JPH07509322A

JPH07509322A - 基板の処理

Info

Publication number: JPH07509322A
Application number: JP6503091A
Authority: JP
Inventors: サッチャー，レンフォード　ジョン
Original assignee: コーツ　ブラザーズ　ピーエルシー
Priority date: 1992-07-14
Filing date: 1993-07-05
Publication date: 1995-10-12
Also published as: EP0650657A1; GB2269385A; WO1994001985A1; GB9214937D0

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】基板の処理本発明は基板の処理及びその改良に関する。本発明は、それに限定されることはないか、特にプリン］・回路基板等の製造に使用される硬化性被膜組成物の利用に係る。

硬化性組成物は、電子産業、プリント回路基板等の製造において、メッキ、エツチング、ハンダ付は等の後の処理を容易に行い、後の処理の作業の領域を画成するためパターン状の形状で基板に塗布される所謂「レジスト」として広範に使用されている。上記組成物は、適当な印刷処理、特に、スクリーン印刷処理を用いてパターン状の形状で基板に塗布し、次いて、基板上で硬化させてもよい。

或いは、光硬化性組成物である所謂「ホトレジスト」を利用してもよく、この光硬化性組成物は、基板上に塗布され、放射線にさらされたレジストの一部を硬化させるためパターン状のマスクを通る適当な放射線に像の形にさらされ、基板上に硬化した材料のパターン状の像を形成するため後に（材料の硬化していない部分を取り除くことにより）「現像される」。

光硬化性組成物は、一般的に、電磁放射線にさらされる際に硬化、或いは、ポリマー化し得る光硬化性材料からなり、典型的には、エチレンに飽和しない又はポリエチレンに飽和しない材料からなる。

紫外線にさらすことにより硬化が行われるよう設計される最も一般的な場合に、上記組成物は、一般的に、感光性材料の硬化又はポリマー化を開始させる感光剤又は光開始剤よりなる。

従来、プリント回路を形成していた基板はがなり剛性があり、例えは、フェノール積層基板の形をしていた。しかし、近年では、ポリイミド樹脂製のような柔軟性基板が使用され始めている。樹脂と柔軟性のある基板との親和性を高めるために、硬化した基板には、ある程度の柔軟性が必要であることは明らかである。レジストの調製物に柔軟化材料を含めることにより硬化樹脂の柔軟性を高めることか（是案されている。

本発明によれば、柔軟化成分は、上記材料が水に乳化又は分散した形でレノスト組成物のような？ｔｔｎＱ組成物中に容易かつ効果的に含ませることか可能であり、この水は組成物の硬化性成分の担体としての役割も果たす。

従って、本発明によれば（Ａ）硬化したレジスト材料のパターン状の像を基板に形成し、（Ｂ）上記レジストにより覆われていない上記基板の一部にエツチング、メッキ又はハンダ付けを行う段階よりなる基板にエツチング、メッキ、ハンダ付けを行う方法であって、上記パターン状の像は（１）液体担体としての水と：（１１）上記水に分散又は乳化している硬化の際に薄膜を形成するｔオド１を産出する硬化性成分と：（ｉ　ｉ　ｉ）上記水に分散又は乳化しているエラストマー性ポリマー（又はそのだめの前駆物質）よりなる柔軟化剤とからなる液体の波膜組成物より形成される方法か提供される。

本発明の好ましい一実施例によれば、パターン状のレジスト像を液体光硬化性成分から形成する方法はＣａ’）基板上に上記成分の肋を形成し、（ｂ）上記層を放射線に像の形てさらし、これにより、上記放射線にさらされた上記層の部分を硬化させ、（ｃ）ｉ！当な溶剤で上記層のさらされていない部分を取り除くことによりさらさねた層を現像する段階よりなる。

ここに使用する用語「分散した」は、水に不溶性の材料の離散した固体粒子か分散剤の助け、或いは、分散剤の助けなく水に懸濁していることを意味する。典Ｙ的にかかる材Ｕは、Ｏ，Ｉ乃至２０μｍ、より好ましくは、０．１５乃至５μｍの粒径を存する。ここに使用する用語「乳化した」は、水と混合しない液体材料が水に乳化していることを意味し、かかる液体は、樹脂質材料（例えば、硬化性材料又は柔軟化剤）自体、又は、水と混合しない溶媒に対するその溶液からなる。本発明により使用される組成物（以下では、簡単に本発明の組成物と呼ぶ）の硬化性成分は、薄膜形成硬化性材料であれば何れでも構わないか、光硬化性材料か好ましい。

本発明者は、特許出願ＰＣＴ／ＧＢ９１１０１０４６号、及び、ＰＣＴ／ＧＢ９２１００４５１号明細書において、その液体担体が水よりなる、或いは、水を含む液体光硬化性組成物を使用することを提案している。従って、上記特許出願ＰＣＴ／ＧＢ９１１０１０４６号明細書に光硬化性成分よりなる液体有機材料の水性エマルジョンを使用することを提案し、上記特許出願ＰＣＴ／ＧＢ９２１００４５１号明細書に光硬化性成分よりなる固体存機材料の水性分散質を使用することを提案している。本発明者は、英国特許出願？ｆｒ、９１２０Ｇ９５．３号明細書に、光硬化性組成物の水性分散質又は水性エマルジョンを産出する２群の組成物を使用することを提案している。

基本的に、柔軟化剤の分散質又はエマルジョンを組成物に形成するために利用し得る以下の２通りの方法、即ち：（ａ）硬化性樹脂成分の混合の前又は後に、硬化した（一般的には固体の）柔軟化剤を組成物の水性相に分散させる方法、或いは、（ｂ）柔軟剤の硬化していない前駆物質をエマルジョンに分散させ、次いて、上記組成物に分散又は乳化している硬化した柔軟化剤を形成するため上記前駆物質を硬化させる方法かある。

第１の方法は、柔軟化剤の懸濁物質、例えば、コロイド状の１濁物質を組成物の水性相に（通常は薄膜形成硬化性樹脂の分散質又はエマル７ョンの形で）混合すること、或いは、上記柔軟化剤を水に混合しない適当な溶媒に溶解させ、この溶液を水で乳濁し、このエマルジョンを組成物に添加することにより簡単に実行することが可能である。或いは、熱可塑性の柔軟化剤を溶かし、溶融した形て乳化させ、得られたエマルジョンを冷却凝固させた後に上記組成物に２ｕ合してもよい。

第２の方法によれば、柔軟化剤の元の形がら乳化又は分散した柔軟化剤を産出し得る可能性か高まることが一般的に認められる。

従って、例えば、材料か乳化した後に、組成物の水性相の影響により硬化する水分硬化性の材料を使用してもよい。同様に、（典型的に、低重合体の前駆物質と、別個の硬化性触媒とからなる）２群の柔軟化剤は、（室温硬化性の材料の場合）添加され急速に乳化させられ、（高温硬化性の材料の場合）乳化させられ、硬化させるために加熱される。１群の加熱硬化性の柔軟化剤は、硬化した柔軟化剤の粒子を得るために、同様の方法で乳化、加熱される。他の例において、低重合体の前駆物質と２群の柔軟化材料の触媒部分を別個に乳化させ、両者は組成物を被覆させる最後の処理の間、即ち、乾燥後に反１．ζさせられる。或いは、レジストの最初の紫外線照射の間に硬化する柔軟剤を使用してもよい。

２以上の反応性低重合体を混合し、反応によって組成物が固体化する前に混合物を乳化させることにより、柔軟化剤の固体の懸濁物質を産出してもよい。最後に、組成物の処理の途中で柔軟化した材料を１！７るために、組成物中のポリマー性の硬化性材料と反応し得る柔軟化剤を組成物に乳化させ混合してもよい。

本発明によれは、多様な柔軟化材料を使用することが可能である。

従って、事前に形成された固体柔軟化剤の例には、ネオブレン１１５（デュポン社製）という商品名で販売されているポリクロロブレンの水性分散質のようなエラストマー性材料の水性分散質が含まれる。同様に、（トルエン、キシレン、又はカルピトールのような）水に混合しない適当な溶媒に対する事前に形成された（ネオブレンＡＣ又はＤのような）エラストマー性材料の水溶液、或いは、シリコン樹脂のキルン（ゼ不うルエレク）・リック社より販売される５Ｒ９８）に対する溶液は、安定なエマルションを提供するため分散させることが可能である。

最初に溶かされ、次いで、高温で分散させ得る固体の柔軟化剤の一例は、ポリブチレン−Ｈｌ９００　（アモコ　ケミカル社）という商品名で販売されているポリブチレンゴムである。

同様に、柔軟化剤の分散質又はエマルジョンを被膜組成物に予め形成するために多様な前駆物質を使用すること力呵能である。適当であることか判明している水分硬化性柔軟剤は、例えば、第８４（ワラカー　ケミカルズ）という商品名で販売されているシリコンゴムの如くの水分硬化性のソリコンゴムと、ドオウコーニング１２００という商品名で販売されている水分硬化性のシリコンが含まれる。

利用し得る２ｕの柔軟剤は、大気温度又は室温の何れがで硬化する系である。前者の例には、ネオブレンＡＦという商品名で販売されている生成物と、クロロブレンと、架橋結合を誘導するよう金属酸化物か混合されたメタクリル酸との共重合体と；共にシリコンゴム組成物であるＲＴＶ６１５及びＲＴＶ４１（ゼネラルエレクトリンク社）という商品名で販売されている生成物と：シリコン誘電性ゲルであるＲＴＶ６１６６（ゼネラルエレクトリック社）という生成物とか含まれる。熱硬化性の２群の系の例には、トリプラス１７７及び１７８（ゼネラルエレクトリック社）という商品名で販売されている如（の金属塩を使用して硬化性が増強される溶媒遊離シリコン樹脂と；ＰＳＡ５２９　（ゼネラルエレクトリック社）という商品名で販売されている如くのベンジル過酸化物を使用して硬化されたソリコンをベースとする接着剤と；或いは、マグネシウム酸化物を使用して硬化させ得るポリクロロプレンの生産物ネオブレンＡＤか含まれる。

１０の熱硬化性柔軟化剤には、シリコンの絶縁性フェスである５Ｒ２２４（ゼネラルエレクトリック社）という商品名で販売されているノリコン材料と、誘電性ノリコン材料であるＥＣＣ４４０及びＥＣＣ４５０（ゼネラルエレクトリック社）という商品名で販売されているノリコン材料とか含まれる。上記の熱硬化性柔軟化剤は、最終的な被膜組成物に含める前に硬化させてもよく、或いは、組成物の後の処理の条件か適当である場合には、柔軟化剤の硬化を組成物の処理中に行ってもよい。熱硬化性柔軟剤の前駆物質とその触媒とは、組成物か乾燥し二つのｔ７料が混合されるまで架橋結合が生じないよう別個に乳化させてもよい。

固体柔軟化剤の懸濁物質は、２以上の反応性の低重合体前駆物質を乳化させる前に混合し、次いで、鎖の延長又は架橋結合の反応によって液体又は半固体状の混合物を柔軟化固体材料に変換することにより生成される。水に対する反応性又は溶解性の小さい材料は、有機相内に所望の程度の反応を確実に得るために使用されることが好ましいか、水との混和性はかなり小さく他の有機成分との反応性か水との反応性よりも高い場合には、水に対し反応性のある材料を使用してもよい。上記材料は触媒を巧みに利用することにより得られる。

かくして、ポリウレタンエラストマー性エマルジョンはジー及びポリイソシアン酸塩を混合したひまし油又はポリエステルを分散させることにより得られ、エポキシ化されたゴム材料は反応性のポリアミド又は酸官能基性樹脂と架橋結合させ得る。乳化させ、次いで、最終的な薄膜内に化学的に結合されるように被膜の硬化性樹脂と反応させ得る柔軟化剤には、ウェイコート（オリジーハント　スベノヤリティ　プロダクツ社）という商品名で販売されている光反応性ポリイソプレン：Ｅ２３　（アモコ　ケミカルズ）という商品名で販売されている単体のエポキシ化ポリブチレン、又は、ＸＺ８６７０９（ト十つ　ケミカルズ社）という商品名で販売されているエポキシ化されたビス−フェノール−Ａと亜麻仁油／脂肪酸置換されたゴムの材１１か含まれる。

柔軟化剤は、組成物の全固体の５乃至４０重量％であることか適当てあり、１０乃至２５重量９６であることが好ましい。

多様な有機光硬化性の系を本発明による組成物に使用し得ることは認められるであろう。例えば、本発明によれば、液体有機成分の水性エマルジョンの形をなす組成物の一例の場合に、光硬化性の系の一つの一般的なりラスは、硬化性の反応性材料（一般的には低重合体であり、重合体の場合もある）と、適当な放射線にさらされる際に、硬化性成分と反応し、それを架橋結合又は硬化させる開始剤成分とよりなる。この種の光硬化性系の一実施例は、硬化性成分としてのポリビニルアルコールと、ジアゾ系開始剤とからなる。

固体粉末状の光硬化性材料の懸濁物質又は分散質の形をなす組成物として使用するのに特に適する光硬化性系の他の一般的なりラスは、エチレンに飽和しない硬化性材料（一般的には低重合体であり、重合体の場合もある）と、適当な放射線にさらされる際に硬化性成分に二重結合のポリマー化を開始させる遊離基を生成する光開始剤とからなる。上記第２の光硬化性系の一般的なりラスに使用し得る光硬化性材料の例には、ペンタエリトリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、及び、エチレングリコールポリアクリレートのような多官能基のアクリル酸塩の低重合体か含まれる。他の感光剤材料は、多官能基のイソシアネート化合物を水酸基又はカルボキシル酸基のような反応性の水素原子を含む基を有するエチレンに飽和しない化合物に反応させることにより得られる。適当なイソシアネートの例には、ヘキサメチレン　ジーイソソア不一ト、トリレン　ジ−イソシアネート、又は、イソホロンソーイソンア不一ト、或いは、それから形成される二量体又は二量体か含まれる。反応性の水素を含む適当な飽和しない化合物には、例えは、ヒドロキソルーエチル　アクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリル酸及びメタアクリル酸か含まれる。

紫外線感光性の硬化性材ト１の更なるクラスは、ポリ−エポキシ化合物（所謂「エポキシ樹脂Ｊ）と、アクリル酸又はメタアクリル醸のようなエチレンに飽和しない酸との反応により形成される材料であり：この反応生成物は簡単に「エポキシアクリレート（エポキシアクリル酸塩）」と呼ばれる。エポキシ化合物は、エチレングリコールノグリシジルエーテル又はフェニルグリシジルエーテルのような単体のグリシジルエーテルでもよく；或いは、「エピコート」という商品名で販売されている如くのビス−フェノールＡ／エビクロロヒドリン付加物でもよい。利用し得る更なるエポキシ樹脂は、ｒフォートレックス」という商品名で販売されている如くのエポキシノボラック樹脂（エポキシフェニルノボラック及びエポキシクレゾールノボラック樹脂を含む）である。上記の樹脂から誘導される「エポキシアクリル酸塩」は、特に、ハンダのマスクを調製するホトレジストに組成物として使用するのに適している。

エポキシアクリル酸塩の材料を水性アルカリ溶液で溶解又は現像するために、エポキシアクリレート樹脂は（遊離カルボキシル基を最終的なエポキシアクリレートに取り入れる役割を果たす）１以上の無水ジカルボキシル酸と反応させてもよい。このために適当な無水ジカルボキシル酸には、琥珀酸、イタコン酸、マレイン酸及びフタル酸の無水物が含まれる。

光硬化性の系に使用される多様な光開始剤が周知であり、かかる光開始剤の例には、２−エチル−アントラキノン、２−メチル−アントラキノン及び１−クロロ −アントラキノンの如くのアントラキノン２２．４−ツメチル−チオキサントン、２．４−ジエチル−チオキサントン及び２−クロロ−チオキサントンの如くのチオキサントン、ペンジルーノメチルケタール及びアセトフエノンージメチルーケチルの如くのケタール；ベンゾフェノン；ベンゾイン：及び、それらのエーテルか含まれる。上記の光開始剤は単独或いは混合物の何れでもよく、安息香酸形の増強剤又は第三級アミン増強剤の如くの光ポリマー化増強剤と共に使用してもよい。

光硬化性の系に加えて、光硬化性材料は、無機充填剤、顔料、流動性添加剤（流動性促進剤及び脱気剤）、熱硬化性剤及び界面活性剤の如くの他の成分を更に含む。界面活性剤又は濃化剤は、微粒子材料を組成物に懸濁させる助けになり得る。適当な界面活性剤には、ノンバーロニックＰＥ／Ｆ　Ｉ　Ｏ８、’７’ルロニック６８００及びディスボンノル２３という商品名で販売されている非イオン性界面活性剤が含まれる。適当な濃化剤には、アクリツルＲＭ８　（ローム　アント　ハース社）及びＦＸＩＯＩＯ（サーボ　デルタン　Ｂ、　Ｖ）の如くのアクリルポリマーか含まれる。

本発明による光硬化性組成物は、光硬化性被膜材料としてだけ利用することも可能であるが、上述の如（、電子産業、例えば、印刷回路基板等の形成又は製造用のホトレジスト材料としての特定な用途も知られている。従って、本発明による光硬化性組成物は、特に、パターン状の像を基板に形成する方法に使用することに適当でありこの方法は：（ａ）液体光硬化性組成物の層を上記基板に形成し；（ｂ）上記１！、板の光硬化性組成物の層を乾燥させ：（Ｃ）放射線にさらされた上記層の一部を硬化させるため上記乾燥した層を電磁放射線に像の形にさらし。

（ｄ）上記層のさらされていない部分を取り除くことにより上記されされた層を「現像する」段階よりなる。

上記の手順で得られたパターン状の層又はレジストは、上述の如く、リトグラフレジスト、メツキレシスト、エッチレジスト又はハンダマスクとして使用できる。

液体光硬化性組成物は、例えば、スクリーン印刷法、カーテンコーティング法、又は、静電噴霧法の如くの適当な被膜方法で基板に塗布することが可能である。

レジスト層の厚さは、勿論、最終的な用途に依存するが、一般的には、５乃至６０μｍのオーダーの厚さか適当である。

本発明のより良い理解を助けるために、以下にその例に限定されることのない例を掲げる。以下の例におけるパーセント表示は、特に示さない限り、１１ｒｊｌ百分率を表わす。

例Ｉエポキシクレゾールノボラック樹脂（フォートレックス３７１０、ドすウ　ケミカル社）（１当ｆｉｔ）をエチルエトキシプロピオン酸塩の溶媒中で１当量のアクリル酢塩に反応させることによりカルボキシル化されたエポキシクレゾールノボラックアクリル酸塩を調製した。得られたアクリル樹脂は、反応の最後に７０ｍｇ／ｇ　ＫＯＨの酸性値を得るために十分な無水マレイン酸と無水テトラヒドロフタル酸の５０：５０の混合物か付加された。この材料を以下のインク処方物に加えた：％カルボキシル化エポキシノポラックアクリル酸塩　５フイルガキユア９０７（チバーガイギー）　４トリー（２）ヒドロキシエチル　イソシアヌレート　６トリアクリレートンートリメチローループロバン　テトラアクリレート　ｌ硫酸バリウム　３０ア１〜ラスＧ１３５０　（ＩＣＩ　スベシャリティー　ｌケミカルズ社）りオンタキュアＩＴＸ（ワード　ブレンキンソップ社）上記の混合物は不透明な淡黄色の粘性液体を得るためディアフ製高速分散攪拌装置で完全に混合し、上記粘性液体はンルバーソン製の高速混合ミキサーを使用して以下の混合物中で乳化させた。

％インク（上記の通り）６４ポリ（ビニルピロリドン）　３アクリツルＲＮｉ８（ローム　アント　ハース）４フタロシアニングリーン顔料の分散質　ｌ蒸留水　２８これにより不透明な薄い緑色の安定なエマルジョンが生成され、ネオブレンゴム（ネオブレン１１５、デュポン　ケミカルズ社）のラテックスに人手で以下の割合に混合された。

％エマルジョンインク　８５ネオブレン１１５　１５上記の混合物は、次いて、ポリイミドの柔軟性積層板上のＩＰＣ製ハンダレジストテスｉ・パネルにスクリーン印刷された。生成された薄膜は、滑らかな粘着性のない薄膜を得るため９０°Ｃで３０分間乾燥させられた。このレジスト薄膜は、適当なアートワークを用いて像の形にされ、この像は０．　６％Ｗ／Ｗの炭酸ナトリウム溶液を使用して現像された。次いで、この薄膜は、銅製の線路とポリイミド製の基板の両方に優れた粘着性を示し、皺になりにくい（即ち、１ｍｍ径のマンドレルで曲げられる際に亀裂が入らなかった）被膜を生成するため１５０ °Ｃて１時間に亘り最終的なベーキングが行われた。その上、上記薄膜は、優れたハンダ特性と、耐溶解性とを示した。

例Ｉ＋例Ｉにおいて（ネオブレン＋１５を付加する前に）生成された塩基性のインクエマルションを取り出し、Ｔ−８４（ワラカー　ケミカルズ社製の水分硬化性ノリコンゴム材料）を高速攪拌条件でインクエマルション４部に対し１部のＴ−８４の割合で注入した。上記材料は黄緑色のエマルジョンか得られるまで十分に分散させ、この黄緑色のエマルジョンは、ポリアミド製の柔軟性積層板の銅でエツチングされたプリント回路基板上で引き延ばして帯状に被覆した。

この薄膜は９０°Ｃで３０分間乾燥され、適当なアートワークを通して露光され、０．　６９６　ｗ／ｗの炭酸ナトリウム溶液で現像された。イ９の形の薄膜は、＋４０’Ｃで１時間半に亘り後のベーキングを行った。辱られた薄膜は、優れたハンダ特性と、皺になりにくい特性と、耐溶解性とを示し、かっ、１部日間の熱衝撃試験（被膜は一定の周期で一５０°Ｃ±１４０°Ｃの間の温度にさらされた）に対し亀裂及び剥離を生じることなく優れた耐性を示した。

例　１ｒｌ以下の処方物は３本ローラ形のミルで混合された。

％エポキシ樹脂（ＤＥＮ４３８、ドオウ　ケミヵルズ社）４７タルク　２４フタロンアニングリーン　２ノリフンを肖泡剤ｆ　ｌブチル　セロソルブ　２３ノンバーロニノクＰＥ／＋０８　３上記混合物はノルバーソン製高＆攪拌装置を使用して以下の処方物中に乳化された。

％インク（上記の通り）７５蒸留水　２５上記のインクエマルションと共に使用する熱硬化剤の分散質は以下の材料を混合して産出された。

％エポキシ樹脂（Ｍ５１９１４、チバーガイギー）３４ンアミノ　ノフェニル　メタン　２６ブロビレン　グリコール　エチルエーテル　３２プロピレン　グリコール　メチル　エーテル　アセテート　８上記混合物は以下の処方物中に乳化された：％熱硬化Ｍ　７３アクリツルＲＭ８　（ローム　アンド　ハース）　７蒸留水　２゜上記の２種類のエマルジョンは、２部のインクと、１部の硬化剤の割合で混合された。

２群の熱硬化性のシリコンゴム化合物（ＲＴＶ６１５及び触媒、ゼネラルエレクトリック社）は、混合した状態で以下の処方物中に乳化された。

％ＲＴＶ６１５　４５触媒　５アクリツルＲＭ８　（ローム　アンド　ハース）　６蒸留水　４４上記のエマルションは、熱硬化性ハンダレジストを生成するため、４部のレジストエマルジョンと、１部のゴムエマルジョンの割合で混合された。

このエマルジョンは、ポリイミド製の柔軟性８１層板のＩＰＣ製のハンダレジストテスト回路にスクリーン印刷され、１４０°Ｃで３０分間ベーキングして硬化させた。得られた薄膜は、優れたハンダ特性と、傷つきにくい特性と、耐溶解性とを示し、１ｍｍのマンドレルの曲げ試験に耐性を示した。同様の方法で処理された柔軟化されていないしラストの例ては、上記試験中に亀裂と粘着力の損失とか現われた。

例　ＩＶシリコンゴムと硬化触媒は次の処方物中に別個に乳化される点を障いて例ＩＩＩの方法に従って処理された。

％ＲＴＶ６１５／触奴　５０アクリツルＲＭ８　６蒸留水　４４、上記のＲＴＶ６１５エマルジヨンは、１０；ｌの割合で触媒エマルジョンと混合され、得られた１昆合エマルジョンは、例ＩＩＩに記載した熱硬化性ハンダレジストエマルジョンに４部のレジストエマルジョンに対し１部のゴムエマルジョンの割合で付カロされた。上記ｔオド）は、例ＩＩ＋において得られた性能パラメータと同一の性能パラメータを存する薄膜を生成するため、例ＩＩＩに記載した如く処理された。

例Ｖ１当量のアクリル酸をトルエンに溶解した１当量のエボキシクレノ゛−ルノホラノク（フォートレックス３７１０、ドオウ　ケミカルズ辻）と反応させることによｌり固体のカルボキシル化されたエポキシクレゾールノポラックを調製した。

アクリル化した後に、樹脂は無水マレイン酸と無水テトラヒドロフタル酸（１：１の割合）を使用してカルボキシル化され、上記溶媒は、９５°Ｃ乃至＋００’ Ｃの融へと、６５ｍｇ／ｇ　Ｋ○Ｈの酸性値を有する固体樹脂を得るため真空除去された。

上記樹脂は、ｔ′Ａ砕、粉末化され、以下の処方物に混合された。

％固体カルホキモル化工ポキノクレゾールノポラック　８３イルガキユア９０７（チバーガイギー）　７クオンタキユアＩＴＸ（ワード　ブレンキンソップ）　２上記硬化性触媒は以下の如く生成された；２−エチル−４−メチル　イミダゾール　８゜ンノアンジアミト　２゜上記混合物は、加熱された双スクリュー形成形機で均一の固体に混合され、次いで、ブレードグラインダーで約２５ミクロンの粒子径に砕かれた。得られた緑色の粉末は界面活性剤と、濃化剤と、希釈剤の以下の処方に従う蒸留水溶液に付加された。

％粉末状樹脂　４９アトラスＧＩ３５０　（ＩＣＩ　スペシャリティ−３ケミカルズ）アクリツルＲＭ８（ローム　アンド　ハース）６ポリ（ビニル　ピロ１月・ン）　２蒸留水　４゜上記のスラリーは、５平方ミクロンの面積の固体粒子サイズを存する懸濁物質を生成するためボールミルで１２時間粉砕された。

固体の架橋結合剤は、固体エボキシノホラック材料（クオートレソクス２４１ｏ、トオウ　ケミカルズ）を約２０平方ミクロンの粒子サイズまで砕き、この粉砕物を以下に示す処方物に懸濁させ、実質的に１０平方ミクロンより小さい粒子サイズの安定な懸濁物質を得るため上記スラリーを球状に粉砕することにより調製された。

％ェポキノノポラック樹脂　４９アトラスＧＩ３５０　３アクリツルＲＭ８　６ボリ　（ビニル　ピロリドン）　２蒸留水　４０柔軟性材料は、反応性のポリアミド（パーサミド１００、　クレイ　バーレイ）（２部）を溶かし、ＸＺ８６７０９、即ち、ビス−フェノール−Ａのエポキシ及び亜麻仁油で置換されたゴム（３部）と混合することにより生成され、上記混合物は十分に乳化する液状にするため更に加熱された。次いて、上記材料は、安定なオフホヮイ）・色のエマルジョンを生成するため以下の処方物に高速攪拌を用いて注入された。

％パーサミド／ＸＺ混合物　２６アクリソルＲＭ８（ローム　アンド　ハース）　８蒸留水　６６元のレジスト処方物は、１部の架橋結合剤と４部のレジストエマルションの割合で架橋結合性懸濁質に混合され、この混合物は、柔軟化剤１部と混合レジスト懸濁質３部の割合て柔軟化側懸濁質に付和された。

この混合物は柔軟性ボリイミｌ”ｆｆ１層板のＴＰＣのハンダレジストテスト回路にスクリーン印刷され、９０°Ｃで３０分間乾燥させられ、適当なアートワークにより撮像され、１９６　ｗ／ｗの炭酸ナトリウム溶液て現像され、１５０° Ｃで１時間半に亘り後のヘーキングか行われた。得られたハンダレノスト被膜は、アートワークのパターンの良好な解像と、優れたハンダ特性と、１撓性及び耐溶解性と、基板への良好な接着性とを示した。

例Ｖ　１エチルエトキシプロピオン酸塩（例１に記載の如く調製された）中のカルボキシル化されたエポキシクレゾールノボラックアクリル酸塩は、ソルバーソン製攪拌装置で高速攪拌により以下の処方物中に分散させた。

％カルボキシル化エポキシクレゾールノボラック　７９アクリル酸塩イルガキュア９０７（チバーガイギー）　４りオンタキュアＩＴＸ（ワード　ブレンキンソップ）　１ツートリメチロールプロパン　トリアクリレート　ｌトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート　７タルク　４ノンパーロニツクＰＥ／Ｉ　０８　（ＴＣＩ　ケミカルズ）　２メチレンブル一色素　２上記インク処方物は以下の処方物中に乳化させた％インク　４４ＦＸＩＯＩＯ（サーボ　デルタン　Ｂ、　Ｖ、’）　２ポリ　（ヒニルビロリトン）　２蒸留水　５２上記インクのための柔軟化エマルジョンは、ウェイコート、即ち、紫外線感光性ポリイソプレンゴム（オリンーハント）を用いて処方しｔこ。

％ウェイコート（オリンーハント）５０了クリノルＲＭ８　８詐留水　４２１−記しソストエマルションは、柔軟化剤エマルジョンと７：３の割合に人手で混合され、得られたライトブルー色のエマルジョンはＩＵ前に洗浄された２オンスの銅被覆されたＦＲＪ形積層積層板クリーン印刷された。この薄膜は一様の粘着性のない薄膜を得るため９００Ｃで１５分間乾燥され、かかる薄膜は最初にネガに画像化するレノストを画像化するために設けられたアートワークを用いて撮像された。回路パターンは、１％　Ｗ／Ｗ炭酸ナトリウム溶液を用いて現像され、レノストで被覆されていない銅の領域は、酸性の塩化鉄腐食液でエソチノグ除去された。回路がエツチングされた後に、レノストは、了−トワークのパターンを正確に再現する回路を得るため除去される。エツチング処理の間に上記処方物は、エツチング溶液に対する優れた耐性と、良好な柔軟性とを示し、腐食液の噴霧の圧力によりレノストか削られ、或いは、失われることは、非常に微細な細部においてさえ無かった。

補正書の翻訳文提出吉（特許法第１８４条の８）平成　７年　１月１２日特許庁長官　高　島　章　殿　じｊｌ、特許出願の表示ＰＣＴ／ＧＢ　９３１０１４００２　発明の名称基板の処理３　特許出願人住所（居所）　イギリス国、ケント　ピーアール５３ピービー。

オービントン、セン）・・メリー・クレイ、クレイ・アヴエニュー（番地なし）氏名（名称）　コーラ　ブラザーズ　ビーエルシー４、代理人５　補正書の提出年月日請求の範囲１　（Ａ）硬化性レノス１〜材料のパターン状の像を基板に形成し、（Ｂ）上記レジストにより被覆されていない上記基板の一部にエツチング、メッキ、又は、ハンダ付けを行う段階よりなる基板にエツチング、メッキ、又は、ハンダ付けを行う方法であって、上記パターン状のレジスト像は（ｉ）　液体担体としての水と。

（１１）　上記水に分散又は乳化している硬化の際に薄膜形成化材料を産出する硬化性成分と。

（ｉｉｉ）　上記水に分散又は乳化しているエラストマー性ポリマー（又はそのための前駆物質）を含む柔軟化剤とよりなる液体被膜組成物により形成され、上記パターン状のレジスト像は（ａ）　上記組成物の層を上記基板に形成し；（１））　上記層を乾燥させ。

（Ｃ）　上記乾燥した層を放射線に像の形てさらし、これにより、上記放射線にさらされた上記層の一部を硬化させ。

（ｄ）　上記層のさらされていない部分を適当な溶媒で除去することにより上記さらされた層を現像する段階により上記液体被膜組成物から形成される方法。

田野謹杏報牛フロントページの続き（５１）　Ｉｎｔ、　Ｃ１，６識別記号　庁内整理番号ＨＯ５Ｋ　３／１８　Ｄ　７５１１−４Ｅ３／２８　Ｃ７１２８−４ＥＩ

Claims

【特許請求の範囲】

１．（Ａ）硬化性レジスト材料のパターン状の像を基板に形成し、（Ｂ）上記レジストにより被覆されていない上記基板の一部にエッチング、メッキ、又は、ハンダ付けを行う段階よりなる基板にエッチング、メッキ、又は、ハンダ付けを行う方法であって、上記パターン伏のレジスト像は：（ｉ）液体担体としての水と；（ｉｉ）上記水に分散又は乳化している硬化の際に薄膜形成化材料を産出する硬化性成分と；（ｉｉｉ）上紀水に分散又は乳化しているエラストマー性ポリマー（又はそのための前駆物質）を含む柔軟化剤とよりなる液体被膜組成物により形成される方法。
２．上記パターン状のレジスト像は：（ａ）上記組成物の層を上記基板に形成し；（ｂ）上記層を放射線に像の形でさらし、これにより、上記放射線にさらされた上記層の一部を硬化させ；（ｃ）上記層のさらされていない部分を適当な溶媒で除去することにより上記さらされた層を現像する段階により液体光硬化性被膜組成物から形成される請求項１記載の方法。