JP3795257B2 - 測長装置および測長補正装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、工作機械などの対象物の位置検出に用いられ、稼働部分が揺動しても測定誤差を生じさせないような測長装置および測長補正装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
光波の干渉を利用することで長さを測定する干渉計としては、一般的に振幅分割を用いたマイケルソン干渉計が広く知られている。この他、光波の干渉を利用して絶対値の測定を行うことができる測長装置として、特開平10−170217号公報に記載のものが知られている。図14は、当該測長装置の構成を示す説明図である。
【0003】
この測長装置1500は、コヒーレントな平行ビームBを発生する光源1501と、平行ビームBの分波および合波を行うビームスプリッター1502と、位置測定対象Tに連設されると共に平行ビームBを光軸を変えずに反射する反射器1503、1504と、平行ビームBの光軸を曲げる反射鏡1505と、ビームスプリッター1502により合波した平行ビームBの強度を検出する光検出器1506とから構成されている。前記位置測定対象Tは、たとえば工作機械の加工テーブルや刃物台などである。反射器1503、1504には、回折格子やコーナーキューブ・プリズムなどを用いる。
【0004】
光源1501から出射した平行ビームBは、ビームスプリッター1502により2方向に分波される。一方の平行ビームBaは、位置測定対象Tの移動方向に対して平行に進行し、他方の平行ビームBbは、位置測定対象Tの移動方向に直交するように分岐するが、反射鏡1505によりその光軸を曲げられて当該位置測定対象Tの移動方向に対して所定角度θの方向に進行する。各平行ビームBは、反射器1503、1504において光軸を変えることなく反射し、再びビームスプリッター1502において合波される。合波された平行ビームBは、その位相変化により変調を受ける。
【0005】
この平行ビームBの強度は、前記光検出器1506により検出される。この測長装置1500において、平行ビームBaと平行ビームBbとの光路差Δは、
Δ=2(L−L・cosθ)=2L(1−cosθ)
となるから、干渉周期を1/(1−cosθ)に拡大することが可能になる。このため、傾き角θを変化させることにより、干渉信号1周期に相当する位置測定対象Tの移動距離を任意の値に設定することができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の測長装置1500では、反射器1503、1504を加工テーブルなどの稼働部分に取り付けている。このため、当該稼働部分のY軸水平方向およびZ軸水平方向の揺動により光検出器1506に入射する光軸がずれてしまい、測定誤差が生じるという問題点があった。
【0007】
そこで、この発明は、上記に鑑みてなされたものであって、稼働部分が揺動しても測定誤差を生じさせないような測長装置および測長補正装置を得ることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、この発明による測長装置は、コヒーレントな平行ビームを発する光源と、平行ビームの光軸上に位置すると共に稼働部分である位置測定対象に固定した回折格子と、回折格子の回折光を回折次数ごとに反射して回折格子に戻すと共に前記位置測定対象以外の部分に固定した反射手段と、を備え、回折格子による干渉光から測長を行うものである。
【0009】
光源からの平行ビームは、回折格子に入射して回折光となる。各次数の回折光は、反射手段、たとえば反射ミラーにより反射して再び回折格子に入射し、干渉する。この干渉光の強度を検出し、回折格子までの長さを測定する。回折格子は、位置測定対象に固定されており、反射ミラーは当該位置測定対象ではなく、これ以外のなるべく稼働しない部分に固定する。回折格子は、その特性上、面方向に揺動しても回折光にほとんど影響を及ぼさないから、位置測定対象の揺動による測定誤差を抑制することが可能になる。
【0010】
つぎの発明による測長装置は、上記測長装置において、さらに、前記所定次数の回折光の光軸上に位相シフト手段を設け、偏光分割手段により位相差を有する偏光成分ごとの干渉信号を取得し、この両干渉信号に基づいて測長を行うものである。
【0011】
位相シフト手段、たとえば位相板により回折光の偏光を変化させ、位相の異なる干渉信号を得る。この干渉信号を重ね合わせることで現在の角度を特定する。たとえば角度が0°と180°とではその出力信号が0になるが、位相シフトした干渉信号の符号を参照することにより0°か180°かを特定することができる。なお、前記偏光分割手段は、たとえば偏光ビームスプリッターなどである。
【0012】
つぎの発明による測長装置は、上記測長装置において、さらに、前記回折格子および反射手段を有する干渉計を複数段設けると共に各干渉計により取得する干渉信号の波長を異なるものにし、当該波長の異なる干渉信号を重ね合わせることにより測長を行うようにしたものである。
【0013】
1波長を電気的に分解するには限界があるため、波長の異なる干渉信号を重ね合わせるようにする。このようにすれば、測長の分解能を向上することができる。たとえば特定干渉計の1波長を16分割するような波長を持つ干渉計を設けることにより、測長の分解能を向上させる。干渉信号の波長を異なるものにするには、格子ピッチが異なる回折格子を用いたり、格子ピッチは同じだが異なる次数の回折光を用いることにより取得することができる。なお、干渉計は、2段でもそれ以上であっても構わない。
【0014】
つぎの発明による測長装置は、上記測長装置において、さらに、前記回折格子および反射手段を有する干渉計を複数段設けると共に各干渉計により取得する干渉信号の波長を僅かに異なるものにしてバーニア波を発生させ、当該バーニア波により測長を行うようにしたものである。
【0015】
バーニア波を発生させることにより、測定範囲を拡大することができる。バーニア波を発生させるには、異なる格子ピッチを持つ回折格子を用いたり、格子ピッチは同じであるが用いる回折光の次数を異なるものにすればよい。
【0016】
つぎの発明による測長装置は、上記測長装置において、さらに、前記回折格子および反射手段を有する干渉計を複数段設けると共に一部の干渉計の回折格子を移動させないようにし、当該干渉計から取得した干渉信号によって、その他の干渉計から取得した干渉信号を補正するようにしたものである。
【0017】
干渉信号には、回折格子の移動距離、屈折率変動および光源の波長変動などに基づく誤差が含まれている。従って、回折格子が移動しないような干渉計を構成すれば、移動距離以外の要因による位相変動(誤差)を得ることができる。この他の干渉計によって取得される干渉信号には、屈折率変動などの誤差要因が含まれているから、当該干渉信号を前記回折格子が移動しない干渉計から取得した干渉信号により補正することで、誤差を除去することができる。かかる構成によれば、空気中の屈折率変動を起こす各種パラメータを測定する各種センサ類が不要になる。なお、補正用の干渉計は、1段構成であっても複数段構成であってもよい。具体的には、1段構成の補正用の干渉計により、複数の測長用の干渉計を補正するようにしてもよい。また、複数段の補正用の干渉計により、一つの測長用の干渉計を補正するようにしてもよい。さらに、各補正用の干渉計と、各測長用の干渉計とを一対一に対応させてもよい。
【0018】
つぎの発明による測長装置は、上記測長装置において、さらに、前記反射手段を、回折格子および反射手段を有する一つの干渉計にて、少なくとも二つ設けたものである。
【0019】
回折格子で回折光を干渉させるには、回折光を二つ用いる必要があるから、当該回折光を反射する反射手段を少なくとも二つ設けるようにした。このようにすれば、測長装置の構成を簡略化することができる。
【0020】
つぎの発明による測長装置は、上記測長装置において、さらに、前記干渉光を光電変換して得た干渉信号をコンパレータにて所定のしきい値と比較し、その結果をカウンタに出力することで位置データを生成するにあたり、前記回折格子を通過した測定光の強度を検出する測定光強度検出手段を設け、この測定光強度検出手段の測定光強度信号から平均強度信号を求め、この平均強度信号により前記しきい値を調整するようにしたものである。
【0021】
測定光の強度が変動するとコンパレータにおける比較動作が不安定になるため、測定光の強度を取得して当該測定光強度に基づいてコンパレータのしきい値を調整するようにした。このようにすれば、コンパレータにおいて安定した比較動作を行うことができる。
【0022】
つぎの発明による測長装置は、上記測長装置において、さらに、前記干渉光を光電変換して得た干渉信号をコンパレータにて所定のしきい値と比較し、その結果をカウンタに出力することで位置データを生成するにあたり、干渉信号を入力するローパスフィルタを設け、当該ローパスフィルタの出力値に基づいて前記しきい値を調整するようにしたものである。
【0023】
干渉光の強度が変動するとコンパレータにおける比較動作が不安定になるため、ローパスフィルタに干渉信号を入力し、当該ローパスフィルタの出力信号に基づいてコンパレータのしきい値を調整するようにした。このようにすれば、コンパレータにおいて安定した比較動作を行うことができる。
【0024】
つぎの発明による測長装置は、上記測長装置において、さらに、前記干渉光を光電変換して得た干渉信号をコンパレータにて所定のしきい値と比較し、その結果をカウンタに出力することで位置データを生成するにあたり、前記しきい値に関するデータを格納する記憶手段と、当該しきい値に関するデータに基づいて前記コンパレータのしきい値を調整する制御手段とを備えたものである。
【0025】
測長装置は、個々の製品についてしきい値にバラツキが生じるため、出荷前などに調整工程が必要になるが、記憶手段に格納したしきい値に関するデータを用いてコンパレータのしきい値を調整するようにすれば、調整工程を簡単にすることができる。
【0026】
つぎの発明による測長装置は、上記測長装置において、さらに、干渉光の光強度検出手段を設け、当該光強度検出手段の検出信号から平均光強度を求め、当該平均光強度に基づいて前記記憶手段に格納したしきい値に関するデータを書き換え、当該記憶装置のデータに基づいてコンパレータのしきい値を調整するようにしたものである。
【0027】
干渉光の強度が変動するとコンパレータにおける比較動作が不安定になるため、光強度検出手段により光強度を取得して平均光強度を求め、これに基づいてしきい値に関するデータを書き換える。制御手段は、このデータに基づいてコンパレータのしきい値を調整する。このようにすれば、急激な干渉光の変化にも追従することが可能であり、コンパレータにおいて安定した比較動作を行うことができる。
【0028】
つぎの発明による測長装置は、上記測長装置において、さらに、前記干渉光を光電変換して得た干渉信号をコンパレータにて所定のしきい値と比較し、その結果をカウンタに出力することで位置データを生成するにあたり、光学部品の経時変化に対応したしきい値に関するデータを格納する記憶手段と、当該しきい値に関するデータに基づいて前記コンパレータのしきい値を調整する制御手段とを備えたものである。
【0029】
制御手段は、たとえば測長装置の使用開始から使用時間を加算し、この使用時間にかかるしきい値のデータを記憶手段から取り出す。そして、このしきい値のデータに基づいてコンパレータのしきい値を調整する。このようにすれば、光学部品の経時変化によってもコンパレータの比較動作を安定して行うことができる。
【0030】
つぎの発明による測長装置は、上記測長装置において、さらに、前記干渉光を光電変換して得た干渉信号をコンパレータにて所定のしきい値と比較し、その結果をカウンタに出力することで位置データを生成するにあたり、前記しきい値に関するデータを格納する記憶手段と、干渉信号を入力するローパスフィルタと、前記記憶手段に格納しているしきい値に関するデータとローパスフィルタの出力信号に関するデータとを選択し、当該選択したデータに基づいて前記コンパレータのしきい値を調整する制御手段とを備えたものである。
【0031】
回折格子が低速移動または停止している場合は、記憶手段のデータを取り出してしきい値を調整するのが適しており、一方、回折格子が高速移動している場合は、ローパスフィルタによりしきい値を調整するのが適している。このため、制御手段により両者を選択できるような構成にした。このようにすれば、コンパレータの比較動作を確実に行うことができる。
【0032】
つぎの発明による測長補正装置は、光源から発したコヒーレントな平行ビームを分割し、この分割した平行ビームの光軸上に回折格子を配置すると共に当該回折格子を稼働部分である位置測定対象以外に固定し、同じく、当該位置測定対象以外の部分に固定した反射手段により、回折格子の回折光を回折次数ごとに反射して回折格子に戻し、回折格子による干渉光を光電変換して得た干渉信号に基づいて、測長用の干渉信号の補正を行うようにしたものである。
【0033】
通常、測定用の干渉計により得た干渉信号には、屈折率変動などに起因した誤差が含まれる。このため、位置測定対象以外の部分に回折格子を固定して当該誤差を取得し、他の干渉計により測長した干渉信号を補正するようにした。このようにすれば、測長の精度を向上させることができる。
【0034】
【発明の実施の形態】
以下、この発明にかかる測長装置および測長補正装置につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
【0035】
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1にかかる測長装置を示す構成図である。この測長装置100は、半導体レーザーなどのコヒーレントな平行ビームを発生する光源101と、光源101からの光を入射させて0次と±p次(pは整数)の回折光を発生させる回折格子102と、回折格子102により回折した0次と±p次の回折光を反射し、再び回折格子102上で各回折光を干渉させる3枚の反射ミラー103〜105と、回折格子102で干渉した干渉光を取り出すハーフミラー106と、ハーフミラー106から取り出した干渉光の強度を検出する受光素子107とを備えている。前記回折格子102は、工作機械の加工テーブルや刃物台などの位置測定対象Tに取り付けられている。反射ミラー103〜105は、位置測定対象T以外の部分、たとえば工作機械のベッドなどに取り付けられている。回折格子102は、位置測定対象Tと共にX軸方向に移動する。
【0036】
つぎに、この測長装置100の動作について説明する。光源101から出射した平行ビームBが回折格子102に入射すると、0次と±p次(pは整数)との回折光が発生する。ここで、回折格子102は、その特性上、Y軸水平方向およびZ軸水平方向に揺動しても回折角が変化しない。このため、当該回折格子102が揺動しても、0次光は、反射ミラー103により反射して回折格子102に戻るし、p次光も、反射ミラー104と反射ミラー105により2回反射して回折格子102に戻ることになる。
【0037】
そして、これら反射光(0次光、±p次光)を回折格子102にて再び回折させ、0次光による0次光、+p次光による−p次光、および−p次光による+p次光を重ね合わせ、干渉させる。続いて、当該干渉光をハーフミラー106で入射光から分離し、受光素子107で光電変換する。受光素子107で光電変換した干渉信号は、処理部108に送信される。
【0038】
干渉信号の位相は、回折格子102のX軸方向の移動距離に比例して変動する。処理部108は、この干渉信号に基づいて回折格子102のX軸方向の移動距離を演算する。移動距離に対する位相変化の感度は、光源101の平行ビームBの波長と回折格子102の格子ピッチ、および回折次数によって決定される。たとえば、光源101からの平行ビームの波長をλ、波長λと格子ピッチおよび回折次数によって決定される回折角をθ、空気中の屈折率をnとし、この屈折率nを一定とした場合、干渉信号1周期の変化量に相当する回折格子102の移動距離dは、
d=λ/(2n(1−cosθ))
で表される。
【0039】
一般に、この回折格子102の移動距離dが回折格子102の移動範囲として設定される。かかる設定によれば、干渉光の強度から回折格子102が移動した距離の絶対値を求めることができる。また、平行ビームBの波長λ、回折格子102の格子ピッチおよび回折次数pを適切に組み合わせれば、干渉信号1周期に相当する回折格子102の移動距離dを任意の値に設定できる。
【0040】
以上、この測長装置100によれば、回折格子102を稼働部分である位置測定対象Tに取り付ける一方、反射ミラー103〜105は当該位置測定対象Tとは別の部分に取り付けるようにしているため、まず、当該回折格子102の特性上からY軸水平方向およびZ軸水平方向の揺動による測定誤差が生じないという効果を得ることができる。また、回折格子102のみを稼働部分に取り付けるようにしているから、稼働部分への負担が非常に小さくなり、測長装置100を単純かつ小型にすることができる。
【0041】
つぎに、上式にて示したように、干渉信号1周期に対する回折格子102の移動距離dは、平行ビームBの波長λ、回折格子102の格子ピッチおよび回折次数pにより設定することができるから、位置測定対象Tの移動可能範囲が大幅に異なる製品にも容易に適用させることができる。なお、回折格子102の絶対値測定だけではなく、パルスカウント等によりインクリメンタルな測定も行うことができる。たとえば干渉信号1周期に対する回折格子102の移動距離を当該回折格子102の全移動可能距離の1/10に設定し、この周波数カウントを行うことにより回折格子102の移動距離を求めるようにしてもよい。また、電気内挿等の手段を用いて、1周期を電気的に分解するようにすれば、さらに高分解能化も可能になる。
【0042】
実施の形態2.
図2は、この発明の実施の形態2にかかる測長装置を示す構成図である。この測長装置200は、半導体レーザーなどのコヒーレントな平行ビームBを発生する光源201と、光源201からの平行ビームBを入射させて0次と±p次(pは整数)の回折光を発生させる回折格子202と、回折格子202により回折した0次と±p次の回折光を反射し、再び回折格子202上で各回折光を干渉させる3枚の反射ミラー203〜205と、0次回折光の光軸上に設けた位相板206と、回折格子202で干渉した干渉光を取り出すハーフミラー207と、位相差の異なる干渉光を分割して取り出す偏光ビームスプリッター208と、各位相ごとに干渉光の強度を検出する受光素子209、210とを備えている。
【0043】
前記回折格子202は、工作機械の加工テーブルや刃物台などの位置測定対象Tに取り付けられている。反射ミラー203〜205は、位置測定対象以外の部分、たとえば工作機械のベッドなどに取り付けられている。回折格子202は、位置測定対象Tと共にX軸方向に移動する。
【0044】
つぎに、この測長装置200の動作について説明する。光源201から出射した平行ビームBが回折格子202に入射すると、0次と±p次との回折光が発生する。0次光は、反射ミラー203により反射して回折格子202に戻るが、光軸上に配置したλ/8位相板206を往復で2回通過して、その偏光が変化させられる。一方、p次光は、反射ミラー204と反射ミラー205により2回反射して再び回折格子202に戻る。
【0045】
そして、これら反射光(0次光、±p次光)を回折格子202にて再び合波し、ハーフミラー207により取り出す。続いて、偏光ビームスプリッター208により、それぞれの偏光成分に分けて干渉させる。各位相の干渉光は受光素子209、210により受光され、光電変換される。受光素子209、210からの干渉信号は、処理部211に送信される。
【0046】
各受光素子209、210により光電変換された干渉光は、λ/4だけ位相がシフトしており、回折格子202の移動距離と位相とが比例関係にあるから、各受光素子209、210による干渉信号の時間的位相関係は、回折格子202の任意位置においてπ/2だけずれることになる。このため、両干渉信号を比較することにより、現在の角度を特定することができる。なお、干渉信号の位相差は、光学的配置の調整、たとえば光源201もしくは位相板206を回転させること、または偏光ビームスプリッター208を傾けることなどにより決定する。
【0047】
ここで、偏光を変化させるのは、上記0次光、±p次光のどちらでもよく、また偏光を変化させる手段は、電気光学変調器や補償板などの偏光を制御できるものであれば位相板206に限られない。さらに、偏光の異なる二つの光を重ね合わせて、偏光分割素子により分割するような方法であれば、上記構成に限定されない。前記偏光分割素子としては、上記偏光ビームスプリッター208のほか、たとえばハーフミラーと偏光板との組み合わせなどを用いることができる。
【0048】
以上、この測長装置200によれば、回折格子202を稼働部分である位置測定対象Tに取り付ける一方、反射ミラー203〜205は当該位置測定対象Tとは別の部分に取り付けるようにしているので、まず、当該回折格子202の特性上からY軸水平方向およびZ軸水平方向の揺動による測定誤差が生じないという効果を得ることができる。また、回折格子202の揺動は、干渉信号間の位相差に全く影響を及ぼさないため、安定した位相差を維持し続けることが可能である。さらに、回折格子202のみを稼働部分に取り付けるようにしているから、当該稼働部分への負担が非常に小さくなり、測長装置200を単純かつ小型にすることができる。特に、この構成によれば、回折格子202の揺動による測定誤差をなくしつつ、現在の角度を特定することができる。
【0049】
実施の形態3.
図3は、この発明の実施の形態3にかかる測長装置を示す構成図である。この測長装置300は、半導体レーザーなどのコヒーレントな平行ビームBを発生する光源301と、光源301からの平行ビームBを2分割するハーフミラー302と、分割した一方の平行ビームBaの光軸上に位置し、0次と±p次(pは整数)の回折光を発生させる回折格子303と、回折格子303により回折した0次と±p次の回折光を反射し、再び回折格子303上で各回折光を干渉させる3枚の反射ミラー304〜306と、回折格子303で干渉した干渉光を取り出すハーフミラー307と、このハーフミラー307により取り出した干渉光の強度を検出する受光素子308とを有する。
【0050】
また、この測長装置300は、分割した他方の平行ビームBbを曲げる固定反射ミラー309と、平行ビームBbの入射により0次と±q次(qは整数)の回折光を発生させると共に前記回折格子303とは異なる格子ピッチを持つ回折格子310と、回折格子310により回折した0次と±q次の回折光を反射し、再び回折格子310上で各回折光を干渉させる3枚の反射ミラー311〜313と、回折格子310で干渉した干渉光を取り出すハーフミラー314と、このハーフミラー314により取り出した干渉光の強度を検出する受光素子315とを備えている。前記回折格子303と回折格子310とは、工作機械の加工テーブルや刃物台などの位置測定対象Tに連結して取り付けられ、位置測定対象Tと共にX軸方向に移動する。反射ミラー304〜306、311〜313は、位置測定対象T以外の部分、たとえば工作機械のベッドなどに取り付けられている。
【0051】
つぎに、この測長装置300の動作について説明する。光源301から出射した平行ビームBは、ハーフミラー302によって透過光Baと反射光Bbとに2分割され、その透過した平行ビームBaが回折格子303に入射すると、0次と±p次との回折光が発生する。0次光は、反射ミラー304により反射して回折格子303に戻り、p次光は、反射ミラー305と反射ミラー306により2回反射して回折格子303に戻る。そして、これら反射光(0次光、±p次光)を回折格子303にて再び回折させ、0次光による0次光、+p次光による−p次光、および−p次光による+p次光を重ね合わせることで、干渉させる。続いて、当該干渉光をハーフミラー307で入射光から分離し、受光素子308で光電変換する。
【0052】
これと並行して、ハーフミラー302にて反射した平行ビームBbは、固定反射ミラー309により光軸が直角に曲げられて、回折格子310に入射する。この回折格子310によって0次と±q次との回折光が発生する。0次光は、反射ミラー311により反射して回折格子310に戻り、q次光は、反射ミラー312と反射ミラー313により2回反射して回折格子310に戻る。そして、これら反射光(0次光、±q次光)を回折格子310にて再び回折させ、0次光による0次光、+q次光による−q次光、および−q次光による+q次光を重ね合わせることで、干渉させる。続いて、当該干渉光をハーフミラー314で入射光から分離し、受光素子315で光電変換する。各受光素子308、315で光電変換した干渉信号は、処理部316に送信される。
【0053】
通常、干渉信号の1周期分は、回折格子303の移動距離dに相当するように設定されており、回折格子303の所定位置における干渉信号出力から回折格子303の移動距離dを求めるようにしている。しかしながら、1周期360°を電気的に分解するには限界があるため、かかる構成のみでは測長の分解能を上げることは困難である。そこで、この測長装置300では、波長の異なる二つの干渉信号を重ね合わせて分解能の向上を図っている。
【0054】
すなわち、この測長装置300において、回折格子303、310間の格子ピッチが異っているため、透過光Ba側の干渉信号1周期に相当する回折格子303の移動距離と、反射光Bb側の干渉信号1周期に相当する回折格子310の移動距離とが、異なるものになる。このため、二つの干渉信号を電気内挿し、それらの内挿データを重ね合わせることによって透過光側干渉信号の1周期内にて絶対値検出を行うことができる。
【0055】
図4は、二つの干渉信号の内挿データを重ね合わせる場合の一例を示すグラフ図である。詳しくは、透過光Ba側の干渉信号の1周期に相当する移動距離を、反射光Bb側の干渉信号の1周期に相当する移動距離の8倍に設定した場合を示す。移動距離の絶対値は、透過光干渉信号Saを基準とし、当該干渉信号Saを、反射光干渉信号Sbの波長により電気的に分割して求める。以上、この測長装置300によれば、実施の形態1の測長装置100と同様の効果が得られると共に、干渉計を2段構成にして異なる波長の干渉信号を重ね合わせるようにしたので、測長の分解能を高めることができる。
【0056】
なお、この実施の形態3では、干渉計を2段に構成しているが、受光素子315において光電変換できる光強度が確保できれば特に上限はない。このため、複数段の干渉計を構成することによりさらに広いダイナミックレンジを得ることができると共にさらに高分解能の絶対値測定を行うことができる。また、上位実施の形態3の変形例として、両回折格子303、310の格子ピッチを一致させ、異なる次数の回折光を用いるようにしてもよい。このようにしても、干渉信号の波長を異ならしめることができるので、上記同様の電気内挿を行うことにより、測長の分解能を高めることができる。
【0057】
実施の形態4.
図5は、この発明の実施の形態4にかかる測長装置を示す構成図である。この測長装置400は、実施の形態3の測長装置300と略同様の構成であるが、反射光Bb側の回折格子401の格子ピッチが、透過光Ba側の回折格子402の格子ピッチに対して僅かに異なるように設定した点が異なる。その他の構成は実施の形態3と同様であるので説明を省略し、同様の構成要素には同一の符号を付する。格子ピッチを僅かに異ならせることにより、二つの干渉信号からバーニア波を生成することができる。
【0058】
従来型の測長装置においてバーニア波を生成するには、稼動部分の反射ミラーを精度よく一定角度に維持し続けなければならなかったが、当該実施の形態4にかかる測長装置400では、稼動部分に回折格子401、402のみ取り付け、反射ミラー304〜306、311〜313は別部分に固定されていることから、バーニア波を容易に生成でき、測定範囲を拡大することが可能になる。
【0059】
また、上記実施の形態4では、2段の干渉計によりバーニア波を生成するようにしているが、受光素子により光電変換可能な程度の光強度が得られるようであれば、バーニア波以外の干渉計を追加することもできる。たとえば、図6に示すように、上記固定反射ミラー309をハーフミラー403に変え、当該ハーフミラー403の透過光Bcを格子ピッチが異なる回折格子404に入射させる。この回折格子404により発生した0次と±r次(rは整数)との回折光は、三つの反射ミラー405〜407により反射して再び回折格子404に入射する。
【0060】
これにより発生した干渉光は、ハーフミラー408により取り出されて、受光素子409にて受光される。このような構成にすれば、広ダイナミックレンジで高分解能の絶対値測定が可能となる。なお、上記干渉計は4段以上設けるにようにしてもよい。また、回折格子303、310、404の格子ピッチを同じにして、異なる次数の回折光を用いるようにしてもよい。
【0061】
具体的には、同図に示すように、波長が1.3μmの光源301と、格子ピッチが263μm、261μm、46μmの回折格子303、310、404とを用いて3段の干渉計を構成した場合、それぞれの干渉信号1周期に相当する回折格子303、310、404の移動量は、それぞれ53.2mm、52.4mm、1.64mmとなり、3.35mを63分割、64分割、2048分割する干渉信号を生成することができる。そして、この64分割と63分割する干渉信号からバーニア波を生成し、当該バーニア波を用いて1波長をより高精度に測定すると共に、この測定した干渉信号と64分割および2048分割の干渉信号とを重ね合わせる。このようにすれば、測定範囲3.35mに渡って高分解能の絶対値測定を行うことができる。なお、測定した干渉信号に2048分割の干渉信号のみを重ね合わせるようにしてもよい。
【0062】
実施の形態5.
図7は、この発明の実施の形態5にかかる測長装置を示す構成図である。この測長装置500は、測長用干渉計に隣接して、補正用干渉計を設けた点に特徴がある。この測長装置500は、半導体レーザーなどのコヒーレントな平行ビームを発生する光源501と、光源501からの平行ビームBを2分割するハーフミラー502と、分割した一方の平行ビームBaの光軸上に位置し、0次と±p次(pは整数)の回折光を発生させる測長用の回折格子503と、回折格子503により回折した0次と±p次の回折光を反射し、再び回折格子503上で各回折光を干渉させる3枚の反射ミラー504〜506と、回折格子503で干渉した干渉光を取り出すハーフミラー507と、このハーフミラー507により取り出した干渉光の強度を検出する受光素子508とを有する。
【0063】
また、この測長装置500は、分割した他方の平行ビームBbを曲げる固定反射ミラー509と、平行ビームBbの入射により0次と±q次(qは整数)の回折光を発生させる補正用の回折格子510と、回折格子510により回折した0次と±q次の回折光を反射し、再び回折格子510上で各回折光を干渉させる3枚の反射ミラー511〜513と、回折格子510で干渉した干渉光を取り出すハーフミラー514と、このハーフミラー514により取り出した干渉光の強度を検出する受光素子515とを備えている。
【0064】
前記測長用の回折格子503は、工作機械の加工テーブルや刃物台などの位置測定対象Tに連結して取り付けられ、位置測定対象Tと共にX軸方向に移動する。補正用の回折格子510および反射ミラー504〜506、511〜513は、位置測定対象T以外の部分、たとえば工作機械のベッドなどに取り付けられている。
【0065】
この測長装置500の動作について説明する。測長用干渉計の動作については、実施の形態1と同様である。すなわち、回折格子503にて回折した0次光と±p次光とがそれぞれ反射ミラー504〜506で反射し、再び回折格子503に入射することで干渉光が発生する。この干渉光をハーフミラー507で取り出し、受光素子508にて光電変換し干渉信号を得る。
【0066】
ハーフミラー502にて反射した平行ビームBbは、固定反射ミラー509により光軸が直角に曲げられて、補正用の回折格子510に入射する。この回折格子510によって0次と±q次(qは整数)との回折光が発生する。0次光は、反射ミラー511により反射して回折格子510に戻り、q次光は、反射ミラー512と反射ミラー513により2回反射して回折格子510に戻る。そして、これら反射光(0次光、±q次光)を回折格子510にて合波し、干渉させる。この干渉光はハーフミラー514で分離され、受光素子515にて光電変換される。受光素子508、515の干渉信号は、処理部516に送られる。
【0067】
ここで、前記測長用の干渉計により得られた干渉信号の位相は、回折格子503の移動距離と屈折率変化に応じて変動している。一方、補正用の回折格子510は、固定されているから、空気中の屈折率変化の影響を受けて変動している。このため、補正用の干渉計で屈折率変化による変動を求め、測長用の干渉計の干渉信号に補正を施すようにすれば、当該屈折率変動による測定誤差を除去することができる。
【0068】
具体的には、回折次数を±1、測長用回折格子503と補正用回折格子510の格子ピッチを同一とした場合、干渉信号1周期に相当する回折格子の移動距離dを表した上式、
d=λ/(2n(1−cosθ))
を参考すると、測長用の干渉信号では回折格子503の移動距離dと屈折率nとが変動するのに対し、干渉信号では移動距離dが一定で屈折率nが変動することから、補正用干渉信号の位相変動に基づいて干渉信号の位相情報を補正して、空気中の屈折率変動による測定誤差を除去する。
【0069】
さらに、上記補正用の干渉計では、平行ビームBbの波長と回折格子510の格子ピッチを適切に選択することにより、屈折率変動に対する干渉信号の位相感度を任意の値に設定できる。このため、補正用干渉計を複数段構成すれば、一般的なマイケルソン干渉計で補正干渉計を構成する場合に比べ、補正の分解能を高めることができると共に補正範囲を拡大することができる。
【0070】
この結果、測長装置のダイナミックレンジを向上させることができる。また、測長用干渉計に一般的なマイケルソン干渉計を用い、補正用干渉計に上記回折格子510を用いた干渉計を用いるようにすることもできる。すなわち、実施の形態5にかかる補正用干渉計は、一般的なマイケルソン干渉計で構成した補正用干渉計に比べて、その補正分解能が高いため、当該構成を補正用干渉計にのみ適用してもダイナミックレンジを改善することが可能になる。
【0071】
なお、補正用の干渉計と測長用の干渉計との組み合わせは自由である。たとえば複数の測長用干渉計それぞれに1段の補正用干渉計を設けるようにしてもよいし、複数段の測長用干渉計に1段の補正用干渉計を設けるようにしてもよい。また、補正用干渉計を構成するにあたり、回折格子510の、たとえば1次光および2次光を重ね合わせることにより補正分解能を高めるようにすることもできる。さらに、異なる格子ピッチを持つ回折格子510を用いて複数の補正用干渉計を構成し、補正分解能を向上させるようにしてもよい。
【0072】
また、光源501の波長が変動することにより、測定誤差が発生する場合がある。そこで、補正用干渉計により光源501の波長変動を求め(屈折率変化は一定とする)、当該干渉信号を用いて、光源501の波長変動による測定誤差を補正するようにしてもよい。
【0073】
実施の形態6.
図8は、この発明の実施の形態6にかかる測長装置を示す構成図である。この測長装置600は、実施の形態1の測長装置100と略同様の構成であるが、反射ミラーを2枚にした点が異なる。その他の構成は、実施の形態1と同様であるからその説明を省略し、同一の構成要素については同一の符号を付する。反射ミラー103は0次光の光を反射し、反射ミラー104はp次光(pは整数)の光を反射する。回折格子102は、工作機械の加工テーブルや刃物台などの位置測定対象Tに取り付けられている。反射ミラー103、104は、位置測定対象T以外の部分、たとえば工作機械のベッドなどに取り付けられている。回折格子102は、位置測定対象Tと共にX軸方向に移動する。
【0074】
つぎに、この測長装置600の動作について説明する。光源101から出射した平行ビームBが回折格子102に入射すると、0次と+p次との回折光が発生する。0次光は、反射ミラー103により反射して回折格子102に戻る。一方、p次光は、反射ミラー104により反射して回折格子102に戻る。そして、これら反射光(0次光、+p次光)を回折格子102にて再び回折させ、干渉させる。続いて、当該干渉光をハーフミラー106で入射光から分離し、受光素子107で光電変換する。
【0075】
受光素子107で光電変換した干渉信号は、処理部108に送信される。なお、この実施の形態6では、+p次光を用いたが、−p次光を反射ミラーで反射して干渉光を得るようにしてもよい。以上、この測長装置600によれば、2枚の反射ミラー103、104で構成したので、部品点数を少なくできる。また、光路断面積が約半分になるから、測長装置全体を小型にすることができる。
【0076】
実施の形態7.
図9は、この発明の実施の形態7にかかる測長装置を示す構成図である。この測長装置700の基本構成は、実施の形態2の測長装置200と同じであるが、この測長装置200に対して測定光の平均強度を得、当該平均強度信号に基づいて干渉信号のしきい値を変動するようにした点に特徴がある。
【0077】
かかる測長装置700は、半導体レーザーなどのコヒーレントな平行ビームを発生する光源701と、光源701からの光を入射させて0次と±p次(pは整数)の回折光を発生させる回折格子702と、回折格子702により回折した0次と±p次の回折光を反射し、再び回折格子702に入射させる3枚の反射ミラー703〜705と、0次回折光の光軸上に設けた位相板706と、回折格子702にて合波した測定光を取り出すハーフミラー707と、測定光を分割して取り出すハーフミラー708と、ハーフミラー708により取り出した測定光の強度を検出する受光素子709と、透過測定光を異なる位相ごとに分離して取り出す偏光ビームスプリッター710と、各位相ごとに干渉光の強度を検出する受光素子711、712とを備えている。
【0078】
また、各受光素子711、712の干渉信号は、処理部713に送信される。処理部713は、位相ごとに分割して取り出した干渉信号を平均強度信号と比較して出力信号を取り出すコンパレータ714、715と、各コンパレータ714、715の出力をカウントするカウンタ716、717とから構成されている。また、前記回折格子702は、工作機械の加工テーブルや刃物台などの位置測定対象Tに取り付けられ、位置測定対象Tと共にX軸方向に移動する。反射ミラー703〜705は、位置測定対象T以外の部分、たとえば工作機械のベッドなどに取り付けられている。
【0079】
つぎに、この測長装置700の動作について説明する。平行ビームBが回折格子702に入射することにより、0次と±p次の回折光が発生する。0次光は、光軸上に配置したλ/8位相板706を往復で2回通過し、その偏光が変化させられる。一方、p次光は、反射ミラー704、705により2回反射して回折格子702に戻る。なお、位相板706により偏光を変化させるのは、0次光でなく±p次光であってもよい(この場合は、位相板706を±p次光の光軸上に配置する)。
【0080】
そして、これら反射光(0次光、±p次光)を回折格子702にて再び合波し、ハーフミラー707により取り出す。この測定光は、ハーフミラー708により分離されて受光素子709により光電変換される。この測定光強度信号は、処理部713に送信される。処理部713では、この測定光強度信号から平均強度信号を生成する。一方、透過した測定光は、偏光ビームスプリッター710により、それぞれの偏光成分に分けられる。各干渉光は受光素子711、712により受光され、光電変換される。受光素子711、712で光電変換した干渉信号は、処理部713に送信される。
【0081】
処理部713のコンパレータ714、715は、各受光素子711、712からの干渉信号を受けて、しきい値と比較する。また、干渉信号をしきい値と比較するにあたり、前記平均強度信号を受け取り、当該しきい値を平均強度信号に基づいて変動させる。比較した結果は、カウンタ716、717に出力されて位置データとなる。
【0082】
以上、この測長装置700によれば、しきい値を平均強度信号に基づいて変動させるようにしたので、測定光のパワーが変動しても安定した比較動作を行うことができる。このため、測長装置700の信頼性が向上する。また、実施の形態2と同様、位相板706の作用により各受光素子711、712の干渉信号の位相がπ/2だけずれることになる。このため、両干渉信号を比較することにより、現在の角度を特定することができる。
【0083】
実施の形態8.
図10は、この発明の実施の形態8にかかる測長装置を示す構成図である。この測長装置800は、干渉光を光電変換するための受光素子801と、干渉信号をしきい値と比較するコンパレータ802と、干渉信号の平均値を検出するローパスフィルタ803と、比較した干渉信号をカウントするカウンタ804とを備えている。また、受光素子801までの干渉計は、実施の形態1に記載したものと同様であり(図示省略)、前記ローパスフィルタ803、コンパレータ802およびカウンタ804は、同図に示した処理部108に含まれる。
【0084】
受光素子801は、干渉光の強度を検出して、干渉信号を処理部に送る。この干渉信号は2分割され、その一方はそのままコンパレータ802に入力され、他方はローパスフィルタ803に入力される。ローパスフィルタ803は、干渉光の平均強度信号を検出する。コンパレータ802は、ローパスフィルタ803からの出力に基づいてしきい値を変動させ、当該しきい値との比較結果をカウンタ804に出力する。カウンタ804は、当該コンパレータ802の出力に基づいて位置データを作成する。
【0085】
この測長装置800では、ローパスフィルタ803により干渉光の平均強度を検出し、このローパスフィルタ803の出力に基づいてしきい値を変動するようにしたので、干渉光の強度変化に依存しない安定した比較動作を行うことができ、装置の信頼性が向上する。また、干渉信号の平均レベルを、しきい値付近にあわせる調整工程も不要になる。
【0086】
実施の形態9.
図11は、この発明の実施の形態9にかかる測長装置を示す構成図である。この測長装置900は、干渉光を光電変換するための受光素子901と、干渉信号をしきい値と比較するコンパレータ902と、コンパレータ902のしきい値を制御する制御装置903と、しきい値に関するデータを格納している記憶装置904と、コンパレータ902の比較した干渉信号をカウントするカウンタ905とを備えている。また、受光素子901までの干渉計は、実施の形態1に記載したものと同様であり(図示省略)、前記制御装置903、記憶装置904、コンパレータ902およびカウンタ905は、同図に示した処理部108に含まれる。
【0087】
受光素子901は、干渉光の強度を検出して、干渉信号を処理部に送る。この干渉信号はコンパレータ902に入力される。制御装置903は、記憶装置904のしきい値に関する情報に基づいて、コンパレータ902のしきい値を調整する。コンパレータ902は、当該しきい値と干渉信号とを比較し、その結果をカウンタ905に出力する。カウンタ905は、当該コンパレータ902の出力に基づいて位置データを作成する。
【0088】
測長装置900では、製品によって干渉光の強度にバラツキが生じるが、このような場合であっても、干渉光の強度に応じてしきい値を設定できる。具体的には、工場出荷前または出荷後の調整過程において、制御装置903により記憶装置904に格納したしきい値のデータを選択し、最適な値に設定する。このようにすれば、測長装置900の信頼性および品質が向上すると共に、しきい値の調整工程が簡略化できる。
【0089】
実施の形態10.
図12は、この発明の実施の形態10にかかる測長装置を示す構成図である。この測長装置1000は、干渉光を光電変換するための受光素子1001と、干渉信号をしきい値と比較するコンパレータ1002と、コンパレータ1002のしきい値を制御する制御装置1003と、しきい値に関するデータを格納している記憶装置1004と、干渉光の平均強度レベルを検出する光強度検出部1005と、コンパレータ1002の比較した干渉信号をカウントするカウンタ1006とを備えている。
【0090】
また、受光素子1001までの干渉計は、実施の形態1に記載したものと同様であり(図示省略)、前記制御装置1003、記憶装置1004、コンパレータ1002およびカウンタ1006は、同図に示した処理部108に含まれる。また、光強度検出部1005は、光学的なものでも電気的なものであってもよく、たとえば受光素子やフィルタを介する方式、A/D変換し演算することで求める方式などであってもよい。
【0091】
受光素子1001は、干渉光の強度を検出して、干渉信号を処理部に送る。この干渉信号はコンパレータ1002に入力される。制御装置1003は、光強度検出部1005からの信号から平均光強度を求め、これに基づいて記憶装置1004のしきい値に関するデータを書き換え続ける。制御装置1003は、書き換えた最新のしきい値に関する情報に基づき、コンパレータ1002のしきい値を調整する。コンパレータ1002は、当該しきい値と干渉信号とを比較し、その結果をカウンタ1006に出力する。カウンタ1006は、当該コンパレータ1002の出力に基づいて位置データを作成する。
【0092】
この測長装置1000によれば、常に最新の干渉光の強度に基づいてコンパレータ1002のしきい値を調整するようにしたので、干渉光の強度が急激に変動した場合であっても、自動的に追従することができる。このため、安定した比較動作を行うことができ、測長装置1000の信頼性が向上する。
【0093】
実施の形態11.
また、図11に示した記憶装置904に、光源その他の光学部品に関する経時変化に対応したしきい値データを格納し、経時変化に伴いコンパレータ902のしきい値を調整するようにしてもよい。たとえば、タイマーにより電源投入時間を加算し、この使用時間に対応するしきい値データを記憶装置904から取り出し、当該しきい値データに基づいてコンパレータ902のしきい値を調整するようにする。また、光源などの光学系が安定するまで、しきい値を調整しながら比較動作を行うようにしてもよい。この場合、タイマーを用いて測長装置の電源投入時から時間を計測し、時間経過ごとにしきい値を調整するようにする。かかる構成によっても、コンパレータ902の比較動作を安定して行うことができる。
【0094】
実施の形態12.
図13は、この発明の実施の形態12にかかる測長装置を示す構成図である。この測長装置1100は、干渉光を光電変換するための受光素子1101と、干渉信号をしきい値と比較するコンパレータ1102と、コンパレータ1102のしきい値を制御する制御装置1103と、しきい値に関するデータを格納している記憶装置1104と、干渉信号の平均値を検出するローパスフィルタ1105と、干渉信号の周波数を検出する周波数カウンタ1106と、コンパレータ1102の比較した干渉信号をカウントするカウンタ1107とを備えている。また、受光素子1101までの干渉計は、実施の形態1に記載したものと同様であり(図示省略)、前記制御装置1103などの構成要素は、同図に示した処理部108に含まれる。
【0095】
受光素子1101は、干渉光の強度を検出して、干渉信号を処理部に送る。この干渉信号は3分割され、一つはそのままコンパレータ1102に入力され、残りはローパスフィルタ1105および周波数カウンタ1106に入力される。ローパスフィルタ1105は、干渉光の平均強度信号を検出する。制御装置1103は、回折格子が高速で移動している場合、ローパスフィルタ1105からの出力に基づいてしきい値を調整する。
【0096】
一方、ローパスフィルタ1105の信号は回折格子が低速移動または停止している場合はローパスフィルタ1105を用いることが困難であるから、記憶装置1104のしきい値に関する情報に基づいて、コンパレータ1102のしきい値を調整する。コンパレータ1102は、当該しきい値と干渉信号とを比較し、その結果をカウンタ1107に出力する。カウンタ1107は、当該コンパレータ1102の出力に基づいて位置データを作成する。
【0097】
以上の測長装置1100によれば、ローパスフィルタ1105と記憶装置1104とを組み合わせて使用するので、ミスカウントを防止でき、安定した比較動作を行うことができる。また、干渉信号の平均レベルをしきい値付近にあわせる調整工程の難易度を軽減できる。
【0098】
なお、この実施の形態12の変形例として、図12に示したような干渉光の平均強度レベルを検出する光強度検出部1005を設け(図示省略)、当該光強度検出部1005の検出信号により、記憶装置1104のしきい値に関するデータを書き換え続けるようにしてもよい。このようにすれば、常に最新の干渉光の平均強度に基づいてコンパレータ1102のしきい値を調整できるから、干渉光の平均強度が急激に変動した場合であっても、自動的に追従することができる。このため、安定した比較動作を行うことができ、測長装置の信頼性が向上する。
【0099】
なお、上記高速移動時における干渉光平均強度の検出は、ローパスフィルタ1105に限定されず、たとえばモニター用の受光素子などを用いることもできる。また、低速移動時または停止時においては、干渉光平均強度を、たとえばA/D変換してソフト的に求めるようにしてもよい。
【0100】
以上、実施の形態1から12について説明したが、これら実施の形態1から12の測長装置を適宜組み合わせて測長装置を構成することも可能であり、さらに、各構成要素については当業者にとって置換可能かつ容易な範囲において変更使用することができる。
【0101】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明にかかる測長装置によれば、位置測定対象に回折格子を固定し、この回折格子で発生した各次数の回折光を位置測定対象以外の部分に固定した反射手段で反射することで回折格子に入射させ、この干渉光から測長を行うようにしたので、位置測定対象の揺動に起因した測長誤差を抑制することができる。
【0102】
つぎの発明にかかる測長装置によれば、位相をシフトした干渉信号を取得し、この干渉信号を重ね合わせることにより測長を行うようにしたので、現在の角度を測定できる。
【0103】
つぎの発明にかかる測長装置によれば、波長の異なる干渉信号を取得してこれらを重ね合わせるようにしたので、測長の分解能を向上することができる。
【0104】
つぎの発明にかかる測長装置によれば、バーニア波を用いて測長するので、測長範囲を拡大することができる。
【0105】
つぎの発明にかかる測長装置によれば、複数段のうち一部の干渉計の回折格子を移動させないようにし、当該干渉計から取得した干渉信号によって、その他の干渉計から取得した干渉信号を補正するようにしたので、測定誤差を除去することができる。このため、測長を正確に行うことができる。
【0106】
つぎの発明にかかる測長装置によれば、前記反射手段を、回折格子および反射手段を有する一つの干渉計にて、少なくとも二つ設けるようにしたので、測長装置の構成を簡略化することができる。
【0107】
つぎの発明にかかる測長装置によれば、測定光の強度を検出することによりコンパレータのしきい値を変動させるようにしたので、安定した比較動作を行うことができる。このため、測長装置の信頼性が向上する。
【0108】
つぎの発明にかかる測長装置によれば、干渉信号を入力するローパスフィルタを設け、このローパスフィルタの出力信号に基づいてコンパレータのしきい値を調整するようにした。このため、安定した比較動作を行うことができるから、測長装置の信頼性が向上する。
【0109】
つぎの発明にかかる測長装置によれば、しきい値に関するデータを格納する記憶手段と、当該しきい値に関するデータに基づいて前記コンパレータのしきい値を調整する制御手段とを備えたので、しきい値の調整工程を簡略化することができる。
【0110】
つぎの発明にかかる測長装置によれば、光強度検出手段の検出信号から求めた平均光強度よりコンパレータのしきい値を調整するようにしたので、干渉光の強度変化に追従することができる。このため、安定した比較動作を行うことが可能になる。
【0111】
つぎの発明にかかる測長装置によれば、光学部品の経時変化に応じてコンパレータのしきい値を調整するようにしたので、コンパレータの比較動作を安定して行うことができる。
【0112】
つぎの発明にかかる測長装置によれば、記憶手段に格納しているしきい値に関するデータとローパスフィルタの出力信号に関するデータとを選択し、当該選択したデータに基づいて前記コンパレータのしきい値を調整するので、コンパレータの比較動作を確実に行うことができる。
【0113】
つぎの発明にかかる測長補正装置によれば、位置測定対象以外の部分に固定した回折格子を用いて干渉光を得、この干渉光を光電変換して得た干渉信号に基づいて測長用の干渉信号の補正を行うようにしたので、測長の精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1にかかる測長装置を示す構成図である。
【図2】 この発明の実施の形態2にかかる測長装置を示す構成図である。
【図3】 この発明の実施の形態3にかかる測長装置を示す構成図である。
【図4】 二つの干渉信号の内挿データを重ね合わせる場合の一例を示すグラフ図である。
【図5】 この発明の実施の形態4にかかる測長装置を示す構成図である。
【図6】 実施の形態4にかかる測長装置の変形例を示す構成図である。
【図7】 この発明の実施の形態5にかかる測長装置を示す構成図である。
【図8】 この発明の実施の形態6にかかる測長装置を示す構成図である。
【図9】 この発明の実施の形態7にかかる測長装置を示す構成図である。
【図10】 この発明の実施の形態8にかかる測長装置を示す構成図である。
【図11】 この発明の実施の形態9にかかる測長装置を示す構成図である。
【図12】 この発明の実施の形態10にかかる測長装置を示す構成図である。
【図13】 この発明の実施の形態12にかかる測長装置を示す構成図である。
【図14】 特開平10−170217号公報に記載の測長装置の構成を示す説明図である。
【符号の説明】
100 測長装置、101 光源、102 回折格子、103〜105 反射ミラー、106 ハーフミラー、107 受光素子、108 処理部。
Claims (12)
- コヒーレントな平行ビームを発する光源と、
前記平行ビームの光軸上に位置して前記平行ビームに沿う一方向からの光を入射して複数の回折光をそれぞれ異なる方向に出射すると共に前記平行ビームの入射方向に沿って移動する位置測定対象に固定した回折格子と、
前記回折格子の前記回折光を回折次数ごとに反射して前記回折格子に戻すと共に前記位置測定対象以外の部分に固定した反射手段と、
を備え、
前記回折格子による干渉光から測長を行うことを特徴とする測長装置。 - さらに、前記所定次数の回折光の光軸上に位相シフト手段を設け、偏光分割手段により位相差を有する偏光成分ごとの干渉信号を取得し、この両干渉信号に基づいて測長を行うことを特徴とする請求項1に記載の測長装置。
- さらに、前記回折格子および反射手段を有する干渉計を複数段設けると共に各干渉計により取得する干渉信号の波長を異なるものにし、当該波長の異なる干渉信号を重ね合わせることにより測長を行うようにしたことを特徴とする請求項1または2に記載の測長装置。
- さらに、前記回折格子および反射手段を有する干渉計を複数段設けると共に各干渉計により取得する干渉信号の波長を僅かに異なるものにしてバーニア波を発生させ、当該バーニア波により測長を行うようにしたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の測長装置。
- さらに、前記回折格子および反射手段を有する干渉計を複数段設けると共に一部の干渉計の回折格子を移動させないようにし、当該干渉計から取得した干渉信号によって、その他の干渉計から取得した干渉信号を補正するようにしたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の測長装置。
- さらに、前記反射手段を、回折格子および反射手段を有する一つの干渉計にて、少なくとも二つ設けたことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の測長装置。
- さらに、前記干渉光を光電変換して得た干渉信号をコンパレータにて所定のしきい値と比較し、その結果をカウンタに出力することで位置データを生成するにあたり、前記回折格子を通過した測定光の強度を検出する測定光強度検出手段を設け、この測定光強度検出手段の測定光強度信号から平均強度信号を求め、この平均強度信号により前記しきい値を調整するようにしたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の測長装置。
- さらに、前記干渉光を光電変換して得た干渉信号をコンパレータにて所定のしきい値と比較し、その結果をカウンタに出力することで位置データを生成するにあたり、干渉信号を入力するローパスフィルタを設け、当該ローパスフィルタの出力値に基づいて前記しきい値を調整するようにしたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の測長装置。
- さらに、前記干渉光を光電変換して得た干渉信号をコンパレータにて所定のしきい値と比較し、その結果をカウンタに出力することで位置データを生成するにあたり、前記しきい値に関するデータを格納する記憶手段と、当該しきい値に関するデータに基づいて前記コンパレータのしきい値を調整する制御手段とを備えたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の測長装置。
- さらに、干渉光の光強度検出手段を設け、当該光強度検出手段の検出信号から平均光強度を求め、当該平均光強度に基づいて前記記憶手段に格納したしきい値に関するデータを書き換え、当該記憶装置のデータに基づいてコンパレータのしきい値を調整するようにしたことを特徴とする請求項9に記載の測長装置。
- さらに、前記干渉光を光電変換して得た干渉信号をコンパレータにて所定のしきい値と比較し、その結果をカウンタに出力することで位置データを生成するにあたり、光学部品の経時変化に対応したしきい値に関するデータを格納する記憶手段と、当該しきい値に関するデータに基づいて前記コンパレータのしきい値を調整する制御手段とを備えたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の測長装置。
- さらに、前記干渉光を光電変換して得た干渉信号をコンパレータにて所定のしきい値と比較し、その結果をカウンタに出力することで位置データを生成するにあたり、前記しきい値に関するデータを格納する記憶手段と、干渉信号を入力するローパスフィルタと、前記記憶手段に格納しているしきい値に関するデータと前記ローパスフィルタの出力信号に関するデータとを選択し、当該選択したデータに基づいて前記コンパレータのしきい値を調整する制御手段とを備えたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の測長装置。
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