する下記の化合
    物： ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
    （（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
    ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
    −１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
    （（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
    ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
    −１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸 ・２−ブチル−４−（メチルチオ）−１−［［２' −
    （（（（プロピルアミノ）カルボニル）アミノ）スルホ
    ニル）（１，１' −ビフェニル）−４−イル］メチル］
    −１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸のジカリウム塩 を製造するための請求項１記載の製造法。
  9. 【請求項９】 新規な工業用化合物としての下記の化合
    物： １：２−ヨードベンゼンスルホンアミド ２：２−ヨード−Ｎ−［（プロピルアミノ）カルボニ
    ル］ベンゼンスルホンアミド ４ａ：２−［４−（ブロムメチル）フェニル］−５，５
    −ジメチル−１，３，２−ジオキサボロラン ４ｂ：２−［４−（ブロムメチル）フェニル］−１，
    ３，２−ジオキサボロラン ５：１−［（４−ボロノフェニル）メチル］−２−ブチ
    ル−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カ
    ルボン酸エチル ６ａ：２−ブチル−１−［４−（５，５−ジメチル−
    １，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニルメ
    チル］−４−（メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５
    −カルボン酸エチル ６ｂ：２−ブチル−１−［４−（１，３，２−ジオキサ
    ボロラン−２−イル）フェニルメチル］−４−（メチル
    チオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸エチル ７：（Ｔ−４）（（４−（（２−ブチル−４−（メチル
    チオ）−５−（エトキシカルボニル）−１Ｈ−イミダゾ
    ール−１−イル）メチル）フェニル）（（２，２' −
    （メチルアミノ）ビス（（エタノラト））（２−）−
    Ｎ，Ｏ，Ｏ' ）ボロン ８：２−ブチル−１−（（４−（１，３，２−ベンゾジ
    オキサボロール−２−イル）フェニル）メチル）−４−
    （メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸
    エチル ９ａ：２−ブチル−１−（（４−（４，４，５，５−テ
    トラメチル−１，３，２−ジオキソラボロラン−２−イ
    ル）フェニル）メチル）−４−（メチルチオ）−１Ｈ−
    イミダゾール−５−カルボン酸エチル ９ｂ：２−ブチル−１−（（４−（１，３，２−ジオキ
    ソラボロラン−２−イル）フェニル）メチル）−４−
    （メチルチオ）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボン酸
    エチル。
JP5354133A 1993-09-16 1993-12-29 イミダゾールの硫酸化誘導体の新製造法及び得られる新中間体 Pending JPH0782255A (ja)

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