JPH0750240B2 - スポット処理装置 - Google Patents
スポット処理装置Info
- Publication number
- JPH0750240B2 JPH0750240B2 JP1152463A JP15246389A JPH0750240B2 JP H0750240 B2 JPH0750240 B2 JP H0750240B2 JP 1152463 A JP1152463 A JP 1152463A JP 15246389 A JP15246389 A JP 15246389A JP H0750240 B2 JPH0750240 B2 JP H0750240B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens system
- distance
- housing
- lens
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/28—Systems for automatic generation of focusing signals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/14—Forme preparation for stencil-printing or silk-screen printing
- B41C1/145—Forme preparation for stencil-printing or silk-screen printing by perforation using an energetic radiation beam, e.g. a laser
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Removal Of Insulation Or Armoring From Wires Or Cables (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明はレンズ系を使用して放射線のビームによって物
体をプログラムされたスポット処理する装置に関し、特
にビームの衝突点が該物体と装置との相対的運動の結果
として物体の表面に予め定めた模様を描くようになされ
た形式のスポット処理装置に関している。
体をプログラムされたスポット処理する装置に関し、特
にビームの衝突点が該物体と装置との相対的運動の結果
として物体の表面に予め定めた模様を描くようになされ
た形式のスポット処理装置に関している。
＜従来の技術＞ この形式の装置の一例が西独特許第241,567号明細書に
記載される。該明細書には円筒形にクランプされたスク
リーン印刷ステンシルのレーザ処理装置が開示されてい
る。スクリーン印刷ステンシルは多数の細孔、すなわち
ステンシルゲージを有するシートで、細孔はラッカーな
どの封止剤によって封止されている。ステンシルはレー
ザビームによってプログラムされたように処理され、レ
ーザビームの当った細孔からラッカーが除去されて、円
筒形の印刷板が形成される。
記載される。該明細書には円筒形にクランプされたスク
リーン印刷ステンシルのレーザ処理装置が開示されてい
る。スクリーン印刷ステンシルは多数の細孔、すなわち
ステンシルゲージを有するシートで、細孔はラッカーな
どの封止剤によって封止されている。ステンシルはレー
ザビームによってプログラムされたように処理され、レ
ーザビームの当った細孔からラッカーが除去されて、円
筒形の印刷板が形成される。
＜発明が解決しようとする課題＞ 上述公知の装置はその作用が鋭敏であってレンズと物体
の表面との距離の小変化によってレーザビームの最適な
作用が失われる。例えば、放射線によって処理される物
体の表面にレンズの焦点が位置するとき、または該表面
から所望の効果が得られる距離よりも遠すぎた場合には
ラッカーの除去ができない。正確な距離は設定の誤りと
回転および表面の移動の不正確性とによって設定と維持
とが困難である。
の表面との距離の小変化によってレーザビームの最適な
作用が失われる。例えば、放射線によって処理される物
体の表面にレンズの焦点が位置するとき、または該表面
から所望の効果が得られる距離よりも遠すぎた場合には
ラッカーの除去ができない。正確な距離は設定の誤りと
回転および表面の移動の不正確性とによって設定と維持
とが困難である。
本発明の目的は上述の課題を解決する装置を得るにあ
る。
る。
＜課題を解決するための手段＞ 本発明によれば、レンズ系を使用してレーザビームによ
ってプログラムされたスポット処理を物体に行う装置で
あって、レーザビームの衝突点が該物体と装置との相対
的運動の結果として物体の表面に予め定めた模様を描く
ようになされたスポット処理装置において、該物体が有
機材料を有する薄肉金属円筒であり、該装置が有機材料
を処理して予め定めた模様を形成するようになされ、該
装置がレンズ系の中心とレーザビームの物体の表面への
衝突点の中心との間に予め定めた一定の距離を維持する
手段を含み、該手段は光源と物体との間に位置するレン
ズ系と物体の表面との距離を決定する距離決定手段と、
該レンズ系を移動せしめる移動手段と、レンズ系と物体
と表面との距離の測定値と設定値との差によって移動手
段を制御する制御手段とを含む、スポット処理装置が提
供される。
ってプログラムされたスポット処理を物体に行う装置で
あって、レーザビームの衝突点が該物体と装置との相対
的運動の結果として物体の表面に予め定めた模様を描く
ようになされたスポット処理装置において、該物体が有
機材料を有する薄肉金属円筒であり、該装置が有機材料
を処理して予め定めた模様を形成するようになされ、該
装置がレンズ系の中心とレーザビームの物体の表面への
衝突点の中心との間に予め定めた一定の距離を維持する
手段を含み、該手段は光源と物体との間に位置するレン
ズ系と物体の表面との距離を決定する距離決定手段と、
該レンズ系を移動せしめる移動手段と、レンズ系と物体
と表面との距離の測定値と設定値との差によって移動手
段を制御する制御手段とを含む、スポット処理装置が提
供される。
レンズ系の中心と放射線のビームの物体の表面への衝突
点の中心との間に予め定めた一定の距離を維持する手段
を設けることによって、レンズの焦点は物体の表面上に
維持され、形成される模様は尖鋭である。本発明によっ
て製造されたスクリーン印刷ステンシルの正確性は印刷
の最終結果に大きい影響を有し、高い再現性を持つ正確
な模様（パターン）形成がなされる。
点の中心との間に予め定めた一定の距離を維持する手段
を設けることによって、レンズの焦点は物体の表面上に
維持され、形成される模様は尖鋭である。本発明によっ
て製造されたスクリーン印刷ステンシルの正確性は印刷
の最終結果に大きい影響を有し、高い再現性を持つ正確
な模様（パターン）形成がなされる。
レンズ系と物体の表面との間の距離を決定するために通
常、走査器が使用される。走査器は光学的、誘電的、容
量的など各種形式であってよい。
常、走査器が使用される。走査器は光学的、誘電的、容
量的など各種形式であってよい。
本発明の装置のレンズ系は望ましくはハウジング内に収
容され、ハウジングは該ハウジング上の固定点から物体
の表面までの距離を測定する物体走査器とハウジング上
の固定点からレンズ系までの距離を測定するレンズ走査
器とを含み、両走査器によって測定された距離とレンズ
系から物体の表面までの距離とから距離値の数学的計算
を行う電子的手段とを含み、該電子的手段はレンズ系を
ハウジングに相対的にレンズ系と物体の表面との間の距
離の測定値と予め選択された設定値との間の差に基づい
て移動せしめる移動手段の付勢を制御するためにも使用
される。この実施例においてハウジングは固定点として
作用し、これに対して物体例えば回転ローラなどの表面
に相対的なレンズの位置が測定され、かつこの距離は一
定に維持される。
容され、ハウジングは該ハウジング上の固定点から物体
の表面までの距離を測定する物体走査器とハウジング上
の固定点からレンズ系までの距離を測定するレンズ走査
器とを含み、両走査器によって測定された距離とレンズ
系から物体の表面までの距離とから距離値の数学的計算
を行う電子的手段とを含み、該電子的手段はレンズ系を
ハウジングに相対的にレンズ系と物体の表面との間の距
離の測定値と予め選択された設定値との間の差に基づい
て移動せしめる移動手段の付勢を制御するためにも使用
される。この実施例においてハウジングは固定点として
作用し、これに対して物体例えば回転ローラなどの表面
に相対的なレンズの位置が測定され、かつこの距離は一
定に維持される。
電子手段は望ましくはマイクロプロセッサとする。
本発明の装置を西独特許第241,567号明細書に示すレー
ザ彫刻装置に適用する場合はつぎのようにする。物体は
ステンシルがクランプされたドラムを含み、ステンシル
の細孔は例えばラッカーなどの封止材によって封止され
ている。レーザビームによって封止材は除去され細孔は
開放される。特殊のラッカーと適当な波長および出力の
レーザを使用することによって良好な結果が得られる。
ザ彫刻装置に適用する場合はつぎのようにする。物体は
ステンシルがクランプされたドラムを含み、ステンシル
の細孔は例えばラッカーなどの封止材によって封止され
ている。レーザビームによって封止材は除去され細孔は
開放される。特殊のラッカーと適当な波長および出力の
レーザを使用することによって良好な結果が得られる。
＜実施例＞ 以下に、図面を引用して本発明の実施例を説明する。第
１図において参照数字１は本発明による装置で、ラッカ
ーで封止された回転スクリーン印刷ステンシル3aにレー
ザビームを使用して開放細孔の所望の態様を形成する。
適当な回転スクリーン印刷ステンシルとして例えば、シ
ームレスニッケルステンシルで、80ないし500メッシュ
（１インチ当りの細孔の数が80〜500）以上で、厚さ75
〜200μｍのものとする。装置１はローラ３を含み、ロ
ーラ３の一端はハウジング９内の駆動部に連結され、他
端は通電可能の支持部２に支持される。ローラ３はステ
ンシル3aをローラ３の軸線の回りに同心に支持する。レ
ーザ６からのレーザビーム７が鏡８によって案内されて
ハウジング５内のレンズまたはレンズ系４に導かれる。
装置の作動時にステンシル3aが取付けられたローラ３は
その軸線の回りに一定の角速度で回転せしめられ、レン
ズ４を有するハウジング５はローラの軸線から一定の距
離で且つ平行に移動する。レンズ４によって焦点合せ、
すなわち集光されたレーザビームの衝突点はローラ上に
クランプされたステンシルの表面に円筒形または螺旋形
などの予め定めた模様を描く。
１図において参照数字１は本発明による装置で、ラッカ
ーで封止された回転スクリーン印刷ステンシル3aにレー
ザビームを使用して開放細孔の所望の態様を形成する。
適当な回転スクリーン印刷ステンシルとして例えば、シ
ームレスニッケルステンシルで、80ないし500メッシュ
（１インチ当りの細孔の数が80〜500）以上で、厚さ75
〜200μｍのものとする。装置１はローラ３を含み、ロ
ーラ３の一端はハウジング９内の駆動部に連結され、他
端は通電可能の支持部２に支持される。ローラ３はステ
ンシル3aをローラ３の軸線の回りに同心に支持する。レ
ーザ６からのレーザビーム７が鏡８によって案内されて
ハウジング５内のレンズまたはレンズ系４に導かれる。
装置の作動時にステンシル3aが取付けられたローラ３は
その軸線の回りに一定の角速度で回転せしめられ、レン
ズ４を有するハウジング５はローラの軸線から一定の距
離で且つ平行に移動する。レンズ４によって焦点合せ、
すなわち集光されたレーザビームの衝突点はローラ上に
クランプされたステンシルの表面に円筒形または螺旋形
などの予め定めた模様を描く。
第２図にレンズ系すなわちレンズ４とローラ３上にクラ
ンプされたステンシル3aの表面との間の距離を一定に維
持する手段の作動を概略的に示している。
ンプされたステンシル3aの表面との間の距離を一定に維
持する手段の作動を概略的に示している。
破線はローラ３の偏心運動を示す。レンズ４の焦点を10
として示す。レンズ４はハウジング５内に収容されてい
る。
として示す。レンズ４はハウジング５内に収容されてい
る。
回転時にローラ３が偏心運動を行うと焦点10をローラの
表面上に位置させるためにレンズを破線位置に移動させ
る必要がある。
表面上に位置させるためにレンズを破線位置に移動させ
る必要がある。
第３図はレーザビーム７が鏡８の形式の反射手段に到達
し、反射手段によって方向を変えられて接続装置17を経
てレンズ４に到達する状態を示す。このとき走査器（図
示しない）がハウジングとローラの表面との距離を記録
し、別の走査器16がレンズ４とハウジング５との距離を
記録する。数学的操作を行って電子手段がレンズ４とロ
ーラの表面との距離を計算する。該距離が設定値と比較
され、設定値と測定値との差に基いて電磁石11が付勢さ
れる。電磁石11が付勢されるとレンズ系が保持板12の方
向に運動する。アンカ板15の形式のレンズ取付部が電磁
石と共働する。レンズの保持板12の方向の運動への運動
時にレンズ取付部とアンカ板との間に配置されたばねが
案内部14の周りで圧縮され、電磁石が除勢されるとレン
ズ取付部は原位置に復帰する。従って、この装置は連続
的な焦点合せを可能とし、レンズの調節と測定されたロ
ーラの偏心性との間の同期性に必要ならば、修正回路ま
たは減衰回路を設けてもよい。
し、反射手段によって方向を変えられて接続装置17を経
てレンズ４に到達する状態を示す。このとき走査器（図
示しない）がハウジングとローラの表面との距離を記録
し、別の走査器16がレンズ４とハウジング５との距離を
記録する。数学的操作を行って電子手段がレンズ４とロ
ーラの表面との距離を計算する。該距離が設定値と比較
され、設定値と測定値との差に基いて電磁石11が付勢さ
れる。電磁石11が付勢されるとレンズ系が保持板12の方
向に運動する。アンカ板15の形式のレンズ取付部が電磁
石と共働する。レンズの保持板12の方向の運動への運動
時にレンズ取付部とアンカ板との間に配置されたばねが
案内部14の周りで圧縮され、電磁石が除勢されるとレン
ズ取付部は原位置に復帰する。従って、この装置は連続
的な焦点合せを可能とし、レンズの調節と測定されたロ
ーラの偏心性との間の同期性に必要ならば、修正回路ま
たは減衰回路を設けてもよい。
第４図に別の実施例が示される。レンズ取付部はアンカ
板12に取付けられ、板12はロッドによって板12′に連結
される。板15はハウジングに連結される。ばねパック1
4,14′が板15と板12,12′との間に設けられる。この実
施例においてレンズのハウジングに相対的な運動は次の
ように行われる。レンズは電磁石によって電流の方向に
より２方向に運動する。一方方向ではレンズはアンカ板
12と共に板15の方向に運動し、電磁石が除勢されるとば
ねパック14によって中央位置に戻る。他方の場合、レン
ズは反対方向に運動し、電磁石が除勢されるとばねパッ
ク14′によって中央位置に戻る。これはレンズ系をロー
ラの表面に相対的に２方向に修正することを可能として
いる。
板12に取付けられ、板12はロッドによって板12′に連結
される。板15はハウジングに連結される。ばねパック1
4,14′が板15と板12,12′との間に設けられる。この実
施例においてレンズのハウジングに相対的な運動は次の
ように行われる。レンズは電磁石によって電流の方向に
より２方向に運動する。一方方向ではレンズはアンカ板
12と共に板15の方向に運動し、電磁石が除勢されるとば
ねパック14によって中央位置に戻る。他方の場合、レン
ズは反対方向に運動し、電磁石が除勢されるとばねパッ
ク14′によって中央位置に戻る。これはレンズ系をロー
ラの表面に相対的に２方向に修正することを可能として
いる。
実施例以外にもレンズ系をハウジングに相対的に修正運
動せしめる各種方式が可能である。例えばねじ係合する
レンズ系を歯車などを介してモータによって駆動しても
よいが、これらも本発明の範囲内である。
動せしめる各種方式が可能である。例えばねじ係合する
レンズ系を歯車などを介してモータによって駆動しても
よいが、これらも本発明の範囲内である。
＜発明の効果＞ 以上説明したように、本発明によれば自動的焦点合せが
達成されるからローラの回転速度を著しく増存すること
ができる。偏心性は十分に補償され、前述課題は解決さ
れる。
達成されるからローラの回転速度を著しく増存すること
ができる。偏心性は十分に補償され、前述課題は解決さ
れる。
本発明は上述形式の装置に限定されるものでない。本発
明は放射線のビームによって物体に特定処理を行う各種
装置に関する。これに例えばクランプされたフィルム材
料の露出、クランプされた光ポリマー材料の光硬化など
がある。放射線のビームはレーザビームに限定されず、
それ以外の光ビームも技術的に同等な作業を行うように
焦点合せされるものは本発明の範囲内に属する。
明は放射線のビームによって物体に特定処理を行う各種
装置に関する。これに例えばクランプされたフィルム材
料の露出、クランプされた光ポリマー材料の光硬化など
がある。放射線のビームはレーザビームに限定されず、
それ以外の光ビームも技術的に同等な作業を行うように
焦点合せされるものは本発明の範囲内に属する。
ビームが作用する物体は通常円筒形とするが、平坦であ
ってもよい。
ってもよい。
第１図は回転スクリーン印刷ステンシルをスポット処理
する本発明の実施例として示す装置の概略上面図、第２
図は第１図の装置のハウジングとレンズ系と円筒形ロー
ラとの概略断面図、第３図は第１図の装置の鏡とハウジ
ングとレンズ系とを示す概略図、第４図は別の実施例と
してハウジングとレンズ系とを示す概略図である。 1:スポット処理装置、2:支持部 3a:回転スクリーン印刷ステンシル 3:ローラ、4:レンズ系（レンズ） 5:ハウジング、7:レーザビーム 8:鏡、9:ハウジング 10:焦点、11:電磁石 12:アンカ板、14:ばねパック 15:アンカ板、16:走査器
する本発明の実施例として示す装置の概略上面図、第２
図は第１図の装置のハウジングとレンズ系と円筒形ロー
ラとの概略断面図、第３図は第１図の装置の鏡とハウジ
ングとレンズ系とを示す概略図、第４図は別の実施例と
してハウジングとレンズ系とを示す概略図である。 1:スポット処理装置、2:支持部 3a:回転スクリーン印刷ステンシル 3:ローラ、4:レンズ系（レンズ） 5:ハウジング、7:レーザビーム 8:鏡、9:ハウジング 10:焦点、11:電磁石 12:アンカ板、14:ばねパック 15:アンカ板、16:走査器
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭52−129407（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−126502（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−26102（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−63449（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−90241（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−107342（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−253346（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−173256（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−187492（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−186186（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−180878（ＪＰ，Ｕ)
Claims (3)
- 【請求項１】レンズ系（４）を使用してレーザビーム
（７）によって薄肉の金属製円筒形物体にプログラムさ
れたスポット処理を行う装置（１）にして、レーザビー
ム（７）の衝突点が該物体と装置との相対的運動の結果
として物体の表面に予め定めた模様を描き、該装置がレ
ンズ系（４）の中心とレーザビーム（７）の物体の表面
への衝突点の中心との間に予め定めた一定の距離を維持
する手段を有する前記装置において、レンズ系（４）が
ハウジング（５）に収容され、該ハウジングに、ハウジ
ング上のの固定点と物体の表面との間の距離を測定する
物体走査器とハウジング上の固定点からレンズ系（４）
までの距離を測定するレンズ走査器（16）とが設けられ
ており、両走査器によって測定された距離値からレンズ
系（４）と物体の表面との間の距離を計算するために数
学的計算を行う電子的手段が設けられ、該電子的手段が
レンズ系（４）と物体の表面との間の距離の予め定めた
設定値と測定値との間の差に基づきレンズ系（４）をハ
ウジング（５）に相対的に移動せしめる移動手段（11,1
2,12′、14、14′、15）の付勢を制御するために使用可
能である、ことを特徴とするスポット処理装置。 - 【請求項２】請求項１に記載のスポット処理装置にし
て、電子的手段がマイクロプロセッサの形式であること
を特徴とするスポット処理装置。 - 【請求項３】請求項１または請求項２に記載のスポット
処理装置にして、該装置がマスキン材で封止された金属
スクリーン印刷ステンシル（3a）に小孔を設けるために
使用され、該小孔が群として予め定めた模様を形成す
る、ことを特徴とするスポット処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8801551 | 1988-06-17 | ||
| NL8801551A NL8801551A (nl) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | Inrichting voor het met een stralenbundel behandelen van een lichaam. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02110413A JPH02110413A (ja) | 1990-04-23 |
| JPH0750240B2 true JPH0750240B2 (ja) | 1995-05-31 |
Family
ID=19852480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1152463A Expired - Lifetime JPH0750240B2 (ja) | 1988-06-17 | 1989-06-16 | スポット処理装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4948940A (ja) |
| EP (1) | EP0347010B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0750240B2 (ja) |
| AT (1) | ATE87371T1 (ja) |
| DE (1) | DE68905530T2 (ja) |
| ES (1) | ES2039834T3 (ja) |
| NL (1) | NL8801551A (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5278027A (en) * | 1989-03-08 | 1994-01-11 | R. R. Donnelley | Method and apparatus for making print imaging media |
| AT393979B (de) * | 1989-11-07 | 1992-01-10 | Kufstein Schablonentech Gmbh | Vorrichtung zum bearbeiten von hohlzylindern mittels eines lasers |
| DE4105003A1 (de) * | 1991-02-19 | 1992-08-20 | Hell Ag Linotype | Verfahren und einrichtung zur scharfeinstellung eines optischen abbildungs-systems |
| DE4105001C2 (de) * | 1991-02-19 | 1995-03-23 | Hell Ag Linotype | Verfahren und Einrichtung zur Scharfeinstellung eines optischen Abbildungs-Systems |
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