JPH0753776A - 耐光性の改善された高分子材料組成物 - Google Patents
耐光性の改善された高分子材料組成物Info
- Publication number
- JPH0753776A JPH0753776A JP21513493A JP21513493A JPH0753776A JP H0753776 A JPH0753776 A JP H0753776A JP 21513493 A JP21513493 A JP 21513493A JP 21513493 A JP21513493 A JP 21513493A JP H0753776 A JPH0753776 A JP H0753776A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tert
- butyl
- bis
- light
- piperidyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 長期間の光の作用によっても使用に耐えるポ
リエチレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ塩
化ビニル等の高分子材料組成物を提供する。 【構成】 高分子材料１００重量部に対して、下記一般
式（１）で表されるホルムアミジン類化合物０．００１
〜５重量部を添加してなる、耐光性の改善された高分子
材料組成物。 【化１】
リエチレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ塩
化ビニル等の高分子材料組成物を提供する。 【構成】 高分子材料１００重量部に対して、下記一般
式（１）で表されるホルムアミジン類化合物０．００１
〜５重量部を添加してなる、耐光性の改善された高分子
材料組成物。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐光性の改善された高
分子材料組成物に関し、詳しくは、特定のホルムアミジ
ン類化合物を添加することによって、長期間に亘って耐
光性の改善された高分子材料組成物に関する。
分子材料組成物に関し、詳しくは、特定のホルムアミジ
ン類化合物を添加することによって、長期間に亘って耐
光性の改善された高分子材料組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び問題点】ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル等の高分子材料は
光の作用により劣化し、変色あるいは機械的強度の低下
等を引き起こし、長期の使用に耐えないことが知られて
いる。
ン、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル等の高分子材料は
光の作用により劣化し、変色あるいは機械的強度の低下
等を引き起こし、長期の使用に耐えないことが知られて
いる。
【０００３】そこで、高分子材料の劣化を防止するため
に、従来から種々の紫外線吸収剤が用いられてきた。こ
れら紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系またはベ
ンゾトリアゾール系およびベンゾエート系とともにホル
ムアミジン系の紫外線吸収剤が知られている。このホル
ムアミジン系の紫外線吸収剤は特開昭５０−１４８３２
３号公報に提案されているが、吸収極大波長が３２０ｎ
ｍ前後とベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の３４０ｎ
ｍ前後に比べて短波長であり、高分子材料の耐候性をよ
り改善するために、より長波長に吸収極大を持ち、高分
子材料からの揮散性の小さい分子量の大きなホルムアミ
ジン系の紫外線吸収剤が望まれていた。
に、従来から種々の紫外線吸収剤が用いられてきた。こ
れら紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系またはベ
ンゾトリアゾール系およびベンゾエート系とともにホル
ムアミジン系の紫外線吸収剤が知られている。このホル
ムアミジン系の紫外線吸収剤は特開昭５０−１４８３２
３号公報に提案されているが、吸収極大波長が３２０ｎ
ｍ前後とベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の３４０ｎ
ｍ前後に比べて短波長であり、高分子材料の耐候性をよ
り改善するために、より長波長に吸収極大を持ち、高分
子材料からの揮散性の小さい分子量の大きなホルムアミ
ジン系の紫外線吸収剤が望まれていた。
【０００４】
【問題点を解決するための手段】本発明者等は、上記の
現状に鑑み、吸収極大波長をベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤と同等の３４０ｎｍ前後に持つホルムアミジン
系紫外線吸収剤を得るために鋭意検討を重ねた結果、下
記一般式（１）で表される化合物が、吸収極大波長を３
４０ｎｍ前後に持つことを見出し、本発明に到達した。
現状に鑑み、吸収極大波長をベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤と同等の３４０ｎｍ前後に持つホルムアミジン
系紫外線吸収剤を得るために鋭意検討を重ねた結果、下
記一般式（１）で表される化合物が、吸収極大波長を３
４０ｎｍ前後に持つことを見出し、本発明に到達した。
【０００５】即ち、本発明は高分子材料１００重量部に
対して、下記一般式（１）で表される特定のホルムアミ
ジン系紫外線吸収剤０．００１〜５重量部を添加してな
る、耐候性の改善された高分子材料組成物を提供するも
のである。
対して、下記一般式（１）で表される特定のホルムアミ
ジン系紫外線吸収剤０．００１〜５重量部を添加してな
る、耐候性の改善された高分子材料組成物を提供するも
のである。
【０００６】
【化２】
【０００７】以下、上記要旨をもってなる本発明につい
て詳述する。
て詳述する。
【０００８】上記式中、Ｒ1及びＲ4で表されるアルキル
基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチ
ル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル等が
あげられる。Ｒ2及びＲ3で表されるアルキル基として
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、ア
ミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル等があげら
れ、アルキル基で置換されていてもよいフェニル基とし
ては、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ｐ−エチルフェ
ニル、ｐ−ｎ−プロピルフェニル、ｐ−イソプロピルフ
ェニル、ｐ−ｎ−ブチルフェニル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニル、ｐ−ペンチルフェニル、ｐ−ヘキシルフェ
ニル、ｐ−ヘプチルフェニル、ｐ−オクチルフェニル等
があげられ、Ｒ2及びＲ3は同じでもよく、異なってもよ
い。Ｄ及びＦで表されるアルコキシ基としては、例え
ば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポ
キシ、ｎ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等があげられ
る。Ｅで表されるＣＯＯＲ5のＲ5としてはＲ1及びＲ4と
同様のアルキル基があげられる。Ｅで表されるアルコキ
シ基としてはＤ及びＦについて例示したと同様のアルコ
キシ基があげられる。
基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチ
ル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル等が
あげられる。Ｒ2及びＲ3で表されるアルキル基として
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、ア
ミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル等があげら
れ、アルキル基で置換されていてもよいフェニル基とし
ては、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ｐ−エチルフェ
ニル、ｐ−ｎ−プロピルフェニル、ｐ−イソプロピルフ
ェニル、ｐ−ｎ−ブチルフェニル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニル、ｐ−ペンチルフェニル、ｐ−ヘキシルフェ
ニル、ｐ−ヘプチルフェニル、ｐ−オクチルフェニル等
があげられ、Ｒ2及びＲ3は同じでもよく、異なってもよ
い。Ｄ及びＦで表されるアルコキシ基としては、例え
ば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポ
キシ、ｎ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等があげられ
る。Ｅで表されるＣＯＯＲ5のＲ5としてはＲ1及びＲ4と
同様のアルキル基があげられる。Ｅで表されるアルコキ
シ基としてはＤ及びＦについて例示したと同様のアルコ
キシ基があげられる。
【０００９】本発明の上記一般式（１）で表される化合
物は、前記特開昭５０−１４８３２３号公報記載の合成
方法と同様にして、容易に合成することができる。
物は、前記特開昭５０−１４８３２３号公報記載の合成
方法と同様にして、容易に合成することができる。
【００１０】本発明の上記一般式（１）で表される化合
物としては、下記の化合物Ｎｏ．１から１０等の化合物
が挙げられる。
物としては、下記の化合物Ｎｏ．１から１０等の化合物
が挙げられる。
【００１１】
【化３】
【００１２】
【化４】
【００１３】
【化５】
【００１４】
【化６】
【００１５】
【化７】
【００１６】
【化８】
【００１７】
【化９】
【００１８】
【化１０】
【００１９】
【化１１】
【００２０】
【化１２】
【００２１】本発明における安定性改善の対象となる高
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリ４−メチルペンテン−１等のα−オレフィン重
合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−
プロピレン共重合体等のポリオレフィン及びオレフィン
を含む共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ
フッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸
エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共
重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合
体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等
の含ハロゲン樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチ
レン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及び／
又はα−メチルスチレンと他の単量体（例えば、無水マ
レイン酸、フェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、
ブタジエン、アクリロニトリル等）との共重合体（例え
ば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹
脂等）、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、
ポリエチレンテレフタレート及びポリテトラメチレンテ
レフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオ
キサイド、ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチレン
アジパミド等のポリアミド、ポリカーボネート、分岐ポ
リカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合
成樹脂及びこれらのブレンド物あるいはフェノール樹
脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂をあげることができ
る。更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエ
ン共重合ゴム、エチレン−プロピレン共重合ゴム（ＥＰ
Ｍ）、エチレン−プロピレン−ジエンターポリマー（Ｅ
ＰＤＭ）等のエラストマーであってもよい。
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリ４−メチルペンテン−１等のα−オレフィン重
合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−
プロピレン共重合体等のポリオレフィン及びオレフィン
を含む共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ
フッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸
エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共
重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合
体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等
の含ハロゲン樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチ
レン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及び／
又はα−メチルスチレンと他の単量体（例えば、無水マ
レイン酸、フェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、
ブタジエン、アクリロニトリル等）との共重合体（例え
ば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹
脂等）、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、
ポリエチレンテレフタレート及びポリテトラメチレンテ
レフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオ
キサイド、ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチレン
アジパミド等のポリアミド、ポリカーボネート、分岐ポ
リカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合
成樹脂及びこれらのブレンド物あるいはフェノール樹
脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂をあげることができ
る。更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエ
ン共重合ゴム、エチレン−プロピレン共重合ゴム（ＥＰ
Ｍ）、エチレン−プロピレン−ジエンターポリマー（Ｅ
ＰＤＭ）等のエラストマーであってもよい。
【００２２】本発明は、上記の特定のホルムアミジン系
紫外線吸収剤を高分子材料用の光安定剤として用いるも
のであり、その添加量は特に制限を受けないが、高分子
材料１００重量部に対して通常０．００１〜５重量部、
好ましくは０．０１〜３重量部である。
紫外線吸収剤を高分子材料用の光安定剤として用いるも
のであり、その添加量は特に制限を受けないが、高分子
材料１００重量部に対して通常０．００１〜５重量部、
好ましくは０．０１〜３重量部である。
【００２３】本発明の組成物には、前記一般式（１）で
表される化合物と共に、他の汎用の抗酸化剤、安定剤等
の添加剤を併用することができる。
表される化合物と共に、他の汎用の抗酸化剤、安定剤等
の添加剤を併用することができる。
【００２４】これらの添加剤として特に好ましいものと
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗
酸化剤、ヒンダードアミン系の光安定剤があげられ、特
に、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン化合物に
代表されるヒンダードアミン系の光安定剤は本発明の化
合物と相乗効果を奏するので好ましい。
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗
酸化剤、ヒンダードアミン系の光安定剤があげられ、特
に、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン化合物に
代表されるヒンダードアミン系の光安定剤は本発明の化
合物と相乗効果を奏するので好ましい。
【００２５】上記フェノール系抗酸化剤としては、例え
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオジ
エチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘ
キサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメ
チレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビス
（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−メチ
レンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチル
フェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−
３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコ
ールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブ
チル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチ
リデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキ
シ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−第三
ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三
ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレー
ト、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒド
ロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テ
トラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキ
シ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオジ
エチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘ
キサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメ
チレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビス
（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−メチ
レンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチル
フェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−
３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコ
ールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブ
チル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチ
リデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキ
シ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−第三
ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三
ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレー
ト、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒド
ロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テ
トラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキ
シ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。
【００２６】また、上記硫黄系抗酸化剤としては例え
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類があげられる。
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類があげられる。
【００２７】また、上記ホスファイト系抗酸化剤として
は、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリ
ス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、ト
リス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェ
ニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチ
ルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニル
ホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−ト
リ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェ
ノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，
４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチ
ルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）
−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テ
トラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレ
ンジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ
−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、
テトラ（トリデシル）ビスフェノールＡジホスファイト
等があげられる。
は、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリ
ス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、ト
リス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェ
ニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチ
ルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニル
ホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−ト
リ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェ
ノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，
４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチ
ルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）
−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テ
トラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレ
ンジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ
−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、
テトラ（トリデシル）ビスフェノールＡジホスファイト
等があげられる。
【００２８】また、上記ヒンダードアミン系光安定剤と
しては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、
１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−テトラカルボキシレート、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マ
ロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テト
ラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
ブタンテトラカルボキシレート、テトラ（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラ
カルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラ
カルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテ
トラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチ
ル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニ
ルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサ
スピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−
ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチ
ルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テ
トラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，
１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−
１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１
２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチ
ル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノ
ール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミ
ノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメ
チレンジアミン／ジブロモエタン縮合物等があげられ
る。
しては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、
１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−テトラカルボキシレート、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マ
ロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テト
ラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
ブタンテトラカルボキシレート、テトラ（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラ
カルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラ
カルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテ
トラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチ
ル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニ
ルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサ
スピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−
ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチ
ルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テ
トラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，
１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−
１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１
２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチ
ル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノ
ール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミ
ノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメ
チレンジアミン／ジブロモエタン縮合物等があげられ
る。
【００２９】その他必要に応じて、本発明の組成物には
重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
【００３０】本発明によって安定化された高分子材料
は、例えば、農業用資材、自動車用塗料等の高度の耐光
性が要求される分野に特に有用であり、例えば、フィル
ム、繊維、テープ、シート、各種成型材料、塗料、ラッ
カー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材料における基材
等に用いることができる。
は、例えば、農業用資材、自動車用塗料等の高度の耐光
性が要求される分野に特に有用であり、例えば、フィル
ム、繊維、テープ、シート、各種成型材料、塗料、ラッ
カー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材料における基材
等に用いることができる。
【００３１】
【実施例】次に本発明を実施例によって具体的に説明す
る。
る。
【００３２】本発明で用いられる前記一般式（１）で表
される化合物の具体的な合成例をあげるが、本発明は下
記の合成例によって制限を受けるものではない。
される化合物の具体的な合成例をあげるが、本発明は下
記の合成例によって制限を受けるものではない。
【００３３】（合成例−１） 化合物Ｎｏ．１の合成。 エチル−４−アミノベンゾエート８２．６ｇとトリエチ
ルオルトホルメート１４８．２ｇとを１４５℃に加熱し
て、エタノールを流出させる。反応後、過剰のトリエチ
ルオルトホルメートを減圧で留去する。残渣にパラフェ
ニレンジアミン２７ｇを加え、１９０℃に加熱してエタ
ノールを留去する。反応終了後キシレンを加え、黄色の
結晶を得た。収量７１ｇ、収率６２％融点、２２８℃で
あった。エタノール１００ｍｌに得られた化合物を１ｍ
ｇ溶解して紫外吸収ペクトルを測定した結果、吸収極大
は３４０ｎｍであった。
ルオルトホルメート１４８．２ｇとを１４５℃に加熱し
て、エタノールを流出させる。反応後、過剰のトリエチ
ルオルトホルメートを減圧で留去する。残渣にパラフェ
ニレンジアミン２７ｇを加え、１９０℃に加熱してエタ
ノールを留去する。反応終了後キシレンを加え、黄色の
結晶を得た。収量７１ｇ、収率６２％融点、２２８℃で
あった。エタノール１００ｍｌに得られた化合物を１ｍ
ｇ溶解して紫外吸収ペクトルを測定した結果、吸収極大
は３４０ｎｍであった。
【００３４】（合成例−２） 化合物Ｎｏ．２の合成。 ブチル−４−アミノベンゾエート１１０．６ｇとトリエ
チルオルトホルメート１４８．２ｇとを１４５℃に加熱
して、エタノールを流出させる。反応後、過剰のトリエ
チルオルトホルメートを減圧で留去する。残渣にパラフ
ェニレンジアミン２７ｇを加え、１９０℃に加熱してエ
タノールを留去する。反応終了後キシレンを加え、黄色
の結晶を得た。収量７６ｇ、収率５９％融点、２０３℃
であった。エタノール１００ｍｌに得られた化合物を１
ｍｇ溶解して紫外吸収ペクトルを測定した結果、吸収極
大は３４０ｎｍであった。
チルオルトホルメート１４８．２ｇとを１４５℃に加熱
して、エタノールを流出させる。反応後、過剰のトリエ
チルオルトホルメートを減圧で留去する。残渣にパラフ
ェニレンジアミン２７ｇを加え、１９０℃に加熱してエ
タノールを留去する。反応終了後キシレンを加え、黄色
の結晶を得た。収量７６ｇ、収率５９％融点、２０３℃
であった。エタノール１００ｍｌに得られた化合物を１
ｍｇ溶解して紫外吸収ペクトルを測定した結果、吸収極
大は３４０ｎｍであった。
【００３５】（実施例１）下記の配合により、２５０℃
で押し出し加工してペレットを作成した。次いで、２５
０℃で射出成型して、厚さ２ｍｍの試験片を作成し、黄
色度を測定した。この試験片について、サンシャインウ
エザオメーターを用いて、ブラックパネル温度８３℃、
１２０分中１８分間の降雨サイクルで、耐光性試験を行
った。評価方法はクラックの発生時間の比較で行なっ
た。その結果を次の表−１に示す。
で押し出し加工してペレットを作成した。次いで、２５
０℃で射出成型して、厚さ２ｍｍの試験片を作成し、黄
色度を測定した。この試験片について、サンシャインウ
エザオメーターを用いて、ブラックパネル温度８３℃、
１２０分中１８分間の降雨サイクルで、耐光性試験を行
った。評価方法はクラックの発生時間の比較で行なっ
た。その結果を次の表−１に示す。
【００３６】 〔配合〕 エチレン−プロピレンブロック共重合体（ＭＩ＝８．９） １００重量部 ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ ０．１ フェニル）プロピオネート トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト ０．０５ ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） ０．３ セバケート ステアリン酸カルシウム ０．０５ 試料化合物（表−１参照）
【００３７】
【表１】
【００３８】
【化１３】
【００３９】
【化１４】
【００４０】（実施例２）下記の配合により、２６０℃
で押し出し加工してペレットを作成し、次いで、２６０
℃で射出成型して、厚さ１ｍｍの試験片を作成した。こ
の試験片を用いて、８３℃のサンシャインウェザオメー
ター（雨なし）による耐候性試験行い、４００時間照射
後の色差を測定した。その結果を次の表−２に示した。
で押し出し加工してペレットを作成し、次いで、２６０
℃で射出成型して、厚さ１ｍｍの試験片を作成した。こ
の試験片を用いて、８３℃のサンシャインウェザオメー
ター（雨なし）による耐候性試験行い、４００時間照射
後の色差を測定した。その結果を次の表−２に示した。
【００４１】 〔配合〕 耐熱ＡＢＳ樹脂（α−メチルスチレン共重合体） １００重量部 マグネシウムステアレート ０．４ トリエチレングリコールビス〔（３−第三ブチル−４− ０．２ ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕 ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリ ０．２ トールジホスファイト 二酸化チタン ０．５ ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） ０．３ −１，２，３，４−テトラカルボキシレート 試料化合物（表−２参照）
【００４２】
【表２】
【００４３】（実施例３）下記配合物を７０℃で５分間
ロール上で混練し、１２０℃で５分間プレスして厚さ
０．５ｍｍの試験片を作成した。この試験片を用いて、
フェードメーターで５０時間及び１００時間照射後の伸
び残率を測定した。その結果を表−３に示す。
ロール上で混練し、１２０℃で５分間プレスして厚さ
０．５ｍｍの試験片を作成した。この試験片を用いて、
フェードメーターで５０時間及び１００時間照射後の伸
び残率を測定した。その結果を表−３に示す。
【００４４】 〔配合〕 ポリウレタン樹脂（旭電化工業（株）製Ｕ−１００） １００重量部 バリウムステアレート ０．７ 亜鉛ステアレート ０．３ ２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール ０．１ アデカスタブＬＡ−６２（＊） ０．３ 試料化合物（表−３参照） （＊）旭電化工業（株）製ヒンダードアミン系光安定剤
【００４５】
【表３】
【００４６】（実施例４）下記の配合物を用い、混練ロ
ールにより混練し厚さ０．１ｍｍのフィルムを作成し
た。このフィルムから試験片を切取い、ウェザロメータ
ーによる耐候性試験を行った。その結果を表−４に示
す。
ールにより混練し厚さ０．１ｍｍのフィルムを作成し
た。このフィルムから試験片を切取い、ウェザロメータ
ーによる耐候性試験を行った。その結果を表−４に示
す。
【００４７】 〔配合〕 塩化ビニル樹脂（重合度１，０００） １００重量部 ジオクチルフタレート ４７ トリキシレニルホスフェート ３ 亜鉛ステアレート ０．８ ホスホン酸ノニルフェニルエステルバリウム塩 ０．８ テトラ（トリデシル）ビスフェノールＡジホスファイト ０．８ ビスフェノールＡジグリシジルエーテル ３ メチレンビス（ステアリン酸アミド） ０．５ ソルビタンモノパルミテート ２ ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） ０．５ −１，２，３，４−テトラカルボキシレート 試料化合物（表−４参照）
【００４８】
【表４】
【００４９】
【発明の効果】上記各実施例の結果から、本発明の特定
のホルムアミジン系紫外線吸収剤を用いた場合は、従来
知られていたホルムアミジン系紫外線吸収剤を用いた場
合と比較して安定化効果が著しく大きいことが明らかで
ある。
のホルムアミジン系紫外線吸収剤を用いた場合は、従来
知られていたホルムアミジン系紫外線吸収剤を用いた場
合と比較して安定化効果が著しく大きいことが明らかで
ある。
Claims (1)
- 【請求項１】 高分子材料１００重量部に対して、下記
一般式（１）で表されるホルムアミジン類化合物０．０
０１〜５重量部を添加してなる、耐光性の改善された高
分子材料組成物。 【化１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21513493A JP3312789B2 (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | 耐光性の改善された高分子材料組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21513493A JP3312789B2 (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | 耐光性の改善された高分子材料組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0753776A true JPH0753776A (ja) | 1995-02-28 |
| JP3312789B2 JP3312789B2 (ja) | 2002-08-12 |
Family
ID=16667272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21513493A Expired - Fee Related JP3312789B2 (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | 耐光性の改善された高分子材料組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3312789B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001002631A1 (en) * | 1999-07-02 | 2001-01-11 | Kolon Industries, Inc. | Polyurethaneurea elastic fiber |
| WO2002085977A1 (fr) * | 2001-04-20 | 2002-10-31 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Composition de latex |
| JP2002338746A (ja) * | 2001-05-22 | 2002-11-27 | Denki Kagaku Kogyo Kk | ラテックス組成物 |
-
1993
- 1993-08-06 JP JP21513493A patent/JP3312789B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001002631A1 (en) * | 1999-07-02 | 2001-01-11 | Kolon Industries, Inc. | Polyurethaneurea elastic fiber |
| US6545074B1 (en) | 1999-07-02 | 2003-04-08 | Kolon Industries, Inc. | Polyurethaneures elastic fiber, and a process of preparing the same |
| WO2002085977A1 (fr) * | 2001-04-20 | 2002-10-31 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Composition de latex |
| EP1391481A4 (en) * | 2001-04-20 | 2005-05-11 | Denki Kagaku Kogyo Kk | LATEX COMPOSITION |
| CN1298776C (zh) * | 2001-04-20 | 2007-02-07 | 电气化学工业株式会社 | 胶乳组合物 |
| KR100848524B1 (ko) * | 2001-04-20 | 2008-07-25 | 덴끼 가가꾸 고교 가부시키가이샤 | 라텍스 조성물 |
| JP2002338746A (ja) * | 2001-05-22 | 2002-11-27 | Denki Kagaku Kogyo Kk | ラテックス組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3312789B2 (ja) | 2002-08-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2653681B2 (ja) | 安定化された合成樹脂組成物 | |
| JPH083006B2 (ja) | 安定化されたポリプロピレン系樹脂組成物 | |
| JP2622729B2 (ja) | 耐光性の改善された高分子材料組成物 | |
| JP2762092B2 (ja) | 耐光性の改善された高分子材料組成物 | |
| JP3312789B2 (ja) | 耐光性の改善された高分子材料組成物 | |
| JPH11310667A (ja) | 自動車内外装材 | |
| JPS63196654A (ja) | 安定化高分子材料組成物 | |
| US6555603B1 (en) | Resin composition for agricultural film | |
| JPH04117461A (ja) | 耐光性の改善された高分子材料組成物 | |
| JP2989933B2 (ja) | 耐光性の改善された高分子材料組成物 | |
| JP3015163B2 (ja) | 耐候性の改善された高分子材料組成物 | |
| JPH1180563A (ja) | 合成樹脂組成物 | |
| JPS61176662A (ja) | 安定化高分子材料組成物 | |
| JPH01204965A (ja) | 安定化された合成樹脂組成物 | |
| JPH05117444A (ja) | 耐候性の改善された高分子材料組成物 | |
| JPH06240054A (ja) | 安定化された熱可塑性エラストマー組成物 | |
| JP3565913B2 (ja) | 耐光性の改善された高分子材料組成物 | |
| JPH08151480A (ja) | 耐候性の改善された有機材料組成物 | |
| JP3113741B2 (ja) | 安定化された合成樹脂組成物 | |
| JPS63308068A (ja) | 光安定性の改善された高分子材料組成物 | |
| JP3437593B2 (ja) | 新規な環状ホスホナイト化合物 | |
| JP2908514B2 (ja) | 新規な紫外線吸収剤を含む高分子材料組成物 | |
| JPH05186636A (ja) | 安定化された合成樹脂組成物 | |
| JP2860824B2 (ja) | 耐候性の改善された高分子材料組成物 | |
| JP3256322B2 (ja) | 新規なイソシアヌル酸誘導体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090531 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090531 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120531 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |