JPS61205232A - 3,4−ジカルボキシジフエニルエ−テル及びその製造方法 - Google Patents

3,4−ジカルボキシジフエニルエ−テル及びその製造方法

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JPS61205232A
JPS61205232A JP4691685A JP4691685A JPS61205232A JP S61205232 A JPS61205232 A JP S61205232A JP 4691685 A JP4691685 A JP 4691685A JP 4691685 A JP4691685 A JP 4691685A JP S61205232 A JPS61205232 A JP S61205232A
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JP
Japan
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ether
acid
dicarboxydiphenyl ether
producing
resins
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Yutaka Kobayashi
豊 小林
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ポリイミド樹脂の七ツマ−として使用できる
3、4−ジカルボキシジフェニルエーテル及びその製造
方法に関するものである。
従来から、ポリイミド樹脂は、その耐熱性及び耐久性の
良さから、エンジニアリングプラスチックその他種々の
用途に使用されてきた。特に、耐熱性においては、他の
プラスチックとは比較にならない程優れており、通常3
00℃程度までは安定である。
このポリイミド樹脂のモノマーとしては、従来から種々
のものが研究され、使用されているが、その構造からカ
ルボキシル基を4つ有するものである必要がある。これ
は、七ツマ−の両端でイミド結合するために必須であ′
るためである。
例えば、ジェレンを酸化して得られる1、2.4.5テ
トラカルボキシベンゼン等が使用されている。
しかしながら、最近この従来のポリイミド樹脂が有する
もの以上の耐熱性を要求される需要が出現してきている
。これは、従来は金属でなければならないとされてきた
分野のもの等である。このような場合、従来のポリイミ
ド樹脂では耐熱性が足りず、より優れた耐熱性を有する
ポリイミド樹脂の出現が要望されていた。
このような状況に鑑み、本発明者は鋭意研究の結果、本
発明の新規物質を七ツマ−として合成したポリイミド樹
脂が非常に優れた効果を有することを見いだし、本発明
を完成させた。
本発明は、 で示される化合物である。
本発明化合物はの合成方法としては、次の3つの方法が
ある。
第1は、無水モノブロムフタール酸を水酸化カリウム及
び触媒で処理した後、塩酸等で中和する方法である。
詳しくは、無水モノプロムフタール酸(100重量部)
を金属銅(0゜1〜0.3重量部)等の触媒の存在下高
温(100℃以上)で、水酸化カリウム等の苛性アルカ
リ (50%水溶液として20〜50重量部)で、2時
間程度保持し常温まで冷却する。それを塩酸等の酸で中
和し、その後洗浄して分取するものである。
この銅触媒はこれに限らず、通常のエーテル化触媒でよ
い。また、アルカリも水酸化カリウムに限らずどのよう
なものでもよく、濃度も適宜定めればよい。無水モノブ
ロムフタール酸も、無水でなくともよい。
この場合、純粋のモノブロムフタール酸が望ましいが、
ジブロムフタール酸やトリプロムフタール酸等が混入し
ていてもよい。
第2は、キシレノール(ジメチルフェノール)(1モル
)を水酸化ナトリウム等のアルカリ(0,5〜1.0モ
ル)で、ジメチルジフェニルナトリウム等のフェノール
アルカリを製造し、一方キシレノールを塩化第−銅及び
塩化第二鉄(0,01〜0.8重量部)を加え、臭素等
のハロゲンを0.05〜0.1モルを2時間程度で添加
反応させて、3.4−ジメチルジ−6−ハロゲンフェニ
ルを製造し、その両者を塩化第二#;4(0,01〜0
.8重量部)等のエーテル化触媒の存在化で140〜1
60℃で約2時間、高圧下(40Kg/cli程度)で
、エーテル化させ、3.4−ジカルボキシジフェニルエ
ーテルを製造する。その次に酢酸溶媒中で170〜20
0℃程度、高圧で酸化触媒として臭素を0.003〜0
.1モル及び酸化クロム、酸化ニッケルを使用して酸化
させる。
この場合のハロゲンフェニルのハロゲンとしては臭素が
望ましいが塩素等信のものでもよい。
ここでいうエーテル化触媒も通常のものでよく酸化剤も
酢酸に限らず、通常の酸化剤例えば、重クロム酸等でよ
い。
第3は、ピリジン(1モル)に、塩化第二銅の存在下、
純水(1〜3モル)を加え、140〜160℃の温度で
、500〜800緘/sinで空気を吹き込み、ピリジ
ンの錯化合物を製造する。これを、酢酸溶媒中で、17
0〜200℃、20〜50Kg/−で、酸化触媒として
臭素を0.003〜0.1モル及び酸化ニッケル、酸化
クロムの混合物を、両者の混合比1〜6程度にし、0.
01〜0.8%重量部を加えて、開環反応させて、3,
4−ジメチルジフェニルエーテルを製造するものである
本発明の3,4−ジカルボキシジフェニルエーテルを用
いて、ポリイミド樹脂を製造する方法について説明する
3.4−ジカルボキシジフェニルエーテルを芳香族ジア
ミンとジメチルアセトアミド中で混合し、開環付加反応
を起こさしめ、ポリアミド重合物(プレポリマー)を製
造する。重合物の平均分子量は13.000〜55,0
00である。この重合物は、乾燥した密閉容器内で一1
5℃で長期間保存することができる。
このプレポリマーの溶液を、流延して!!!膜した後3
00℃まで昇温しながら、1時間加熱すると環化脱水反
応が起こり、橙色のポリイミドフィルムが生成する。
このポリイミドフィルムは、soo を以下に融点及び
ガラス転移点がな(、空気中420 ’eまでまったく
安定である。よって、従来のポリイミド樹脂よりさらに
耐熱性が優れている。また、化工性がよく種々の成形が
容易である。これらのことがら本重合体が、最近需要が
増大し、その改良が叫ばれているエンジニアリングプラ
スチックとしても最適である。
また、この例では本発明3.4−ジカルボキシジフェニ
ルエーテルをポリイミド樹脂のモノマーとして使用した
が、これは同様に、芳香族ポリアミド樹脂、芳香族ポリ
エステル樹脂、トリアジン樹脂ポリバラパニック酸樹脂
等のモノマーとして使用できるものである。
実施例1 無水モノプロムフクール酸297gを容器中で水酸化カ
リウム50%水溶液89g、金属銅0.5gを加え10
0℃以上で2時間保持した後、常温まで冷却する。そし
て、それに35%の塩酸28.5g 、水44.5gを
添加して中和する。これを水で洗浄し、3,4−ジカル
ボキシジフェニルエーテルを分取し、再度水で洗浄した
後、水/エタノール同重量部より成る混合物で再度洗浄
し、乾燥すると417gの3,4−ジカルボキシジフェ
ニルエーテルが得られた。その融点は265〜275℃
であった。
実施例2 攪拌器付きの耐圧密閉容器内で、キシレノール244重
量部、水酸化ナトリウム46@量部を120〜140℃
に加熱して2時間保持する。続いて、塩化第一鉄6.1
重量部、塩化第二鉄6.1重量部、臭素15.9重量部
を添加し、次に塩化第二#8.1重量部を添加して、1
40〜160 ℃テ2時間空気圧40Kg/−でエーテ
ル化させる。続いて、この反応混合物に、酢酸250 
!1部、臭素6.1重量部、酸化触媒として酸化クロム
と塩化ニッケルを焼成した酸化ニッケルの混合比1対1
の混合物を6.1重量部を加え、170〜200℃、4
0Kg/−の空気圧を与えて2時間反応させる。その後
、常温、常圧に冷却して、水で洗浄して、3,4−ジカ
ルボキシジフェニルエーテルの結晶を分取し、再び水で
洗浄し、水/エタノール同重量部よりなる混合物で洗浄
し乾燥させる。収率は65%であった。
3.4−ジカルボキシジフェニルエーテルの性状として
、融点が265〜275℃で、酸価(KOHmg/g 
)は659であった。
実施例3 実施例2と同様の装置に、キシレノール244重量部、
水酸化カリウム47重量部を100〜120℃に加熱し
て、2時間保持する。続いて、塩化第一鉄2.4M量部
、塩化第二鉄2.4重量部、臭素15.9重量部を添加
する。次に塩化第二銅6.1重量部を添加して、140
〜160℃、2時間、空気圧32Kg / c+jでエ
ーテル化させる。続いて、この反応混合物に酢酸250
重量部、臭素15.9重量部、酸化触媒として酸化クロ
ムと塩化ニッケルを焼成して作った酸化ニッケルの混合
比1対2の混合物を6.1重量部加えて、170〜20
0℃、40Kg/crAの空気圧で2時間反応させる。
そして、室温、大気圧に戻し、冷却する。その後、水で
洗浄して、3.4−ジカルボキシジフェニルエーテルの
結晶を分取し、再度水で洗浄して、引続き水/エタノー
ル同重量部よりなる混合物で、洗浄し乾燥する。収率は
、47%であった。得られた3、4−ジカルボキシジフ
ェニルエーテルの融点は、265〜275℃で、酸価は
656であり、純度は96.4%であった。
この場合、製造途中での3,4−ジメチルジフェニルエ
ーテルの同定はエーテル化触媒として使用した塩化第一
鉄、塩化第二鉄、塩化第二銅及び臭素のいずれもが水に
可溶であることに着目して温水でエーテル化反応終了段
階の反応混合物を洗浄して行なった。その融点は、15
5〜165℃であった。
実施例4 実施例2と同様の装置で塩化第二銅130重量部に、ピ
リジン474重量部を添加して、続いて純水を2モル加
えて、140〜160℃に昇温し、空気を325 +a
a/lll1nで吹き込みながら、4時間反応させる。
そして、水で洗浄して、3.4−ジメチルジフェニルエ
ーテルの結晶を分取し、再度水で洗浄、乾燥する。得ら
れた3、4−ジメチルジフェニルエーテルは、118g
で原料として使用したピリジンの25%に相当する。
続いて、得られた3、4−ジメチルジフェニルエーテル
118gと酢酸150g 、臭素7.08g、酸化触媒
として酸化クロムと塩化ニッケルを焼成して製造した酸
化ニッケルの混合比1対1の混合物6.1重量部を加え
て、170〜200℃、40Kg/catの空気圧を与
えて、2時間反応させる。その後、常温、常圧に戻し、
水で洗浄して、3.4−ジカルボキシジフェニルエーテ
ルの結晶を分取する。続いて、再び水で洗浄した後、水
/エタノール同重量部よりなる混合物で洗浄して、乾燥
させる。この収量は62gで、性状値としては、融点2
65〜275℃、酸価654で、純度が96%であった

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物。 2、モノブロムフタール酸を、触媒の存在下でアルカリ
    処理した後、酸で中和することを特徴とする3,4−ジ
    カルボキシジフェニルエーテルの製造方法。 3、反応を100℃以上で行わせるものである特許請求
    の範囲第2項記載の3,4−ジカルボキシジフェニルエ
    ーテルの製造方法。 4、ヒドロキシキシレンを水酸化アルカリ及びハロゲン
    で処理して得られる、ジメチルジフェニルアルカリ及び
    3,4−ジメチル−θ−ハロゲン化ベンゼンを、エーテ
    ル化触媒の存在化で反応させて得られる3,4−ジメチ
    ルジフェニルエーテルを酸化剤で酸化することを特徴と
    する3,4−ジカルボキシジフェニルエーテルの製造方
    法。 5、酸化剤は酢酸溶液である特許請求の範囲第4項記載
    の3,4−ジカルボキシジフェニルエーテルの製造方法
    。 6、ピリジンを銅化合物の存在下、空気を吹き込み得ら
    れる錯化合物を開環し3,4−ジメチル−5−オキシフ
    ェニルインイオンを製造し、それを二量化した3,4−
    ジメチルフェニルエーテルを酸化剤で酸化することを特
    徴とする3,4−ジカルボキシジフェニルエーテルの製
    造方法。 7、酸化剤は酢酸溶液である特許請求の範囲第6項記載
    の3,4−ジカルボキシジフェニルエーテルの製造方法
JP4691685A 1985-03-08 1985-03-08 3,4−ジカルボキシジフエニルエ−テル及びその製造方法 Pending JPS61205232A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4697023A (en) * 1986-10-03 1987-09-29 Occidental Chemical Corporation Process for the preparation of oxy-diphthalic anhydrides
GB2280183A (en) * 1993-07-20 1995-01-25 Kobe Steel Europ Ltd Production of polyetherimides
JP2010189295A (ja) * 2009-02-17 2010-09-02 Air Water Inc ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物の製造方法
CN116621797A (zh) * 2023-05-24 2023-08-22 天津众泰材料科技有限公司 一种4,4'-联苯醚二酐的制备方法

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