JPH0749207A - 絶対干渉測定方法とこの方法に適したレーザー干渉装置 - Google Patents
絶対干渉測定方法とこの方法に適したレーザー干渉装置Info
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Abstract
によりレーザー光源の空気波長の乱れを大幅に補償し、
絶対間隔測定後に既知のレーザー波長を用いてビームか
測定が中断するまで相対測定を行い、絶対測定法を新た
に行える絶対干渉測定方法とレーザー干渉装置を提供す
る。 【構成】 特定な波長範囲内でモードの飛びのない状態
で可変できるレーザー光源2、干渉計アーム5が測定区
間を形成し、互いに干渉する分割ビーム6,7を発生さ
せるため、ビームスプリッタ8と二つの反射体9,10
を設けている測定干渉計4、各干渉信号を検出する干渉
計アームに設けた光検出器11,12、位相変化を測定
する計数電子回路、およびレーザー波長の制御装置を備
え、更に制御干渉計13を設け、干渉計アーム5,14
が互いに一定の長さの差を有し、測定干渉計と制御干渉
計に主ビームスプリッタ15と少なくとも1つの反射体
16,17によって同じレーザーのビームが入射する。
Description
くとも1つを可変測定区間として構成し、或る波長範囲
内でモードに飛びがない状態で可変できる少なくとも1
つのレーザー光源とレーザービームが入射する測定干渉
計とを使用して、特に絶対距離測定用の絶対干渉測定方
法、および或る波長範囲内でモードに飛びがない状態で
可変できるレーザー光源と、互いに干渉する少なくとも
2つの分割ビームを発生するため、1つのビームスプリ
ッタと2つの反射体を備え、少なくとも1つの干渉計ア
ームが測定区間を形成している、測定干渉計と、干渉信
号の各々を検出するため干渉計アームに設けた光検出器
と、位相変化を測定する計数器あるいは計数電子回路
と、レーザー波長の制御装置とを備え、この測定方法に
適したレーザー干渉装置に関する。
ば、測定干渉計と基準干渉計で構成され、レーザービー
ムを使用して対象物体の距離を測定する装置が知られて
いる。前記両方の干渉計に同じレーザー光源のビームが
入射する。レーザービームを周波数変調して互いに干渉
するそれぞれ2つの分割ビームから所謂基準唸り波が生
じる。その場合、測定唸り波あるいは基準唸り波の波数
を測定装置で求め、これ等の波数と基準区間の既知間隔
との比から測定間隔が求まる。この方法では、測定装置
が測定唸り波の波数を数え始めると同じ時点で基準唸り
波の波数を数え始める。それ故、基準唸り波の波数は一
般に整数ではない。そこでは、基準唸り信号の波数を少
数点以下の正確な精度で求めることができるように、測
定装置を構成して上記の事情を考慮に入れている。
波長の約 1/10 の分解能で高々測定されることが明らか
になる。しかし、この分解能は他の方法で達成できる分
解能まで達していない。
よれば、本来の測定干渉計の外に、他の所謂制御干渉計
が空気波長を制御するため使用されるレーザー干渉計も
知られている。この装置は一回の測定期間の間で測定干
渉計の測定区間内で生じる空気波長の乱れを補償するた
めに使用される。
題は、冒頭の述べたタイプの距離測定方法およびその装
置にあって、測定精度を高め、例えば各測定区間内での
温度あるいは空気圧力の変動によりレーザー光源の空気
波長の乱れをできる限り大幅に補償し、絶対距離測定に
従い既知のレーザー波長を用いてビームあるいは測定が
中断されるまで、相対測定を行い、その後、絶対的に測
定されるモードを新たに行えることにある。
により、少なくとも或る波長範囲内でモードに飛びがな
い状態で可変できる1つのレーザー光源と、レーザービ
ームが入射し、干渉計アームの少なくとも1つが可変測
定区間として設計されている測定干渉計を使用する、特
に絶対距離測定用の絶対干渉測定方法であって、付加的
に設けた1つの制御干渉計あるいは少なくとも2つの制
御干渉計で構成される干渉計カスケードにより制御区間
を用いてレーザー光源の空気波長を先ず波長値λ1 に調
整し、この波長値λ1 に少なくとも波長値λ2 まで延び
るレーザー光源の特性曲線のモードに飛びのない領域が
続き、測定干渉計と制御干渉計でそれぞれ少なくとも1
つの干渉信号を形成し、空気波長を波長値λ2 の近くで
連続的に可変し、制御干渉計によりこの波長値λ2 に制
御し、波長変調の間に、測定干渉計の干渉信号の積分位
相変化ΔΦを連続的に検出し、公式
λ1・λ2/(λ1 −λ2)は校正によって求まる測定方法に
よって解決されている。
定な波長範囲内でモードに飛びのない状態で可変できる
1つのレーザー光源、少なくとも1つの干渉計アームが
測定区間を形成し、互いに干渉する少なくとも2つの分
割ビームを発生させるため、ビームスプリッタと二つの
反射体を設けている測定干渉計、各干渉信号を検出する
干渉計アームに設けてある1つの光検出器、位相変化を
測定する計数器あるいは計数電子回路、およびレーザー
波長の制御装置を備え、請求項1〜13のいずれか1項
の測定方法に適したレーザー干渉計装置であって、更に
制御干渉計あるいは少なくとも2つの制御干渉計で構成
された干渉計カスケードを設け、制御干渉計の干渉計ア
ームが互いに一定の長さの差を有し、測定干渉計と制御
干渉計には、主ビームスプリッタと少なくとも1つの反
射体あるいは光導波路によって同じレーザーのビームが
入射するレーザー干渉計装置によって解決されている。
求の範囲の従属請求項に記載されている。
法に反して、この発明による測定方法は、測定区間を求
めるのに絶対距離間隔に立ち入るのでなく、波長あるい
は唸り波長の値のみ、および位相変化に立ち入る点で優
れている。更に、この発明による測定方法には、波長間
隔の両方の終点で波長を制御するため、一般に発生する
測定すべき干渉信号の位相変化の一部を 1/100よりも良
い分解能で求めることができる利点がある。更に、制御
干渉計によって2つの波長の値を制御して、上に述べた
タイプの測定区間で位相測定の間に生じる乱れを補償す
ることが保証される。
メータの範囲にある長さの制御区間が使用される。この
発明による方法では、更に制御される波長を用いた絶対
測定周期に従って通常の干渉計の意味で相対測定が行わ
れる。
でレーザービームの高い出力レベルおよひそれに応答す
る単色性のために、特に波長λ2 が考えられる。この発
明による測定方法は、絶対および相対間隔測定を組み合
わせる可能性を初めて提示している。何故なら、この方
法では空気波長が絶対的に制御されるからである。それ
故、波長の値がこの方法で絶対的に測定できるの、これ
が可能である。絶対およひ相対間隔測定の組み合わせ
は、例えば自動仕上げ装置を制御するため、通常相対間
隔測定で充分であるが、例えば調整のため絶対測定が時
として必要であるか、あるいはビームと止めたり、ある
いは他の方法の測定を、例えば電子的な限界周波数によ
り決まる測定反射体の余りにも早い移動速度で中断でき
る場合に適している。
の変調がレーザー光源の駆動電流を介して行える。測定
周期の時間をできる限り短く維持し、これによって誤差
の影響を最小にするため、波長変化を電流変調のみで行
うが、例えばレーザー光源の熱シンクの温度変化によっ
て行わないと有利である。温度可変時での連続可変範囲
は電流変化時での可変範囲より係数5ほど大きいが、こ
の過程は電流変調の場合の数ミリ秒に比べて数秒を必要
とする。しかし、この代わりに、例えば外部共振格子を
有する半導体レーザー光源も使用できる。この光源で
は、波長が共振格子の回転および/または移動によって
可変される。この代わりに、変調が温度、電流と共鳴格
子の回転および/または移動の組み合わせによっても行
われる。
留位相を波長の値λ1 とλ2 の範囲で求めることができ
る。残留位相としては、全波長間隔の両端で分割される
位相値である。
くとも測定干渉計内で、少なくとも2つの干渉分割ビー
ムによりそれぞれ位相のずれた干渉信号が生じ、これ等
の干渉信号の各々が1つの光検出器で測定される。
させるには、ビーム通路にλ/4板を挿入して行われるこ
とが知られている。この方法は、一方で絶対干渉測定の
外に相対的な距離測定も行えて、例えば測定区間にλ/4
板を挿入して測定すべき物体の相対運動の方向も周知の
ように求めることができる利点がある。
に向上できる可能性を提供する。これは、この発明によ
り、 90°位相のずれた2つの干渉信号によって形成さ
れる楕円状のリッサジュール図形に基づき積分位相変化
を求めることにより達成できる。
号の位相、特に残留位相を非常に正確に求めることがで
きる。もっとも、この評価を効果的に求めるには、光検
出器で検出された 90°位相のずれた干渉信号の光強度
を2軸表示で円形のリッサジール曲線上に載ることが保
証される必要がある。しかし、通常測定された位相値は
円の上でなく、楕円の上にあり、この楕円が半導体レー
ザー光源の出力特性により電流変調で閉じるのでなく、
渦巻き状に広がる。 90°位相のずれた2つの干渉信号
の正確に 90°でない位相差と等しくない増幅率、およ
びオフセットの発生は主に楕円形状による。測定された
位相値を修正する可能性としては、リッサジュール曲線
の楕円率を主軸変換によって円に変換する周知のヘィデ
マン(Heydemann)補正がある。もちろん、これには1信
号周期全体をできる限り多数の測定点で求める必要があ
る。
の測定方法によれば、更に残留位相を求めるため、波長
値λ1 あるいはλ2 への波長制御を行い、位相の変化を
これ等の範囲内で少なくとも1つの波長周期にわって求
めることができ、しかも 90°位相のずれた2つの干渉
信号に関して楕円状のシッサジュール図形に楕円を合わ
せ、次いで円に変換して各残留位相が求まるように、レ
ーザー光源の動作電流を可変している。
がレーザー出力に逆比例する初段増幅器に測定干渉計の
干渉信号を導入している。この発明による測定方法で
は、更に設定された基準区間がほぼ測定区間の半分に等
しく、その他の点では測定干渉計と同じように構成され
ている基準干渉計も使用している。
法と組み合わせると、長い基準区間による測定の不正確
さの少ない利点が波長を非常に正確に測定できる利点と
組合わさる。例えば、本来の絶対干渉計の外に、波長制
御方の干渉計や基準干渉計も使用する測定装置が考えら
れる。測定区間の半分である基準区間には、測定間隔全
体で2つの干渉計の空気比の最適な一致を保証する長所
がある。これには、もちろん、両方の干渉計を互いにで
きる限り短い間隔に設置すると効果的である。
値を求めることができる。その場合、この発明によれ
ば、波長変調により基準干渉計と測定干渉計内で生じる
位相変化ΔΦref およびΔΦabs を測定でき、ここで測
定区間の長さLabs は基準区間の長さLref が既知の場
合、公式
位相変化ΔΦref およびΔΦabs が同じトリガ信号を用
い過剰サンプリングして求まる。
合、この位相変化は一般に階段状のデジタル化曲線にし
て測定技術的に求まる。デジタル化のステップの数は、
最近市販されている半導体レーザー光源を用いた絶対干
渉法で一般的に極度に少なく、通常の干渉計の場合より
係数、
タ捕捉の場合、一定のサンプリング速度で測定電子回路
を過剰サンプリング(oversampling) して達成できる。
その場合、分解能の向上はサンプリング間隔の長さに対
するステップの長さの比に比例している。過剰サンプリ
ングを行う波長範囲は全波長間隔の最大 1/2に相当す
る。
二レーザー光源あるいは多波長レーザー光源が使用さ
れ、この光源は少なくとも1つの他の離散的な波長λ3
を有するレーザービームを出射する。このレーザービー
ムも同じように各干渉計に導入される。その場合、レー
ザー光の波長は交互に切り換わり、電子回路あるいは電
算機により後から行われる2つのレーザービームの重ね
合わせによって、一定の唸り波長を有する合成唸りが形
成されるように、波長値λ3 を波長λ1 とλ2 に合わせ
る。
による測定法で更に高まる。付加的な離散波長のため、
唸り波長が生じる。この唸り波長は波長を連続的に可変
する方法による測定の不確実さより長い。λ1 とλ3 を
重ね合わせることも可能である。何故なら、λ1 に属す
る残留位相は既に測定されているからである。こうし
て、λ1 とλ3 やλ2 とλ3 が一致した結果を与えるの
で、誤差の制御が行える。
ー光源あるいは固体レーザー光源が考えられる。制御干
渉計は、その構造において以下の構成を除いて、測定干
渉計に一致する。除外される構成とは、干渉計の2つの
アームが互いに一定の長さの差を有し、つまり特に測定
区間の長さが予め一定に与えられていて、制御区間が測
定区間の長さの半分より短かく構成されている。その場
合、制御区間の短い利点は、制御干渉計が乱れ、例えば
測定区間あるいは制御区間での温度あるいは気圧に変動
がある場合、他の状態に移行しない。もちろん、これは
制御干渉計で達成できる分解能を犠牲にして行われ、そ
の場合、もちろん、この発明による干渉計装置の場合、
この装置で達成される精度は充分である。
異なった制御区間を有する制御干渉計が使用される。短
い制御区間を有する第一干渉計では、動作を始めると、
制御を所定の波長に合わせることができる。その場合、
波長はこの干渉計により、次に長い測定区間に切り換わ
った場合、正しい波長に合うように正確に安定化され
る。次いで、長い測定区間を用いてより改善された安定
化が達成できる。
更に制御区間の長さがセンチメータの範囲内にある。こ
の発明によるレーザー干渉計装置では、更に測定干渉計
の干渉信号に対して初段増幅器が設けてあり、その増幅
率はレーザー出力に逆比例している。このことは、初段
増幅後に信号レベルがレーザー出力に無関係、つまり波
長に無関係であることになる。
更に制御干渉計の制御区間のビーム通路中にλ/4板が設
けてある。この処置により、波長を連続的に変化させて
いる期間でも制御干渉計により次数を勘定に入れること
ができる。
は、干渉計のアームが互いに一定の長さの差を有し、そ
の基準区間がほぼ測定区間の半分に相当する基準干渉計
が更に設けてあるように構成されている。
と、基準区間が長いため、測定の不正確が少ない利点を
波長を非常に正確に知る利点と組み合わさる。更に、こ
の発明によるレーザー干渉計装置は、波長λ1 やλ2 と
は異なる少なくとも1つの他の離散波長を有するレーザ
ービームを出射する第二レーザー光源あるいは多波長レ
ーザー光源を設けるように構成される。
から重ね合わせて、全体で唸り波長が生じる。この波長
は波長を連続的に可変する方法による測定の不正確さよ
り長い。従って、レーザー干渉計装置の分解能を更に向
上させることができる。
は、位相を自動的に評価するため、計数器あるいは計数
電子回路および評価電子回路ないしは電算機を設けるよ
うに構成されている。
動化でき、それ故に連続的に距離測定を行える。最後
に、この発明によるレーザー干渉計装置では、装置の少
なくとも一部が集積光学系で、また光通路の複数の部分
が光導波路で構成されている。
る標準部材を使用して初めて可能になり、この発明によ
るレーザー干渉計装置にとってもっと広い応用分野を開
拓させる。その場合、個々の部材間に生じるカップリン
グは光導波路を介して行われる。
置の実施例に基づき、この発明による測定方法をより詳
しく説明する。
置1には2つの可変レーザー光源2,3がある。この場
合、レーザー光源2は図示していない駆動電源によって
特性曲線のモードに飛びのない波長範囲で変調される
が、これに反してレーザー光源3は一定の波長で駆動さ
れている。更に、測定干渉計4も設けてあり、この干渉
計では干渉計アーム5が本来の測定区間を形成してい
る。互いに干渉する少なくとも2つの分割ビーム6,7
を発生させるため、ビームスプリッタ8と逆行反射体
9,10が使用されている。分割ビーム6,7の検出は
光検出器11,12で行われる。更に、光検出器11,
12は図示していない計数電子回路に接続し、レーザー
光源2,3はそれぞれ図示していないレーザー波長用の
制御装置に接続している。測定干渉計4の中心付近に
は、更に制御干渉計13も設けてある。この干渉計の制
御区間14は、測定区間の半分より短い一定の長さを有
する。それ以外では、制御干渉計13はその構造に関し
て測定干渉計4と一致している。測定干渉計4と制御干
渉計13には主ビームスプリッタ15と反射体16によ
って同じレーザー光源2,3のビームが入射する。レー
ザー光源2へのビームの入射は反射体17によって行わ
れる。専ら標準部材を使用しているため、レーザー干渉
計装置1全体は集積光学系として構成できる。
ば或る間隔で測定された残留位相φ 2 とφ3 と共に連続
的に可変できる方法を用いて決定された距離だけ、等式
合、上記の間隔はこの方法を用いた測定の不確実さの二
倍より長く、合成された波長の半分より短くなくてはな
らない。これは、前記間隔内で例えばφ2 とλ2 および
φ3 とλ3 により可能となり、大きさに応じて選別され
る距離を求め、しかも連続する2つの距離の差が最小に
なる距離を求めようにして行われる。こうして、整数の
干渉次数m 2 あるいはm3 が判明する。測定された残留
位相φ1 とφ3 を用いて絶対距離を測定することはここ
では点検として使用されている。位相測定が非常に正確
であるため、距離を個々の波長の分数で絶対的に求める
ことができる。つまり 1/100の位相分解能の場合、λ2/
100 で求めることができる。この方法は、メータ範囲の
測定区間の場合、 10-7より良好な波長制御を前提とし
ている。これは「自走している」半導体レーザー光源
(つまり電流と温度の制御のみ)で不可能である。何故
なら、それ以外では 1/100の位相分解能が求まらないか
らである。
の時点t1 で一定の波長値λ1 22を有する。この時点
まで、上記の波長値への制御が制御干渉計13によって
行われる。上記波長値は、レーザー光源のモードに飛び
のないより広い範囲がより大きな値に続くように選択さ
れる。時点t1 で制御干渉計は一時的に止まり、レーザ
ー駆動電流を連続的に可変して、曲線21の変化に合わ
せてレーザー波長を変調する。モードに飛びのない範囲
内にある波長λ2 23では、制御干渉計13が再び動作
し、この波長値に調整される。波長変調の間に生じる位
相変化24は図2の下部に示してある。この曲線24の
鋸歯波形は、波長を可変する場合、位相が新しい干渉次
数に移るまで絶えず、直線的に変わることによって生じ
る。各測定範囲にある一定の位相値25,26は干渉計
で波長を制御するため非常に正確に求めることができ
る。以下では、全体を初期位相φ1 と最終位相φ2 の差
で表せる各残留位相を正確に求めることに関して立ち入
る。この場合、積分位相変化Δφは簡単に鋸歯の先端を
数え、測定曲線24の終点で求めた残留位相を計算する
と求まる。結局、測定区間の決定は請求項1に記載する
公式により干渉信号の全(積分)位相変化と波長値λ1
およびλ2 により行われるか、先行する校正で行われ
る。この校正は、例えば互いにできる限り離れた異なる
2つの位置に対して測定して行われ、同時に他の適当な
方法でこれ等の位置の間の距離を測定する。その結果、
比例数k=ΔL/ ΔΦが得れ、この数から絶対距離がL
abs =k・ΔΦにより決まる。波長λ2 を正確に分かっ
ているので、相対測定を絶対測定に続けることができ
る。
式図を示し、付加的な基準干渉計を使用する場合、過剰
サンプリングがどのように行われるかを示す。この過剰
サンプリングは測定期間の最初と終わりでのみ行われ
る。ここでは、例えば波長変調の初めに検出されたデジ
タル曲線31が示してある。波長変調の初めと終わりで
測定干渉計と基準干渉計により同時に測定値を求めてい
るので(それぞれ約 10,000 個の測定値)、対応する多
数の整数の位相差Nabs とNRef を形成できる。これ等
の値から基準距離LRef を用いて絶対距離Labs が
0,000 個の位相差NabsとNRef を使用し、これ等に付
いて求めて達成される。
°位相のずれた2つの干渉信号6,7に解析的に合わせ
ることにより求めた典型的なリッサジュール楕円を示
す。内部のリッサジュール曲線41は測定期間の初めの
1波長周期の2つの干渉信号の位相変化を示す。これに
反して、外部のリッサジュール曲線42は測定期間の終
わりでの位相変化を示す。半径が異なるのは、波長と共
に増加するレーザー光源の出力特性の結果である。残留
位相φ1 とφ2 はそれぞれこれ等の曲線の一方の上にあ
り、非常に正確に求まる。もちろん、この場合、周知の
方法で楕円を円に変換すると通常効果的である。
ーザー波長を変える方法に応じて位相を決めるための信
号波形を示す。この場合、そこで静的に求めた位相値に
加えて、1周期全体の位相が収録されている。図5のグ
ラフは測定期間の初めに求めた 90 °位相のずれた干渉
信号の位相データ51,52、および測定期間の終わり
に求めた対応するデータ53,54に対するグラフであ
る。これ等の曲線51,52,53,54を求めるた
め、制御干渉計13で行われる波長制御が時点55で短
時間中断される。そして、レーザー光源の駆動電流を変
えて、少なくとも1周期にわたる位相変化が生じる。こ
うしてリッサジュール楕円を求めたデータに合わせ、こ
の楕円を図4の方法で評価できる。
を行うため、対にして位相差を付けた信号を使用する周
知の方法、つまり互いに位相のずれた4つの信号を使用
する所謂プッシュプル評価も利用できる。他の有利な評
価は互いに位相が 120°ずれた干渉信号を発生させるも
のである。
定方法とこれに適した干渉計装置により、測定精度を高
め、例えば各測定区間内での温度あるいは空気圧力の変
動によりレーザー光源の空気波長の乱れをできる限り大
幅に補償し、絶対距離測定に従い既知のレーザー波長を
用いてビームあるいは測定を中断するまで、相対測定を
行い、その後、絶対的に測定されるモードを新たに行え
る。
ーザー干渉計装置の実施例を示す。
ら生じる測定干渉計で生じる干渉信号の位相変化を示す
図である、
ある、
ッサジュール楕円の図を示す、
方法による位相を決定するための信号波形を示す。
Claims (21)
- 【請求項1】 少なくとも或る波長範囲内でモードに飛
びがない状態で可変できる1つのレーザー光源と、レー
ザービームが入射し、干渉計アームの少なくとも1つが
可変測定区間として設計されている測定干渉計とを使用
する、特に絶対距離測定用の絶対干渉測定方法におい
て、 付加的に設けた1つの制御干渉計あるいは少なくとも2
つの制御干渉計で構成される干渉計カスケードにより制
御区間を用いてレーザー光源の空気波長を先ず波長値λ
1 に調整し、この波長値λ1 に少なくとも波長値λ2 ま
で延びるレーザー光源の特性曲線のモードに飛びのない
領域が続き、 測定干渉計と制御干渉計でそれぞれ少なくとも1つの干
渉信号を形成し、 空気波長を波長値λ2 の近くで連続的に可変し、制御干
渉計によりこの波長値λ2 に制御し、波長変調の間に、
測定干渉計の干渉信号の積分位相変化ΔΦを連続的に検
出し、公式 【外1】 により測定区間の長さLabs を求める、ことを特徴とす
る測定方法。 - 【請求項2】 センチメートルの範囲にある長さの制御
区間が使用されることを特徴とする請求項1に記載の測
定方法。 - 【請求項3】 調整された波長を用いる絶対測定を行う
測定期間の後に、通常の干渉計測法で相対測定が行われ
ることを特徴とする請求項1または2に記載の測定方
法。 - 【請求項4】 波長変調はレーザー光源の駆動電流によ
って行われることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
1項に記載の測定方法。 - 【請求項5】 波長値λ1 とλ2 での残留位相がそれぞ
れ測定されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか
1項に記載の測定方法。 - 【請求項6】 少なくとも測定干渉計では、干渉する少
なくとも2つの分割ビームからそれぞれ互いに位相のず
れた干渉信号を発生し、これ等の干渉信号をそれぞれ1
つの光検出器で測定することを特徴とする請求項1〜5
のいずれか1項に記載の測定方法。 - 【請求項7】 積分位相変化を求めることは 90°位相
のずれた二つの干渉信号によって形成される楕円状のリ
ッサジュール図形に基づき行われることを特徴とする請
求項6に記載の測定方法。 - 【請求項8】 残留位相を発生させるため、波長を波長
値λ1 あるいはλ2に調整し、位相変化がこれ等の領域
で少なくとも1波長周期にわたり求めることができる楕
円状のリッサジュール図形の楕円を 90°位相のずれた
2つの干渉信号に合わせ、次いで円に変換して、各残留
位相が求めまように、レーザー光源の駆動電流を可変す
ることを特徴とする請求項6または7に記載の測定方
法。 - 【請求項9】 測定干渉計の干渉信号は増幅率がレーザ
ー光源の出力に逆比例する初段増幅器に導入されること
を特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の測定
方法。 - 【請求項10】 更に基準干渉計を使用し、その固定さ
れた基準区間が測定区間の約半分に相当し、それ以外は
測定干渉計と同じように構成されていることを特徴とす
る請求項1〜9のいずれか1項に記載の測定方法。 - 【請求項11】 基準干渉計と測定干渉計で波長変調に
より発生した位相変化ΔΦRef とΔΦabs を測定し、基
準区間の長さLRef が既知の場合、測定区間の長さL
abs を公式 【外2】 により求めることを特徴とする請求項10に記載の測定
方法。 - 【請求項12】 位相変化ΔΦRef とΔΦabs は同じト
リガ信号によって過剰サンプリングして求まることを特
徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の測定方
法。 - 【請求項13】 第二レーザー光源あるいは多波長レー
ザー光源を使用し、このレーザー光源は付加的に少なく
とも1つの他の離散的な波長を有するレーザービームを
出射し、前記レーザービームを干渉計の各々に導入し、
その場合、レーザー波長を順次交互に駆動し、電子回路
あるいは電算機により後で行われる2つのレーザービー
ムの重畳により一定唸り波長を有する合成唸りが形成さ
れるように、波長値λ3 を波長値λ1 とλ2 に調整する
ことを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載
の測定方法。 - 【請求項14】 特定な波長範囲内でモードに飛びのな
い状態で可変できる1つのレーザー光源、少なくとも1
つの干渉計アームが測定区間を形成し、互いに干渉する
少なくとも2つの分割ビームを発生させるため、ビーム
スプリッタと二つの反射体を設けている測定干渉計、各
干渉信号を検出する干渉計アームに設けてある1つの光
検出器、位相変化を測定する計数器あるいは計数電子回
路、およびレーザー波長の制御装置を備え、請求項1〜
13のいずれか1項の測定方法に適したレーザー干渉計
装置において、 更に制御干渉計あるいは少なくとも2つの制御干渉計で
構成された干渉計カスケードを設け、制御干渉計の干渉
計アームが互いに一定の長さの差を有し、測定干渉計と
制御干渉計には、主ビームスプリッタと少なくとも1つ
の反射体あるいは光導波路によって同じレーザーのビー
ムが入射することを特徴とするレーザー干渉計装置。 - 【請求項15】 制御区間の長さはセンチメートルの範
囲であることを特徴とする請求項14に記載のレーザー
干渉計装置。 - 【請求項16】 測定干渉計の干渉信号に対して、増幅
率がレーザー出力に逆比例する初段増幅器が設けてある
ことを特徴とする請求項14または15に記載のレーザ
ー干渉計装置。 - 【請求項17】 制御干渉計の制御区間のビーム通路に
はλ/4板が設けてあることを特徴とする請求項14に記
載のレーザー干渉計装置。 - 【請求項18】 更に基準干渉計が設けてあり、この干
渉計アームが互いに一定の長さの差を有し、基準区間が
測定区間の約半分に相当することを特徴とする請求項1
4または15に記載のレーザー干渉計装置。 - 【請求項19】 波長値λ1 とλ2 とは異なる離散的な
波長のレーザービームを放出する第二レーザー光源ある
いは多波長レーザー光源が設けてあることを特徴とする
請求項14〜18のいずれか1項に記載のレーザー干渉
計装置。 - 【請求項20】 位相評価を自動化するため、計数器あ
るいは計数電子回路および評価電子回路あるいは電算機
が装備されていることを特徴とする請求項14〜19の
いずれか1項に記載のレーザー干渉計装置。 - 【請求項21】 装置の少なくとも一部を集積光学系
で、また光通路の複数の部分を光導波路で構成している
ことを特徴とする請求項14〜20のいずれか1項に記
載のレーザー干渉計装置。
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