JPH0751544B2 - 新規ジアミンの製造法 - Google Patents
新規ジアミンの製造法Info
- Publication number
- JPH0751544B2 JPH0751544B2 JP63160417A JP16041788A JPH0751544B2 JP H0751544 B2 JPH0751544 B2 JP H0751544B2 JP 63160417 A JP63160417 A JP 63160417A JP 16041788 A JP16041788 A JP 16041788A JP H0751544 B2 JPH0751544 B2 JP H0751544B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyimide
- diamine
- propane
- hydroxyphenyl
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は耐熱性樹脂の原料や硬化剤として用いることの
できる新規ジアミンの製造法に関する。
できる新規ジアミンの製造法に関する。
〔従来の技術〕 ポリイミド等の耐熱性樹脂の原料として、例えば、 特開昭62−10051号公報には、下記一般式（II） （ただし、式中、ＸはCOまたはSO2である。）で表わさ
れるジアミンの製造法が示されている。
れるジアミンの製造法が示されている。
また、上記公開公報には、一般式（II）で表わされるジ
アミンと酸二無水物（例えば、ピロメリツト酸二無水
物）とから得られるポリイミドは成形加工性、熱安定性
に優れることが示され、該ポリイミドを成形材料として
利用する例、すなわち該ポリイミドを高温下に圧縮して
成形体を製造する例及び該ポリイミドを接着剤として利
用する例、すなわち該ポリイミドのフイルムをスチール
板ではさみ、高温下に圧縮してスチール板を接着する例
が示されている。
アミンと酸二無水物（例えば、ピロメリツト酸二無水
物）とから得られるポリイミドは成形加工性、熱安定性
に優れることが示され、該ポリイミドを成形材料として
利用する例、すなわち該ポリイミドを高温下に圧縮して
成形体を製造する例及び該ポリイミドを接着剤として利
用する例、すなわち該ポリイミドのフイルムをスチール
板ではさみ、高温下に圧縮してスチール板を接着する例
が示されている。
上記一般式（II）で表わされるジアミンを使用して得ら
れるポリイミドは、上記のとおり熱安定性に優れるとい
う利点を有するが、このことは、換言すれば、該ポリイ
ミドが高いガラス転移点及び高い軟化点を有することで
ある。従つて、該ポリイミドを成形材料として利用する
場合及び接着剤として利用する場合に高温加熱が必要で
ある。よつて該ポリイミドは比較的低温での加熱が必要
な場合には、実用的な材料とならない。また、該ポリイ
ミドは有機溶剤への溶解性に劣る。
れるポリイミドは、上記のとおり熱安定性に優れるとい
う利点を有するが、このことは、換言すれば、該ポリイ
ミドが高いガラス転移点及び高い軟化点を有することで
ある。従つて、該ポリイミドを成形材料として利用する
場合及び接着剤として利用する場合に高温加熱が必要で
ある。よつて該ポリイミドは比較的低温での加熱が必要
な場合には、実用的な材料とならない。また、該ポリイ
ミドは有機溶剤への溶解性に劣る。
このようにポリイミドの性質は、その原料（ジアミン）
によつて決定される面があり、このことから、上記の問
題点を解決するために、新規な原料（ジアミン）の開発
が望まれる。
によつて決定される面があり、このことから、上記の問
題点を解決するために、新規な原料（ジアミン）の開発
が望まれる。
本発明は、4,4′ジハロゲノベンゾフエノン及び／又は
4,4′−ジハロゲノジフエニルスルホンと２−（３−ヒ
ドロキシフエニル）−２−（４′−アミノフエニル）プ
ロパンとを塩基の存在下、非プロトン性極性溶媒中で反
応させることを特徴とする一般式（Ｉ） （ただし、式中、ＸはＣ＝０又はSO2である）で表
わされる新規ジアミンの製造法に関する。
4,4′−ジハロゲノジフエニルスルホンと２−（３−ヒ
ドロキシフエニル）−２−（４′−アミノフエニル）プ
ロパンとを塩基の存在下、非プロトン性極性溶媒中で反
応させることを特徴とする一般式（Ｉ） （ただし、式中、ＸはＣ＝０又はSO2である）で表
わされる新規ジアミンの製造法に関する。
本発明に用いることのできる4,4′−ジハロゲノベンゾ
フエノンとしては4,4′−ジクロロベンゾフエノン、4,
4′−ジフルオロベンゾフエノン、4,4′−ジブロモベン
ゾフエノン等であり、収率の点からは4,4′−ジフルオ
ロベンゾフエノンが好ましく、工業的には4,4′−ジク
ロロベンゾフエノンが好ましい。4,4′−ジハロゲノジ
フエニルスルホンとしては4,4′−ジクロロジフエニル
スホン、4,4′−ジフルオロジフエニルスルホン、4,4′
−ジブロモジフエニルスルホン等を用いることができ、
工業的には4,4′−ジクロロジフエニルスルホンが好ま
しい。
フエノンとしては4,4′−ジクロロベンゾフエノン、4,
4′−ジフルオロベンゾフエノン、4,4′−ジブロモベン
ゾフエノン等であり、収率の点からは4,4′−ジフルオ
ロベンゾフエノンが好ましく、工業的には4,4′−ジク
ロロベンゾフエノンが好ましい。4,4′−ジハロゲノジ
フエニルスルホンとしては4,4′−ジクロロジフエニル
スホン、4,4′−ジフルオロジフエニルスルホン、4,4′
−ジブロモジフエニルスルホン等を用いることができ、
工業的には4,4′−ジクロロジフエニルスルホンが好ま
しい。
本発明において、4,4′−ジハロゲノベンゾフエノン又
は4,4′−ジハロゲノジフエニルスルホンの反応の相手
は、２−（３−ヒドロキシフエニル）−２−（４′−ア
ミノフエノキシ）プロパンであるが、これと共にこれの
異性体である２−（４−ヒドロキシフエニル）−２−
（４′−アミノフエノキシ）プロパン及び／又は２−
（２−ヒドロキシフエニル）−２−（４′−アミノフエ
ノキシ）プロパンを使用してもよい。この場合には、一
般式（Ｉ）で表わされるジアミン以外に、 又は で表わされるジアミン（ただし、上記式中、Ｘは、一般
式（Ｉ）に同じ）及び場合により一般式（II）で表わさ
れるジアミン等が一般式（Ｉ）で表わされる化合物と同
時に生成し、得られたジアミン混合物は、このまま、ポ
リイミド等の耐熱性樹脂の原料、エポキシ樹脂の硬化剤
などに使用することができる。
は4,4′−ジハロゲノジフエニルスルホンの反応の相手
は、２−（３−ヒドロキシフエニル）−２−（４′−ア
ミノフエノキシ）プロパンであるが、これと共にこれの
異性体である２−（４−ヒドロキシフエニル）−２−
（４′−アミノフエノキシ）プロパン及び／又は２−
（２−ヒドロキシフエニル）−２−（４′−アミノフエ
ノキシ）プロパンを使用してもよい。この場合には、一
般式（Ｉ）で表わされるジアミン以外に、 又は で表わされるジアミン（ただし、上記式中、Ｘは、一般
式（Ｉ）に同じ）及び場合により一般式（II）で表わさ
れるジアミン等が一般式（Ｉ）で表わされる化合物と同
時に生成し、得られたジアミン混合物は、このまま、ポ
リイミド等の耐熱性樹脂の原料、エポキシ樹脂の硬化剤
などに使用することができる。
低温成形性の優れた耐熱性樹脂の原料とするためには、
２−（３−ヒドロキシフエニル）−２−（４′−アミノ
フエノキシ）プロパンが全２−（ヒドロキシフエニル）
−２−（４′−アミノフエノキシ）プロパンに対して50
モル％以上であるのが好ましく、特に75モル％以上であ
るのが好ましい。
２−（３−ヒドロキシフエニル）−２−（４′−アミノ
フエノキシ）プロパンが全２−（ヒドロキシフエニル）
−２−（４′−アミノフエノキシ）プロパンに対して50
モル％以上であるのが好ましく、特に75モル％以上であ
るのが好ましい。
２−（ヒドロキシフエニル）−２−（４−アミノフエニ
ル）プロパンの使用量はジハロゲノベンゾフエノンまた
はジハロゲノジフエニルスルホンに対して２倍モル以上
であり、２〜３倍モル量が好ましい。
ル）プロパンの使用量はジハロゲノベンゾフエノンまた
はジハロゲノジフエニルスルホンに対して２倍モル以上
であり、２〜３倍モル量が好ましい。
本発明に用いることのできる塩基としては、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウムなどの水酸化アルカリ、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩、
炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ
金属の炭酸水素塩、カリウムエトキシド、ナトリウムメ
トキシド等のアルカリ金属のアルコキシド類である。こ
れらの塩基の使用量は２−（ヒドロキシフエニル）−２
−（４−アミノフエニル）プロパンに対してほぼ当モル
であり、0.9〜1.2倍モル量が好ましく、0.9〜1.0倍モル
量が特に好ましい。
ウム、水酸化ナトリウムなどの水酸化アルカリ、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩、
炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ
金属の炭酸水素塩、カリウムエトキシド、ナトリウムメ
トキシド等のアルカリ金属のアルコキシド類である。こ
れらの塩基の使用量は２−（ヒドロキシフエニル）−２
−（４−アミノフエニル）プロパンに対してほぼ当モル
であり、0.9〜1.2倍モル量が好ましく、0.9〜1.0倍モル
量が特に好ましい。
本発明に用いることのできる非プロパン性極性溶媒とし
ては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド、1,3−ジメチル−２−イミダゾリドン等であり、使
用量は通常、原料の１〜10倍量である。これらの溶媒に
トルエン、ベンゼン、キシレン、クロルベンゼン等水と
共沸する溶媒を混合して用いることもできる。
ては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド、1,3−ジメチル−２−イミダゾリドン等であり、使
用量は通常、原料の１〜10倍量である。これらの溶媒に
トルエン、ベンゼン、キシレン、クロルベンゼン等水と
共沸する溶媒を混合して用いることもできる。
反応温度は通常100〜250℃であり、120〜200℃が好まし
い。反応時間は用いる原料、溶媒によつて異なるが、生
成物を液体クロマトグラフイーなどで確認しながら、反
応終結まで行えばよい。
い。反応時間は用いる原料、溶媒によつて異なるが、生
成物を液体クロマトグラフイーなどで確認しながら、反
応終結まで行えばよい。
本発明において触媒として、クラウンエーテル、クリプ
タンド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ールアルキルエーテル、４級アンモニウム塩、４級ホス
ホニウム塩等を用いてもよい。
タンド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ールアルキルエーテル、４級アンモニウム塩、４級ホス
ホニウム塩等を用いてもよい。
本発明における一般的な方法としては２−（ヒドロキシ
フエニル）−２−（アミノフエノキシ）プロパン、塩
基、溶媒を反応容器に入れ加熱し、フエノール塩とした
後、ジハロゲノベンゾフエノンまたはジハロゲノジフエ
ニルスルホンを加えて反応させるか、全原料を初めから
同時に加えて反応させるかいずれかの方法によつてもよ
い。また、反応によつて系内に水が生成する場合には、
窒素ガス等を吹き込む方法、水と共沸する溶剤を加えて
共沸させる方法等によつて水を除去するのが好ましい。
フエニル）−２−（アミノフエノキシ）プロパン、塩
基、溶媒を反応容器に入れ加熱し、フエノール塩とした
後、ジハロゲノベンゾフエノンまたはジハロゲノジフエ
ニルスルホンを加えて反応させるか、全原料を初めから
同時に加えて反応させるかいずれかの方法によつてもよ
い。また、反応によつて系内に水が生成する場合には、
窒素ガス等を吹き込む方法、水と共沸する溶剤を加えて
共沸させる方法等によつて水を除去するのが好ましい。
反応が終了した後、反応液を水中に注いで生成物を沈殿
させる方法、塩をろ過して除いた後、濃縮するか、ある
いは水で再沈する方法等によつて目的の化合物を得るこ
とができる。
させる方法、塩をろ過して除いた後、濃縮するか、ある
いは水で再沈する方法等によつて目的の化合物を得るこ
とができる。
本発明によつて得られるジアミンはポリイミド、ポリア
ミド、ポリマレイミド等耐熱樹脂の原料として用いられ
るばかりでなく、エポキシ樹脂等の硬化剤としても用い
ることができる。
ミド、ポリマレイミド等耐熱樹脂の原料として用いられ
るばかりでなく、エポキシ樹脂等の硬化剤としても用い
ることができる。
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明
はこれらの範囲に限定されるものではない。
はこれらの範囲に限定されるものではない。
実施例１ 冷却管温度計、撹拌機、窒素ガス導入管を備えた４つ口
フラスコに、２−（３−ヒドロキシフエニル）−２−
（４′−アミノフエニル）プロパン45.4g、ジメチルス
ルホキシド100ml、クロルベンゼン120mlを加え室温で溶
解した後水酸化カリウム13gを同量の水に溶解した水溶
液を加えた。窒素ガスを流しながら加熱攪拌し、水を溜
出させた。水の溜出がとまつた後、温度を100℃に下
げ、4,4′−ジフルオロベンゾフエノン21.8gを加え、16
5℃で４時間反応させた。室温まで冷却し、沈殿をろ過
して除いた後、水中に注ぎ粗生成物を得た。粗生成物を
トルエン−ヘキサン混合溶媒より再結晶し、目的の化合
物4,4′−ビス〔３−（４−アミノ−α，α′−ジメチ
ルベンジル）フエノキシ〕ジフエニルケトンを得た。収
量45.5g、融点107〜111℃。液体クロマトグラフイー
（カラム：東ソー（株）TSK Gel G2000H及びG3000Hを連
結溶離液テトラヒドロフラン）による純度99.0％（面積
比）であつた。
フラスコに、２−（３−ヒドロキシフエニル）−２−
（４′−アミノフエニル）プロパン45.4g、ジメチルス
ルホキシド100ml、クロルベンゼン120mlを加え室温で溶
解した後水酸化カリウム13gを同量の水に溶解した水溶
液を加えた。窒素ガスを流しながら加熱攪拌し、水を溜
出させた。水の溜出がとまつた後、温度を100℃に下
げ、4,4′−ジフルオロベンゾフエノン21.8gを加え、16
5℃で４時間反応させた。室温まで冷却し、沈殿をろ過
して除いた後、水中に注ぎ粗生成物を得た。粗生成物を
トルエン−ヘキサン混合溶媒より再結晶し、目的の化合
物4,4′−ビス〔３−（４−アミノ−α，α′−ジメチ
ルベンジル）フエノキシ〕ジフエニルケトンを得た。収
量45.5g、融点107〜111℃。液体クロマトグラフイー
（カラム：東ソー（株）TSK Gel G2000H及びG3000Hを連
結溶離液テトラヒドロフラン）による純度99.0％（面積
比）であつた。
このジアミンの分析結果は次のとおりである。
（１）元素分析値（％）C43H40N2O3 Ｃ Ｈ N 計算値 81.65 6.33 4.43 実測値 81.57 6.41 4.32 （２）赤外線吸収スペクトル（IR）の吸収位置（KBr錠
剤法、cm-1） 3460,3390 （アミノ基） 2970,2870 （メチル基） 1600 （カルボニル基） 1250 （エーテル基） （３）核磁気共鳴（NMR）のスペクトル位置（DMSO−d6,
ppm） 1.57 （12H−重線） 4.86 （4H−重線） 6.4〜7.8 （24H 多重線） 注）DMSOはジメチルスルホキシドを意味する。
剤法、cm-1） 3460,3390 （アミノ基） 2970,2870 （メチル基） 1600 （カルボニル基） 1250 （エーテル基） （３）核磁気共鳴（NMR）のスペクトル位置（DMSO−d6,
ppm） 1.57 （12H−重線） 4.86 （4H−重線） 6.4〜7.8 （24H 多重線） 注）DMSOはジメチルスルホキシドを意味する。
実施例２ 冷却管温度計、撹拌機、窒素ガス導入管を備えた４つ口
フラスコに２−（３−ヒドロキシフエニル）−２−
（４′−アミノフエニル）プロパン68.1g、ジメチルス
ルホキシド150ml、クロルベンゼン180ml、4,4′−ジク
ロルジフエニルスルホン40.75g、無水炭酸カリウム20.5
gを仕込み窒素ガス通気下に加熱攪拌し、水を溜出させ
た。165℃で４時間反応させた後、室温まで冷却した。
反応液を水中に注いで粗生成物を得た。ベンゼン−ヘキ
サン混合溶媒で再結晶して目的の化合物4,4′−ビス
〔３−（４−アミノ−α，α′−ジメチルベンジル）フ
エノキシ〕ジフエニルスルホン71.1gを得た。融点67〜7
0℃、液体クロマトグラフイーによる純度は99.4％であ
つた。
フラスコに２−（３−ヒドロキシフエニル）−２−
（４′−アミノフエニル）プロパン68.1g、ジメチルス
ルホキシド150ml、クロルベンゼン180ml、4,4′−ジク
ロルジフエニルスルホン40.75g、無水炭酸カリウム20.5
gを仕込み窒素ガス通気下に加熱攪拌し、水を溜出させ
た。165℃で４時間反応させた後、室温まで冷却した。
反応液を水中に注いで粗生成物を得た。ベンゼン−ヘキ
サン混合溶媒で再結晶して目的の化合物4,4′−ビス
〔３−（４−アミノ−α，α′−ジメチルベンジル）フ
エノキシ〕ジフエニルスルホン71.1gを得た。融点67〜7
0℃、液体クロマトグラフイーによる純度は99.4％であ
つた。
このジアミンの分析結果は次のとおりである。
（１）元素分析値 C42H40N2O4S Ｃ Ｈ Ｎ S 計算値 75.45 5.99 4.19 4.79 実測値 75.18 6.03 4.02 4.66 （２）IRの吸収位置（KBr錠剤法、cm-1） 3450,3390 （アミノ基） 2970,2870 （メチル基） 1290 1110 （スルホニル基） 1250 （エーテル基） （３）NMRのスペクトル位置（DMSO−d6,ppm） 1.55 （12H−重線） 4.87 （4H−重線） 6.4〜8.0 （24H 多重線） 応用例１ 攪拌機、温度計、窒素ガス導入管、下向き冷却管を備え
た４つ口フラスコに実施例１で得られた4,4′−ビス
〔３−（４−アミノ−α，α′−ジメチルベンジル）フ
エノキシ〕ベンゾフエノン3.16gとビスフエノールＡビ
ストリメリテート二無水物2.88g、Ｎ−メチルピロリド
ン（NMR）15ml、亜リン酸トリフエニル0.2gを入れ窒素
ガスを流しながら200℃で５時間反応させてポリイミド
ワニスを得た。このワニスを水に注いで再沈し、粉砕、
乾燥してポリイミド粉末を得た。このポリイミドは、還
元粘度（DMF中、濃度0.1g/dl、温度30℃）が0.47dl/g、
軟化点（荷重10kg/cm2で高化式フローテスタ）が165
℃、５％重量減少温度が437℃であり、ジメチルホルム
アミド（DMF）Ｎ−メチルピロリドン（NMP）ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン及び塩化メチレンそれぞれに、
室温で可溶であつた（ポリイミドの濃度５重量％）。
た４つ口フラスコに実施例１で得られた4,4′−ビス
〔３−（４−アミノ−α，α′−ジメチルベンジル）フ
エノキシ〕ベンゾフエノン3.16gとビスフエノールＡビ
ストリメリテート二無水物2.88g、Ｎ−メチルピロリド
ン（NMR）15ml、亜リン酸トリフエニル0.2gを入れ窒素
ガスを流しながら200℃で５時間反応させてポリイミド
ワニスを得た。このワニスを水に注いで再沈し、粉砕、
乾燥してポリイミド粉末を得た。このポリイミドは、還
元粘度（DMF中、濃度0.1g/dl、温度30℃）が0.47dl/g、
軟化点（荷重10kg/cm2で高化式フローテスタ）が165
℃、５％重量減少温度が437℃であり、ジメチルホルム
アミド（DMF）Ｎ−メチルピロリドン（NMP）ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン及び塩化メチレンそれぞれに、
室温で可溶であつた（ポリイミドの濃度５重量％）。
応用例２ 攪拌機、温度計、塩化カルシウム管、窒素ガス導入管の
ついた４つ口フラスコに実施例２で得られた4,4′−ビ
ス〔３−（４−アミノ−α，α′−ジメチルベンジル）
フエノキシ）ジフエニルスルホン3.34gとN,N−ジメチル
ホルムアミド（DMF）20mlを入れ溶解する。５℃以下に
冷却しながらビスフエノールＡビストリメリテート二無
水物2.88gを少しずつ加えた後、５℃以下で３時間室温
で、１時間反応させてポリアミド酸ワニスを得た。この
ワニスに無水酢酸1.3g、ピリジン1.0gを加え室温で３時
間反応させてポリイミドワニスを得た。このワニスを水
に注いで再沈し、粉砕、乾燥してポリイミド粉末を得
た。このポリイミドは、還元粘度（DMF中、濃度0.1g/d
l、温度30℃）が0.33dl/g軟化点 （荷重10kg/cm2で高化式フローテスタ）は162℃であつ
た。このポリイミド粉末は室温でDMF、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、塩化メチレンそれぞれに室温で可溶
であつた（ポリイミド５重量％濃度）。また５％重量減
少温度は432℃であつた。
ついた４つ口フラスコに実施例２で得られた4,4′−ビ
ス〔３−（４−アミノ−α，α′−ジメチルベンジル）
フエノキシ）ジフエニルスルホン3.34gとN,N−ジメチル
ホルムアミド（DMF）20mlを入れ溶解する。５℃以下に
冷却しながらビスフエノールＡビストリメリテート二無
水物2.88gを少しずつ加えた後、５℃以下で３時間室温
で、１時間反応させてポリアミド酸ワニスを得た。この
ワニスに無水酢酸1.3g、ピリジン1.0gを加え室温で３時
間反応させてポリイミドワニスを得た。このワニスを水
に注いで再沈し、粉砕、乾燥してポリイミド粉末を得
た。このポリイミドは、還元粘度（DMF中、濃度0.1g/d
l、温度30℃）が0.33dl/g軟化点 （荷重10kg/cm2で高化式フローテスタ）は162℃であつ
た。このポリイミド粉末は室温でDMF、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、塩化メチレンそれぞれに室温で可溶
であつた（ポリイミド５重量％濃度）。また５％重量減
少温度は432℃であつた。
本発明の製造方法により、新規ジアミンが収率よく製造
でき、該ジアミンは耐熱性樹脂の原料、エポキシ樹脂の
硬化剤等に有用であり、該ジアミンを使用して得られる
ポリイミドは有機溶剤に可溶であつて低軟化点を示す。
でき、該ジアミンは耐熱性樹脂の原料、エポキシ樹脂の
硬化剤等に有用であり、該ジアミンを使用して得られる
ポリイミドは有機溶剤に可溶であつて低軟化点を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 317/22 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０８Ｇ 73/10 ＮＴＦ
Claims (1)
- 【請求項１】4,4′−ジハロゲノベンゾフエノン及び／
又は4,4′−ジハロゲノジフエニルスルホンと２−（３
−ヒドロキシフエニル）−２−（４′−アミノフエニ
ル）プロパンとを塩基の存在下、非プロトン性極性溶媒
中で反応させることを特徴とする一般式（Ｉ） （ただし、式中、ＸはＣ＝０又はSO2である）で表
わされる新規ジアミンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63160417A JPH0751544B2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 新規ジアミンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63160417A JPH0751544B2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 新規ジアミンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH029847A JPH029847A (ja) | 1990-01-12 |
| JPH0751544B2 true JPH0751544B2 (ja) | 1995-06-05 |
Family
ID=15714477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63160417A Expired - Lifetime JPH0751544B2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 新規ジアミンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0751544B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4743732B2 (ja) * | 1999-04-09 | 2011-08-10 | 株式会社カネカ | 線材被覆用接着性積層フィルム |
| JP5217345B2 (ja) * | 2007-10-05 | 2013-06-19 | 大日本印刷株式会社 | フォトマスクおよびフォトマスクブランクス |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP63160417A patent/JPH0751544B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH029847A (ja) | 1990-01-12 |
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